KR20050067515A - Semiconductor device for detecting repair state in test mode - Google Patents

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Abstract

본 발명은 퓨즈를 이용한 리페어 공정을 진행하여 패키지까지 되어 있는 반도체 장치의 불량분석을 용이하게 하기 위해서, 리페어 어드레스의 입력에 대응하는 에러가 발생한 단위셀과 예비셀을 선택적으로 억세스할 수 있는 메모리 장치를 제공하기 위한 것으로, 이를 위해 본 발명은 활성화된 데이터 억세스용 리페어신호에 응답하여, 에러가 발견된 단위셀을 예비셀로 대체하여 억세스하는 반도체 메모리 장치에 있어서, 리페어 공정시에 저장된 리페어 어드레스와, 데이터 억세스를 위해 입력되는 어드레스를 비교하여 일치하면 리페어신호를 활성화시켜 출력하는 리페어 어드레스 비교수단; 및 테스트 모드신호가 제1 레벨에서는 상기 리페어신호를 버퍼링하여 상기 데이터억세스용 리페어신호로 출력하고, 상기 테스트 모드신호가 제2 레벨에는 상기 리페어신호의 활성화여부에 관계없이 비활성화된 데이터 억세스용 리페어신호를 출력하는 테스트 제어수단을 구비하는 반도체 메모리 장치를 제공한다.According to an embodiment of the present invention, a memory device capable of selectively accessing a unit cell and a spare cell in which an error corresponding to an input of a repair address is generated in order to facilitate failure analysis of a semiconductor device that is even a package by performing a repair process using a fuse. According to an aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device which accesses a unit cell in which an error is found by a spare cell in response to an activated repair signal for data access, wherein the repair address is stored in a repair process. Repair address comparison means for comparing the input addresses for data access and activating and outputting a repair signal; And when the test mode signal is at the first level, buffers the repair signal and outputs the repaired signal as the data access repair signal, and the test mode signal is disabled at the second level regardless of whether the repair signal is activated. It provides a semiconductor memory device having a test control means for outputting the.

Description

테스트 모드시에 리페어 상태를 감지할 수 있는 반도체 장치{SEMICONDUCTOR DEVICE FOR DETECTING REPAIR STATE IN TEST MODE} A semiconductor device capable of detecting a repair state in a test mode {SEMICONDUCTOR DEVICE FOR DETECTING REPAIR STATE IN TEST MODE}

본 발명은 반도체 장치에 관한 것으로서, 특히 레이저를 조사하여 퓨즈(fuse)를 블로잉(blowing)시킴으로서 에러가 발생한 회로를 리페어(repair)할 수 있는 반도체 장치의 효율적인 테스트에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly, to an efficient test of a semiconductor device capable of repairing an error circuit by blowing a fuse to blow a laser.

반도체 메모리 장치 제조시 수 많은 노멀셀 중에서 한 개라도 결함이 있으면 메모리로서의 기능을 수행 하지 못하므로 불량품으로 처리된다. 그러나 메모리 내의 일부 노멀셀에만 결함이 발생하였는데도 불구하고 반도체 메모리 장치 전체를 불량품으로 폐기하는 것은 수율(yield)측면에서 비효율적인 처리방법이다. If any one of a number of normal cells is defective in the manufacture of a semiconductor memory device, it can not function as a memory and thus is treated as a defective product. However, in spite of defects occurring only in some normal cells in the memory, discarding the entire semiconductor memory device as a defective product is an inefficient processing method in terms of yield.

따라서, 현재는 메모리장치 내에 미리 설치해둔 예비셀을 이용하여 불량이 발생한 노멀셀을 대체함으로써, 전체 메모리를 되살려 주는 방식으로 수율 향상을 이루고 있다. Therefore, the current yield is improved by replacing the normal cell in which a defect has occurred by using a spare cell previously installed in the memory device.

예비셀을 이용한 리페어 작업은 통상, 일정 셀 어레이(cell array)마다 스페어 로우(spare low)와 스페어 칼럼(sparecolumn)을 미리 설치해 두어 결함이 발생된 불량이 발생한 노멀셀을 로우/컬럼 단위의 예비셀로 치환해 주는 방식으로 진행된다.In the repair operation using a spare cell, a spare low and a spare column are pre-installed in each cell array to replace a defective normal cell in a row / column unit. It proceeds in such a way that the substitution.

이를 자세히 살펴보면, 웨이퍼 가공 완료후 테스트를 통해 불량이 발생한 노멀셀을 골라내면 그에 해당하는 어드레스(address)를 예비셀의 어드레스 신호로 바꾸어 주는 프로그램을 내부회로에 행하게 된다. 따라서, 실제 사용시에는 불량 이 발생한 노멀셀에 해당하는 어드레스 신호가 입력되면, 예비셀이 대신하여 선택되는 것이다.In detail, when a wafer is processed and a normal cell having a defect is selected through a test, a program for converting the corresponding address into an address signal of a spare cell is performed in an internal circuit. Therefore, in actual use, when an address signal corresponding to a defective normal cell is input, a spare cell is selected instead.

전술한 프로그램 방식 중에서, 가장 널리 사용되는 방식이 레이저 빔으로 퓨즈를 태워 끊어버림으로서 어드레스의 경로를 바꾸는 방식인데, 레이저의 조사에 의해 끊어지는 배선을 퓨즈라 한다.Among the programming methods described above, the most widely used method is to change the path of an address by burning a fuse with a laser beam, and the wiring broken by laser irradiation is called a fuse.

도1은 종래기술에 의한 반도체 메모리 장치를 나타내는 블럭구성도이다.1 is a block diagram showing a semiconductor memory device according to the prior art.

