KR20050104574A - Method for repairing of lcd - Google Patents

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Abstract

본 발명은 오픈(open) 불량에 기인하는 화소 결함(pixel defect)을 회복시키기 위한 액정표시장치의 리페어 방법을 개시한다. 개시된 본 발명의 리페어 방법은, 기판 상에 접착제의 개재하에 오픈 불량이 일어난 부재의 물질과 동일 물질의 시료가 부착된 테이프를 박막트랜지스터 어레이 기판 상의 오픈 불량 발생 지점에 배치시킨 상태로 상기 테이프를 레이저 어닐링하여 상기 오픈 불량을 동일 물질로 재접합시키는 것을 특징으로 한다. The present invention discloses a repair method of a liquid crystal display device for recovering pixel defects due to open defects. In the repair method of the present invention, the tape is placed in a state in which a tape having a sample of the same material adhered to the open defect occurrence point on the thin film transistor array substrate is placed on the thin film transistor array substrate. Annealing and re-bonding the open defect with the same material.

Description

액정표시장치의 리페어 방법{Method for repairing of LCD}Repair method of liquid crystal display device {Method for repairing of LCD}

본 발명은 액정표시장치의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 오픈 불량에 기인하는 화소 결함을 회복시키기 위한 리페어 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device, and more particularly, to a repair method for recovering a pixel defect caused by an open defect.

액정표시장치(Liquid Crystal Display: 이하, LCD)는 경량, 박형 및 저소비 전력 등의 특성을 갖기 때문에 CRT(Cathod-ray tube)를 대신하여 각종 정보기기의 단말기 또는 비디오기기 등에 사용되고 있다. 특히, 각 화소마다 스위칭 소자로서 박막트랜지스터(Thin Film Transistor: 이하, TFT)가 구비된 TFT-LCD는 응답 특성이 우수할 뿐만 아니라 고화소수에 적합하기 때문에 상기 CRT에 필적할만한 고화질 및 대형의 표시장치를 실현할 수 있다.Liquid crystal displays (hereinafter, LCDs) are used for terminals or video devices of various information devices in place of the CRT (Cathod-ray tube) because they have characteristics such as light weight, thinness, and low power consumption. In particular, a TFT-LCD equipped with a thin film transistor (TFT) as a switching element for each pixel is not only excellent in response characteristics but also suitable for high pixel number, so that a display device of high quality and large size comparable to the CRT can be obtained. Can be realized.

이러한 TFT-LCD는 크게 TFT 어레이 기판과, 컬러필터 기판, 및 상기 기판들 사이에 개재되는 액정층을 포함하여 이루어진다. Such a TFT-LCD includes a TFT array substrate, a color filter substrate, and a liquid crystal layer interposed between the substrates.

한편, 상기 TFT 어레이 기판을 제작함에 있어서, 공정 상의 문제로 인해 화소 ITO(Idium Tin Oxide) 전극에서 결함이 빈번하게 발생되고 있다. 이와 같은 화소 결함(pixel defect)은 쇼트(short)성 결함과 오픈(open)성 결함으로 나눌 수 있으며, 상기 쇼트성 결함은 레이저 리페어 처리를 통해 그 복구(recovery)가 용이한 반면, 상기 오픈성 결함은 그 복구가 용이하지 못하다. Meanwhile, in fabricating the TFT array substrate, defects are frequently generated in pixel ITO electrodes due to process problems. Such pixel defects may be divided into short defects and open defects. The short defects may be easily recovered through laser repair, while the open defects may be easily recovered. Defects are not easy to repair.

그런데, 화소 ITO 전극의 오픈에 의한 화소 결함이 발생되면, 해당 화소가 동작하지 않고 죽어버리는 휘점형 불량이 초래되는 바, 결과적으로, TFT-LCD의 표시 특성 저하가 유발된다. By the way, when a pixel defect occurs due to the opening of the pixel ITO electrode, a bright spot type defect in which the pixel does not operate and dies is caused. As a result, the display characteristic of the TFT-LCD is caused.

이에, 종래에는 접합 불량을 분리시킨 후, 분리된 불량을 다른 금속 물질로 접합시키는 방법으로 상기한 오픈성 결함을 해결하고 있다. Therefore, conventionally, the above-described open defects are solved by separating the bonding defects and then bonding the separated defects with another metal material.

