KR20060007600A - Agent reducing film residues after development and photosensitive resin composition comprising the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하기 화학식 1의 다관능성 아크릴기 및 2개 이상의 카르복시산기(-COOH)를 함유하는 화합물을 포함하는 현상 잔사 저감제 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다:The present invention provides a developing residue reducing agent and a photosensitive resin composition comprising the same, containing a compound containing a polyfunctional acrylic group of Formula 1 and at least two carboxylic acid groups (-COOH):

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112004032074925-PAT00001
Figure 112004032074925-PAT00001

상기 식에 있어서, R1 및 R2는 각각 H 또는 CH3이고, * 은 연결부위이다. In the above formula, R1 and R2 are each H or CH3, and * is a linking site.

상기 화합물을 착색제 함유 감광성 수지 조성물에 첨가하는 경우, 상기 화합물은 다관능성 아크릴기에 의하여 용매에 대한 용해도가 우수할 뿐만 아니라 감광성 수지 조성물의 광중합 밀도를 높여 컬러 패턴의 탈착을 방지하는 동시에, 2개 이상의 카르복시산기에 의하여 감광성 수지 조성물의 현상 잔사를 없앨 수 있다.When the compound is added to the colorant-containing photosensitive resin composition, the compound not only has excellent solubility in the solvent due to the polyfunctional acrylic group but also increases the photopolymerization density of the photosensitive resin composition to prevent desorption of color patterns, The development residue of the photosensitive resin composition can be eliminated with a carboxylic acid group.

감광성 수지 조성물, 컬러 필터용 수지 조성물, 다관능성 아크릴기, 카르복시산기Photosensitive resin composition, resin composition for color filters, polyfunctional acrylic group, carboxylic acid group

Description

현상 잔사 저감제 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물{AGENT REDUCING FILM RESIDUES AFTER DEVELOPMENT AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME} Developing residue reducing agent and the photosensitive resin composition containing the same TECHNICAL FIELD

도 1은 실시예 3의 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성한 패턴의 잔사를 나타내는 전자현미경 사진이다.1 is an electron micrograph showing the residue of a pattern formed using the photosensitive resin composition of Example 3. FIG.

도 2는 실시예 4의 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성한 패턴의 잔사를 나타내는 전자현미경 사진이다.FIG. 2 is an electron micrograph showing the residue of a pattern formed using the photosensitive resin composition of Example 4. FIG.

도 3은 비교예 2의 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성한 패턴의 잔사를 나타내는 전자현미경 사진이다. 3 is an electron micrograph showing the residue of a pattern formed using the photosensitive resin composition of Comparative Example 2. FIG.

도 4는 비교예 3의 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성한 패턴의 잔사를 나타내는 전자현미경 사진이다. 4 is an electron micrograph showing the residue of a pattern formed using the photosensitive resin composition of Comparative Example 3. FIG.

본 발명은 착색제 입자를 포함하는 감광성 수지 조성물의 현상시 제거되지 않고 남아 있는 착색제 입자(이하 '현상 잔사'라 함)의 양을 감소시킬 수 있는 현상 잔사 저감제 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다. The present invention relates to a developing residue reducing agent capable of reducing the amount of colorant particles (hereinafter referred to as 'developing residues') that are not removed during development of the photosensitive resin composition including colorant particles, and to a photosensitive resin composition comprising the same. will be.                         

액정표시장치에 사용되는 컬러 필터는 염색법, 인쇄법, 전착법, 안료분산법 등에 의해 유리 등의 투명 기판 상에 적, 녹, 청 등의 미세한 화소를 형성한 것이다. 이 중 최근에는 액정표시장치용 컬러 필터의 제조를 위하여 생산성이 높고 미세가공성이 우수한 안료 분산법, 즉 안료를 분산시킨 감광성 수지 조성물에 의한 제조법이 주로 많이 사용되고 있다. 이 방법은 예컨대 안료를 분산시킨 감광성 수지 조성물을 유리 등의 투명 기판상에 도포하여 도막을 형성하고, 이것에 포토마스크를 통해 방사선 조사에 의한 노광을 실시한 후, 비노광부를 현상 처리에 의해 제거하여 패턴을 형성하는 방식으로 수행될 수 있다. 이하에서는 상기와 같이 컬러 필터 제조를 위하여 사용되는 안료를 분산시킨 감광성 수지 조성물을 컬러 필터용 감광성 수지 조성물이라 한다. The color filter used in the liquid crystal display device forms fine pixels such as red, green, and blue on a transparent substrate such as glass by dyeing, printing, electrodeposition, pigment dispersion, or the like. Among them, in recent years, a pigment dispersion method having high productivity and excellent micromachinability, that is, a production method using a photosensitive resin composition in which pigments are dispersed, has been mainly used for the production of color filters for liquid crystal display devices. In this method, the photosensitive resin composition which disperse | distributed the pigment is apply | coated on transparent substrates, such as glass, and a coating film is formed, this is exposed by irradiation with a radiation through a photomask, and a non-exposure part is removed by the development process, It may be performed in a manner to form a pattern. Hereinafter, the photosensitive resin composition which disperse | distributed the pigment used for color filter manufacture as above is called the photosensitive resin composition for color filters.

컬러 필터용 감광성 수지 조성물은 통상 안료, 바인더용 고분자 수지, 광중합성 모노머, 광개시제, 용매를 포함하고, 여기에 필요에 따라 계면활성제, 접착 촉진제, 잔사 저감용 화합물 등이 첨가된다. 그리고, 컬러 필터가 갈수록 고색도화, 고색재현율화되면서 컬러 필터용 조성물 내에 안료 농도가 높아지고 있다. 그런데, 컬러 필터용 조성물 내의 안료 농도가 높아짐에 따라 유리, 크롬 블랙 매트릭스 또는 ITO(인듐주석산화물)와 같은 금속 산화막, 실리콘 질화막과 같은 절연막 위에 현상시 제거되지 않고 남은 안료 입자(현상 잔사)의 양이 증가되는 문제가 있다. The photosensitive resin composition for color filters usually contains a pigment, a polymeric resin for binders, a photopolymerizable monomer, a photoinitiator, and a solvent, and a surfactant, an adhesion promoter, a compound for reducing a residue, etc. are added to it as needed. As the color filters increase, the pigment concentration in the composition for color filters increases as the chromaticity and high color reproducibility increase. However, as the pigment concentration in the color filter composition increases, the amount of pigment particles (developing residues) that are not removed upon development on a metal oxide film such as glass, a chromium black matrix or an ITO (indium tin oxide), or an insulating film such as a silicon nitride film. There is a problem that is increased.

따라서, 현상 잔사를 줄이기 위하여 여러 가지 방법이 시도되고 있다. Therefore, various methods have been tried to reduce the development residue.

우선, 현상 프로세스를 개선하는 방법으로서, 기판을 불화수소산 함유액에 처리하는 방법(일본 특개평 5-224014호), 현상액에 특정 계면활성제를 섞는 방법(일본 특개평 8-286387호 및 일본 특개평 8-292487호) 등이 있다. 그러나, 이와 같은 방법은 현상 잔사 제거가 불충분하고 잔사 발생의 근본 원인을 없애는 방법이 아니므로 프로세스 마진에 따라 잔사가 생길 수 있는 한계가 있다. First, as a method of improving the developing process, a method of treating a substrate with a hydrofluoric acid-containing liquid (Japanese Patent Laid-Open No. 5-224014), a method of mixing a specific surfactant with a developing solution (Japanese Patent Laid-Open Nos. 8-286387 and Japanese Laid-Open Patent Publication) 8-292487). However, such a method is insufficient to remove developing residues and is not a method of eliminating the root cause of the occurrence of residues, and thus there is a limit that residues may occur depending on process margins.

좀 더 근본적인 대처 방법은 컬러 필터용 조성물 자체를 현상 잔사가 남지 않도록 제조하는 방법인데, 이와 같은 방법으로서 바인더 수지 일부 혹은 전부를 안료 분산시에 첨가하여 분산 안정성을 높이는 방법(일본 특허 공개 2002-258027호), 현상 토출압에 잘 견디도록 조성을 조정하는 방법(일본 특허 공개 2003-302815호 및 일본 특허 2003-057813호), 바인더 폴리머의 산가와 분자량, 조성물의 산가를 특정 범위로 조정하는 방법(일본 특허 공개 2002-333712호 및 일본 특허 공개 2000-81508호) 등이 거론되고 있다. 이와 같은 방법들은 현상 잔사 발생을 상당히 줄일 수 있다. 그러나, 상기 방법들은 유리 위에서의 현상 잔사는 거의 해결 가능하지만, 금속 산화막이나 실리콘 질화막 위에 남는 현상 잔사는 해결할 수 없는 경우가 대부분이다. 따라서, 상기 방법들에서는 금속 산화막이나 실리콘 질화막 위의 현상 잔사까지 없애기 위하여 잔사 저감제를 함께 사용해야 하는 문제가 있다. A more fundamental countermeasure is a method of manufacturing the color filter composition itself so that no developing residue remains, and in this way, a part or all of the binder resin is added during pigment dispersion to increase dispersion stability (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-258027). No.), a method of adjusting the composition so as to withstand the development discharge pressure (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-302815 and Japanese Patent 2003-057813), a method of adjusting the acid value and molecular weight of the binder polymer and the acid value of the composition in a specific range (Japan Japanese Patent Laid-Open No. 2002-333712 and Japanese Patent Laid-Open No. 2000-81508). Such methods can significantly reduce the occurrence of developing residues. However, the above-mentioned methods can almost solve the developing residue on the glass, but the developing residue remaining on the metal oxide film or silicon nitride film is often not solved. Therefore, in the above methods, there is a problem that a residue reducing agent must be used together in order to eliminate development residues on the metal oxide film or the silicon nitride film.

잔사 저감제로는 유기산이나 유기 아민이 사용되어 왔는데, 이 중 유기산은 대부분 한 분자 내에 카르복시산기가 2개 이상 존재하는 저분자 화합물로서, 이들 분자 내에 존재하는 2개 이상의 카르복시산기가 컬러 필터 포토레지스트의 알칼리 현상액에 대한 용해도를 높여 현상 잔사를 줄이는 역할을 한다. 그런데, 상기와 같은 잔사 저감제는 컬러 필터 조성물에 주로 사용되는 용매에 대한 용해도가 낮아 필요한 만큼 충분히 사용할 수 없고, 보관시 석출될 위험을 항상 내재하고 있다. 또한, 일반적으로 유기산은 컬러 필터 패턴의 탈착을 촉진하는 경향이 있다. Organic residues or organic amines have been used as the residue reducing agent, and most of these organic acids are low molecular compounds in which at least two carboxylic acid groups exist in one molecule, and at least two carboxylic acid groups present in these molecules are used in the alkaline developer of the color filter photoresist. It increases the solubility in water and reduces the residue of development. By the way, the residue reducing agent as described above has a low solubility in the solvent mainly used in the color filter composition, can not be used enough as necessary, and always inherent in the risk of precipitation during storage. Also, organic acids generally tend to promote desorption of color filter patterns.