도1을 참조하여 살펴보면, 종래기술에 의한 반도체 메모리 장치는 입력되는 어드레스(A<0:21>)가 리페어된 어드레스인지를 판단하고, 그에 대응하여 리페어신호(htiz)를 활성화시켜 출력하는 리페어 어드레스 비교부(10)와, 다수의 노멀셀을 구비하는 노멀셀블럭(30)과, 노멀셀블럭(30)에 에러가 발생하였을 때에 리페어 공정에서 대체하기 위한 다수의 예비셀을 구비하는 예비셀블럭(40)과, 리페어신호(hitz)에 응답하여, 노멀셀블럭(30)에서 데이터를 억세스할 지 예비셀블럭(40)에서 데이터를 억세스할 지를 제어하는 데이터억세스 제어부(20)를 구비한다.Referring to FIG. 1, a conventional semiconductor memory device determines whether an input address A <0:21> is a repaired address, and activates and outputs a repair signal htiz in response to the repair address. Preliminary cell block including a comparator 10, a normal cell block 30 including a plurality of normal cells, and a plurality of spare cells for replacing in a repair process when an error occurs in the normal cell block 30. 40 and a data access control unit 20 for controlling whether the normal cell block 30 accesses the data or the spare cell block 40 in response to the repair signal hitz.

리페어 어드레스 비교부(10)는 초기화신호(ba)에 초기화되어, 입력되는 어드레스(A<0:21>)가 리페어 어드레스인지를 비교하여, 리페어 어드레스이면 리페어신호(hitz)를 로우레벨로 활성화시켜 출력한다.The repair address comparison unit 10 is initialized to the initialization signal ba, compares whether the input address A <0:21> is a repair address, and if the repair address is a repair address, activates the repair signal hitz at a low level. Output

이어서 데이터 억세스제어부(20)에서는 데이터 억세스를 하는 전반적인 과정을 제어하게 되는데, 리페어신호(hitz)가 비활성화상태로 입력되면 노멀셀블럭에서 데이터가 억세스되도록 제어한다. 만약 리페어신호(hitz)가 활성화되어 입력되면 억세스될 노멀셀에 에러가 발생하여 에비셀로 대체되어야 하므로, 예비셀블럭(40)에서 데이터가 억세스될 수 있도록 제어한다.Subsequently, the data access control unit 20 controls the overall process of data access. When the repair signal hitz is input in an inactive state, the data access control unit 20 controls the data to be accessed in the normal cell block. If the repair signal hitz is activated and input, an error occurs in the normal cell to be accessed and should be replaced with an evicell. Thus, the spare cell block 40 controls the data to be accessed.

도2는 도1에 도시된 리페어 어드레스 비교부(10)를 나타내는 회로도이다.FIG. 2 is a circuit diagram illustrating the repair address comparison unit 10 shown in FIG. 1.

도2를 참조하여 살펴보면, 리페어 어드레스 비교부(10)는 초기화신호(ba)를 입력받고, 일측은 전원전압단(VDD)에 타측은 노드(N)에 접속된 피모스트랜지스터(MP0)와, 일측이 노드(N)에 연결된 다수의 퓨즈(f1 ~ f22)와, 일측으로 각각의 퓨즈의 일측에 연결되고, 타측은 접지전압단(VSS)에 연결되며 각각 한 비트의 어드레스(A0 ~ A21)를 입력받는 모스트랜지스터(MN1 ~ MN22)를 구비한다.Referring to FIG. 2, the repair address comparison unit 10 receives an initialization signal ba, one side of which is a PMOS transistor MP0 connected to a power supply voltage terminal VDD, and the other side of a node N; One side is connected to a plurality of fuses (f1 ~ f22) connected to the node (N), one side is connected to one side of each fuse, the other side is connected to the ground voltage terminal (VSS), each of the address (A0 ~ A21) It is provided with morph transistors (MN1 ~ MN22) receiving the.

도1과 도2를 참조하여 종래기술에 의한 메모리 장치의 동작을 살펴본다. An operation of a memory device according to the related art will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

먼저, 제조가 완료된 반도체 메모리 장치를 웨이퍼상태에서 테스트하여 에러가 발견된 노멀셀을 찾는다. 노멀셀에 에러가 발견되면, 에러가 발생한 노멀셀의 어드레스에 대응하여 예비셀이 에러가 발생한 노멀셀을 대체될 수 있도록, 리페어 어드레스 비교부(10)의 퓨즈(f1~f22)를 선택적으로 블로잉시키는 리페어공정을 진행한다. First, the fabricated semiconductor memory device is tested in a wafer state to find a normal cell in which an error is found. If an error is found in the normal cell, the fuses f1 to f22 of the repair address comparison unit 10 are selectively blown so that the spare cell can replace the normal cell in which the error corresponds to the address of the normal cell in which the error occurs. The repair process is performed.

전술한 바와 같이 리페어 공정시에 하나의 단위셀을 하나의 예비셀로 대체하는 것이 아니고, 에러가 발생한 노멀셀이 포함되는 워드라인을 예비워드라인으로 대체하는 것이다. 이어서 패키지 공정을 진행하게 된다.As described above, instead of replacing one unit cell with one spare cell in the repair process, the word line including the normal cell in which an error occurs is replaced with the spare word line. The package process then proceeds.

계속해서 도2를 참조하여 리페어 어드레스 비교부(10)의 동작을 살펴보면, 초기화신호(ba)가 초기동작시 로우레벨로 입력되면, 피모스트랜지스터(MP0)가 턴온되어 노드(N)는 하이레벨로 초기 셋팅된다.Subsequently, referring to FIG. 2, the operation of the repair address comparison unit 10 will be described. When the initialization signal ba is input at the low level during the initial operation, the PMOS transistor MP0 is turned on and the node N is at the high level. It is initially set to.

이후 입력되는 어드레스에 의해 턴온되는 모스트랜지스터와 블로잉된 퓨즈가 일치하게 되면, 노드(N)의 전압레벨은 하이레벨로 유지가 된다.After that, when the MOS transistor turned on by the input address and the blown fuse coincide with each other, the voltage level of the node N is maintained at a high level.