그러나, 이와 같은 종래의 리페어 방법은 접합 물질을 증착하기 위한 장비, 예컨데, 스퍼터링 장비 및 이에 부합되는 장비가 필요할 뿐만 아니라, 상기 접합 물질을 패터닝하기 위한 장비 또한 필요하고, 그에 따른 공정 추가가 이루어져야 하므로, 효율적이지 못하다. However, such a conventional repair method requires not only equipment for depositing a bonding material, for example, sputtering equipment and a corresponding equipment, but also equipment for patterning the bonding material, and thus a process addition has to be made. Not efficient.

특히, 상기한 종래의 리페어 방법은 리페어 자체는 가능할지 몰라도, 서로 상이한 두 금속 물질이 접촉되는 것과 관련해서 필연적으로 접촉 저항이 커지게 되는 바, 액정표시장치의 전기적 특성을 떨어뜨리게 된다. In particular, the above-mentioned conventional repair method may be possible, but the contact resistance is inevitably increased with respect to the contact between two different metal materials, which degrades the electrical characteristics of the liquid crystal display.

따라서, 본 발명은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 화소 ITO 전극의 오픈에 의한 화소 결함을 용이하게 회복시킬 수 있는 액정표시장치의 리페어 방법을 제공함에 그 목적이 있다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a repairing method of a liquid crystal display device, which is designed to solve the problems of the prior art and which can easily recover a pixel defect caused by opening of a pixel ITO electrode.

또한, 본 발명은 리페어 자체의 효율성을 높일 수 있는 액정표시장치의 리페어 방법을 제공함에 그 다른 목적이 있다. In addition, another object of the present invention is to provide a repair method of a liquid crystal display device which can increase the efficiency of the repair itself.

게다가, 본 발명은 화소 ITO 전극의 오픈에 의한 화소 결함을 용이하게 회복시킴과 동시에 리페어 자체의 효율성을 높힘으로써 표시 특성 및 제품 신뢰성을 향상시킬 수 있는 액정표시장치의 리페어 방법을 제공함에 그 다른 목적이 있다. In addition, the present invention provides a repair method of a liquid crystal display device that can easily recover a pixel defect by opening the pixel ITO electrode and at the same time improve the efficiency of the repair itself, thereby improving display characteristics and product reliability. There is this.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 오픈 불량에 기인하는 화소 결함을 회복시키기 위한 액정표시장치의 리페어 방법으로서, 기판 상에 접착제의 개재하에 오픈 불량이 일어난 부재의 물질과 동일 물질의 시료가 부착된 테이프를 박막트랜지스터 어레이 기판 상의 오픈 불량 발생 지점에 배치시킨 상태로 상기 테이프를 레이저 어닐링하여 상기 오픈 불량을 동일 물질로 재접합시키는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 리페어 방법을 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention is a repair method of a liquid crystal display device for recovering a pixel defect due to the open defect, the present invention is made of the same material as the material of the member in which the open defect is generated under the adhesive on the substrate The present invention provides a repairing method for a liquid crystal display device, wherein the tape is attached to the open material by laser annealing in a state in which a tape on which a sample is attached is disposed at an open defect occurrence point on a thin film transistor array substrate.

여기서, 상기 기판은 글래스 또는 플라스틱 재질로 이루어지며, 상기 접착제는 열 또는 광에 반응하는 물질로 이루어진다. Here, the substrate is made of glass or plastic material, the adhesive is made of a material that reacts to heat or light.

상기 시료는 정사각형 또는 직사각형의 배선 폭을 가지며, 게이트용 금속, 소오스/드레인용 금속 또는 ITO 금속 중에서 어느 하나로 이루어진다. The sample has a square or rectangular wiring width and is made of any one of a gate metal, a source / drain metal, or an ITO metal.

상기한 본 발명에 따른 액정표시장치의 리페어 방법은 상기 레이저 어닐링을 행한 후, 클리닝 공정을 더 수행한다. In the repairing method of the liquid crystal display according to the present invention described above, after the laser annealing, the cleaning process is further performed.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 화소 ITO 전극의 오픈 불량에 기인하는 화소 결함을 회복시키기 위한 액정표시장치의 리페어 방법으로서, 기판 상에 접착제의 개재하에 ITO 재질의 시료가 부착된 테이프를 박막트랜지스터 어레이 기판 상의 오픈 불량 발생 지점에 배치시킨 상태로 상기 테이프를 레이저 어닐링하여 상기 오픈 불량을 동일한 ITO로 재접합시키는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 리페어 방법을 제공한다. In addition, in order to achieve the above object, the present invention is a repair method of a liquid crystal display device for recovering a pixel defect caused by the open defect of the pixel ITO electrode, the sample of the ITO material on the substrate under the adhesive; The present invention provides a repairing method for a liquid crystal display device, wherein the tape is reannealed to the same ITO by laser annealing the tape while the attached tape is disposed at an open defect occurrence point on the thin film transistor array substrate.

