KR20060019452A - 레이저 열전사 방법 - Google Patents

레이저 열전사 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20060019452A
KR20060019452A KR1020040068156A KR20040068156A KR20060019452A KR 20060019452 A KR20060019452 A KR 20060019452A KR 1020040068156 A KR1020040068156 A KR 1020040068156A KR 20040068156 A KR20040068156 A KR 20040068156A KR 20060019452 A KR20060019452 A KR 20060019452A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
donor substrate
donor
layer
thermal transfer
Prior art date
Application number
KR1020040068156A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100761073B1 (ko
Inventor
송명원
이성택
김무현
진병두
강태민
이재호
Original Assignee
삼성에스디아이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성에스디아이 주식회사 filed Critical 삼성에스디아이 주식회사
Priority to KR1020040068156A priority Critical patent/KR100761073B1/ko
Publication of KR20060019452A publication Critical patent/KR20060019452A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100761073B1 publication Critical patent/KR100761073B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/382—Contact thermal transfer or sublimation processes
    • B41M5/38207—Contact thermal transfer or sublimation processes characterised by aspects not provided for in groups B41M5/385 - B41M5/395
    • B41M5/38221—Apparatus features
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/265—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used for the production of optical filters or electrical components

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

레이저 열전사 방법에 대한 것이다. 전사층이 형성된 도너 기판과 기판을 준비하는 단계; 챔버 내에 위치하는 스테이지 상에 상기 기판을 고정시키고, 상기 기판 상에 상기 도너 기판을 얼라인하는 단계; 및 상기 도너 기판 상에 밀착용 필름을 사용하여 고정하고, 상기 도너 기판과 상기 기판을 라미네이션하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 열전사 방법을 제공한다.
밀착용 필름, 도너 기판, 레이저 열전사법