만약 입력되는 어드레스에 의해 턴온되는 모스트랜지스터와 블로잉된 퓨즈가 서로 일치하지 않게 되면, 노드(N)는 하이레벨에서 로우레벨로 천이하게 된다.If the MOS transistor and the blown fuse turned on by the input address do not coincide with each other, the node N transitions from the high level to the low level.

만약 리페어공정에서 블로잉된 퓨즈가 f1,f3,f4 라면, 입력되는 어드레스가 00001101 이라면, 노드(N)은 하이레벨을 유지할 것이고, 다른 어드레스가 입력되면 로우레벨을 유지할 것이다.If the blown fuse in the repair process is f1, f3, f4, if the input address is 00001101, the node N will maintain a high level, and if another address is input, it will maintain a low level.

노드(N)가 하이레벨을 유지한다는 것은 입력된 어드레스가 리페어된 어드레스가 되는 것으로 출력신호인 리페어신호(hitz)를 로우레벨로 활성화시켜 출력하게 되는 것이다. 노드(N)이 로우레벨로 천이한다는 것은 입력된 어드레스가 리페어되지 않는 어드레스가 되는 것으로, 출력신호인 리페어신호(hitz)는 하이레벨로 비활성화시켜 출력하게 되는 것이다.When the node N maintains the high level, the input address becomes the repaired address. The node N outputs the repair signal hitz, which is an output signal, at a low level. When the node N transitions to the low level, the input address becomes an address that is not repaired. The repair signal hitz, which is an output signal, is deactivated and outputted to a high level.

따라서 하나의 리페어 어드레스 비교부(10)는 하나의 어드레스를 비교하여 리페어신호(hitz)를 활성화 또는 비활성화시켜 출력하게 되며, 반도체 메모리 장치에 구비되는 리페어 어드레스 비교부의 수에 따라 리페어될 수 있는 어드레스의 수도 정해지게 된다.Accordingly, one repair address comparison unit 10 compares one address to activate or deactivate the repair signal hitz, and outputs the repair signal. The repair address comparison unit 10 may repair the repair address corresponding to the repair address comparison unit included in the semiconductor memory device. The number will be decided.

전술한 바와 같이, 약간의 노멀셀에 에러가 있을 때에는 예비셀이 대체하여 억세스될 수 있도록 리페어 공정을 진행하여, 수율향상을 하고 있다.As described above, when a small number of normal cells have an error, the repair process is performed so that the spare cells can be replaced and accessed, thereby improving the yield.

그러나, 리페어 공정을 진행한 후 패키지 상태에서 다시 테스트를 해보면 여전히 에러가 계속 발견되는 경우가 자주 있다.However, when testing the package again after the repair process, errors are still often found.

이 때에는 어디서 에러가 발생했는지에 관해 불량분석을 하게되는데, 리페어된 어드레스가 문제가 되는지, 아니면 예비셀에 에러가 있는 지, 이미 패키지까지 되어 있는 상태에서는 반도체 메모리 장치의 알기가 무척 어렵다. In this case, a failure analysis is performed on where the error occurred. It is very difficult to know the semiconductor memory device in the state that the repaired address is a problem, or whether there is an error in the spare cell, even if it is already packaged.

본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 퓨즈를 이용한 리페어 공정을 진행하여 패키지까지 되어 있는 반도체 장치의 불량분석을 용이하게 하기 위해서, 리페어 어드레스의 입력에 대응하는 에러가 발생한 단위셀과 예비셀을 선택적으로 억세스할 수 있는 메모리 장치를 제공함을 목적으로 한다.The present invention has been proposed to solve the above problems, and in order to facilitate the failure analysis of the semiconductor device, which is even a package through a repair process using a fuse, a unit cell in which an error corresponding to an input of a repair address is generated; An object of the present invention is to provide a memory device capable of selectively accessing a spare cell.

또한, 구비된 퓨즈를 선택적으로 블로잉함으로서 내부상태를 트리밍할 수 있는 반도체 장치에 있어서, 테스트모드시에 트리밍하기 이전 상태와 트리밍한 후의 상태를 선택할 수 있는 반도체 장치를 제공함을 목적으로 한다. In addition, an object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of trimming an internal state by selectively blowing a provided fuse, wherein the semiconductor device can select a state before trimming and a state after trimming in a test mode.

본 발명은 상기의 과제를 달성하기 위하여, 활성화된 데이터 억세스용 리페어신호에 응답하여, 에러가 발견된 단위셀을 예비셀로 대체하여 억세스하는 반도체 메모리 장치에 있어서, 리페어 공정시에 저장된 리페어 어드레스와, 데이터 억세스를 위해 입력되는 어드레스를 비교하여 일치하면 리페어신호를 활성화시켜 출력하는 리페어 어드레스 비교수단; 및 테스트 모드신호가 제1 레벨에서는 상기 리페어신호를 버퍼링하여 상기 데이터억세스용 리페어신호로 출력하고, 상기 테스트 모드신호가 제2 레벨에는 상기 리페어신호의 활성화여부에 관계없이 비활성화된 데이터 억세스용 리페어신호를 출력하는 테스트 제어수단을 구비하는 반도체 메모리 장치를 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention provides a semiconductor memory device which accesses a unit cell in which an error is found by replacing a spare cell in response to an activated repair signal for data access, wherein the repair address is stored in a repair process. Repair address comparison means for comparing the input addresses for data access and activating and outputting a repair signal; And when the test mode signal is at the first level, buffers the repair signal and outputs the repaired signal as the data access repair signal, and the test mode signal is disabled at the second level regardless of whether the repair signal is activated. It provides a semiconductor memory device having a test control means for outputting the.

