KR20050063708A - Method and apparatus for reducing soft errors - Google Patents

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Abstract

소프트 에러를 감소시키는 방법 및 장치가 개시되어 있다. 몇몇 실시예에서, 본 방법은 저장 회로(2) 내의 복수의 노드를 소정 상태로 할당하는 단계와, 저장 회로에 결합된 복수의 신호를 평가하여, 제 1 노드(Node_A)가 소정의 상태로부터 변경될 수 있게 하고, 제 2 노드(Node_B)가 교란에 대해 보다 민감해지게 하는 단계와, 소정 시간동안에 제 2 노드(Node_B)를 소정 상태로 유지하여, 소프트 에러에 대한 저장 회로의 민감성을 감소시키는 단계를 포함한다. A method and apparatus for reducing soft errors are disclosed. In some embodiments, the method includes allocating a plurality of nodes in the storage circuit 2 to a predetermined state, evaluating the plurality of signals coupled to the storage circuit so that the first node Node_A changes from the predetermined state. To make the second node Node_B more susceptible to disturbances, and to keep the second node Node_B in a predetermined state for a predetermined time, thereby reducing the sensitivity of the storage circuit to soft errors. Steps.

Description

소프트 에러 감소 방법 및 저장 회로{METHOD AND APPARATUS FOR REDUCING SOFT ERRORS} METHOD AND APPARATUS FOR REDUCING SOFT ERRORS}

전자 장치의 사용자 대부분은 글리치, 즉, 전자 장치를 파괴하지 않는 랜덤한 대이변이 아닌 사건에 익숙하다. "소프트 에러" 용어는 집적 회로와 같은 반도체 장치에서의 글리치를 지칭하며, 이는 반도체 장치에 포함된 데이터에 영향을 준다. 일반적으로, 소프트 에러는 이온 방사(예를 들어, 중성자, 알파 입자 및 전자기 방사)가 반도체 장치를 구성하는 반도체 화합물의 원자와 상호 작용할 때 발생될 수 있다. 특히, 이온 방사와 반도체의 상호 작용은 반도체 재료의 대전 입자를 발생시킨다. 이들 대전 입자를 일반적으로 전자-정공 쌍이라 한다. 전자-정공 쌍은 전자-정공 쌍의 주입에 특히 민감한 회로의 노드에 의해 수집될 수 있다. 예를 들어, 집적 회로 메모리 소자는 전자-정공 쌍의 주입으로 인해 1에서 0으로 또는 0에서 1로 변할 수 있다. 이온 방사는 방사성 재료 및/또는 우주 방사선(cosmic ray)으로부터 발생될 수 있다. 예를 들어, 고에너지의 우주 방사선과 태양 광선 입자는 지구의 초고층 대기와 반응하여 지구 표면에 쏟아지는 고에너지의 양성자를 발생시켜 반도체 장치에 영향을 준다. 소프트 에러의 다른 알려진 원인은 집적 회로의 패키지 재료 내에 존재하는 알파 입자, 즉, 방사성 동위 원소의 트레이스 양만큼 방출된 입자이다. 예를 들어, 플립-칩 패키징 기술은 알파 입자를 포함하고 있는 것으로 확인된 납 범프를 이용한다. 또한, 반도체 장치가 점점 소형으로 제조됨에 따라, 소프트 에러가 발생하는 현재의 속도는 받아들이기 어렵게 될 것이다. Most users of electronic devices are accustomed to glitches, that is, events that are not random cataclysm that does not destroy electronic devices. The term "soft error" refers to glitches in a semiconductor device such as an integrated circuit, which affects the data contained in the semiconductor device. In general, soft errors can occur when ion radiation (eg, neutrons, alpha particles, and electromagnetic radiation) interacts with the atoms of the semiconductor compounds that make up the semiconductor device. In particular, the interaction of ion emission with the semiconductor generates charged particles of the semiconductor material. These charged particles are generally referred to as electron-hole pairs. Electron-hole pairs can be collected by nodes in the circuit that are particularly sensitive to the injection of electron-hole pairs. For example, integrated circuit memory devices may vary from 1 to 0 or from 0 to 1 due to the injection of electron-hole pairs. Ion radiation can be generated from radioactive material and / or cosmic ray. For example, high-energy cosmic radiation and solar particles react with the Earth's ultra-high atmosphere to generate high-energy protons that pour on the Earth's surface, affecting semiconductor devices. Another known cause of soft error is alpha particles present in the package material of the integrated circuit, ie particles emitted by the trace amount of the radioisotope. For example, flip-chip packaging technology uses lead bumps that have been found to contain alpha particles. In addition, as semiconductor devices are increasingly made smaller, the current speed at which soft errors occur will become unacceptable.