Description

레이저 열전사 방법{Laser induced thermal imaging method}
도 1은 전사층이 형성된 도너 기판을 나타낸 단면도,
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 실시예에 따른 도너 기판과 기판의 라미네이션 방법을 나타낸 단면도,
도 3은 도 2a의 A에 대한 라미네이션 후 레이저 전사 공정을 나타낸 단위 화소에 대한 단면도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 도면 부호의 설명 *
100 : 도너 기판, 200 : 기판
300 : 척, 400 : 스테이지
160, 180 : 밀착용 필름, 150 : 밀착용 필름의 프레임
500 : 가압 장치, 600 : 레이저
본 발명은 레이저 열전사 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하밀착용 필름을 사용하여 도너 기판의 라미네이션 공정을 수행하는 레이저 열전사 방법에 대한 것이다.
평판 표시 장치 중 유기전계발광표시장치는 응답속도가 1ms 이하로서 고속의 응답속도를 가지며, 소비 전력이 낮고, 자체 발광이므로 시야각에 문제가 없어서, 장치의 크기에 상관없이 동화상 표시 매체로서 장점이 있다. 또한, 저온 제작이 가능하고, 기존의 반도체 공정 기술을 바탕으로 제조 공정이 간단하므로 향후 차세대 평판 표시 장치로 주목받고 있다.
상기 유기전계발광표시장치는 유기전계발광소자로 사용하는 재료와 공정에 따라 습식공정을 사용하는 고분자형 소자와 증착공정을 사용하는 저분자형 소자로 크게 나눌 수 있다.
상기 고분자형 유기전계발광소자는 화소 전극을 포함한 기판 상에 잉크젯 프린팅 방법이나 스핀 코팅 방법을 사용하여 발광층을 포함한 유기층을 적층하고 대향전극을 형성하여 소자를 제작한다.
또한, 상기 저분자형 유기전계발광소자는 화소전극을 포함한 기판 상에 증착 공정에 의해 발광층을 포함한 유기층을 적층하고 대향전극을 형성하여 소자를 완성한다.
상기 고분자 또는 저분자 발광층의 패터닝 방법 중 잉크젯 프린팅 방법의 경우 발광층 이외의 유기층들의 재료가 제한적이고, 기판 상에 잉크젯 프린팅을 위한 구조를 형성해야하는 번거로움이 있다.
또한 증착 공정에 의한 발광층의 패터닝 경우 금속 마스크의 사용으로 인해 대형 소자의 제작에 어려움이 있다.
위와 같은 패터닝의 방법을 대체할 수 있는 기술로 레이저 열전사법(LITI : Laser Induced Thermal Imaging)이 최근 개발되고 있다.
레이저 열전사법이란 광원에서 나오는 레이저를 열에너지로 변환하고, 이 열 에너지에 의해 패턴 형성 물질을 대상 기판으로 전사시켜 패턴을 형성하는 방법으로, 이와 같은 방법을 위해서는 전사층이 형성된 도너 기판과 광원, 피사체인 기판이 필요하다.
상기 열전사법은 도너 기판이 리셉터인 상기 기판 전체를 덮고 있는 형태를 가지고, 상기 도너 기판과 기판은 스테이지 상에서 고정된다. 그리고, 라미네이션 과정을 통해 상기 도너 기판과 기판은 더욱 합착하게 되고, 라미네이션 후 레이저 전사를 수행하여 패터닝을 완성하게 된다.
그러나 상기 라미네이션 과정 중 상기 도너 기판보다 기판이 클 경우 도너 기판을 고정시키기 어려울 수 있다. 그로 인해, 상기 기판 상에 위치하는 도너 기판이 상기 라미네이션 진행 방향으로 움직이게 되어, 도너 기판의 얼라인에 문제가 발생할 수 있다. 따라서, 도너 기판의 크기에 따라 기판의 크기가 제약을 받을 수 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 도너 기판의 크기에 제약없이, 레이저 전사 공정을 수행할 수 있는 레이저 열전사 방법을 제공하는 것에 목적이 있다.
상기 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명은 전사층이 형성된 도너 기판과 기판을 준비하는 단계; 챔버 내에 위치하는 스테이지 상에 상기 기판을 고정시키고, 상기 기판 상에 상기 도너 기판을 얼라인하는 단계; 및 상기 도너 기판 상에 밀착용 필름을 사용하여 고정하고, 상기 도너 기판과 상기 기판을 라미네이션하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 열전사 방법을 제공한다.
상기 밀착용 필름은 상기 도너 기판의 전체를 덮는 것일 수 있다.
상기 밀착용 필름은 레이저를 통과시키는 것일 수 있다.
상기 밀착용 필름은 전사 영역 이외에 위치하고, 상기 도너 기판의 양 측면 이상을 감싸는 구조를 가지는 것일 수 있다.
상기 밀착용 필름은 상기 도너 기판의 외곽 부위에 접착성을 가지는 것일 수 있다.
상기 밀착용 필름은 상기 기판 외곽부의 스테이지 상에서 진공에 의해 고정되는 것일 수 있다.
상기 밀착용 필름은 프레이밍된 것일 수 있다.
상기 도너 기판은 상기 기판보다 크기가 같거나 또는 작은 것일 수 있다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다. 다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되어지는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고, 도면들에 있어서, 층 및 영역의 길이, 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
도 1은 전사층이 형성된 도너 기판을 나타낸 단면도이다.
상기 도너 기판(100)은 베이스 기판(110) 상에 다수 개의 층이 형성된 구조로써, 베이스 기판(110), 상기 베이스 기판(110) 상에 위치한 광열변환층(120), 상기 광열변환층 상에 위치한 전사층(140)을 구비한다.
세부적으로 설명하면, 먼저, 베이스 기판(110)을 준비한다. 상기 베이스 기판(110)은 유연성이 있는 재질 또는 단단한 재질을 가질 수 있다.
상기 베이스 기판(110)은 너무 얇으면 핸들링하기 어렵고, 또 너무 두꺼우면 무거워서 도너 기판의 이송에 문제가 발생할 수 있으므로, 상기 베이스 기판(110)의 두께는 20 내지 200㎛인 것이 바람직하다.
상기 베이스 기판 상에 광열변환층(120)을 형성하고, 상기 광열변환층(120) 상에는 전사층(140)을 형성한다.