또한 본 발명은 각각 구비된 퓨즈의 블로잉여부에 의해 각각 트리밍신호를 활성화시켜 출력하는 단위 트리밍회로를 다수구비하는 트리밍회로; 상기 트리밍신호를 디코딩하여 구동전압의 레벨을 조정하기 위한 디코딩신호를 출력하는 디코더; 및 상기 디코딩신호에 응답하여 레벨이 조정된 구동전압을 출력하는 전압제어부를 구비하며, 상기 단위 트리밍회로는 일측이 전원전압단에 접속되고, 제어신호를 게이트로 입력받는 제1 모스트랜지스터; 상기 제1 모스트랜지스터의 타측에 연결된 일측단이 연결된 전압트리밍용 퓨즈; 게이트로 초기화신호를 입력받고, 상기 전압트리밍용 퓨즈의 타측과 접지전압단을 연결하는 제2 모스트랜지스터; 게이트로 테스트모드신호를 입력받는 인버터; 상기 인버터의 출력과 상기 퓨즈의 타측에 인가되는 신호를 입력받는 낸드게이트; 및 상기 낸드게이트의 출력을 반전하여 출력하는 인버터를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치를 제공한다.In another aspect, the present invention provides a trimming circuit comprising a plurality of unit trimming circuits for activating and outputting a trimming signal, respectively, by blowing each of the provided fuses; A decoder for decoding the trimming signal and outputting a decoding signal for adjusting a level of a driving voltage; And a voltage control unit outputting a driving voltage whose level is adjusted in response to the decoding signal, wherein the unit trimming circuit comprises: a first MOS transistor connected at one side to a power supply voltage terminal and receiving a control signal as a gate; A voltage trimming fuse having one end connected to the other side of the first MOS transistor; A second MOS transistor configured to receive an initialization signal through a gate and connect the other side of the voltage trimming fuse to a ground voltage terminal; An inverter receiving a test mode signal through a gate; A NAND gate receiving a signal applied to the output of the inverter and the other side of the fuse; And an inverter for inverting and outputting the output of the NAND gate.

이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시 할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.Hereinafter, the most preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily implement the technical idea of the present invention. do.

도3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 반도체 메모리 장치를 나타내는 회로도이다.3 is a circuit diagram illustrating a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

도3을 참조하여 살펴보면, 본 실시예에 따른 메모리 장치는 활성화된 데이터 억세스용 리페어신호(hitz)에 응답하여, 에러가 발견된 단위셀을 예비셀로 대체하여 억세스하기 위해, 리페어 공정시에 저장된 리페어 어드레스와, 데이터 억세스를 위해 입력되는 어드레스를 비교하여 일치하면 리페어신호(hit)를 활성화시켜 출력하는 리페어 어드레스 비교부(400)와, 테스트 모드신호(tm)가 로우레벨인 경우에는 리페어신호(hit)를 반전하여 데이터엑세스용 리페어신호(hitz)로 출력하고, 테스트 모드신호(tm)가 하이레벨인 경우에는 리페어신호(hit)의 활성화여부에 관계없이 비활성화된 데이터 억세스용 리페어신호(hitz)를 출력하는 테스트 제어부(100)를 구비한다.Referring to FIG. 3, the memory device according to the present embodiment is stored in the repair process in order to access and replace the unit cell in which the error is found with a spare cell in response to the activated repair signal for data access. When the repair address and the address input for data access are matched and matched, the repair address hitting unit 400 which activates and outputs the repair signal hit, and the repair signal when the test mode signal tm is low level hit) is inverted and output as a data access repair signal hitz. When the test mode signal tm is at a high level, the data access repair signal hitz is deactivated regardless of whether the repair signal hit is activated. It includes a test control unit 100 for outputting.

또한, 테스트 제어부(100)는 테스트 모드신호(tm)를 반전하여 출력하는 인버터(I2)와, 리페어 어드레스 비교부(400)에서 출력되는 리페어신호(hit)와 인버터(I2)의 출력을 입력받아 데이터 억세스용 리페어신호(hitz)로 출력하는 낸드게이트(ND1)를 구비한다.In addition, the test control unit 100 receives the inverter I2 inverting the test mode signal tm and outputs the repair signal hit and the output of the inverter I2 output from the repair address comparison unit 400. And a NAND gate ND1 for outputting as a data access repair signal hitz.

리페어 어드레스 비교부(400)는 리페어 어드레스를 저장하기 위해 리페어 공정시 선택적으로 블로잉되기 위한 다수의 퓨즈(f23 ~ f44)와, 각각의 게이트로 데이터 억세스를 위해 입력되는 어드레스(A<0:~21>)를 입력받고, 퓨즈의 일측과 접지전원단(VDD)사이에 각각 연결되는 다수의 앤모스트랜지스터(MN23 ~ MN44)와, 게이트로 초기화신호(ba)를 입력받으며, 전원전압단(VDD)과 다수의 퓨즈의 타측을 공통으로 연결하는 피모스트랜지스터(MP1)를 구비하며, 노드(N)로 리페어신호(hit)를 출력하게 된다.The repair address comparison unit 400 includes a plurality of fuses f23 to f44 selectively blown during the repair process to store the repair address, and an address A <0: to 21 to be input for data access to each gate. >), A plurality of NMOS transistors (MN23 to MN44) connected between one side of the fuse and the ground power terminal (VDD) and the initialization signal ba through the gate, and the power voltage terminal (VDD). And a PMOS transistor MP1 connecting the other side of the plurality of fuses in common, and outputs a repair signal hit to the node N. FIG.

이하에서 도3을 참조하여 본 실시예에 따른 메모리 장치의 동작을 살펴본다.Hereinafter, an operation of the memory device according to the present embodiment will be described with reference to FIG. 3.

리페어 어드레스 비교부(400)에 구비되는 다수의 퓨즈는 리페어 공정시에 에러가 발견된 어드레스에 대응하여 선택적으로 블로잉된다. The plurality of fuses provided in the repair address comparison unit 400 are selectively blown in response to an address where an error is found in the repair process.