소프트 에러를 감소시키는 방법 및 장치가 개시되어 있다. 몇몇 실시예에서, 본 방법은 저장 회로내의 복수의 노드를 소정 상태로 할당하는 단계와, 저장 회로에 결합된 복수의 신호를 평가하는 단계 - 복수의 신호를 평가함으로써, 제 1 노드를 소정의 상태로부터 변경시키고 제 2 노드가 섭동의 문제점을 해결할 수 있음 - 와, 제 2 노드를 소정의 시간동안 소정의 상태로 유지하는 단계 - 소정의 상태를 유지함으로써 소프트 에러에 대한 저장 회로의 민감성을 감소시킴 - 를 포함한다. A method and apparatus for reducing soft errors are disclosed. In some embodiments, the method includes allocating a plurality of nodes in a storage circuit to a predetermined state, and evaluating a plurality of signals coupled to the storage circuit-evaluating the plurality of signals, thereby bringing the first node into a predetermined state. Can be solved and the second node can solve the problem of perturbation-and keep the second node in a predetermined state for a predetermined time-thereby reducing the sensitivity of the storage circuit to soft errors by maintaining the predetermined state. Contains-

본 발명의 실시예에 대한 보다 상세한 설명을 위해서, 첨부한 도면을 참조한다.For a more detailed description of embodiments of the present invention, reference is made to the accompanying drawings.

특정의 용어는 다음의 상세한 설명 전반에 걸쳐 사용되며, 이는 특정의 시스템 구성 요소를 지칭한다. 당업자라면, 컴퓨터 회사들이 하나의 구성 요소를 상이한 명칭으로 부른다는 것을 알 것이다. 본 명세서는 명칭은 다르지만 기능은 다르지 않은 구성 요소들을 구분하지 않고자 한다. 다음의 상세한 설명과 청구 범위에서, 용어 "포함하는" 및 "구성하는"은 여러 해석이 가능한 방식으로 사용되며, 따라서, "포함하지만 제한되지 않는"의 의미로 해석되어야 한다. 또한, 용어 "결합"은 직접적인 또는 간접적인 전기 접속을 의미한다. 따라서, 제 1 장치가 제 2 장치에 결합되면, 그 접속은 직접적인 전기 접속을, 또는 다른 장치와 접속을 통한 간접적인 전기 접속일 수 있다. 용어 "충전 이벤트(charge event)"는 회로 내의 여러 노드를 교란하는 이온 방사(예를 들어, 중성자 또는 알파 입자)를 지칭한다. 용어 "액티브 풀업" 및 "액티브 풀 다운"은 계획적인 도전 경로를 이용하여 하이 전압값과 로우 전압값을 노드에 각각 직접 할당하는데 사용되는 기술을 지칭한다. 예를 들어, 트랜지스터를 턴 온하면, 계획적인 도전 경로를 Vdd 또는 그라운드에 제공함으로써 노드를 수동적인 것과 반대로 능동적으로 풀 업 또는 풀 다운하도록, 트랜지스터를 통해 노드를 Vdd 또는 그라운드에 결합할 것이다.Specific terms are used throughout the following description, which refers to specific system components. Those skilled in the art will appreciate that computer companies call one component under a different name. The specification is not intended to distinguish between components that differ in name but not function. In the following detailed description and claims, the terms "comprising" and "constituting" are used in a variety of ways possible, and therefore, are to be construed in a sense of "including but not limited to." The term "bond" also means a direct or indirect electrical connection. Thus, when the first device is coupled to the second device, the connection may be a direct electrical connection, or an indirect electrical connection via a connection with another device. The term “charge event” refers to ion emission (eg, neutron or alpha particles) that disturbs several nodes in a circuit. The terms “active pull up” and “active pull down” refer to techniques used to directly assign high and low voltage values to nodes, respectively, using deliberate conducting paths. For example, turning on a transistor will couple the node to V dd or ground through the transistor to actively pull up or pull down the node as opposed to passive by providing a deliberate conductive path to V dd or ground. .