상기 광열변환층(120)은 레이저 조사장치에서 조사된 레이저를 열에너지로 변환시키는 역할을 수행하고, 상기 열에너지는 상기 전사층(140)과 상기 광열변환층(120) 사이의 접착력을 변화시킴으로써 상기 전사층을 리셉터인 기판 상으로 전사하는 역할을 한다.
전사물질의 손상을 방지하고, 상기 전사층(140)과 상기 도너 기판의 접착력을 효과적으로 조절하기 위해 상기 광열변환층(120)과 상기 전사층(140) 사이에 버퍼층(130)을 개재할 수 있다.
상기 전사층(140)은 유기전계발광소자의 발광층일 수 있다. 나아가서, 정공주입층, 정공수송층, 정공억제층, 전자주입층으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나의 층을 더욱 포함하여 형성된 것일 수 있다.
또한 상기 전사층(140)은 고분자 유기막 또는 저분자 유기막일 수 있다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 실시예에 따른 도너 기판과 기판의 라미네이션 방법을 나타낸 단면도이다.
도2a 및 도 2b를 참조하면, 챔버 내에 위치하는 스테이지(400) 상에 소정의 층이 형성된 기판(200)을 고정시키고, 상기 기판(200) 상에 상기 도너 기판(100)을 얼라인한다. 상기 도너 기판(100) 상에 밀착용 필름(160)을 사용하여 고정하고, 상기 도너 기판(100)과 상기 기판(200)을 가압하는 장치(500)를 사용하여 라미네이션을 수행한다.
세부적으로 설명하면, 상기 기판(200)을 고정시키는 것은 상기 기판(200)과 스테이지(400) 사이에 위치하는 척(300)이 상기 기판(200)의 하부를 기판 고정용 진공을 만들어 줌으로써 기판을 고정시키는 것이다. 상기 기판 고정용 진공은 하나 이상의 제 1 홀(310)에 연결된 진공 장치에 의해 만들어진다.
상기 고정된 기판(200) 상에 전사층이 형성된 도너 기판(100)을 얼라인한다. 상기 도너 기판(100)은 상기 기판(200)보다 크기가 같거나 또는 작은 것일 수 있다.
상기 얼라인된 도너 기판(100) 상에 밀착용 필름(160)을 위치시킨다.
상기 밀착용 필름(160)은 전사 영역 이외에 위치하고, 상기 도너 기판(100)의 양 측면 이상을 감싸는 구조를 가지는 것일 수 있다.
또한 도 2b는 도 2a의 B에 대한 다른 예로써 도 2b를 참조하면, 상기 밀착용 필름(180)은 상기 도너 기판(100)의 전체를 덮는 것일 수 있다. 이 경우, 레이저 전사로 인한 전사층의 패터닝을 위해, 상기 밀착용 필름(180)은 레이저를 통과시키는 것일 수 있다.
도 2a 및 도 2b를 참조하면, 상기 밀착용 필름(160, 180)은 상기 기판 외곽부의 스테이지 상에서 진공에 의해 고정되는 것일 수 있다. 즉, 상기 밀착용 필름(160, 180)을 고정시키는 것은 상기 기판(200)이 위치하는 척(300)과 상기 밀착용 필름(100) 사이에 상기 밀착용 필름(160, 180) 고정을 위한 진공을 만들어 줌으로써 상기 밀착용 필름(160, 180)을 고정시킬 수 있다.
상기 척(300)과 상기 밀착용 필름(160, 180) 사이를 진공상태로 만들어 주는 것은 상기 척(300)의 내부에 진공 펌프와 연결된 적어도 하나의 제 2 홀(320)이 위치함으로써 진공 상태가 되는 것이다.
이를 위해 상기 제 2 홀은 상기 기판(200)에 의해 덮혀지지 않도록 상기 기판(200)의 외곽부에 노출되어지는 것이 바람직하다.
따라서, 상기 도너 기판(100)보다 상기 기판(200)이 크더라도, 상기 밀착용 필름(160, 180)이 진공에 의해 상기 도너 기판(100)을 고정시킬 수 있으며, 또한, 상기 밀착용 필름(160, 180)에 작용하는 진공에 의해서 상기 기판(200)도 더욱 고정될 수 있다.
상기 밀착용 필름(160, 180)은 프레이밍된 것일 수 있다. 프레이밍이 된 밀착용 필름(160, 180)인 경우, 상기 프레임(150)을 고정시키기 위한 제 3 홀(330)이 상기 프레임(150) 하부의 척에 위치한다.
따라서, 상기 제 3홀(330)의 진공 상태에 따라서, 프레이밍이 된 밀착용 필름(160, 180)을 사용함으로써, 상기 밀착용 필름(160, 180)의 고정과 탈착을 더욱 용이하게 할 수 있다.
또한, 상기 밀착용 필름(160, 180)은 상기 도너 기판(100)의 외곽 부위에 따라 접착성을 가지는 것일 수 있으며, 상기 접착성은 상기 밀착용 필름(160, 180)의 밀착력을 더욱 향샹시킬 수 있다.
상기 라미네이션은 롤러, 기체 가압, 또는 크라운 프레스를 사용하여 가압을 할 수 있다. 또한, 상기 라미네이션은 중앙에서 외곽으로 나가는 방향으로 진행하거나 또는 단방향으로 진행하는 것일 수 있다.
도 3은 도 2a의 A에 대한 라미네이션 후 레이저 전사 공정을 나타낸 단위 화소에 대한 단면도이다.
도면을 참조하면, 기판(210) 상에 반도체층(230), 게이트 전극(250), 소스 전극(270a) 및 드레인 전극(270b)로 이루어진 박막 트랜지스터가 형성되어 있고, 상기 박막 트랜지스터의 상기 소스 전극(270a) 또는 상기 드레인 전극(270b)과 연결되고, 화소정의막(295)에 의해 노출된 화소전극(290)이 형성되어 있다.
상기 도너 기판(100) 상에 레이저 전사 공정을 실시하면, 상기 노출된 화소전극(290) 상에 전사층(140a)이 전사됨으로써, 발광층이 패터닝된다.
상기 패터닝된 전사층(140a)은 단위화소의 형태에 따라 스트라이프형이나 델타형으로 패터닝될 수 있다. 상기 패터닝 과정을 거친 후, 상기 기판(200)을 상기 도너필름(100)으로부터 제거하고, 상기 도너 기판을 제거한 기판을 다른 스테이지 로 이동시킨다. 그리고, 상기 패터닝된 유기막 상에 대향 전극을 형성하여 유기전계발광소자를 완성한다.
본 발명에 따른 레이저 열전사 방법은 도너 기판 고정을 위한 밀착용 필름을 사용함으로써, 기판보다 작은 크기의 도너 기판이라도 얼라인 불량을 최소화하고 라미네이션 공정을 수행할 수 있는 장점을 가진다. 따라서, 레이저 전사 공정 시 도너 기판 크기로 인해 기판 크기의 한계를 가지던 문제를 해결할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (10)