(실시예)(Example)

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하도록 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 본 발명의 기술적 원리를 간략하게 설명하면, 본 발명은 오픈 불량이 발생된 부재, 예컨데, 화소 ITO 전극 상에 동일 재질인 ITO 물질로된 시료를 상기 오픈 불량 발생 지점에 배치시키고, 이 상태에서 상기 ITO 시료를 레이저 어닐링하여 재접합시킴으로써 상기 화소 ITO 전극의 오픈 불량을 회복시킨다. First, the technical principle of the present invention will be briefly described. In the present invention, a sample of an ITO material of the same material is disposed on a member having an open defect, for example, a pixel ITO electrode, at the open failure occurrence point. In an embodiment, the open defect of the pixel ITO electrode is recovered by laser annealing and rebonding the ITO sample.

즉, 본 발명은 오픈 불량이 발생된 해당 화소 ITO 전극과 이에 이웃하는 다른 화소 ITO 전극 상에 ITO 시료를 배치시킨 후, 상기 ITO 시료를 레이저 어닐링하여 녹임으로써 오픈 불량이 발생된 해당 화소 ITO 전극을 이웃하는 다른 화소 ITO 전극과 접합시키는 방법으로 상기 오픈 불량을 회복시킨다. That is, according to the present invention, an ITO sample is disposed on a pixel ITO electrode having an open defect and another pixel ITO electrode adjacent thereto, and then the pixel ITO electrode having an open defect is formed by laser annealing and melting the ITO sample. The open defect is recovered by bonding with another neighboring pixel ITO electrode.

이와 같이 하면, 리페어를 위한 별도의 금속막을 증착 및 패터닝할 필요가 없으므로 금속막 증착 장비 및 금속막 패턴 공정 추가에 따른 비효율성 문제를 해결할 수 있으며, 또한, 오픈 물질과 동일 물질로 리페어를 행하므로 접촉 저항의 증가 및 이에 기인하는 액정표시장치의 전기적 특성 저하 문제를 해결할 수 있다.In this way, there is no need to deposit and pattern a separate metal film for repair, thereby solving the inefficiency caused by the addition of a metal film deposition apparatus and a metal film pattern process, and also repairing with the same material as the open material. It is possible to solve the problem of increasing the contact resistance and deteriorating electrical characteristics of the liquid crystal display.

자세하게, 도 1 및 도 2는 본 발명에 따른 리페어 방법을 설명하기 위한 도면들로서, 이를 설\명하면 다음과 같다. In detail, FIGS. 1 and 2 are views for explaining a repair method according to the present invention.

먼저, 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명은 기판(1) 상에 접착제(2)의 개재하여 화소 ITO 전극과 동일 재질인 ITO의 시료(3)가 부착된 리페어 테이프(10)를 마련한다. 여기서, 상기 기판(1)은 글래스(glass) 또는 플라스틱(plastic) 재질로 이루어지며, 상기 접착제(2)는 열 또는 광에 반응하는 물질로 이루어진다. 그리고, 상기 ITO 시료(3)는 ITO 패턴으로서 정사각형 또는 직사각형의 배선 폭을 갖도록 구비된다. First, as shown in FIG. 1, the present invention provides a repair tape 10 having a sample 3 of ITO made of the same material as the pixel ITO electrode attached to the substrate 1 with an adhesive 2 interposed therebetween. . Here, the substrate 1 is made of glass or plastic, and the adhesive 2 is made of a material that reacts to heat or light. The ITO sample 3 is provided to have a square or rectangular wiring width as an ITO pattern.