이후에 테스트 모드시에 테스트 모드신호(tm)를 로우레벨로 입력시키면 리페어 어드레스 비교부(400)의 출력신호인 리페어신호(hitz)가 반전되어 데이터 억세스용 리페어신호(hit)로 출력한다.Subsequently, when the test mode signal tm is input at the low level in the test mode, the repair signal hitz, which is an output signal of the repair address comparison unit 400, is inverted and output as a repair signal hit for data access.

이를 보다 구체적으로 살펴보면, 테스트 모드신호(tm)를 로우레벨로 입력시키면 낸드게이트(ND1)는 인버터와 같은 역할을 하게 된다.In more detail, when the test mode signal tm is input at a low level, the NAND gate ND1 acts as an inverter.

따라서 리페어신호(hit)가 하이레벨로 활성화된 상태이면, 데이터억세스용 리페어신호(hitz)는 로우레벨로 활성화되어 출력된다. 또한, 리페어신호(hit)가 로우레벨로 비활성화된 상태이면, 데이터억세스용 리페어신호(hitz)는 하이레벨로 비활성화되어 출력된다. Therefore, when the repair signal hit is activated at a high level, the repair signal hitz for data access is activated at a low level and output. In addition, when the repair signal hit is inactivated at a low level, the repair signal hitz for data access is inactivated and output at a high level.

로우레벨의 초기화신호(ba)에 의해 노드(N)가 하이레벨을 유지하고 있는 상태에서, 입력되는 어드레스(A0:21>)가 블로잉된 퓨즈와 일치하게 되면, 노드(N)의 레벨을 하이레벨로 유지시키게 된다. 이 경우가 리페어신호(hit)가 활성화되어 출력되는 경우이다.When the node N maintains the high level due to the low level initialization signal ba, when the input address A0: 21> matches the blown fuse, the level of the node N becomes high. Will be kept at the level. In this case, the repair signal hit is activated and output.

만약 입력되는 어드레스(A0:21>)가 블로잉된 퓨즈와 일치하지 않는다면, 노드(N)의 레벨이 로우레벨로 되며, 이 경우가 리페어신호(hit)가 비활성화되어 출력되는 경우이다.If the input addresses A0: 21> do not coincide with the blown fuses, the level of the node N becomes low, which is a case where the repair signal hit is inactivated and output.

여기서 입력되는 어드레스(A0:21>)가 블로잉된 퓨즈와 일치한다는 것은 입력되는 어드레스(A<0:21>) 중 '1' 하이레벨로 입력되는 신호는 블로잉된 퓨즈에 대응하는 모스트랜지스터의 게이트로만 입력된다는 것을 의미한다.Herein, the address (A0: 21>) inputted coincides with the blown fuse so that the signal input at the '1' high level among the input addresses (A <0:21>) is the gate of the MOS transistor corresponding to the blown fuse. Means that it is only entered.

계속해서 살펴보면, 테스트 모드신호(tm)를 하이레벨로 입력시키면, 리페어 어드레스 비교부(400)의 출력신호인 리페어신호(hit)에 관계없이, 항상 데이터 억세스 리페어신호(hit)를 하이레벨로 비활성화상태로 출력된다.In the following, when the test mode signal tm is input at a high level, the data access repair signal hit is always deactivated at a high level regardless of the repair signal hit which is the output signal of the repair address comparison unit 400. Output as status.

여기서 테스트 모드신호(tm)를 하이레벨로 입력시켜 데이터 억세스 리페어신호(hit)가 하이레벨로 비활성화되도록 출력한다는 것은, 리페어된 예비셀을 억세스하는 것이 아니라 에러가 발생한 노멀셀에 데이터를 억세스한다는 것을 말한다.Here, inputting the test mode signal tm to a high level and outputting the data access repair signal hit to a high level means that the data is accessed to the normal cell in which an error occurs, not to access the repaired spare cell. Say.

따라서 테스트모드신호(tm)를 로우레벨로 입력시키면, 리페어된 상태로 메모리 장치를 구동시키는 것이고, 테스트모드신호(tm)를 하이레벨로 입력시키면, 리페어되기 이전의 상태로 메모리 장치를 구동시키는 것을 의미한다.Therefore, when the test mode signal tm is input at a low level, the memory device is driven in a repaired state. When the test mode signal tm is input at a high level, driving the memory device to a state before repairing is performed. it means.

본 발명에 의해서 메모리 장치를 패키지까지 한 상태에서 불량분석을 할 때에 테스트모드를 적절히 입력시킴으로서 리페어전 후의 상황을 비교하면서 테스트를 진행할 수 있어서, 설계불량분석이 용이하게 되었다.According to the present invention, when a failure analysis is performed in a state where the memory device is packaged, the test mode can be appropriately inputted so that the test can be performed while comparing the conditions before and after the repair, thereby facilitating design failure analysis.

도4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 반도체 메모리 장치를 다르게 구성한 회로도이다. 도4에 도시된 제2 실시예에 따른 메모리 장치는 리페어 어드레스 비교부(400)는 같은 구성을 가지고, 테스트 제어부(200)의 구성만 다른 구성을 가지고 있다.4 is a circuit diagram of a semiconductor memory device constructed differently according to the second embodiment of the present invention. In the memory device according to the second exemplary embodiment shown in FIG. 4, the repair address comparison unit 400 has the same configuration, and only the configuration of the test controller 200 has a different configuration.

도4를 참조하여 살펴보면, 테스트 제어부(200)는 리페어 어드레스 비교부(400)에서 출력되는 리페어신호(hit)를 반전하여 출력하는 인버터(I3)와, 인버터(I3)의 출력과 테스트 모드신호(tm)를 입력받는 노어게이트(NOR1)와, 노어게이트(NOR1)의 출력을 반전하여 데이터 억세스용 리페어신호(hitz)로 출력하는 인버터(I4)를 구비한다. Referring to FIG. 4, the test control unit 200 inverts and repairs the repair signal hit output from the repair address comparison unit 400, the output of the inverter I3 and the test mode signal ( NOR gate NOR1 receiving tm and an inverter I4 for inverting the output of NOR gate NOR1 and outputting the repair signal hitz for data access are provided.