  1. 전사층이 형성된 도너 기판과 기판을 준비하는 단계;
    챔버 내에 위치하는 스테이지 상에 상기 기판을 고정시키고, 상기 기판 상에 상기 도너 기판을 얼라인하는 단계; 및
    상기 도너 기판 상에 밀착용 필름을 사용하여 고정하고, 상기 도너 기판과 상기 기판을 라미네이션하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 열전사 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 밀착용 필름은 상기 도너 기판의 전체를 덮는 것인 레이저 열전사 방법
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 밀착용 필름은 레이저를 통과시키는 특징을 가지는 레이저 열전사 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 밀착용 필름은 전사 영역 이외에 위치하고, 상기 도너 기판의 양 측면 이상을 감싸는 구조를 가지는 것인 레이저 열전사 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 밀착용 필름은 상기 도너 기판의 외곽 부위에 접착성을 가지는 것인 레이저 열전사 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 밀착용 필름은 상기 기판 외곽부의 스테이지 상에서 진공에 의해 고정되는 것인 레이저 열전사 방법.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 밀착용 필름은 프레이밍된 것인 레이저 열전사 방법.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 도너 기판은 상기 기판보다 크기가 같거나 또는 작은 것을 특징으로 하는 레이저 열전사 방법.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판을 고정시키는 것은 상기 기판과 스테이지 사이에 위치하는 척이 상기 기판의 하부를 기판 고정용 진공을 만들어 줌으로써 기판을 고정시키는 것인 레이저 열전사 방법.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 전사층은 유기전계발광소자의 발광층인 레이저 열전사 방법.
KR1020040068156A 2004-08-27 2004-08-27 레이저 열전사 방법 KR100761073B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040068156A KR100761073B1 (ko) 2004-08-27 2004-08-27 레이저 열전사 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040068156A KR100761073B1 (ko) 2004-08-27 2004-08-27 레이저 열전사 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060019452A true KR20060019452A (ko) 2006-03-03
KR100761073B1 KR100761073B1 (ko) 2007-10-04