따라서, 현상 잔사를 줄일 수 있는 동시에 컬러 필터용 감광성 수지 조성물에 사용되는 용매에 대한 용해도가 우수하고 컬러 필터 패턴의 탈착을 일으키지 않는 현상 잔사 저감제의 개발이 시급히 요구되고 있다.Therefore, there is an urgent need to develop a developing residue reducing agent which can reduce the development residue and is excellent in solubility in a solvent used in the photosensitive resin composition for color filters and does not cause desorption of the color filter pattern.

본 발명자들은 착색제를 포함하는 감광성 수지 조성물에 현상 잔사 저감제로서 한 분자 내에 다관능성 아크릴기와 2개 이상의 카르복시산기를 모두 함유하는 화합물을 첨가하는 경우, 상기 화합물은 다관능성 아크릴기에 의하여 감광성 수지 조성물에 사용되는 용매에 대하여 용해도가 우수할 뿐만 아니라 감광성 수지 조성물의 광중합 밀도를 높여 컬러 패턴의 탈착을 방지할 수 있고, 2개 이상의 카르복시산기에 의하여 감광성 수지 조성물의 현상 잔사를 감소시킬 수 있다는 사실을 밝혀내었다. 또한, 본 발명자들은 상기와 같이 현상 잔사 저감제로 사용될 수 있는 신규한 화합물을 합성해 내었다. When the present inventors add a compound containing both a polyfunctional acrylic group and two or more carboxylic acid groups in one molecule as a developing residue reducing agent to a photosensitive resin composition comprising a colorant, the compound is used in the photosensitive resin composition by a polyfunctional acrylic group. It has been found that not only the solubility of the solvent is excellent, but also the photopolymerization density of the photosensitive resin composition can be increased to prevent desorption of color patterns, and the development residue of the photosensitive resin composition can be reduced by two or more carboxylic acid groups. In addition, the present inventors have synthesized a novel compound that can be used as a developing residue reducing agent as described above.

이에 본 발명은 한 분자 내에 다관능성 아크릴기와 2개 이상의 카르복시산기를 함유하는 화합물을 포함하는 현상 잔사 저감제 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물과, 현상 잔사 저감제로 사용될 수 있는 신규한 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a developing residue reducing agent comprising a compound containing a polyfunctional acrylic group and two or more carboxylic acid groups in one molecule, a photosensitive resin composition comprising the same, and a novel compound that can be used as a developing residue reducing agent. It is done.

본 발명은 하기 화학식 1의 다관능성 아크릴기 및 2개 이상의 카르복시산기 (-COOH)를 함유하는 화합물을 포함하는 현상 잔사 저감제를 제공한다:The present invention provides a developing residue reducing agent comprising a compound containing a polyfunctional acrylic group of formula 1 and at least two carboxylic acid groups (-COOH):

Figure 112004032074925-PAT00002
Figure 112004032074925-PAT00002

상기 식에 있어서, R1 및 R2는 각각 H 또는 CH3이고, * 은 연결부위이다. In the above formula, R1 and R2 are each H or CH3, and * is a linking site.

또한, 본 발명은 상기 현상 잔사 저감제를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다. Moreover, this invention provides the photosensitive resin composition containing the said image development residue reducing agent.

또한, 본 발명은 상기 현상 잔사 저감제로 사용될 수 있는 신규한 구조의 화합물을 제공한다. The present invention also provides a compound of a novel structure that can be used as the developing residue reducing agent.

이하에서 본 발명에 대하여 상세히 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명은 상기 화학식 1의 다관능성 아크릴기 및 2개 이상의 카르복시산기(-COOH)를 함유하는 화합물을 포함하는 현상 잔사 저감제를 제공한다. The present invention provides a developing residue reducing agent comprising a compound containing the polyfunctional acrylic group of Formula 1 and two or more carboxylic acid groups (-COOH).

상기와 같은 화합물을 착색제 함유 감광성 수지 조성물에 첨가하는 경우, 상기 화합물 중에 존재하는 2개 이상의 카르복시산기는 염기성 현상액과 접촉할 경우 염으로 변함으로써 상기 조성물에 의하여 형성된 필름이 현상액에 잘 녹아나가도록 하여 현상 잔사를 줄이는 역할을 할 수 있다. 상기 화합물 중 카르복시산기가 1개이하인 경우에는 화합물의 분자량에 비하여 산기가 적어 감광성 수지 조성물에 의하여 형성되는 필름의 산가를 높이는 효과가 미미하고, 따라서 잔사 저감의 효과도 거의 없다. When such a compound is added to the colorant-containing photosensitive resin composition, at least two carboxylic acid groups present in the compound are converted into salts when contacted with a basic developer, so that the film formed by the composition melts well in the developer. It can play a role in reducing residue. When the number of carboxylic acid groups in the compound is one or less, the acid group is less than the molecular weight of the compound, and the effect of increasing the acid value of the film formed by the photosensitive resin composition is insignificant, and thus, there is little effect of reducing the residue.                     

한편, 상기 화합물 중에 존재하는 다관능성 아크릴기는 감광성 수지 조성물의 광경화시 노광에 의해 발생된 라디칼에 의해 광중합에 참여할 수 있어 조성물 속에 포함되어 있는 기타의 다른 가교제와 함께 가교제 역할을 할 수 있고, 이에 의하여 광중합 밀도를 높이는데 도움이 된다. 따라서, 상기와 같은 화합물은 감광성 수지 조성물의 광중합 밀도를 높임으로써 컬러 패턴의 탈착을 방지할 수 있다. Meanwhile, the polyfunctional acrylic group present in the compound may participate in photopolymerization by radicals generated by exposure during photocuring of the photosensitive resin composition, and thus may act as a crosslinking agent together with other crosslinking agents included in the composition. This helps to increase the photopolymerization density. Therefore, the above compound can prevent the desorption of the color pattern by increasing the photopolymerization density of the photosensitive resin composition.

또한, 상기 화합물 중의 다관능성 아크릴기는 이를 포함하는 화합물 구조 자체의 사슬이 길어지게 하고 가지(branch)를 부여하므로 화합물에 구조적 유연성(flexible)을 부가한다. 이와 같이 유연한(flexible) 구조의 화합물을 감광성 수지 조성물에 포함시키면, 구조에 있어서 열적 움직임의 자유도(특히 회전 자유도)가 적은 화합물을 포함시키는 경우에 비하여, 감광성 수지 조성물에 의해 형성된 필름의 치밀도가 낮아져 필름의 기계적 강도가 낮아지고 현상액의 침투가 용이해짐으로써 현상성 향상에 도움을 준다. 또한, 상기 다관능성 아크릴기가 도입되어 유연한 구조를 갖는 화합물은 컬러 필터용 조성물에 사용되는 극성이 그다지 크지 않은 에스테르, 케톤계 용매와 같은 용매에 대한 용해성이 우수해진다. In addition, the polyfunctional acrylic group in the compound adds structural flexibility to the compound by lengthening the chain of the compound structure itself including the same and giving a branch. When the compound of the flexible structure is included in the photosensitive resin composition, the density of the film formed by the photosensitive resin composition is higher than that in the case of including the compound having less freedom of thermal movement (especially rotational freedom) in the structure. As the degree is lowered, the mechanical strength of the film is lowered, and the penetration of the developer is facilitated, thereby improving the developability. In addition, the compound having a flexible structure by introducing the polyfunctional acrylic group is excellent in solubility in solvents such as esters, ketone-based solvents are not very polar used in the color filter composition.

요컨대, 다관능성 아크릴기 및 2개 이상의 카르복시산기를 포함하는 상기 화합물은 컬러 필터 등을 제조하기 위한 착색제 함유 감광성 수지 조성물에 첨가되는 경우, 잔사 저감 성분 및 광중합성 모노머 성분으로 유효하게 작용하여 현상 잔사를 감소시킬 뿐만 아니라 칼라 패턴의 탈착을 방지할 수 있다.In short, when the compound containing a polyfunctional acrylic group and two or more carboxylic acid groups is added to a colorant-containing photosensitive resin composition for producing a color filter or the like, the compound effectively acts as a residue reducing component and a photopolymerizable monomer component to develop a developing residue. In addition to reducing, it is possible to prevent detachment of the collar pattern.

본 발명의 현상 잔사 저감제에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 다관능성 아크릴기 및 2개 이상의 카르복시산기(-COOH)를 포함하는 화합물은 하기 화학식 2 로 표시되는 작용기를 2개 이상을 포함하는 화합물인 것이 바람직하다:In the developing residue reducing agent of the present invention, the compound containing the polyfunctional acrylic group represented by the formula (1) and two or more carboxylic acid groups (-COOH) is a compound containing two or more functional groups represented by the formula (2) Is preferably:

Figure 112004032074925-PAT00003
Figure 112004032074925-PAT00003

상기 식에 있어서, R1 및 R2는 각각 H 또는 CH3이고, *은 연결부위이다.In the above formula, R1 and R2 are each H or CH3, and * is a linking site.

상기 화학식 2로 표시되는 작용기를 2개 이상 포함하는 화합물은 하기 화학식 3으로 표시되는 산 무수물을 2개 이상 포함하는 화합물과 하기 화학식 4로 표시되는 이차 알코올을 축합 반응시킴으로써 제조할 수 있다:The compound including two or more functional groups represented by Formula 2 may be prepared by condensation reaction of a compound including two or more acid anhydrides represented by Formula 3 with a secondary alcohol represented by Formula 4 below:

Figure 112004032074925-PAT00004
Figure 112004032074925-PAT00004

상기 식에 있어서, *은 연결부위이다. In the above formula, * is a linking site.

Figure 112004032074925-PAT00005
Figure 112004032074925-PAT00005

상기 식에 있어서, R3 및 R4는 각각 H 또는 CH3이다. In the above formula, R3 and R4 are each H or CH3.

상기 산 무수물과 알코올의 축합반응은 단순히 고온에서 가열하는 것만으로도 진행될 수 있으나, 다른 작용기의 부반응을 억제하기 위하여 상대적으로 낮은 온도에서 진행하면서 소량의 촉매를 사용할 수 있다. 촉매는 기지의 염기성 촉매를 사용할 수 있으며, 예컨대 알킬암모늄염, 트리페닐포스핀, 트리페닐안티몬, 디메틸아미노피리딘 등을 사용할 수 있다. 반응 온도는 100 ℃에서 150 ℃ 사이가 바람직하고, 반응 시간은 1 시간 내지 24 시간이 바람직하다.The condensation reaction of the acid anhydride and alcohol may proceed simply by heating at a high temperature, but a small amount of catalyst may be used while proceeding at a relatively low temperature to suppress side reactions of other functional groups. As the catalyst, a known basic catalyst may be used, for example, an alkylammonium salt, triphenylphosphine, triphenylantimony, dimethylaminopyridine, or the like may be used. The reaction temperature is preferably between 100 ° C and 150 ° C, and the reaction time is preferably 1 hour to 24 hours.

본 발명자들은 전술한 바와 같이 현상 잔사 저감제로 사용될 수 있는 신규한 구조의 화합물을 합성하였다. 이들 화합물은 하기 화학식 5 내지 11과 같다. The inventors have synthesized a novel structure of compound that can be used as a developing residue reducing agent as described above. These compounds are represented by the following Chemical Formulas 5 to 11.