제2 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 전체적인 동작은 제1 실시예에 따른 반도체 메모리 장치와 같으므로, 자세한 동작설명은 생략한다.Since the overall operation of the semiconductor memory device according to the second embodiment is the same as that of the semiconductor memory device according to the first embodiment, a detailed description thereof will be omitted.

전술한 바에서는 리페어 어드레스를 감지하는 회로를 예를 들어 설명하였으나, 구비된 퓨즈를 선택적으로 블로잉함으로서 내부동작상태를 변화시킬 수 있는 반도체 장치에 본 발명을 적용하는 것이 가능하다.In the foregoing description, a circuit for detecting a repair address has been described as an example. However, the present invention can be applied to a semiconductor device capable of changing an internal operating state by selectively blowing a provided fuse.

도5와 도6은 본 발명의 아이디어를 전압레벨을 조정하는 트리밍회로에 적용한 예를 보여주고 있다.5 and 6 show an example of applying the idea of the present invention to a trimming circuit for adjusting the voltage level.

도5를 참조하여 살펴보면, 전압을 조정하기 위한 전압 트리밍회로는 각각 구비된 퓨즈의 블로잉여부에 의해 각각 트리밍신호(trim1 ~ trimN)를 활성화시켜 출력하는 단위 트리밍회로(331,332,...)를 다수 구비하는 트리밍부(330)와, 트리밍신호(trim1 ~ trimN)를 디코딩하여 전원전압(VDD)의 전압레벨을 조정하기 위한 디코딩신호(dec)를 출력하는 디코더(340)와, 디코딩신호(dec)에 응답하여 레벨이 조정된 전원전압(VDD)을 출력하는 전압제어부(350)를 구비한다. 또한 전압트리밍회로는 트리밍부(330)를 초기화시키기 위한초기셋팅부(310)와 트리밍을 제어하기 위한 트리밍제어부(320)을 구비하고 있다.Referring to FIG. 5, the voltage trimming circuit for adjusting the voltage includes a plurality of unit trimming circuits 331, 332,..., Activating and outputting the trimming signals trim1 to trimN, respectively, by blowing blown fuses. A trimming unit 330 provided therein, a decoder 340 for outputting a decoding signal dec for decoding the trimming signals trim1 to trimN and adjusting a voltage level of the power supply voltage VDD, and a decoding signal dec. In response to the voltage control unit 350 for outputting a power supply voltage (VDD) is adjusted. In addition, the voltage trimming circuit includes an initial setting unit 310 for initializing the trimming unit 330 and a trimming control unit 320 for controlling trimming.

도6은 도5에 도시된 트리밍 회로를 나타내는 회로도이다.FIG. 6 is a circuit diagram illustrating a trimming circuit shown in FIG. 5.

도6을 참조하여 살펴보면, 단위 트리밍부(331)는 일측이 전원전압단(VDD)에 접속되고, 제어신호(cmo)를 게이트로 입력받는 모스트랜지스터(MP3)와 모스트랜지스터(MNt)의 타측에 연결된 일측단이 연결된 전압트리밍용 퓨즈(ft)와, 게이트로 초기화신호(fp)를 입력받고, 전압트리밍용 퓨즈(ft)의 타측과 접지전압단(VSS)을 연결하는 모스트랜지스터(MNt)와, 게이트로 테스트모드신호(tm2)를 입력받는 인버터(I5)와, 인버터(I5)의 출력과 퓨즈(ft)의 타측에 인가되는 신호(X)를 입력받는 낸드게이트(ND2) 및 낸드게이트(ND2)의 출력을 반전하여 출력하는 인버터(I6)를 구비한다.Referring to FIG. 6, the unit trimmer 331 is connected to the power supply voltage terminal VDD on one side of the unit trimmer 331, and is provided on the other side of the MOS transistor MP3 and the MOS transistor MNt that receive the control signal cmo as a gate. A voltage transistor fuse (ft) connected to one end connected to the first gate and an initialization signal (fp) to the gate, and a MOS transistor (MNt) connecting the other side of the voltage trimming fuse (ft) to the ground voltage terminal (VSS); Inverter I5 receiving the test mode signal tm2 through the gate, NAND gate ND2 and the NAND gate receiving the signal X applied to the output of the inverter I5 and the other side of the fuse ft An inverter I6 for inverting and outputting the output of ND2 is provided.

도5은 반도체 장치에서 전압트리밍을 하기 위한 회로인데, 트리밍신호(trim1 ~ trimN)를 디코더(340)에서 디코딩하여 출력하면, 전압제어부(350)는 전압조정된 전원전압(VDD)을 출력하게 된다.FIG. 5 is a circuit for voltage trimming in a semiconductor device. When the trimming signals trim1 to trimN are decoded and output by the decoder 340, the voltage controller 350 outputs the voltage-adjusted power supply voltage VDD. .

반도체 장치를 제조하고 나면, 여러 변수때문에 설계시 원했던 전압레벨이 출력되지 않는데, 웨이퍼레벨 전압트리밍 회로에 구비되는 퓨즈를 선택적으로 블로잉시킴으로서 전원전압레벨을 조정하고 있다.After the semiconductor device is manufactured, the desired voltage level is not output due to various variables. The power supply voltage level is adjusted by selectively blowing a fuse included in the wafer level voltage trimming circuit.

테스트모드신호가 로우레벨로 입력된 상태에서, 단위트리밍부(331)는 퓨즈(ft)가 블로잉되면 로우레벨의 신호가 낸드게이트(ND2)로 출력하고, 낸드게이트(ND2)에서는 하이레벨의 신호가 출력되어 최종 트리밍신호(trim1)는 로우레벨로 트리밍되지 않는 비활성화 신호가 출력된다.In the state in which the test mode signal is input at the low level, the unit trimming unit 331 outputs a low level signal to the NAND gate ND2 when the fuse ft is blown, and at the NAND gate ND2, a high level signal. Is output so that the final trimming signal trim1 is output a deactivation signal that is not trimmed to a low level.