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 회로 구성(2)을 도시한다. 회로 구성은 포지티브 전원 장치(Vdd)와 네가티브 전원 장치(Vss) 사이에서 동작한다. 몇몇 실시예에서, Vdd는 대략 2 볼트 미만의 전압이고, Vss는 대략 0의 전압이다. 반도체 업계의 경향은 보다 낮은 전압에서 동작하는 트랜지스터를 보다 소형으로 제조하는 것이다. 그러나, 동작 전압과 트랜지스터의 치수가 감소함에 따라, 이러한 트랜지스터를 이용하여 제조된 회로는 상술한 방사선의 나쁜 영향에 보다 민감해진다. 집적 회로를 구현함에 있어서, 방사선 효과에 대한 그들의 민감성을 감소시키는 기술이 필요하다.1 shows a circuit configuration 2 according to an embodiment of the present invention. The circuit configuration operates between the positive power supply V dd and the negative power supply V ss . In some embodiments, V dd is a voltage of less than approximately 2 volts, and V ss is a voltage of approximately zero. The trend in the semiconductor industry is to make transistors that operate at lower voltages smaller. However, as the operating voltage and the dimensions of the transistors decrease, circuits fabricated using such transistors become more sensitive to the adverse effects of radiation described above. In implementing integrated circuits, there is a need for techniques that reduce their sensitivity to radiation effects.

회로(2)는 데이터를 보유할 수 있는 메모리 구조를 나타낸다. 회로(2)는 상보형 출력 C_L 및 C_H를 포함한다. 회로(2)의 동작을 이해하기 위해서는, 라인(X)의 좌측 상의 장치가 라인(X)의 우측 상에 대칭의 대응하는 장치를 구비하는 경우에, 라인 X을 중심으로 한 대칭성을 관찰하는 것이 도움이 된다. 출력 C_L 및 C_H은 대칭의 인버터(4, 5)에 의해 제공되며, NODE_A 및 NODE_B는 이들 인버터에 입력을 추가로 제공한다. 이러한 방식으로 구성된 인버터(4, 5)를 이용하여, 출력 C_L 및 C_H는 NODE_A 및 NODE_B에 각각 존재하는 반대의 값들을 생성한다. (회로(2)의 동작을 설명하는 과정에서, 본 명세서는 NODE_A 및 NODE_B에 중점을 두고 있으며, 필요한 경우에 출력 C_L 및 C_H를 참조한다.) NODE_A 및 NODE_B는 2개의 개별적인 상태, 즉, Vdd 및 Vss에 도달한다. 테일 전류 트랜지스터(7)는 자신의 소스 접속부를 Vss에 결합시키고, 시스템의 모든 트랜지스터를 Vss에 접속한다. 트랜지스터(7)의 게이트 접속부는 이하에 보다 상세히 설명되는 클록 라인(CLK)에 결합된다. 설명된 바와 같이, 트랜지스터(7)는 N형의 상보형 금속 산화물 반도체("CMOS") 소자이다. 이러한 방식에서, 고전압, 즉, Vdd를 게이트에 인가하면, 트랜지스터(7)는 전류를 전도하거나 "ON" 상태로 된다. 유사하게, 트랜지스터(7)가 설명된 바와 같이 N형 CMOS 소자이면, 저 전압, 즉, Vss를 게이트에 인가함으로써, 트랜지스터는 전류를 전도하지 않는, 즉 "오프" 상태로 된다.Circuit 2 represents a memory structure capable of holding data. Circuit 2 includes complementary outputs C_L and C_H. In order to understand the operation of the circuit 2, in the case where the device on the left side of the line X has a corresponding device of symmetry on the right side of the line X, it is necessary to observe the symmetry around the line X. It helps. The outputs C_L and C_H are provided by symmetrical inverters 4, 5, and NODE_A and NODE_B provide further inputs to these inverters. Using inverters 4 and 5 configured in this way, outputs C_L and C_H produce the opposite values present in NODE_A and NODE_B, respectively. (In the course of describing the operation of the circuit 2, this specification focuses on NODE_A and NODE_B and refers to the outputs C_L and C_H where necessary.) NODE_A and NODE_B are two separate states, ie V dd. And V ss are reached. Tail current transistor (7) is coupled and their connection to source V ss, the transistor will be connected to all of the system to V ss. The gate connection of transistor 7 is coupled to clock line CLK, which is described in more detail below. As described, the transistor 7 is an N-type complementary metal oxide semiconductor ("CMOS") device. In this way, upon application of a high voltage, i.e., V dd to the gate, the transistor 7 is conductive the current or is in the "ON" state. Similarly, if transistor 7 is an N-type CMOS device as described, by applying a low voltage, i.e., V ss, to the gate, the transistor is not conducting current, i.