다음으로, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기한 리페어 테이프(10)를 TFT 어레이 기판(20)의 오픈 불량 발생 지점에 배치시킨다. 이때, 상기 리페어 테이프(10)는 오픈 불량이 발생되는 해당 화소 ITO 전극과 이에 인웃하는 다른 화소 ITO 전극 상에 위치되도록 배치시킴이 바람직하다. 이 상태에서, 상기 리페어 테이프(10)에 열을 가하는 레이저 어닐링을 행하고, 이를 통해, ITO 시료(3)를 녹임으로써 상기 오픈 불량이 발생된 해당 화소 ITO 전극을 이웃하는 다른 화소 ITO 전극과 접합시킴으로써, 화소 ITO 전극의 오픈 불량을 회복시킨다. Next, as shown in FIG. 2, the repair tape 10 described above is disposed at an open failure occurrence point of the TFT array substrate 20. FIG. In this case, the repair tape 10 may be disposed so as to be positioned on the corresponding pixel ITO electrode where the open failure occurs and other pixel ITO electrodes adjacent thereto. In this state, laser annealing is applied to the repair tape 10, and through this, the ITO sample 3 is melted, thereby joining the pixel ITO electrode where the open defect has occurred to another neighboring pixel ITO electrode. The defective open of the pixel ITO electrode is recovered.

이후, 레이저 어닐링이 수행된 TFT 어레이 기판에 대해 클리닝(cleaning) 공정을 수행하여 화소 ITO 전극의 리페어를 완성한다. Thereafter, a cleaning process is performed on the TFT array substrate on which the laser annealing is performed to complete the repair of the pixel ITO electrode.

여기서, 상기 화소 ITO 전극의 리페어는 그와 동일 물질, 즉, ITO로 행해졌기 때문에 접촉 저항의 증가는 없으며, 따라서, 완성된 액정표시장치에서의 전기적 특성 저하는 유발되지 않으며, 그래서, 액정표시장치의 표시 특성을 개선시킬 수 있게 된다. Here, since the repair of the pixel ITO electrode is made of the same material, that is, ITO, there is no increase in contact resistance, and therefore, no electrical deterioration in the completed liquid crystal display device is caused, and thus, the liquid crystal display device. It is possible to improve the display characteristics of.

또한, 상기 화소 ITO 전극의 리페어는 별도의 금속막을 증착 및 패터닝하여 수행한 것이 아니므로, 장비 및 공정 추가에 기인하는 효율성 저하는 초래되지 않는다. In addition, since the repair of the pixel ITO electrode is not performed by depositing and patterning a separate metal film, the efficiency degradation due to the addition of equipment and processes is not caused.

한편, 전술한 본 발명의 실시예에서는 오픈 불량의 리페어 예로서 화소 ITO 전극에 대하여 설명하였지만, 게이트버스라인 및 데이터버스라인의 오픈 불량시에도 본 발명의 리페어 테이프 및 이를 이용한 리페어 방법을 적용할 수 있다. 이때, 상기 게이트버스라인 및 데이터버스라인의 오픈 불량의 리페어시, 리페어 테이프에서의 시료는 게이트용 금속 또는 소오스/드레인용 금속으로 대체된다. Meanwhile, in the above-described embodiment of the present invention, the pixel ITO electrode has been described as an example of the repair failure of the open defect, but the repair tape and the repair method using the same may be applied to the failure of the gate bus line and the data bus line. have. At this time, when repairing an open defect of the gate bus line and the data bus line, the sample on the repair tape is replaced with a gate metal or a source / drain metal.

또한, 전술한 본 발명의 실시예에서는 리페어 테이프를 녹이기 위한 열원으로 레이저를 이용하였지만, 전자빔을 이용하는 것도 가능하다. In addition, although the laser is used as a heat source for melting the repair tape in the embodiment of the present invention described above, it is also possible to use an electron beam.

이상에서와 같이, 본 발명은 오픈 불량이 일어난 부재와 동일 재질의 시료를 구비한 리페어 테이프를 레이저 어닐링하여 상기 오픈 불량을 회복시키기 때문에 리페어를 위한 별도의 금속막 증착 및 패터닝이 필요없어서 리페어 자체의 효율성을 높일 수 있음은 물론 화소 결함을 용이하게 제거할 수 있다. As described above, since the present invention recovers the open defect by laser annealing a repair tape having a sample of the same material as the member having the open defect, there is no need for a separate metal film deposition and patterning for the repair itself. In addition to increasing efficiency, pixel defects can be easily removed.