만약 퓨즈(ft)가 블로잉되지 않았다면 낸드게이트(ND2)로 하이레벨의 신호가 입력되고, 낸드게이트(ND2)의 출력은 로우레벨이 되어 최종 트리밍신호(trim1)은 하이레벨로 트리밍된 활성화된 신호가 출력된다.If the fuse ft is not blown, the high level signal is input to the NAND gate ND2, and the output of the NAND gate ND2 is low level, and the final trimming signal trimm is an active signal trimmed to a high level. Is output.

한편, 테스트 모드신호(tm2)가 하이레벨로 입력되면, 낸드게이트(ND2)는 항상 로우레벨로 출력되며, 최종 트리밍신호(trim1)는 로우레벨로 트리밍되지 않는 상태의 신호가 출력된다.On the other hand, when the test mode signal tm2 is input at the high level, the NAND gate ND2 is always output at the low level, and the final trimming signal trim1 is output at the state where the trimming is not performed at the low level.

본 발명에 의해 각 단위트리밍부(331)에 입력되는 테스트모드(tm2)를 로우레벨로 입력시키면 트리밍된 신호가 출력되며, 테스트모드(tm1)를 하이레벨로 입력시면 전압 트리밍하기전의 신호를 그대로 출력시킬 수 있게 된다.According to the present invention, when the test mode tm2 input to each unit trimmer 331 is input at the low level, the trimmed signal is output. When the test mode tm1 is input at the high level, the signal before the voltage trimming is maintained. You can print it out.

따라서 본 발명에 의해 전압을 조정하기 전의 상태와 전압을 조정한 후의 상태를 파악할 수 있어서, 전압트리밍하는데 있어서의 불량을 분석하는데 용이하게 되었다.Therefore, according to the present invention, it is possible to grasp the state before adjusting the voltage and the state after adjusting the voltage, so that it is easy to analyze the defect in the voltage trimming.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible in the art without departing from the technical spirit of the present invention. It will be clear to those of ordinary knowledge.

전술한 실시예에서는 퓨즈를 이용하여 메모리 장치를 리페어하거나 반도체 장치의 내부 상태를 변화시켰을 때에 변화시키기 전의 상태를 유지하기 위한 경우에 대하여 설명하였으나, 경우에 따라서는 안티퓨즈를 이용하여 내부상태를 변화시킬 수 도 있다. 따라서 안티퓨즈를 구비하여 리페어 공정을 진행하는 반도체 메모리 장치나 내부상태를 변화시키는 반도체 장치에서도 본 발명의 아이디어를 적용시킬 수 있다.In the above-described embodiment, the case in which the memory device is maintained by using a fuse or when the internal state of the semiconductor device is changed is described. However, in some cases, the internal state is changed by using an anti-fuse. You can also. Therefore, the idea of the present invention can be applied to a semiconductor memory device equipped with an anti-fuse for a repair process or a semiconductor device for changing an internal state.

본 발명에 의해서 퓨즈를 이용한 리페어 공정을 진행하여 패키지까지 되어 있는 반도체 장치에서, 리페어 어드레스의 입력에 의해 대체된 예비셀의 억세스를 테스트할 수도 있고, 리페어 어드레스의 입력에 관계없이 에러가 발생한 단위셀에 대한 억세스 테스트를 할 수 있어, 불량분석을 용이하게 할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, in a semiconductor device that has undergone a repair process using a fuse and is even a package, an access of a spare cell replaced by input of a repair address may be tested, and an unit cell in which an error occurs regardless of input of a repair address Access test can be performed to facilitate defect analysis.

또한 본 발명에 의해서, 구비된 퓨즈를 선택적으로 블로잉함으로서 내부상태를 트리밍할 수 있는 반도체 장치에 있어서, 테스트 모드시에 트리밍하기 이전 상태와 트리밍한 후의 상태를 선택하여 동작시킬 수 있기 때문에, 불량분석을 용이하게 할 수 있다.In addition, according to the present invention, in the semiconductor device capable of trimming the internal state by selectively blowing the provided fuse, in the test mode, it is possible to select and operate the state before trimming and the state after trimming, so that the failure analysis Can be facilitated.

따라서 본 발명에 의해서 반도체 장치의 불량분석을 용이하게 할 수 있음으로 해서 테스트 시간을 크게 줄일 수 있고, 이로 인하여 전체적인 반도체 장치의 개발기간을 줄일 수 있다. Therefore, the present invention can facilitate the failure analysis of the semiconductor device, thereby greatly reducing the test time, thereby reducing the overall development period of the semiconductor device.

도1은 종래기술에 의한 반도체 메모리 장치를 나타내는 블럭구성도.1 is a block diagram showing a semiconductor memory device according to the prior art;

도2는 도1에 도시된 리페어 어드레스 비교부를 나타내는 회로도.FIG. 2 is a circuit diagram showing a repair address comparison unit shown in FIG.

도3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 반도체 메모리 장치를 나타내는 회로도.3 is a circuit diagram showing a semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention.

도4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 반도체 메모리 장치를 다르게 구성한 회로도.4 is a circuit diagram of another configuration of the semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention.

도5는 본 발명의 바람직한 제3 실시예에 따른 반도체 장치를 나타내는 블럭구성도.Fig. 5 is a block diagram showing a semiconductor device according to the third preferred embodiment of the present invention.

도6은 도5에 도시된 트리밍 회로를 나타내는 회로도.FIG. 6 is a circuit diagram showing a trimming circuit shown in FIG.