Figure 112004032074925-PAT00006
Figure 112004032074925-PAT00006

Figure 112004032074925-PAT00007
Figure 112004032074925-PAT00007

상기 화학식 5 및 6에 있어서, X는 상기 화학식 1의 다관능성 아크릴기이다.In Chemical Formulas 5 and 6, X is a polyfunctional acrylic group of Chemical Formula 1.

Figure 112004032074925-PAT00008
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Figure 112004032074925-PAT00009
Figure 112004032074925-PAT00009

상기 화학식 7 및 8에 있어서, X는 상기 화학식 1의 다관능성 아크릴기이다. In Chemical Formulas 7 and 8, X is a polyfunctional acrylic group of Chemical Formula 1.                     

Figure 112004032074925-PAT00010
Figure 112004032074925-PAT00010

Figure 112004032074925-PAT00011
Figure 112004032074925-PAT00011

Figure 112004032074925-PAT00012
Figure 112004032074925-PAT00012

상기 화학식 9 내지 11에 있어서, X는 상기 화학식 1의 다관능성 아크릴기이고, Y는 탄소수 0 내지 6의 알킬, CO, SO2, O, S,

Figure 112004032074925-PAT00013
(*는 연결부위)로 이루어진 군에서 선택된다. In Chemical Formulas 9 to 11, X is a polyfunctional acrylic group of Chemical Formula 1, Y is C0-6 alkyl, CO, SO2, O, S,
Figure 112004032074925-PAT00013
(* Is selected from the group consisting of connections).

상기 화학식 5 내지 11의 화합물은 각각 하기 화학식 12 내지 14의 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 산무수물과 상기 화학식 4의 이차 알코올을 축합반응시킴으로써 제조할 수 있다:The compounds of Formulas 5 to 11 may be prepared by condensation reaction of an acid anhydride selected from the group consisting of compounds of Formulas 12 to 14 with a secondary alcohol of Formula 4, respectively:

Figure 112004032074925-PAT00014
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Figure 112004032074925-PAT00015
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Figure 112004032074925-PAT00016
Figure 112004032074925-PAT00016

상기 식에 있어서, Y는 탄소수 0 내지 6의 알킬, CO, SO2, O, S,

Figure 112004032074925-PAT00017
(*는 연결부위)로 이루어진 군에서 선택된다.In the above formula, Y is C0-6 alkyl, CO, SO2, O, S,
Figure 112004032074925-PAT00017
(* Is selected from the group consisting of connections).

한편, 본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 다관능성 아크릴기 및 2개 이상의 카르복시산기(-COOH)를 함유하는 화합물을 포함하는 현상 잔사 저감제를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다. On the other hand, the present invention provides a photosensitive resin composition comprising a developing residue reducing agent comprising a compound containing a polyfunctional acrylic group represented by the formula (1) and two or more carboxylic acid groups (-COOH).

상기 화학식 1의 다관능성 아크릴기 및 2개 이상의 카르복시산기(-COOH)를 함유하는 화합물은 전술한 바와 같이 상기 다관능성 아크릴기에 의하여 광중합성 모노머의 역할도 할 수 있으므로, 본 발명의 감광성 수지 조성물은 상기 화합물 이외에 별도의 광중합성 모노머를 포함하지 않아도 좋다. 그러나, 감광성을 보다 향상시키기 위해서 본 발명의 감광성 수지 조성물은 상기 화합물 이외에 별도의 광중합성 모노머인 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. Since the compound containing the polyfunctional acrylic group of Formula 1 and two or more carboxylic acid groups (-COOH) can also act as a photopolymerizable monomer by the polyfunctional acrylic group, the photosensitive resin composition of the present invention It is not necessary to include another photopolymerizable monomer other than the said compound. However, in order to further improve the photosensitivity, it is preferable that the photosensitive resin composition of this invention contains the polymeric compound which has an ethylenically unsaturated bond which is another photopolymerizable monomer other than the said compound.                     

구체적으로, 본 발명은 Specifically, the present invention

a) 상기 화학식 1로 표시되는 다관능성 아크릴기 및 2개 이상의 카르복시산기(-COOH)를 함유하는 화합물을 포함하는 현상 잔사 저감제,a) a developing residue reducing agent comprising a compound containing a polyfunctional acrylic group represented by Formula 1 and two or more carboxylic acid groups (-COOH),

b) 알칼리 가용성 수지 바인더, b) alkali-soluble resin binder,

c) 광중합개시제,c) photoinitiators,

d) 착색제, 및d) colorants, and

e) 용매e) solvent

를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다. It provides a photosensitive resin composition comprising a.

상기 본 발명의 감광성 수지 조성물은 상기 성분들 이외에 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물 또는 기타 첨가제를 더 포함할 수 있다. The photosensitive resin composition of the present invention may further include a polymerizable compound or other additives having an ethylenically unsaturated bond in addition to the above components.

상기 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 b)의 알칼리 가용성 수지 바인더로는 산기(acid functional group)를 포함하는 모노머와 이 모노머와 공중합가능하여 필름 강도를 주는 모노머의 공중합체, 또는 이 공중합체와 에폭시기를 함유한 에틸렌성 불포화 화합물의 고분자 반응을 통하여 제조되는 화합물이 사용될 수 있다.In the photosensitive resin composition, as the alkali-soluble resin binder of b), a copolymer of a monomer containing an acid functional group and a monomer copolymerizable with the monomer to give film strength, or the copolymer and an epoxy group Compounds prepared through the polymer reaction of the ethylenically unsaturated compounds containing can be used.

본 발명에 있어서는, 상기 b) 알칼리 가용성 수지 바인더로서 산가가 약 30 내지 300 KOH mg/g 이고, 중량 평균 분자량이 1,000 ~ 200,000의 범위인 바인더를 사용하는 것이 바람직하며, 중량 평균 분자량이 5,000 ~ 100,000의 범위인 바인더가 더욱 바람직하다. In the present invention, it is preferable to use a binder having an acid value of about 30 to 300 KOH mg / g and a weight average molecular weight of 1,000 to 200,000 as the b) alkali-soluble resin binder, and a weight average molecular weight of 5,000 to 100,000. A binder in the range of is more preferable.

상기 산기를 포함하는 모노머로는 (메타)아크릴 산, 크로톤 산, 이타콘 산, 말레인 산, 푸마르 산, 모노메틸 말레인 산, 이소프렌 술폰산, 스티렌 술폰산, 및 5-노보넨-2-카복실산, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 프탈레이트, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 숙시네이트, ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노(메타)아크릴레이트 등으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 화합물을 사용하는 것이 바람직하나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. Monomers containing the acid groups include (meth) acrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, monomethyl maleic acid, isoprene sulfonic acid, styrene sulfonic acid, and 5-norbornene-2-carboxylic acid, From the group consisting of mono-2-((meth) acryloyloxy) ethyl phthalate, mono-2-((meth) acryloyloxy) ethyl succinate, ω-carboxy polycaprolactone mono (meth) acrylate, and the like It is preferable to use at least one compound selected, but is not limited thereto.

상기 산기를 포함하는 모노머와 공중합가능한 모노머로는 벤질(메타)아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼프릴(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-클로로프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 아실옥틸옥시-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 글리세롤(메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메타)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리(에틸렌 글리콜) 메틸에테르(메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필 (메타)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메타)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실(메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐(메타)아 크릴레이트, 메틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 에틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 프로필 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 부틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트와 같은 불포화 카르복시산 에스테르류; 스티렌, α-메틸스티렌, (o,m,p)-비닐 톨루엔, (o,m,p)-메톡시 스티렌, (o,m,p)-클로로 스티렌과 같은 방향족 비닐류; 비닐 메틸 에테르, 비닐 에틸 에테르, 알릴 글리시딜 에테르와 같은 불포화 에테르류; N-비닐 피롤리돈, N-비닐 카바졸, N-비닐 모폴린과 같은 N-비닐 삼차아민류; N-페닐 말레이미드, N-(4-클로로페닐) 말레이미드, N-(4-히드록시페닐) 말레이미드, N-시클로헥실 말레이미드와 같은 불포화 이미드류; 무수 말레인산, 무수 메틸 말레인산과 같은 무수 말레산류 등으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용하는 것이 바람직하나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.Monomers copolymerizable with the monomer containing an acid group include benzyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, and iso Butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate , Tetrahydroperpril (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-chloropropyl (meth) acrylate, 4-hydroxy Butyl (meth) acrylate, acyl octyloxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate , Ethoxydiethyleneglycol Col (meth) acrylate, methoxy triethylene glycol (meth) acrylate, methoxy tripropylene glycol (meth) acrylate, poly (ethylene glycol) methyl ether (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acryl P-nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, p-nonylphenoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1, 1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) acrylate, tribromophenyl (meth) a Unsaturated carboxylic acids such as acrylate, methyl α-hydroxymethyl acrylate, ethyl α-hydroxymethyl acrylate, propyl α-hydroxymethyl acrylate, butyl α-hydroxymethyl acrylate Reuryu; Aromatic vinyls such as styrene, α-methylstyrene, (o, m, p) -vinyl toluene, (o, m, p) -methoxy styrene, (o, m, p) -chloro styrene; Unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, allyl glycidyl ether; N-vinyl tertiary amines, such as N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl carbazole, and N-vinyl morpholine; Unsaturated imides such as N-phenyl maleimide, N- (4-chlorophenyl) maleimide, N- (4-hydroxyphenyl) maleimide, and N-cyclohexyl maleimide; It is preferable to use one or more compounds selected from the group consisting of maleic anhydride, maleic anhydride such as methyl maleic anhydride, and the like, but is not limited thereto.

또한, 상기 알칼리 가용성 수지 바인더의 제조시 사용되는 에폭시기를 함유한 에틸렌성 불포화 화합물로는 알릴 글리시딜 에테르, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 (메타)아크릴레이트, 글리시딜 5-노보넨-2-메틸-2-카복실레이트(엔도, 엑소 혼합물), 1,2-에폭시-5-헥센 및 1,2-에폭시-9-데센으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.Further, ethylenically unsaturated compounds containing an epoxy group used in the preparation of the alkali-soluble resin binder include allyl glycidyl ether, glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate. 1 selected from the group consisting of glycidyl 5-norbornene-2-methyl-2-carboxylate (endo, exo mixture), 1,2-epoxy-5-hexene and 1,2-epoxy-9-decene Preference is given to using more than one compound.

상기 산기(acid functional group)를 포함하는 모노머, 이 모노머와 공중합가능하여 필름 강도를 주는 모노머 및/또는 에폭시기를 함유한 에틸렌성 불포화 화합물에 의하여 제조되는 알칼리 가용성 바인더는 단독 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Alkali-soluble binders produced by monomers containing the acid functional group, monomers which are copolymerizable with the monomers to give film strength, and / or ethylenically unsaturated compounds containing epoxy groups may be used alone or in combination of two or more thereof. Can be used.