트랜지스터(7)의 드레인 접속부는 2개의 대칭적인 N형 CMOS 트랜지스터(13, 14)의 소스 접속부에 접속된다. 이러한 방식으로, 트랜지스터(13, 14)는 차동 입력 쌍을 형성하고, 그들의 게이트는 설명되는 상보형 신호 IN_H 및 IN_L에 결합된다. 예를 들어, Vdd가 트랜지스터(13)의 게이트에 인가되고, Vss가 트랜지스터(14)의 게이트에 인가되면, 트랜지스터(13)는 온 상태로 되고, 트랜지스터(14)는 오프 상태로 된다. 트랜지스터(13)가 온 상태로 되면, 다른 트랜지스터와, 그 트랜지스터에 결합된 회로 노드는 Vss의 전압을 얻을 수 있다.The drain connection of the transistor 7 is connected to the source connection of the two symmetrical N-type CMOS transistors 13 and 14. In this way, the transistors 13, 14 form a differential input pair and their gates are coupled to the complementary signals IN_H and IN_L described. For example, when V dd is applied to the gate of the transistor 13 and V ss is applied to the gate of the transistor 14, the transistor 13 is turned on and the transistor 14 is turned off. When the transistor 13 is turned on, another transistor and a circuit node coupled to the transistor can obtain a voltage of V ss .