* 도면의 주요부분에 대한 부호설명 ** Explanation of Signs of Major Parts of Drawings *

MN1 ~ MN22 : 앤모스트랜지스터MN1 ~ MN22: NMOS Transistor

f1 ~ f22 : 퓨즈f1 to f22: fuse

MP0, MP2 : 피모스트랜지스터MP0, MP2: Pymotransistor

ND1, ND2 : 낸드게이트ND1, ND2: NAND Gate

I1 ~ I7 : 인버터I1 ~ I7: Inverter

Claims (5)

활성화된 데이터 억세스용 리페어신호에 응답하여, 에러가 발견된 단위셀을 예비셀로 대체하여 억세스하는 반도체 메모리 장치에 있어서,A semiconductor memory device which accesses by replacing a unit cell in which an error is found with a spare cell in response to an activated repair signal for data access. 리페어 공정시에 저장된 리페어 어드레스와, 데이터 억세스를 위해 입력되는 어드레스를 비교하여 일치하면 리페어신호를 활성화시켜 출력하는 리페어 어드레스 비교수단; 및Repair address comparison means for comparing the repair address stored in the repair process with an address input for data access and activating and outputting a repair signal; And 테스트 모드신호가 제1 레벨에서는 상기 리페어신호를 버퍼링하여 상기 데이터억세스용 리페어신호로 출력하고, 상기 테스트 모드신호가 제2 레벨에는 상기 리페어신호의 활성화여부에 관계없이 비활성화된 데이터 억세스용 리페어신호를 출력하는 테스트 제어수단When the test mode signal is at the first level, the repair signal is buffered and output as the repair signal for data access, and at the second level, the test mode signal is deactivated for the data access repair signal regardless of whether the repair signal is activated. Test control means to output 을 구비하는 반도체 메모리 장치.A semiconductor memory device having a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 테스트 제어수단은The test control means 상기 테스트 모드신호를 반전하여 출력하는 인버터; 및An inverter for inverting and outputting the test mode signal; And 상기 리페어 어드레스 비교수단에서 출력되는 리페어신호와 상기 인버터의 출력을 입력받아 상기 데이터 억세스용 리페어신호를 출력하는 낸드게이트를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.And a NAND gate configured to receive a repair signal output from the repair address comparison means and an output of the inverter, and output a repair signal for data access. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 리페어 어드레스 비교수단에서 출력되는 리페어신호를 반전하여 출력하는 제1 인버터;A first inverter for inverting and outputting a repair signal output from the repair address comparison means; 상기 인버터의 출력과 상기 테스트 모드신호를 입력받는 노어게이트; 및A nor gate receiving the output of the inverter and the test mode signal; And 상기 노어게이트의 출력을 반전하여 상기 데이터 억세스용 리페어신호를 출력하는 제2 인버터를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.And a second inverter for inverting the output of the NOR gate and outputting the repair signal for data access. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 리페어 어드레스 비교수단은 The repair address comparison means 상기 리페어 어드레스를 저장하기 위해 상기 리페어 공정시 선택적으로 블로잉되기 위한 다수의 퓨즈;A plurality of fuses for selectively blowing in the repair process to store the repair address; 각각의 게이트로 데이터 억세스를 위해 입력되는 어드레스를 입력받고 상기 퓨즈의 일측과 접지전원단사이에 각각 연결되는 다수의 제1 모스트랜지스터; 및 A plurality of first MOS transistors, each of which receives an address input for data access through each gate and is connected between one side of the fuse and a ground power terminal; And 게이트로 초기화신호를 입력받으며, 전원전압단과 상기 다수의 퓨즈의 타측을 공통으로 연결하는 제2 모스트랜지스터를 구비하며, 상기 퓨즈의 공통 타측단으로 상기 리페어신호를 출력하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.A semiconductor memory device comprising: receiving a initialization signal through a gate; and having a second MOS transistor for connecting a power supply voltage terminal and the other side of the plurality of fuses in common, and outputting the repair signal to a common other end of the fuse. . 각각 구비된 퓨즈의 블로잉여부에 의해 각각 트리밍신호를 활성화시켜 출력하는 단위 트리밍회로를 다수구비하는 트리밍회로; A trimming circuit having a plurality of unit trimming circuits for activating and outputting trimming signals, respectively, by blowing of each of the provided fuses; 상기 트리밍신호를 디코딩하여 구동전압의 레벨을 조정하기 위한 디코딩신호를 출력하는 디코더; 및 A decoder for decoding the trimming signal and outputting a decoding signal for adjusting a level of a driving voltage; And 상기 디코딩신호에 응답하여 레벨이 조정된 구동전압을 출력하는 전압제어부를 구비하며,A voltage control unit outputting a driving voltage whose level is adjusted in response to the decoding signal; 상기 단위 트리밍회로는The unit trimming circuit 일측이 전원전압단에 접속되고, 제어신호를 게이트로 입력받는 제1 모스트랜지스터; 상기 제1 모스트랜지스터의 타측에 연결된 일측단이 연결된 전압트리밍용 퓨즈; 게이트로 초기화신호를 입력받고, 상기 전압트리밍용 퓨즈의 타측과 접지전압단을 연결하는 제2 모스트랜지스터; 게이트로 테스트모드신호를 입력받는 인버터; 상기 인버터의 출력과 상기 퓨즈의 타측에 인가되는 신호를 입력받는 낸드게이트; 및 상기 낸드게이트의 출력을 반전하여 출력하는 인버터를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.A first MOS transistor having one side connected to a power supply voltage terminal and receiving a control signal as a gate; A voltage trimming fuse having one end connected to the other side of the first MOS transistor; A second MOS transistor configured to receive an initialization signal through a gate and connect the other side of the voltage trimming fuse to a ground voltage terminal; An inverter receiving a test mode signal through a gate; A NAND gate receiving a signal applied to the output of the inverter and the other side of the fuse; And an inverter for inverting and outputting the output of the NAND gate.
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