본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서, c) 광중합 개시제로는 2,4-트리클 로로메틸-(4'-메톡시페닐)-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(4'-메톡시스티릴)-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(피플로닐)-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(3',4'-디메톡시페닐)-6-트리아진, 3-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오} 프로판산 등의 트리아진 화합물; 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐 비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 등의 비이미다졸 화합물; 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)-페닐 (2-히드록시)프로필 케톤, 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤, 벤조인메틸 에테르, 벤조인에틸 에테르, 벤조인이소부틸 에테르, 벤조인부틸 에테르, 2,2-디메톡시-2-페닐 아세토페논, 2-메틸-(4-메틸티오페닐)-2-몰폴리노-1-프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄-1-온 등의 아세토페논계 화합물; 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2,4,6-트리메틸아미노벤조페논, 메틸-o-벤조일벤조에이트, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논 등의 벤조페논계 화합물; 9-플로레논, 2-클로로-9-플로레논, 2-메틸-9-플로레논 등의 플로레논계 화합물; 티옥산톤, 2,4-디에틸 티옥산톤, 2-클로로 티옥산톤, 1-클로로-4-프로필옥시 티옥산톤, 이소프로필 티옥산톤, 디이소프로필 티옥산톤 등의 티옥산톤계 화합물; 크산톤, 2-메틸크산톤 등의 크산톤계 화합물; 안트라퀴논, 2-메틸 안트라퀴논, 2-에틸 안트라퀴논, t-부틸 안트라퀴논, 2,6-디클로로-9,10-안트라퀴논 등의 안트라퀴논계 화합물; 9-페닐아크리딘, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스(9-아크리디닐)펜탄, 1,3-비스(9-아크리디닐)프로판 등의 아크리딘계 화합물; 벤질, 1,7,7-트리메틸-비스클로[2,2,1]헵탄-2,3-디온, 9,10-펜안트렌퀴논 등의 디카르보닐 화합물; 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀 옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸 포스핀 옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일) 프로필 포스핀 옥사이드 등의 포스핀 옥사이드계 화합물; 메틸 4-(디메틸아미노)벤조에이트, 에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트, 2-n-부톡시에틸 4-(디메틸아미노)벤조에이트, 2,5-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로펜타논, 2,6-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로헥사논, 2,6-비스(4-디에틸아미노벤잘)-4-메틸-시클로헥사논 등의 아민계 시너지스트; 3,3'-카르보닐비닐-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-(2-벤조티아졸일)-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-메톡시-쿠마린, 10,10'-카르보닐비스[1,1,7,7-테트라메틸-2,3,6,7-테트라하이드로-1H,5H,11H-Cl]-벤조피라노[6,7,8-ij]-퀴놀리진-11-온 등의 쿠마린계 화합물; 4-디에틸아미노 칼콘, 4-아지드벤잘아세토페논 등의 칼콘 화합물; 2-벤조일메틸렌, 및 3-메틸-β-나프토티아졸린 등으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 화합물을 사용할 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. In the photosensitive resin composition of this invention, c) As a photoinitiator, 2, 4- trichloromethyl- (4'-methoxyphenyl) -6-triazine, 2, 4- trichloromethyl- (4'-meth) Oxystyryl) -6-triazine, 2,4-trichloromethyl- (piflonil) -6-triazine, 2,4-trichloromethyl- (3 ', 4'-dimethoxyphenyl) -6 Triazine compounds such as -triazine and 3- {4- [2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazin-6-yl] phenylthio} propanoic acid; 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl biimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4', 5 Biimidazole compounds such as 5′-tetraphenylbiimidazole; 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4- (2-hydroxy Methoxy) -phenyl (2-hydroxy) propyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoinmethyl ether, benzoinethyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoinbutyl ether, 2,2-dimethoxy- 2-phenylacetophenone, 2-methyl- (4-methylthiophenyl) -2-morpholino-1-propane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl Acetophenone-based compounds such as) -butan-1-one; Benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2,4,6-trimethylaminobenzophenone, methyl-o-benzoylbenzoate, 3 Benzophenone compounds such as 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone and 3,3 ', 4,4'-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone; Fluorenone compounds such as 9- fluorenone, 2-chloro-9- fluorenone and 2-methyl-9- fluorenone; Thioxanthones such as thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, 1-chloro-4-propyloxy thioxanthone, isopropyl thioxanthone and diisopropyl thioxanthone compound; Xanthone compounds such as xanthone and 2-methylxanthone; Anthraquinone compounds such as anthraquinone, 2-methyl anthraquinone, 2-ethyl anthraquinone, t-butyl anthraquinone and 2,6-dichloro-9,10-anthraquinone; 9-phenylacridine, 1,7-bis (9-acridinyl) heptane, 1,5-bis (9-acridinyl) pentane, 1,3-bis (9-acridinyl) propane Acridine-based compounds; Dicarbonyl compounds such as benzyl, 1,7,7-trimethyl-bisclo [2,2,1] heptane-2,3-dione, 9,10-phenanthrenequinone; 2,4,6-trimethylbenzoyl diphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentyl phosphine oxide, bis (2,6-dichlorobenzoyl) propyl phosphine oxide Phosphine oxide compounds such as these; Methyl 4- (dimethylamino) benzoate, ethyl-4- (dimethylamino) benzoate, 2-n-butoxyethyl 4- (dimethylamino) benzoate, 2,5-bis (4-diethylaminobenzal) Amine synergists such as cyclopentanone, 2,6-bis (4-diethylaminobenzal) cyclohexanone, and 2,6-bis (4-diethylaminobenzal) -4-methyl-cyclohexanone; 3,3'-carbonylvinyl-7- (diethylamino) coumarin, 3- (2-benzothiazolyl) -7- (diethylamino) coumarin, 3-benzoyl-7- (diethylamino) coumarin, 3-benzoyl-7-methoxy-coumarin, 10,10'-carbonylbis [1,1,7,7-tetramethyl-2,3,6,7-tetrahydro-1H, 5H, 11H-Cl] Coumarin-based compounds such as -benzopyrano [6,7,8-ij] -quinolizin-11-one; Chalcone compounds such as 4-diethylamino chalcone and 4-azidebenzalacetophenone; One or more compounds selected from the group consisting of 2-benzoylmethylene, 3-methyl-β-naphthothiazoline, and the like can be used, but are not limited thereto.

본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 d) 착색제로는 1 종 이상의 안료, 염료, 또는 이들의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다.In the photosensitive resin composition of this invention, it is preferable to use 1 or more types of pigment, dye, or a mixture thereof as said d) coloring agent.

사용 가능한 흑색 안료로는 카본 블랙, 흑연, 또는 금속산화물 등이 있다. 카본 블랙의 예로는 (상품명으로) 시스토 5HIISAF-HS, 시스토 KH, 시스토 3HHAF-HS, 시스토 NH, 시스토 3M, 시스토 300HAF-LS, 시스토 116HMMAF-HS, 시스토 116MAF, 시스토 FMFEF-HS, 시스토 SOFEF, 시스토 VGPF, 시스토 SVHSRF-HS 및 시스토 SSRF(동해카본 ㈜) ; 다이어그램 블랙 II, 다이어그램 블랙 N339, 다이어그램 블랙 SH, 다이어그램 블랙 H, 다이어그램 LH, 다이어그램 HA, 다이어그램 SF, 다이어그램 N550M, 다이어그램 M, 다이어그램 E, 다이어그램 G, 다이어그램 R, 다이어그램 N760M, 다이어그램 LR, #2700, #2600, #2400, #2350, #2300, #2200, #1000, #980, #900, MCF88, #52, #50, #47, #45, #45L, #25, #CF9, #95, #3030, #3050, MA7, MA77, MA8, MA11, MA100, MA40, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B 및 OIL31B(미쯔비시화학㈜) ; PRINTEX-U, PRINTEX-V, PRINTEX-140U, PRINTEX-140V, PRINTEX-95, PRINTEX-85, PRINTEX-75, PRINTEX-55, PRINTEX-45, PRINTEX-300, PRINTEX-35, PRINTEX-25, PRINTEX-200, PRINTEX-40, PRINTEX-30, PRINTEX-3, PRINTEX-A, SPECIAL BLACK-550, SPECIAL BLACK-350, SPECIAL BLACK-250, SPECIAL BLACK-100, 및 LAMP BLACK-101(대구사㈜); RAVEN-1100ULTRA, RAVEN-1080ULTRA, RAVEN-1060ULTRA, RAVEN-1040, RAVEN-1035, RAVEN-1020, RAVEN-1000, RAVEN-890H, RAVEN-890, RAVEN-880ULTRA, RAVEN-860ULTRA, RAVEN-850, RAVEN-820, RAVEN-790ULTRA, RAVEN-780ULTRA, RAVEN-760ULTRA, RAVEN-520, RAVEN-500, RAVEN-460, RAVEN-450, RAVEN-430ULTRA, RAVEN-420, RAVEN-410, RAVEN-2500ULTRA, RAVEN-2000, RAVEN-1500, RAVEN-1255, RAVEN-1250, RAVEN-1200, RAVEN-1190ULTRA, 및 RAVEN-1170(콜롬비아 카본㈜)등이 있다. Black pigments that can be used include carbon black, graphite, or metal oxides. Examples of carbon blacks are (in brand name) cysto 5HIISAF-HS, cysto KH, cysto 3HHAF-HS, cysto NH, cysto 3M, cysto 300HAF-LS, cysto 116HMMAF-HS, cysto 116MAF, cis Sat FMFEF-HS, Sisto SOFEF, Sisto VGPF, Sisto SVHSRF-HS and Sisto SSRF (Donghae Carbon Co., Ltd.); Diagram Black II, Diagram Black N339, Diagram Black SH, Diagram Black H, Diagram LH, Diagram HA, Diagram SF, Diagram N550M, Diagram M, Diagram E, Diagram G, Diagram R, Diagram N760M, Diagram LR, # 2700, # 2600, # 2400, # 2350, # 2300, # 2200, # 1000, # 980, # 900, MCF88, # 52, # 50, # 47, # 45, # 45L, # 25, # CF9, # 95, # 3030, # 3050, MA7, MA77, MA8, MA11, MA100, MA40, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B and OIL31B (Mitsubishi Chemical Corporation); PRINTEX-U, PRINTEX-V, PRINTEX-140U, PRINTEX-140V, PRINTEX-95, PRINTEX-85, PRINTEX-75, PRINTEX-55, PRINTEX-45, PRINTEX-300, PRINTEX-35, PRINTEX-25, PRINTEX- 200, PRINTEX-40, PRINTEX-30, PRINTEX-3, PRINTEX-A, SPECIAL BLACK-550, SPECIAL BLACK-350, SPECIAL BLACK-250, SPECIAL BLACK-100, and LAMP BLACK-101 (Daegu Corporation); RAVEN-1100ULTRA, RAVEN-1080ULTRA, RAVEN-1060ULTRA, RAVEN-1040, RAVEN-1035, RAVEN-1020, RAVEN-1000, RAVEN-890H, RAVEN-890, RAVEN-880ULTRA, RAVEN-860ULTRA, RAVEN-850, RAVEN- 820, RAVEN-790ULTRA, RAVEN-780ULTRA, RAVEN-760ULTRA, RAVEN-520, RAVEN-500, RAVEN-460, RAVEN-450, RAVEN-430ULTRA, RAVEN-420, RAVEN-410, RAVEN-2500ULTRA, RAVEN-2000, RAVEN-1500, RAVEN-1255, RAVEN-1250, RAVEN-1200, RAVEN-1190ULTRA, and RAVEN-1170 (Colombia Carbon).