도 1에 도시된 바와 같이, 트랜지스터(13)는 트랜지스터(17)를 통해 NODE_A에 결합되며, 트랜지스터(17)의 소스는 트랜지스터(13)에 결합되고, 트랜지스터(17)의 드레인은 NODE_A에 결합된다. (트랜지스터(17)는 N형 CMOS 소자로서 도시되어 있음을 알아야 한다.) 또한, 트랜지스터(17)의 게이트는 도시된 바와 같이 NODE_B에 결합된다. 따라서, NODE_B가 Vdd의 전압으로 설정되면, 트랜지스터(17)는 ON 상태에 있으며, NODE_A를 트랜지스터(13)에 결합한다. 유사하게, 트랜지스터(14)는 트랜지스터(21)(N형 CMOS 소자임)를 통해 NODE_B에 결합되며, 트랜지스터(21)의 소스는 트랜지스터(14)에 결합되며, 트랜지스터(21)의 드레인은 NODE_B에 결합된다. 도시된 바와 같이, 트랜지스터(21)의 게이트는 NODE_A에 결합되어 있다. 따라서, NODE_A가 Vdd의 전압으로 설정되면, 트랜지스터(21)는 ON 상태로 되고, NODE_B를 트랜지스터(14)에 결합한다. 트랜지스터(13, 17)와 트랜지스터(14, 21)가 이러한 방식으로 구성된 상태에서, NODE_A와 NODE_B는 Vss의 값을 얻을 수 있다. 예를 들어, IN_L이 Vdd이고, NODE_B가 Vdd이면, 트랜지스터(13, 17)는 ON 상태로 되며, CLK가 Vdd(즉, 이하에 설명되는 "평가" 상태)이다고 가정하면, 트랜지스터(17)의 드레인, 또는 NODE_A는 Vss로의 트랜지스터(17, 13, 7) 경로를 통해 VSS의 값을 얻는다. 또한, NODE_B는 이하에 설명되는 Vdd의 값을 얻는다. 대안으로, IN_H가 Vdd이며, NODE_A가 Vdd이며, CLK가 Vdd이면, 트랜지스터(21)의 드레인, 또는 NODE_B는 트랜지스터(21, 14, 7) 경로를 통해 Vss의 값을 얻으며, NODE_A는 이하에 설명되는 바와 같이 Vdd의 값을 얻는다.As shown in FIG. 1, transistor 13 is coupled to NODE_A through transistor 17, the source of transistor 17 is coupled to transistor 13, and the drain of transistor 17 is coupled to NODE_A. . (It should be noted that transistor 17 is shown as an N-type CMOS element.) Also, the gate of transistor 17 is coupled to NODE_B as shown. Thus, when NODE_B is set to a voltage of V dd , transistor 17 is in the ON state and couples NODE_A to transistor 13. Similarly, transistor 14 is coupled to NODE_B through transistor 21 (which is an N-type CMOS device), the source of transistor 21 is coupled to transistor 14, and the drain of transistor 21 is connected to NODE_B. Combined. As shown, the gate of transistor 21 is coupled to NODE_A. Therefore, when NODE_A is set to a voltage of V dd , the transistor 21 is turned ON and couples NODE_B to the transistor 14. With transistors 13 and 17 and 14 and 21 configured in this manner, NODE_A and NODE_B can obtain the value of V ss . For example, if IN_L is V dd and NODE_B is V dd , the transistors 13 and 17 are turned on, assuming that CLK is V dd (ie, the " evaluation " state described below). drain, or NODE_A of 17 obtains the value of the V sS to V ss through the transistors (17, 13, 7) path. NODE_B also obtains the value of V dd described below. Alternatively, if IN_H is V dd , NODE_A is V dd , and CLK is V dd , the drain of transistor 21, or NODE_B, obtains the value of V ss through the transistors 21, 14, 7 path, NODE_A Obtains the value of V dd as described below.

상술한 경로를 통해 Vss의 전압값을 얻는 것 이외에, 대안으로, NODE_A 및 NODE_B는 둘 다 N형 CMOS 소자인 "키퍼" 트랜지스터(18, 19)를 사용하여 Vss의 전압값을 달성할 수 있다. 트랜지스터(18, 19)는 그들이 다른 도전 경로를 제공함으로써 도달될 때 회로(2)가 자신의 값을 지속 또는 유지하는데 도움이 되기 때문에 "키퍼" 트랜지스터라고 한다. 예를 들어, 트랜지스터(19)가 ON 상태로 되도록 트랜지스터(19)의 게이트(출력 C_H)가 Vdd에 결합되면, 또한, CLK가 Vdd이면, 트랜지스터(19, 7)의 조합은 NODE_B에 결합되거나, 트랜지스터(19)의 드레인은 Vss에 결합된다. 유사하게, 트랜지스터(18)의 게이트 접속부(출력 C_L)가 Vdd에 결합되고 CLK가 Vdd이면, 트랜지스터(18, 7)는 Vss로의 NODE_A, 또는 트랜지스터(18)의 드레인의 경로를 제공한다.In addition to obtaining the voltage value of V ss through the path described above, alternatively, NODE_A and NODE_B can achieve the voltage value of V ss by using "keeper" transistors 18 and 19, both of which are N-type CMOS elements. have. Transistors 18 and 19 are referred to as " keeper " transistors because they help circuit 2 sustain or maintain its value when they are reached by providing different conductive paths. For example, if the gate (output C_H) of transistor 19 is coupled to V dd such that transistor 19 is ON, and if CLK is V dd , the combination of transistors 19 and 7 is coupled to NODE_B. Or the drain of transistor 19 is coupled to V ss . Similarly, when the gate connection (output C_L) of transistor 18 is coupled to V dd and CLK is V dd , transistors 18 and 7 provide a path of NODE_A to V ss , or the drain of transistor 18. .