또한, 본 발명은 오픈 불량이 일어난 부재와 동일 물질로 리페어를 행하므로, 접촉 저항의 증가 등을 방지할 수 있어서 액정표시장치의 전기적 특성을 개선시킬 수 있다. In addition, since the present invention repairs with the same material as the member in which the open defect has occurred, it is possible to prevent an increase in contact resistance and the like, thereby improving the electrical characteristics of the liquid crystal display device.

게다가, 본 발명은 화소 결함을 제거할 수 있음은 물론 리페어시의 전기적 특성 저하를 방지할 수 있으므로, 액정표시장치의 표시 특성은 물론 제품 신뢰성을 향상시킬 수 있다. In addition, the present invention can eliminate pixel defects and can prevent the deterioration of electrical characteristics during repair, thereby improving the display characteristics of the liquid crystal display device as well as product reliability.

기타, 본 발명은 그 요지가 일탈하지 않는 범위에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다. In addition, this invention can be implemented in various changes in the range which does not deviate from the summary.

도 1은 본 발명에 따른 리페어 테이프를 설명하기 위한 단면도. 1 is a cross-sectional view for explaining a repair tape according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 리페어 방법을 설명하기 위한 도면. 2 is a view for explaining a repair method according to the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

1 : 기판 2 : 접합제1 substrate 2 bonding agent

3 : 시료 10 : 리페어 테이프3: sample 10: repair tape

20 : 어레이 기판20: array substrate

Claims (8)

오픈(open) 불량에 기인하는 화소 결함을 회복시키기 위한 액정표시장치의 리페어 방법으로서, A repair method of a liquid crystal display device for recovering a pixel defect caused by an open failure, 기판 상에 접착제의 개재하에 오픈 불량이 일어난 부재의 물질과 동일 물질의 시료가 부착된 테이프를 박막트랜지스터 어레이 기판 상의 오픈 불량 발생 지점에 배치시킨 상태로 상기 테이프를 레이저 어닐링하여 상기 오픈 불량을 동일 물질로 재접합시키는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 리페어 방법. Laser-annealed the tape in a state in which a tape having a sample of the same material as the material of the member in which the open failure occurred through the adhesive on the substrate was disposed at an open failure occurrence point on the thin film transistor array substrate. Repairing method of a liquid crystal display device, characterized in that the re-bonding. 제 1 항에 있어서, 상기 기판은 글래스 또는 플라스틱 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 리페어 방법. The method of claim 1, wherein the substrate is made of glass or plastic. 제 1 항에 있어서, 상기 접착제는 열 또는 광에 반응하는 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 리페어 방법. The method of claim 1, wherein the adhesive is made of a material that reacts with heat or light. 제 1 항에 있어서, 상기 레이저 어닐링을 행한 후, 클리닝 공정을 더 수행하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 리페어 방법. The method of claim 1, wherein after the laser annealing is performed, a cleaning process is further performed. 제 1 항에 있어서, 상기 시료는 정사각형 또는 직사각형의 배선 폭을 갖는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 리페어 방법. The method of claim 1, wherein the sample has a square or rectangular wiring width. 제 1 항에 있어서, 상기 시료는 게이트용 금속, 소오스/드레인용 금속 및 ITO 금속으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 리페어 방법. The method of claim 1, wherein the sample is one selected from the group consisting of a gate metal, a source / drain metal, and an ITO metal. 화소 ITO 전극의 오픈 불량에 기인하는 화소 결함을 회복시키기 위한 액정표시장치의 리페어 방법으로서, A repair method of a liquid crystal display device for recovering a pixel defect caused by an open failure of a pixel ITO electrode, 기판 상에 접착제의 개재하에 ITO 재질의 시료가 부착된 테이프를 박막트랜지스터 어레이 기판 상의 오픈 불량 발생 지점에 배치시킨 상태로 상기 테이프를 레이저 어닐링하여 상기 오픈 불량을 동일한 ITO로 재접합시키는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 리페어 방법. Characterized by re-bonding the open defects to the same ITO by laser annealing the tape in a state in which a tape having an ITO material attached thereto is placed on a substrate at an open defect occurrence point on the thin film transistor array substrate. Repair method of liquid crystal display device. 제 7 항에 있어서, 상기 레이저 어닐링을 행하여 오픈 불량을 재접합시킨 후, 클리닝 공정을 더 수행하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 리페어 방법. 8. The method of claim 7, wherein the laser annealing is performed to re-join the open defect, and then a cleaning process is further performed.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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