또한, 색깔을 띠는 착색제로는 카민 6B(C.I.12490), 프탈로시아닌 그린(C.I. 74260), 프탈로시아닌 블루(C.I. 74160), 페릴렌 블랙(BASF K0084. K0086), 시아닌 블랙, 리놀옐로우(C.I.21090), 리놀 옐로우GRO(C.I. 21090), 벤지딘 옐로우4T-564D, 빅토리아 퓨어 블루(C.I.42595), C.I. PIGMENT RED 3, 23, 97, 108, 122, 139, 140, 141, 142, 143, 144, 149, 166, 168, 175, 177, 180, 185, 189, 190, 192, 202, 214, 215, 220, 221, 224, 230, 235, 242, 254, 255, 260, 262, 264, 272; C.I. PIGMENT GREEN 7, 36; C.I. PIGMENT blue 15:1, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 28, 36, 60, 64; C.I. PIGMENT yellow 13, 14, 35, 53, 83, 93, 95, 110, 120, 138, 139, 150, 151, 154, 175, 180, 181, 185, 194, 213; C.I. PIGMENT VIOLET 15, 19, 23, 29, 32, 37 등이 있고, 이 밖에 백색 안료, 형광 안료 등도 이용할 수 있다.In addition, the colorant is colored carmine 6B (CI12490), phthalocyanine green (CI 74260), phthalocyanine blue (CI 74160), perylene black (BASF K0084. K0086), cyanine black, linol yellow (CI21090), Linol yellow GRO (CI 21090), benzidine yellow 4T-564D, Victoria pure blue (CI42595), CI PIGMENT RED 3, 23, 97, 108, 122, 139, 140, 141, 142, 143, 144, 149, 166, 168, 175, 177, 180, 185, 189, 190, 192, 202, 214, 215, 220, 221, 224, 230, 235, 242, 254, 255, 260, 262, 264, 272; C.I. PIGMENT GREEN 7, 36; C.I. PIGMENT blue 15: 1, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 28, 36, 60, 64; C.I. PIGMENT yellow 13, 14, 35, 53, 83, 93, 95, 110, 120, 138, 139, 150, 151, 154, 175, 180, 181, 185, 194, 213; C.I. PIGMENT VIOLET 15, 19, 23, 29, 32, 37, etc. In addition, a white pigment, a fluorescent pigment, etc. can also be used.

본 발명의 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 e) 용매로는 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 테트라히드로퓨란, 1,4-디옥산, 에틸렌글리콜 디메틸 에테르, 에틸렌글리콜 디에틸 에테르, 프로필렌글리콜 디메틸 에테르, 프로필렌글리콜 디에틸 에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸 에틸 에테르, 클로로포름, 염화메틸렌, 1,2-디클로로에탄, 1,1,1-트리클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에텐, 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 프로판올, 부탄올, t-부탄올, 2-에톡시 프로판올, 2-메톡시 프로판올, 3-메톡시 부탄올, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 프로필렌글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 프로펠렌글리콜 에틸 에테르 아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 에틸 셀로솔브아세테이트, 메틸 셀로솔 브아세테이트, 및 부틸 아세테이트, 디프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 등으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 것을 사용하는 것이 바람직하나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.In the photosensitive resin composition of the present invention, e) as the solvent, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, ethylene glycol dimethyl Ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, chloroform, methylene chloride, 1,2-dichloroethane , 1,1,1-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethene, hexane, heptane, octane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene, methanol, ethanol Isopropanol, propanol, butanol, t-butanol, 2-ethoxy propanol, 2-methoxy propanol, 3-methoxy butanol, cyclohexanone, cyclopentanone, propylene glycol methyl ether acetate, propylene 1 selected from the group consisting of chol ethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, methyl cellosol bacetate, and butyl acetate, dipropylene glycol monomethyl ether, and the like. It is preferable to use more than one species, but is not limited thereto.

본 발명의 감광성 수지 조성물은 상기 성분들 이외에 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물을 더 포함하는 것이 바람직하다. 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물로는 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌기의 수가 2∼14인 폴리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 프로필렌기의 수가 2∼14인 프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트 등의 다가 알콜을 α, β-불포화 카르복실산에 에스테르화하여 얻어지는 화합물; 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르아크릴산 부가물, 비스페놀 A 디글리시딜에테르아크릴산 부가물 등의 글리시딜기를 함유하는 화합물에 (메타)아크릴산을 부가하여 얻어지는 화합물; β-히드록시에틸(메타)아크릴레이트의 프탈산디에스테르, β-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트의 톨루엔 디이소시아네이트 부가물 등의 수산기 또는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 화합물과 다가 카르복실산과의 에스테르 화합물, 또는 폴리이소시아네이트와의 부가물; 및 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산 알킬에스테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 화합물을 사용하는 것이 바람직하 나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. It is preferable that the photosensitive resin composition of this invention further contains the polymeric compound which has an ethylenically unsaturated bond in addition to the said components. Examples of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond include ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate having 2 to 14 ethylene groups, trimethylolpropane di (meth) acrylate, and trimethylolpropane Tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate with 2-14 number of propylene groups, dipentaerythritol penta (meth) acrylic Compounds obtained by esterifying polyhydric alcohols such as latex and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate with α, β-unsaturated carboxylic acids; Compounds obtained by adding (meth) acrylic acid to a compound containing glycidyl groups such as trimethylolpropane triglycidyl ether acrylic acid adduct and bisphenol A diglycidyl ether acrylic acid adduct; Ester compound of the compound which has hydroxyl group or ethylenically unsaturated bond, such as phthalic acid diester of (beta) -hydroxyethyl (meth) acrylate and toluene diisocyanate adduct of (beta) -hydroxyethyl (meth) acrylate, and polyhydric carboxylic acid Or adducts with polyisocyanates; And at least one compound selected from the group consisting of (meth) acrylic acid alkyl esters such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate and 2-ethylhexyl (meth) acrylate. It is preferable to use, but it is not limited to these.

본 발명의 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 광증감제, 경화촉진제, 열 중합 억제제, 가소제, 접착 촉진제, 충전제, 계면활성제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 첨가제를 더욱 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition of this invention can further contain 1 or more types of additives chosen from the group which consists of a photosensitizer, a hardening accelerator, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, an adhesion promoter, a filler, and surfactant as needed.

상기 광증감제로는 상기 광중합개시제로서 예시된 것들을 사용할 수 있다. As the photosensitizer, those exemplified as the photopolymerization initiator may be used.

상기 경화촉진제로는 2-멀캅토벤조이미다졸, 2-멀캅토벤조티아졸, 2-멀캅토벤조옥사졸, 2,5-디멀캅토-1,3,4-티아디아졸, 2-멀캅토-4,6-디메틸아미노피리딘, 펜타에리스리톨 테트라키스(3-멀캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨 트리스(3-멀캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨 테트라키스(2-멀캅토아세테이트), 펜타에리스리톨 트리스(2-멀캅토아세테이트), 트리메틸올프로판 트리스(2-멀캅토아세테이트), 트리메틸올프로판 트리스(3-멀캅토프로피오네이트), 트리메틸올에탄 트리스(2-멀캅토아세테이트), 및 트리메틸옥에탄 트리스(3-멀캅토프로피오네이트)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 것을 사용하는 것이 바람직하다.Examples of the curing accelerator include 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole, and 2-mercapto. -4,6-dimethylaminopyridine, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tris (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (2-mercaptoacetate), pentaerythritol Tris (2-mercaptoacetate), trimethylolpropane tris (2-mercaptoacetate), trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), trimethylolethane tris (2-mercaptoacetate), and trimethyljade It is preferable to use 1 or more types chosen from the group which consists of ethane tris (3- mercapto propionate).

상기 열 중합 억제제로는 p-아니솔, 히드로퀴논, 피로카테콜 (pyrocatechol), t-부틸카테콜(t-butyl catechol), N-니트로소페닐히드록시아민 암모늄염, N-니트로소페닐히드록시아민 알루미늄염 및 페노티아진(phenothiazine)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 것을 사용하는 것이 바람직하다.The thermal polymerization inhibitors include p-anisole, hydroquinone, pyrocatechol, t-butyl catechol, N-nitrosophenylhydroxyamine ammonium salt, N-nitrosophenylhydroxyamine It is preferable to use at least one selected from the group consisting of aluminum salts and phenothiazines.

기타 가소제, 접착 촉진제, 충전제, 및 계면활성제는 종래의 감광성 수지 조성물에 포함될 수 있는 모든 화합물이 사용될 수 있다.As other plasticizers, adhesion promoters, fillers, and surfactants, all compounds that can be included in conventional photosensitive resin compositions can be used.

본 발명의 감광성 수지 조성물에는 조성물 총 100 중량부 대비 a) 상기 현상 잔사 저감제가 0.001 내지 5 중량부, b) 알칼리 가용성 수지 바인더가 1 내지 20 중량부, c) 광중합개시제가 0.1 내지 5 중량부, d) 착색제가 0.5 내지 20 중량부, e) 용매가 10 내지 95 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 그외 첨가되는 경우 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물은 0.5 내지 10 중량부, 그외 첨가제는 0.01 내지 20 중량부로 함유되는 것이 바람직하다. In the photosensitive resin composition of the present invention, a) the developer residue reducing agent is 0.001 to 5 parts by weight, b) 1 to 20 parts by weight of the alkali-soluble resin binder, c) 0.1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the total composition, d) 0.5 to 20 parts by weight of the colorant, e) 10 to 95 parts by weight of the solvent is preferably included, 0.5 to 10 parts by weight of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond when added to the other, 0.01 to 0.01 It is preferably contained in 20 parts by weight.

본 발명의 감광성 수지 조성물은 롤 코터(roll coater), 커튼 코터(curtain coater), 스핀 코터(spin coater), 슬롯 다이 코터, 각종 인쇄, 침적 등에 사용될 수 있으며, 금속, 종이, 유리, 플라스틱 기판 등의 지지체상에 적용될 수 있다. 또한, 필름 등의 지지체 상에 도포한 후, 기타 지지체 상에 전사하는 것도 가능하며 그 적용 방법에 제한을 두지 않는다. 본 발명의 감광성 수지 조성물을 경화시키기 위한 광원으로는 파장이 250 ~ 450 nm의 광을 발산하는 수은 증기 아크(arc), 탄소 아크, Xe 아크 등을 사용할 수 있다.The photosensitive resin composition of the present invention can be used in a roll coater, curtain coater, spin coater, spin coater, slot die coater, various printing, deposition, etc., and can be used for metal, paper, glass, plastic substrate, etc. It can be applied on the support of. Moreover, after apply | coating on support bodies, such as a film, it is also possible to transfer on other support bodies, and the application method is not limited. As a light source for curing the photosensitive resin composition of the present invention, a mercury vapor arc (arc), carbon arc, Xe arc or the like that emits light having a wavelength of 250 to 450 nm can be used.

이하의 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 단, 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이지 이들만으로 한정하는 것은 아니다.The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, an Example is for illustrating this invention and is not limited only to these.