Vss인 전압값을 획득하는 것에 추가로, NODE_A 및 NODE_B는 Vdd의 전압값을 또한 얻을 수 있다. 트랜지스터(20, 22, 30, 31)(P형 CMOS 소자로서 도시됨)는 NODE_B의 다중 경로를 제공하여 Vdd의 전압값을 획득하는 트랜지스터 그룹(28)을 포함한다. P형 소자는 N형 소자에 상보적인 방식으로 동작하고, 일반적으로 그들의 게이트 단자에 고 전압을 제공하면 P형 소자는 OFF 상태로 되며, 그들의 게이트 단자에 저 전압을 제공하면 P형 소자는 ON 상태로 된다. 그룹(28)과 유사하게, 트랜지스터(16, 23, 32, 33)(또한, P형 CMOS 소자로서 도시됨)는 NODE_A의 다중 경로를 제공하여 Vdd의 전압값을 얻게 되는 그룹(29)을 포함한다.In addition to obtaining a voltage value of V ss , NODE_A and NODE_B can also obtain a voltage value of V dd . Transistors 20, 22, 30, 31 (shown as P-type CMOS elements) include transistor group 28, which provides multiple paths of NODE_B to obtain a voltage value of V dd . P-type devices operate in a manner complementary to N-type devices, and in general, when a high voltage is provided to their gate terminals, the P-type devices are turned off; when a low voltage is provided to their gate terminals, the P-type devices are turned on It becomes Similar to group 28, transistors 16, 23, 32, 33 (also shown as P-type CMOS devices) provide group 29, which provides multiple paths of NODE_A to obtain a voltage value of V dd . Include.

그룹(28)을 참조하면, NODE_B는 트랜지스터(20, 22, 31)의 드레인 단자에 결합되고, Vdd는 트랜지스터(20, 22, 30)의 소스 단자에 결합된다. 트랜지스터(20)의 게이트가 저 전압, 즉, Vss이면, 트랜지스터(20)는 NODE_B의 경로를 제공하여 Vdd의 전압값을 얻게 된다. 트랜지스터(22)의 게이트가 클록 신호(CLK)(이하에 보다 상세히 설명)에 의해 제어되면, 트랜지스터(22)는 Vdd로의 NODE_B의 경로를 또한 제공한다. 예를 들어, CLK는 VSS(즉, 이하에 설명된 "프리차지" 위상)이면, NODE_B는 트랜지스터(22)를 통해 Vdd의 전압값을 얻는다. 트랜지스터(30, 31)와 관련하여, 트랜지스터(31)의 드레인은 NODE_B에 결합되고, 트랜지스터(31)의 소스는 트랜지스터(30)의 드레인에 결합되고, 트랜지스터(30)의 소스는 Vdd에 결합된다. 또한, 트랜지스터(31)의 게이트는 C_H에 결합되고, 트랜지스터(30)의 게이트는 IN_H에 결합된다. 이러한 방식으로, 트랜지스터(30, 31)는 NODE_B의 경로를 제공하여 Vdd의 전압값을 또한 얻게 된다(이하에서 설명되는 소프트 에러의 감소에 도움이 될 수 있음). 예를 들어, C_H(NODE_B의 반전)가 Vss이고, IN_H가 Vss이면, 트랜지스터(30, 31)는 NODE_B의 경로를 제공하여 Vdd의 전압값을 얻게 된다. 그룹(28)과 유사하게, 그룹(29)은 NODE_B에 유사한 기능을 제공하여 트랜지스터(16), 트랜지스터(23) 또는 트랜지스터(32, 33)의 조합을 통해 Vdd의 전압값을 얻게 된다. 따라서, NODE_A 및 NODE_B는 Vdd 및 Vss의 전압값을 얻게 되며, 결과적으로, 출력 C_H와 C_L은 Vdd 및 Vss의 전압값을 또한 얻게 될 것이다.Referring to group 28, NODE_B is coupled to the drain terminal of transistors 20, 22 and 31, and V dd is coupled to the source terminal of transistors 20, 22 and 30. If the gate of transistor 20 is at a low voltage, ie V ss , transistor 20 provides a path of NODE_B to obtain a voltage value of V dd . If the gate of transistor 22 is controlled by clock signal CLK (described in more detail below), transistor 22 also provides a path of NODE_B to V dd . For example, if CLK is V SS (ie, the "precharge" phase described below), NODE_B obtains the voltage value of V dd through transistor 22. With respect to transistors 30 and 31, the drain of transistor 31 is coupled to NODE_B, the source of transistor 31 is coupled to the drain of transistor 30, and the source of transistor 30 is coupled to V dd . do. In addition, the gate of transistor 31 is coupled to C_H, and the gate of transistor 30 is coupled to IN_H. In this way, the transistors 30 and 31 provide the path of NODE_B to obtain the voltage value of V dd as well (which can help reduce the soft error described below). For example, if C_H (inversion of NODE_B) is V ss and IN_H is V ss , the transistors 30 and 31 provide the path of NODE_B to obtain the voltage value of V dd . Similar to group 28, group 29 provides a similar function to NODE_B to obtain a voltage value of V dd through a combination of transistor 16, transistor 23, or transistors 32, 33. Thus, NODE_A and NODE_B will obtain voltage values of V dd and V ss , and as a result, outputs C_H and C_L will also obtain voltage values of V dd and V ss .

