KR20050069446A - 이온 주입 장치의 탈착식 추출전극판 - Google Patents

Abstract

본 발명은 이온 주입 장치의 탈착식 추출 전극판에 관한 것으로, 추출 전극판의 애퍼쳐를 탈부착이 가능하게 하여 생산성을 향상시키는 애퍼쳐에 관한 것이다.

본 발명의 이온 주입 장치의 탈착식 추출 전극판은 라지 애퍼쳐와 스몰 애퍼쳐를 구비하고 상기 라지 애퍼쳐와 스몰 애퍼쳐가 탈부착이 가능함에 기술적 특징이 있다.

따라서, 본 발명의 이온 주입 장치의 탈착식 추출 전극판은 종래의 추출 전극판 전체를 교체하는 것을 애퍼쳐만을 교체함으로써, 가스 배출 감소로 장비의 전기적 손상이 최소화하고, 이온 빔의 품질이 안정화되는 장점이 있으며. 추출 전극판의 교체에 따른 시간 감소를 통해 생산성이 향상되는 효과가 있다.

Description

이온 주입 장치의 탈착식 추출 전극판{Removable electrode aperture of ion implantation equipment}

본 발명은 이온 주입 장치의 탈착식 추출 전극판에 관한 것으로, 추출 전극판의 애퍼쳐를 탈부착이 가능하게 하여 생산성을 향상시키는 애퍼쳐에 관한 것이다.

반도체 제조 공정 중의 핵심 공정의 하나로 이온 주입 공정이 있다. 부도체인 실리콘 웨이퍼에 전기적 특성을 가진 원자나 분자를 특정한 에너지로 가속 침투시켜 반도체를 형성시키는 공정이다. 가속 에너지 범위는 1keV에서 수 MeV까지 다양하다.

반도체 제조 공정에서 사용되는 이온 주입기는 공정의 필요에 따라 중전류 이온주입기, 고전류 이온 주입기, 고전압 이온주입기, 초 저전압 이온 주입기 등이 있다.

상기 이온 주입기는 가스로부터 이온 빔을 추출하기 위한 이온주입 소오스 모듈, 추출된 이온 빔을 가속화시키고 가속화된 이온 빔을 전기 또는 자기 렌즈를 이용하여 직경 약 1㎝로 좁혀 균일한 주사를 하는 빔라인 모듈 및 웨이퍼를 고정하여 이온 빔을 주사받을 수 있도록 하는 타겟/엔드스테이션 모듈로 구분될 수 있다. 여기서, 이온주입 소오스 모듈은 반응이 일어나는 아크 챔버와 추출 전극판(Suppression Electrode Cap)을 가지고 있는데 그 구성을 개략적으로 설명하면 다음과 같다.

도 1은 종래의 이온 주입기의 추출 전극판을 나타내는 개략도이다. 도 1을 참조하면, 종래에는 소정의 가스가 아크 반응실에 주입되어 그 가스를 전기적 반응에 의해 그 가스의 원자 또는 분자를 여러 가지 이온종을 형성하며 그 이온들 중에서 양이온을 추출하여 이온 빔을 발생시킨다.

여기서 아크 반응실에서 발생된 이온 빔을 추출하기 위해 아크 반응실에는 애퍼쳐(Aperture)가 결합되어 있다. 상기 애퍼쳐는 캡의 형태로 아크 챔버에 탈착이 가능하다. 상기 애퍼쳐에 이온 빔을 추출하기 위한 구멍이 형성되어 이를 통하여 이온 빔이 추출 전극판(10) 방향으로 이동된다.

아크 챔버에서 생성된 이온 빔은 애퍼쳐의 구멍과 추출 전극판의 구멍 및 접지 전극판의 구멍을 거쳐 다음 장비로 이동된다. 애퍼쳐의 구멍을 통과한 이온 빔은 추출 전극판(10)의 구멍을 통과하지 못하고 일정량의 이온 빔이 그 추출 전극판(10)에 저지된다.

따라서, 종래의 추출 전극판(10)의 경우에는 사용 주기가 짧고 이온 빔의 품질에 영향을 미치는 중요한 요소로, 장시간 사용시 구멍의 크기가 넓어져 빔의 품질을 저하시키는 요인으로 작용되는 문제점이 있었다.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 단점과 문제점을 해결하기 위한 것으로, 추출 전극판의 애퍼쳐를 탈부착이 가능하게 하여 상기 추출 전극판의 전체를 교체하지 않으므로 생산성이 향상되는 이온 주입 장치의 탈착식 추출 전극판를 제공함에 본 발명의 목적이 있다.

본 발명의 상기 목적은 이온 주입 장치의 추출 전극판에 있어서, 라지 애퍼쳐와 스몰 애퍼쳐를 구비하고 상기 라지 애퍼쳐와 스몰 애퍼쳐가 탈부착이 가능한 것을 특징으로 하는 이온 주입 장치의 탈착식 추출 전극판에 의해 달성된다.

본 발명의 상기 목적과 기술적 구성 및 그에 따른 작용효과에 관한 자세한 사항은 본 발명의 바람직한 실시예를 도시하고 있는 도면을 참조한 이하 상세한 설명에 의해 보다 명확하게 이해될 것이다.

도 2는 본 발명에 따른 탈착식 추출 전극판을 나타내는 개략도이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 종래의 추출 전극판의 전체를 교체하는 방식에서 벗어나 라지 애퍼쳐(110)와 스몰 애퍼쳐(120)를 각각 분리하여, 탈부착이 가능하게 사용함으로써 장시간 사용시 상기 애퍼쳐(110, 120)의 크기가 넓어져 이온 빔의 품질이 저하될 때 부분적으로 상기 라지 애퍼쳐(110)나 스몰 애퍼쳐(120)를 교체할 수 있다.

상기 애퍼쳐(110, 120)는 종래에 추출 전극판에 일체화되어 있던 것을 나사(100)를 이용하여 고정하고, 탈부착이 가능하여 종래의 추출 전극판을 교체시 필요한 작업인 가스 배출 작업을 위하여 별도의 시간을 할애할 필요가 없다.

본 발명은 이상에서 살펴본 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기한 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능할 것이다.

따라서, 본 발명의 이온 주입 장치의 탈착식 추출 전극판은 종래의 추출 전극판 전체를 교체하는 것을 애퍼쳐만을 교체함으로써, 가스 배출 감소로 장비의 전기적 손상이 최소화하고, 이온 빔의 품질이 안정화되는 장점이 있으며. 추출 전극판의 교체에 따른 시간 감소를 통해 생산성이 향상되는 효과가 있다.

도 1은 종래의 이온 주입기의 추출 전극판을 나타내는 개략도이다.

도 2는 본 발명에 따른 탈착식 추출 전극판을 나타내는 개략도이다.

Claims (2)

1. 이온 주입 장치의 추출 전극판에 있어서,

   라지 애퍼쳐와 스몰 애퍼쳐를 구비하고 상기 라지 애퍼쳐와 스몰 애퍼쳐가 탈부착이 가능한 것을 특징으로 하는 이온 주입 장치의 탈착식 추출 전극판.
2. 제 1항에 있어서,

   상기 애퍼쳐의 탈부착은 나사를 이용하는 것을 특징으로 하는 이온 주입 장치의 탈착식 추출 전극판.