실시예Example

합성예Synthesis Example 1 One

글리시딜 메타아크릴레이트 19.7 g, 아크릴산 10 g, 촉매로 트리페닐포스핀 0.01 g, 열중합금지제로 와코화학의 Q1301 0.0005g, 용매로 디메틸설폭사이드(DMSO) 100 g을 플라스크에 넣고 에어 분위기 하에서 교반하였다. 반응 온도를 110 ℃로 유지하면서 3 시간 교반 후 다가 카르복시산 무수물인 3,3',4,4'-벤조페논테 트라카르복시산 이무수물을 15.1 g 투입하고, 110 ℃에서 3 시간 교반하였다. 반응 혼합물을 700 mL의 증류수에 붓자 오일성의 반응 혼합물이 물 및 DMSO와 분리되어 아래로 가라앉았으며, 물과 DMSO를 따라내었다. 이어서, 오일성 반응 혼합물에 100 mL의 디에틸 에테르를 가한 후 녹지 않는 침전을 제거하였다. 침전이 제거된 디에틸 에테르 용액으로부터 감압하에서 디에틸 에테르, 물 및 잔량의 DMSO를 제거한 후 화학식 5 및 6의 화합물의 혼합물을 무색 투명한 오일로 얻었다. 19.7 g of glycidyl methacrylate, 10 g of acrylic acid, 0.01 g of triphenylphosphine as a catalyst, 0.0005 g of Wako Chemical's Q1301 as a thermal polymerization inhibitor, and 100 g of dimethyl sulfoxide (DMSO) as a solvent were placed in a flask. Stirred. After stirring for 3 hours while maintaining the reaction temperature at 110 ° C, 15.1 g of 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, which is a polycarboxylic acid anhydride, was added and stirred at 110 ° C for 3 hours. The reaction mixture was poured into 700 mL of distilled water and the oily reaction mixture was separated from water and DMSO and settled down, draining off the water and DMSO. Then, 100 mL of diethyl ether was added to the oily reaction mixture, and then the insoluble precipitate was removed. Diethyl ether, water and residual DMSO were removed from the diethyl ether solution from which precipitation was removed under reduced pressure to obtain a mixture of the compounds of formulas 5 and 6 as a colorless transparent oil.

8.23, 8.45,8.70 (aromatic H), 5.77~6.40 (ethylenic H), 5.40~5.60 (CO2CHCC), 4.0~4.25 (CO2CH2C), 1.85~1.92 (C=CCH3)8.23, 8.45,8.70 (aromatic H), 5.77 ~ 6.40 (ethylenic H), 5.40 ~ 5.60 (CO 2 CHCC), 4.0 ~ 4.25 (CO 2 CH 2 C), 1.85 ~ 1.92 (C = CCH 3 )

Figure 112004032074925-PAT00018
Figure 112004032074925-PAT00018

상기 식에서, X는 상기 화학식 1의 다관능성 아크릴기이다.Wherein X is a polyfunctional acrylic group of the formula (1).

합성예Synthesis Example 2 2

다가 카르복시산 무수물로 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복시산 이무수물 15.1 g 대신 5-(2,5-디옥소테트라히드로푸릴)-3-메틸-3-시클로헥센 -1,2-디카르복시산 무수물 20.8 g을 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일한 방법으로 화학식 7 및 8의 화합물의 혼합물을 제조하였다. 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2- instead of 15.1 g of 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride with polyhydric carboxylic anhydride A mixture of compounds of Formulas 7 and 8 was prepared in the same manner as in Synthesis Example 1, except that 20.8 g of dicarboxylic acid anhydride was used.

6.79~7.53 (aromatic H), 5.77~6.40 (ethylenic H), 5.40~5.60 (CO2CHCC), 2.53~4.60 (aliphatic H), 1.85~1.92 (C=CCH3)6.79 ~ 7.53 (aromatic H), 5.77 ~ 6.40 (ethylenic H), 5.40 ~ 5.60 (CO 2 CHCC), 2.53 ~ 4.60 (aliphatic H), 1.85 ~ 1.92 (C = CCH 3 )

Figure 112004032074925-PAT00019
Figure 112004032074925-PAT00019

상기 식에서, X는 상기 화학식 1의 다관능성 아크릴기이다.Wherein X is a polyfunctional acrylic group of the formula (1).

합성예Synthesis Example 3  3

다가 카르복시산 무수물로 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복시산 이무수물 15.1 g 대신 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복시산 이무수물 20.4 g을 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일한 방법으로 하기 화합물들의 혼합물을 제조하였다. Synthesis Example 1 except that 20.4 g of 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride was used instead of 15.1 g of 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride as the polycarboxylic acid anhydride. In the same manner as the mixture of the following compounds were prepared.

87.50~8.45 (aromatic H), 5.77~6.40 (ethylenic H), 5.40~5.60 (CO2CHCC), 4.0~4.25 (CO2CH2C), 1.85~1.92 (C=CCH3)87.50 ~ 8.45 (aromatic H), 5.77 ~ 6.40 (ethylenic H), 5.40 ~ 5.60 (CO 2 CHCC), 4.0 ~ 4.25 (CO 2 CH 2 C), 1.85 ~ 1.92 (C = CCH 3 )

Figure 112004032074925-PAT00020
Figure 112004032074925-PAT00020

상기 식에서, X는 상기 화학식 1의 다관능성 아크릴기이다. Wherein X is a polyfunctional acrylic group of the formula (1).

합성예Synthesis Example 4  4

다가 카르복시산 무수물로 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복시산 이무수물 15.1 g 대신 1,2,4,5-벤젠테트라카르복시산 이무수물 22.4 g를 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일한 방법으로 하기 화합물들의 혼합물을 제조하였다. The same method as Synthesis Example 1, except that 22.4 g of 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride was used instead of 15.1 g of 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride as the polyhydric carboxylic anhydride. A mixture of the following compounds was prepared.

8.01~9.04 (aromatic H), 5.77~6.40 (ethylenic H), 5.40~5.60 (CO2CHCC), 4.0~4.25 (CO2CH2C), 1.85~1.92 (C=CCH3)8.01 ~ 9.04 (aromatic H), 5.77 ~ 6.40 (ethylenic H), 5.40 ~ 5.60 (CO 2 CHCC), 4.0 ~ 4.25 (CO 2 CH 2 C), 1.85 ~ 1.92 (C = CCH 3 )

Figure 112004032074925-PAT00021
Figure 112004032074925-PAT00021

상기 식에서, X는 상기 화학식 1의 다관능성 아크릴기이다. Wherein X is a polyfunctional acrylic group of the formula (1).

합성예Synthesis Example 5 5

다가 카르복시산 무수물로 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복시산 이무수물 15.1 g 대신 4,4'-옥시디프탈산 무수물 21.5 g 을 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일한 방법으로 하기 화합물들의 혼합물을 제조하였다. The following compounds were prepared in the same manner as in Synthesis Example 1, except that 21.5 g of 4,4'-oxydiphthalic anhydride was used instead of 15.1 g of 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride as the polycarboxylic acid anhydride. A mixture was prepared.

7.35~8.25 (aromatic H), 5.77~6.40 (ethylenic H), 5.40~5.60 (CO2CHCC), 4.0~4.25 (CO2CH2C), 1.85~1.92 (C=CCH3)7.35 ~ 8.25 (aromatic H), 5.77 ~ 6.40 (ethylenic H), 5.40 ~ 5.60 (CO 2 CHCC), 4.0 ~ 4.25 (CO 2 CH 2 C), 1.85 ~ 1.92 (C = CCH 3 )

Figure 112004032074925-PAT00022
Figure 112004032074925-PAT00022

상기 식에서, X는 상기 화학식 1의 다관능성 아크릴기이다.Wherein X is a polyfunctional acrylic group of the formula (1).

합성예Synthesis Example 6 6

다가 카르복시산 무수물로 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복시산 이무수물 15.1 g 대신 비스페놀 A 타입 이무수물 36.1 g을 사용한 것을 제외하고는 합성예 1과 동일한 방법으로 하기 화합물들의 혼합물을 제조하였다. A mixture of the following compounds was prepared in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 36.1 g of bisphenol A-type dianhydride was used instead of 15.1 g of 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride as the polycarboxylic acid anhydride. .

6.87~8.07 (aromatic H), 5.77~6.40 (ethylenic H), 5.40~5.60 (CO2CHCC), 4.0~4.25 (CO2CH2C), 1.85~1.92 (C=CCH3), 1.57 (C-CH3)6.87 ~ 8.07 (aromatic H), 5.77 ~ 6.40 (ethylenic H), 5.40 ~ 5.60 (CO 2 CHCC), 4.0 ~ 4.25 (CO 2 CH 2 C), 1.85 ~ 1.92 (C = CCH 3 ), 1.57 (C- CH 3 )

Figure 112004032074925-PAT00023
Figure 112004032074925-PAT00023

상기 식에서, X는 상기 화학식 1의 다관능성 아크릴기이다.Wherein X is a polyfunctional acrylic group of the formula (1).

실시예Example 1 One

안료 C.I. Pigment Red 254 분산액을 안료 기준으로 8 g, 알칼리 가용성 수지 바인더 BzMA/MAA(몰비 : 70/30, Mw : 25,000) 5 g, 중합성 화합물인 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 3 g, 광중합개시제 I-369 2 g, 합성예 1에서 제조된 혼합물 0.1 g, 유기 용매인 PGMEA 50 g을 3 시간 동안 혼합하여 감광성 수지 조성물 용액을 제조하였다. Pigment C.I. 8 g of Pigment Red 254 dispersion based on pigment, 5 g of alkali-soluble resin binder BzMA / MAA (molar ratio: 70/30, Mw: 25,000), 3 g of dipentaerythritol hexaacrylate as a polymerizable compound, photoinitiator I-369 2 g, 0.1 g of the mixture prepared in Synthesis Example 1, and 50 g of PGMEA, which is an organic solvent, were mixed for 3 hours to prepare a photosensitive resin composition solution.

상기 감광성 수지 조성물 용액을 크롬 블랙 매트릭스(BM) 유리와 실리콘 나이트라이드가 증착된 유리에 스핀 코팅(spin coating)하고 약 100 ℃로 2 분 동안 전열 처리(prebake)하여 필름을 형성하였다. 이 필름을 포토마스크(photomask)를 이용하여 고압 수은 램프(high-pressure mercury lamp) 하에서 200 mJ/㎠의 에너지로 노광시킨 후, 패턴을 pH 11.3∼11.7의 KOH 알칼리 수용액으로 현상하고 탈 이온 수로 세척하였으며, 이를 200 ℃에서 약 40 분간 후열 처리(postbake)하였다. The photosensitive resin composition solution was spin coated on chromium black matrix (BM) glass and silicon nitride deposited glass and prebake at about 100 ° C. for 2 minutes to form a film. The film was exposed to an energy of 200 mJ / cm 2 under a high-pressure mercury lamp using a photomask, and then the pattern was developed with an aqueous KOH alkali solution of pH 11.3 to 11.7 and washed with deionized water. It was postbake at 200 ° C. for about 40 minutes.