Family

ID=37126844

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040068156A KR100761073B1 (ko) 2004-08-27 2004-08-27 레이저 열전사 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100761073B1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101030028B1 (ko) * 2009-11-30 2011-04-20 삼성모바일디스플레이주식회사 레이저 열전사 방법, 그를 이용한 유기막 패터닝 방법 및 유기전계발광표시장치의 제조방법
KR101508882B1 (ko) * 2014-07-28 2015-04-14 주식회사 인터벡스테크놀로지 글라스 열전사 장치 및 방법

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4590663B2 (ja) * 1999-10-29 2010-12-01 セイコーエプソン株式会社 カラーフィルタの製造方法
KR100342653B1 (ko) * 2000-08-24 2002-07-03 김순택 유기 전계발광소자의 제조 방법
US6582875B1 (en) 2002-01-23 2003-06-24 Eastman Kodak Company Using a multichannel linear laser light beam in making OLED devices by thermal transfer
JP2003257638A (ja) 2002-03-04 2003-09-12 Sharp Corp 有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法およびこの製造方法により得られた有機エレクトロルミネッセンス表示パネル
US6695030B1 (en) 2002-08-20 2004-02-24 Eastman Kodak Company Apparatus for permitting transfer of organic material from a donor web to form a layer in an OLED device
KR100501315B1 (ko) * 2002-12-17 2005-07-18 삼성에스디아이 주식회사 레이저 전사법을 사용하는 저분자 풀칼라 유기 전계 발광소자용 도너 필름 및 그 필름을 사용하는 저분자 풀칼라유기 전계 발광 소자의 제조 방법

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101030028B1 (ko) * 2009-11-30 2011-04-20 삼성모바일디스플레이주식회사 레이저 열전사 방법, 그를 이용한 유기막 패터닝 방법 및 유기전계발광표시장치의 제조방법
US8409788B2 (en) 2009-11-30 2013-04-02 Samsung Display Co., Ltd. Laser induced thermal imaging method, method of patterning organic layer using the same and method of fabricating organic light emitting diode display device using the same
KR101508882B1 (ko) * 2014-07-28 2015-04-14 주식회사 인터벡스테크놀로지 글라스 열전사 장치 및 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR100761073B1 (ko) 2007-10-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8784599B2 (en) Laser induced thermal imaging apparatus and method of manufacturing organic light emitting display device using the same
EP1752306B1 (en) Mask for laser-induced thermal imaging
KR100699994B1 (ko) 라미네이션 장비 및 레이저 열전사 방법
KR20060030405A (ko) 도너 기판의 제조방법 및 유기전계발광표시장치의 제조방법
KR20060020030A (ko) 도너 기판의 제조방법
JP4398358B2 (ja) レーザ熱転写装置
KR20060020049A (ko) 유기전계발광표시장치의 제조를 위한 레이저 열전사 방법
KR100761073B1 (ko) 레이저 열전사 방법
JP2007242313A (ja) 表示装置の製造方法
KR100623705B1 (ko) 도너 기판 제조장치, 도너 기판의 제조방법 및 상기 도너기판을 사용한 유기전계발광표시장치의 제조방법
KR100989137B1 (ko) 레이저 열 전사용 도너기판, 그의 제조방법 및 그를 이용한유기전계발광표시장치의 제조방법
US8809084B2 (en) Laser induced thermal imaging method and a method of fabricating organic light emitting display
KR101049803B1 (ko) 유기전계발광표시장치의 제조방법
KR20070024822A (ko) 레이저 열 전사법 및 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의제조방법
KR100786290B1 (ko) 유기전계발광표시장치의 제조를 위한 레이저 열전사 방법
KR100699992B1 (ko) 레이저 전사장치와 유기전계발광표시장치의 제조방법
KR100721563B1 (ko) 도너 기판 및 상기 도너 기판을 사용하는 레이저 열전사방법
KR100812027B1 (ko) 레이저 열 전사 장치 및 이를 이용한 유기 발광소자의제조방법
KR100685410B1 (ko) 유기전계발광표시장치 및 그의 제조방법
KR100796587B1 (ko) 도너 기판의 제조 방법 및 그를 이용한 유기 전계 발광소자의 제조 방법
KR100579187B1 (ko) 레이저 열전사 방법 및 그를 이용한유기전계발광표시장치의 제조방법
KR100685390B1 (ko) 평판표시소자용 도너필름
KR20060021215A (ko) 도너 기판의 제조 방법 및 그를 이용한 유기 전계 발광소자의 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision
AMND Amendment
E801 Decision on dismissal of amendment
B601 Maintenance of original decision after re-examination before a trial
J301 Trial decision

Free format text: TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20060804

Effective date: 20070627

S901 Examination by remand of revocation
GRNO Decision to grant (after opposition)
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120906

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130830

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140901

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160831

Year of fee payment: 10

LAPS Lapse due to unpaid annual fee