크롬 BM 표면, 실리콘 나이트라이드 표면 및 패턴의 상태를 전자 현미경으로 관찰한 결과, 깨끗한 패턴이 형성되고 크롬 블랙매트릭스와 실리콘 나이트라이드 위에도 잔사가 남지 않았고 패턴의 탈착이 없었다.Electron microscopy of the chromium BM surface, silicon nitride surface, and the state of the pattern revealed that a clean pattern was formed and no residue remained on the chromium black matrix and silicon nitride and there was no detachment of the pattern.

실시예Example 2 2

안료 C.I. Pigment Blue 15:6 분산액을 안료 기준으로 6 g, 알칼리 가용성 수지 바인더 BzMA/MAA (몰비 : 70/30, Mw : 25,000) 5 g, 중합성 화합물인 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 3 g, 광중합 개시제로 I-369 2 g, 합성예 2에서 제조된 혼합물 0.1 g, 유기 용매인 PGMEA 50 g을 3시간 동안 혼합하여 감광성 수지 조성물 용액을 제조하였다. Pigment C.I. 6 g of Pigment Blue 15: 6 dispersion based on pigment, 5 g of alkali-soluble resin binder BzMA / MAA (molar ratio: 70/30, Mw: 25,000), 3 g of dipentaerythritol hexaacrylate as a polymerizable compound, a photopolymerization initiator 2 g of I-369, 0.1 g of the mixture prepared in Synthesis Example 2, and 50 g of PGMEA, an organic solvent, were mixed for 3 hours to prepare a photosensitive resin composition solution.

실시예 1과 동일한 방법에 의하여 상기 감광성 수지 조성물 용액으로 필름을 형성한 후 노광시켜 패턴을 형성하였다. By the method similar to Example 1, after forming a film with the said photosensitive resin composition solution, it exposed and formed the pattern.

전자 현미경으로 확인한 결과 크롬 BM과 실리콘 나이트라이드위에 잔사가 남지 않았고 패턴의 탈착이 없었다.Electron microscopy showed no residue on chromium BM and silicon nitride and no pattern detachment.

실시예Example 3 3

카본 블랙 분산액을 카본 블랙 기준으로 10 g, 알칼리 가용성 수지 바인더 BzMA/MAA(몰비 : 70/30, Mw : 25,000) 4 g, 중합성 화합물인 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 3 g, 광중합 개시제로 I-369 3 g, 제2 광중합 개시제로 2,2´-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐 비이미다졸 1 g, 광증감제로 4,4'-디메틸아미노벤조페논 0.5 g, 합성예 3에서 제조된 혼합물 0.1 g, 유기 용매인 PGMEA 45 g 을 3시간 동안 혼합하여 감광성 수지 조성물 용액을 제조하였다. 10 g of carbon black dispersion based on carbon black, 4 g of alkali-soluble resin binder BzMA / MAA (molar ratio: 70/30, Mw: 25,000), 3 g of dipentaerythritol hexaacrylate as a polymerizable compound, I- as a photopolymerization initiator 369 3 g, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl biimidazole 1 g as the second photopolymerization initiator, 4,4'-dimethylamino as the photosensitizer 0.5 g of benzophenone, 0.1 g of the mixture prepared in Synthesis Example 3, and 45 g of PGMEA, an organic solvent, were mixed for 3 hours to prepare a photosensitive resin composition solution.

상기 감광성 수지 조성물 용액을 유리에 스핀 코팅(spin coating)하여 약 100 ℃로 2 분 동안 전열 처리(prebake)하여 필름을 형성하였다. 상기 필름을 포토마스크(photomask)를 이용하여 고압 수은 램프(high-pressure mercury lamp) 하에서 250 mJ/㎠의 에너지로 노광시킨 후, 패턴을 pH 11.3∼11.7의 KOH 알칼리 수용액으로 현상하고 탈 이온수로 세척하고, 이를 200 ℃에서 약 40 분간 후열 처리(postbake)하였다. The photosensitive resin composition solution was spin coated onto glass and prebakeed at about 100 ° C. for 2 minutes to form a film. The film was exposed to an energy of 250 mJ / cm 2 under a high-pressure mercury lamp using a photomask, and then the pattern was developed with an aqueous KOH alkali solution of pH 11.3 to 11.7 and washed with deionized water. This was postbake at 200 ° C. for about 40 minutes.

유리 표면과 패턴의 상태를 전자 현미경으로 관찰한 결과, 깨끗한 패턴이 형성되고 유리 위에도 잔사가 남지 않았으며 패턴의 탈착이 없었다. 유리 기판 위의 수지 BM 잔사 개선을 나타내는 전자 현미경 사진을 도 1에 나타내었다.As a result of observing the state of the glass surface and the pattern under an electron microscope, a clean pattern was formed, no residue remained on the glass, and there was no detachment of the pattern. An electron micrograph showing the improvement of the resin BM residue on the glass substrate is shown in FIG. 1.

실시예Example 4 4

안료 C.I. Pigment Green 36 분산액을 안료 기준으로 10 g, 알칼리 가용성 수지 바인더 BzMA/MAA(몰비 : 70/30, Mw : 25,000) 5 g, 중합성 화합물인 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 3 g, 광중합 개시제로 I-369 2 g와 4,4'-디에틸아미노벤조페논 0.2 g, 합성예 4에서 제조된 혼합물 0.1 g, 유기 용매인 PGMEA 50 g을 넣고 3 시간 동안 혼합하여 감광성 수지 조성물을 제조하였다. Pigment C.I. 10 g of Pigment Green 36 dispersion based on pigment, 5 g of alkali-soluble resin binder BzMA / MAA (molar ratio: 70/30, Mw: 25,000), 3 g of dipentaerythritol hexaacrylate as a polymerizable compound, I- as a photoinitiator 369 2 g and 4 g of 4,4'-diethylaminobenzophenone, 0.1 g of the mixture prepared in Synthesis Example 4 and 50 g of PGMEA, an organic solvent, were added and mixed for 3 hours to prepare a photosensitive resin composition.

실시예 1과 동일한 방법에 의하여 상기 감광성 수지 조성물 용액으로 필름을 형성한 후 노광시켜 패턴을 형성하였다. By the method similar to Example 1, after forming a film with the said photosensitive resin composition solution, it exposed and formed the pattern.

크롬 BM 표면과 실리콘 나이트라이드 표면, 패턴의 상태를 전자 현미경으로 관찰한 결과 깨끗한 패턴이 형성되고 크롬 BM과 실리콘 나이트라이드 위에도 잔사 가 남지 않았고 패턴의 탈착이 없었다. 크롬 BM 위의 녹색 필터 잔사의 개선을 나타내는 전자 현미경 사진을 도 2에 나타내었다.Electron microscopy of the surface of the chromium BM, silicon nitride, and pattern revealed that a clean pattern was formed and no residue remained on the chromium BM and silicon nitride. An electron micrograph showing the improvement of the green filter residue on chromium BM is shown in FIG. 2.

실시예Example 5 5

안료 C.I. Pigment Yellow 150 분산액을 안료 기준으로 5 g, 알칼리 가용성 수지 바인더 BzMA/MAA (몰비 : 70/30, Mw : 25,000) 5 g, 중합성 화합물인 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 3 g, 광중합 개시제로 I-369 2 g, 합성예 5에서 제조된 혼합물 0.1 g, 유기 용매인 PGMEA 50 g를 3 시간 동안 혼합하여 감광성 수지 조성물 용액을 제조하였다. Pigment C.I. 5 g of Pigment Yellow 150 dispersion based on pigment, 5 g of alkali-soluble resin binder BzMA / MAA (molar ratio: 70/30, Mw: 25,000), 3 g of dipentaerythritol hexaacrylate as a polymerizable compound, I- as a photoinitiator 369 2 g, 0.1 g of the mixture prepared in Synthesis Example 5, and 50 g of PGMEA, an organic solvent, were mixed for 3 hours to prepare a photosensitive resin composition solution.

실시예 1과 동일한 방법에 의하여 상기 감광성 수지 조성물 용액으로 필름을 형성한 후 노광시켜 패턴을 형성하였다. By the method similar to Example 1, after forming a film with the said photosensitive resin composition solution, it exposed and formed the pattern.

전자 현미경으로 확인한 결과 크롬 BM과 실리콘 나이트라이드 표면 위에 잔사가 남지 않았고 패턴의 탈착이 없었다.As confirmed by electron microscopy, no residue remained on the surface of chromium BM and silicon nitride and there was no detachment of the pattern.

실시예Example 6 6

안료 C.I. Violet 23 분산액을 안료 기준으로 5 g, 알칼리 가용성 수지 바인더 BzMA/MAA (몰비 : 70/30, Mw : 25,000) 5 g, 중합성 화합물인 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 3 g, 광중합 개시제로 I-369 2 g, 합성예 6에서 제조된 혼합물 0.1 g, 유기 용매인 PGMEA 50 g을 3시간 동안 혼합하여 감광성 수지 조성물 용액을 제조하였다. Pigment C.I. 5 g of Violet 23 dispersion based on pigment, 5 g of alkali-soluble resin binder BzMA / MAA (molar ratio: 70/30, Mw: 25,000), 3 g of dipentaerythritol hexaacrylate as a polymerizable compound, I-369 as a photopolymerization initiator 2 g, 0.1 g of the mixture prepared in Synthesis Example 6, and 50 g of PGMEA, which is an organic solvent, were mixed for 3 hours to prepare a photosensitive resin composition solution.

실시예 1과 동일한 방법에 의하여 상기 감광성 수지 조성물 용액으로 필름을 형성한 후 노광시켜 패턴을 형성하였다. By the method similar to Example 1, after forming a film with the said photosensitive resin composition solution, it exposed and formed the pattern.                     

전자 현미경으로 확인한 결과 크롬 BM과 실리콘 나이트라이드 표면 위에 잔사가 남지 않았고 패턴의 탈착이 없었다.As confirmed by electron microscopy, no residue remained on the surface of chromium BM and silicon nitride and there was no detachment of the pattern.

비교예Comparative example 1 One

감광성 수지 조성물의 제조시 합성예 1에서 제조된 혼합물을 첨가하지 않고, 이타콘산 0.1 g(잔사 저감제)을 첨가한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조하고, 이를 이용하여 필름을 형성하고 패턴을 형성하였다. A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.1 g (residue reducing agent) of itaconic acid was added without adding the mixture prepared in Synthesis Example 1 when preparing the photosensitive resin composition. Film was used to form a pattern.

유리 표면과 크롬 BM, 실리콘 나이트라이드 표면, 패턴의 상태를 전자 현미경으로 관찰한 결과, 유리 표면에서는 잔사가 남지 않았으나 크롬 BM과 실리콘 나이트라이드 위에서는 잔사가 많이 남았고, 선폭 20 마이크론 이하의 패턴은 소실되었다.The results of electron microscopic observation of the glass surface, chromium BM, and silicon nitride surface and pattern state showed no residue on the glass surface, but much residue on chromium BM and silicon nitride. It became.

비교예Comparative example 2 2

감광성 수지 조성물의 제조시 합성예 3에서 제조된 혼합물을 첨가하지 않은 것을 제외하고는 상기 실시예 3과 동일한 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조하고, 이를 이용하여 필름을 형성하고 패턴을 형성하였다. A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 3, except that the mixture prepared in Synthesis Example 3 was not added when the photosensitive resin composition was prepared, thereby forming a film and forming a pattern.

유리 표면과 패턴의 상태를 전자 현미경으로 관찰한 결과 패턴의 탈착은 없으나 잔사가 남았다. 유리 기판 위의 수지 BM 잔사를 나타내는 전자 현미경 사진을 도 3에 나타내었다.As a result of observing the state of the glass surface and the pattern under an electron microscope, there was no detachment of the pattern but a residue remained. An electron micrograph showing the resin BM residue on the glass substrate is shown in FIG. 3.

비교예Comparative example 3 3

감광성 수지 조성물의 제조시 합성예 4에서 제조된 혼합물을 첨가하지 않고, 아디프산 0.1 중량부(잔사 저감제)를 첨가한 것을 제외하고는 상기 실시예 4와 동일한 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조하고, 이를 이용하여 필름을 형성하고 패턴을 형성하였다. A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 4, except that 0.1 part by weight of adipic acid (residue reducing agent) was not added without adding the mixture prepared in Synthesis Example 4 to prepare the photosensitive resin composition. Using this, a film was formed and a pattern was formed.

유리 표면과 크롬 BM 표면, 실리콘 나이트라이드 표면, 패턴의 상태를 전자 현미경으로 관찰하였다. 유리 표면에서는 잔사가 남지 않았으나 크롬 BM과 실리콘 나이트라이드 위에서는 잔사가 남았고 패턴의 탈착이 심하게 일어나 선폭 25 마이크론 이하의 패턴은 모두 탈착되었다. 크롬 BM 위의 녹색 필터 잔사를 나타내는 전자 현미경 사진을 도 4에 나타내었다. 도 4를 실시예 4의 실험 결과를 나타낸 도 2와 비교해 보면, 도 2의 현상 잔사가 도 4의 상태에 비하여 훨씬 적게 남은 것을 알 수 있다. The state of the glass surface, the chromium BM surface, the silicon nitride surface, and the pattern were observed with an electron microscope. No residue remained on the glass surface, but residues remained on chromium BM and silicon nitride, and the patterns were severely desorbed, leaving all patterns below line width 25 microns. An electron micrograph showing the green filter residue on chromium BM is shown in FIG. 4. Comparing FIG. 4 with FIG. 2 showing the experimental results of Example 4, it can be seen that the developing residue of FIG. 2 is much smaller than the state of FIG. 4.

본 발명의 현상 잔사 저감제용 화합물은 한 분자내에 다관능성 아크릴기와 2개 이상의 카르복시산기를 모두 포함하고 있으므로, 다관능성 아크릴기에 의하여 용매에 대한 용해성이 우수하고 착색제 함유 감광성 수지 조성물에 사용시 광중합 밀도를 높여 컬러 패턴의 탈착을 일으키지 않는 동시에, 2개 이상의 카르복시산기에 의하여 현상 잔사를 없앨 수 있다. 따라서, 본 발명의 현상 잔사 저감제를 포함하는 감광성 조성물에 의하여 고품질의 컬러 필터 패턴을 형성할 수 있다.Since the compound for developing residue reducing agent of the present invention contains both a polyfunctional acrylic group and two or more carboxylic acid groups in one molecule, the polyfunctional acrylic group has excellent solubility in a solvent and increases the photopolymerization density when used in a colorant-containing photosensitive resin composition. The development residue can be eliminated by two or more carboxylic acid groups without causing desorption of the pattern. Therefore, a high quality color filter pattern can be formed by the photosensitive composition containing the image development residue reducing agent of this invention.

Claims (9)

하기 화학식 1의 다관능성 아크릴기 및 2개 이상의 카르복시산기(-COOH)를 함유하는 화합물을 포함하는 현상 잔사 저감제:A developing residue reducing agent comprising a compound containing a polyfunctional acrylic group of formula 1 and at least two carboxylic acid groups (-COOH): [화학식 1][Formula 1]
Figure 112004032074925-PAT00024
Figure 112004032074925-PAT00024
 상기 식에 있어서, R1 및 R2는 각각 H 또는 CH3이고, * 은 연결부위임.Wherein R1 and R2 are each H or CH3, and * is a linking site. 제1항에 있어서, 상기 화학식 1의 다관능성 아크릴기 및 2개 이상의 카르복시산기(-COOH)를 포함하는 화합물은 하기 화학식 2로 표시되는 작용기를 2개 이상을 포함하는 화합물인 것을 특징으로 하는 현상 잔사 저감제:According to claim 1, wherein the compound comprising a multifunctional acrylic group of Formula 1 and two or more carboxylic acid groups (-COOH) is a compound comprising at least two functional groups represented by the formula (2) Residue Reducer: [화학식 2][Formula 2]
Figure 112004032074925-PAT00025
Figure 112004032074925-PAT00025
 상기 식에 있어서, R1 및 R2는 각각 H 또는 CH3이고, * 은 연결부위임.Wherein R1 and R2 are each H or CH3, and * is a linking site. 제2항에 있어서, 상기 화학식 2로 표시되는 작용기를 2개 이상 포함하는 화합물은 하기 화학식 5 내지 11의 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 화 합물인 것을 특징으로 하는 현상 잔사 저감제:The developing residue reducing agent according to claim 2, wherein the compound including two or more functional groups represented by Chemical Formula 2 is at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by Chemical Formulas 5 to 11. [화학식 5] [Formula 5]
Figure 112004032074925-PAT00026
Figure 112004032074925-PAT00026
 [화학식 6][Formula 6]
Figure 112004032074925-PAT00027
Figure 112004032074925-PAT00027
 [화학식 7] [Formula 7]
Figure 112004032074925-PAT00028
Figure 112004032074925-PAT00028
 [화학식 8][Formula 8]
Figure 112004032074925-PAT00029
Figure 112004032074925-PAT00029
 [화학식 9][Formula 9]
Figure 112004032074925-PAT00030
Figure 112004032074925-PAT00030
 [화학식 10][Formula 10]
Figure 112004032074925-PAT00031
Figure 112004032074925-PAT00031
 [화학식 11][Formula 11]
Figure 112004032074925-PAT00032
Figure 112004032074925-PAT00032
 상기 화학식 5 내지 11에 있어서, X는 하기 화학식 1의 다관능성 아크릴기이고, Y는 탄소수 0 내지 6의 알킬, CO, SO2, O, S,
Figure 112004032074925-PAT00033
(*는 연결부위)로 이루어진 군에서 선택됨. In Formulas 5 to 11, X is a polyfunctional acrylic group represented by Formula 1 below, Y is C0-6 alkyl, CO, SO2, O, S,
Figure 112004032074925-PAT00033
(* Is selected from the group consisting of joints). [화학식 1][Formula 1]
Figure 112004032074925-PAT00034
Figure 112004032074925-PAT00034
 상기 식에 있어서, R1 및 R2는 각각 H 또는 CH3이고, * 은 연결부위임.Wherein R1 and R2 are each H or CH3, and * is a linking site. a) 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 현상 잔사 저감제,a) the developing residue reducing agent according to any one of claims 1 to 3, b) 알칼리 가용성 수지 바인더, b) alkali-soluble resin binder, c) 광중합개시제,c) photoinitiators, d) 착색제, 및d) colorants, and e) 용매e) solvent 를 포함하는 감광성 수지 조성물. Photosensitive resin composition comprising a. 제4항에 있어서, 상기 감광성 수지 조성물은 조성물 총 100 중량부 대비 a) 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 현상 잔사 저감제 0.001 내지 5 중량부, b) 알칼리 가용성 수지 바인더 1 내지 20 중량부, c) 광중합개시제 0.1 내지 5 중량부, d) 착색제 0.5 내지 20 중량부, e) 용매 10 내지 95 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물. The photosensitive resin composition of claim 4, wherein the photosensitive resin composition comprises a) 0.001 to 5 parts by weight of the developing residue reducing agent of any one of claims 1 to 3, and b) 1 to 20 parts by weight of the alkali-soluble resin binder, based on 100 parts by weight of the total composition. C) 0.1 to 5 parts by weight of the photopolymerization initiator, d) 0.5 to 20 parts by weight of the colorant, and e) 10 to 95 parts by weight of the solvent. 제4항에 있어서, 상기 감광성 수지 조성물은 조성물 총 100 중량부 대비 0.5 내지 10 중량부의 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물. The photosensitive resin composition of claim 4, wherein the photosensitive resin composition further comprises a polymerizable compound having 0.5 to 10 parts by weight of ethylenically unsaturated bonds relative to 100 parts by weight of the total composition. 하기 화학식 5 또는 화학식 6의 화합물:A compound of formula 5 or [화학식 5][Formula 5]
Figure 112004032074925-PAT00035
Figure 112004032074925-PAT00035
 [화학식 6][Formula 6]
Figure 112004032074925-PAT00036
Figure 112004032074925-PAT00036
 상기 화학식 5 및 6에 있어서, X는 하기 화학식 1의 다관능성 아크릴기임. In Formulas 5 and 6, X is a polyfunctional acrylic group of the formula (1). [화학식 1][Formula 1]
Figure 112004032074925-PAT00037
Figure 112004032074925-PAT00037
 상기 식에 있어서, R1 및 R2는 각각 H 또는 CH3이고, * 은 연결부위임.Wherein R1 and R2 are each H or CH3, and * is a linking site. 하기 화학식 7 또는 화학식 8의 화합물:A compound of Formula 7 or Formula 8 [화학식 7][Formula 7]
Figure 112004032074925-PAT00038
Figure 112004032074925-PAT00038
 [화학식 8][Formula 8]
Figure 112004032074925-PAT00039
Figure 112004032074925-PAT00039
 상기 화학식 7 및 8에 있어서, X는 하기 화학식 1의 다관능성 아크릴기임. In Formulas 7 and 8, X is a polyfunctional acrylic group of the formula (1). [화학식 1][Formula 1]
Figure 112004032074925-PAT00040
Figure 112004032074925-PAT00040
 상기 식에 있어서, R1 및 R2는 각각 H 또는 CH3이고, * 은 연결부위임.Wherein R1 and R2 are each H or CH3, and * is a linking site. 하기 화학식 9, 화학식 10 또는 화학식 11의 화합물:A compound of Formula 9, Formula 10 or Formula 11 [화학식 9][Formula 9]
Figure 112004032074925-PAT00041
Figure 112004032074925-PAT00041
 [화학식 10][Formula 10]
Figure 112004032074925-PAT00042
Figure 112004032074925-PAT00042
 [화학식 11][Formula 11]
Figure 112004032074925-PAT00043
Figure 112004032074925-PAT00043
 상기 화학식 9 내지 11에 있어서, X는 하기 화학식 1의 다관능성 아크릴기이고, Y는 탄소수 0 내지 6의 알킬, CO, SO2, O, S,
Figure 112004032074925-PAT00044
(*는 연결부위)로 이루어진 군에서 선택됨.In Chemical Formulas 9 to 11, X is a polyfunctional acrylic group represented by Formula 1 below, Y is C0-6 alkyl, CO, SO2, O, S,
Figure 112004032074925-PAT00044
(* Is selected from the group consisting of joints). [화학식 1][Formula 1]
Figure 112004032074925-PAT00045
Figure 112004032074925-PAT00045
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