회로(2)는 C_H와 C_L의 상태를 유지할 수 있기 때문에, 회로(2)는 메모리 저장 구성 요소로서 사용될 수 있으며, 예를 들어, 회로(2)는 메모리 구성 요소 어레이를 포함하는 대용량 집적 회로의 일부일 것이다. 회로(2)는 2개의 개별적인 상태, 프리차지 위상과 평가 위상을 가지고 있다. 도 2는 여러 신호간의 관계를 도시하고 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 회로(2)의 CLK 노드는 프리차지 위상과 평가 위상의 영향을 받는다. 프리차지 위상은 회로(20에 데이터를 저장하기 전에 NODE_A와 NODE_B에 소정값을 할당하는 것과 관련되어 있다. 프리차지 위상 동안에, CLK는 Vss와 같은 저 전압이며, 결과적으로, 트랜지스터(7)는 OFF 상태이며, 트랜지스터(16, 22)는 ON 상태이다. NODE_A가 트랜지스터(16)의 드레인에 결합되어 있으며, Vdd가 트랜지스터(16)의 소스에 결합되어 있기 때문에, NODE_A는 도 2에 도시된 바와 같이 Vdd로 프리차지된다. 유사하게, NODE_B는 트랜지스터(22)의 접속으로 인해 Vdd로 프리차지된다. 이러한 방식으로, NODE_A 및 NODE_B는 회로(2)가 평가 위상에 있기 전에 Vdd의 전압값으로 할당될 수 있다. 트랜지스터(16) 단독으로 NODE_A를 Vdd로 프리차지할 수 있기 때문에, 또한 트랜지스터(22) 단독으로 NODE_B를 Vdd로 프리차지할 수 있기 때문에, 프리차지 위상 동안의 다른 신호(예를 들어, IN_H 및 IN_L)의 상태는 무의미하다는 것을 알아야 한다. 추가로, 트랜지스터(7)는 프리차지 위상 동안에 OFF 상태이기 때문에, NODE_A 및 NODE_B는 Vss와 접속하지 않으며, IN_H 및 IN_L의 전압 상태와는 무관하다.Since the circuit 2 can maintain the states of C_H and C_L, the circuit 2 can be used as a memory storage component, for example, the circuit 2 can be used for a large-capacity integrated circuit comprising an array of memory components. It will be part. The circuit 2 has two separate states, a precharge phase and an evaluation phase. 2 shows the relationship between the various signals. As shown in Fig. 2, the CLK node of the circuit 2 is affected by the precharge phase and the evaluation phase. The precharge phase is associated with assigning predetermined values to NODE_A and NODE_B before storing data in the circuit 20. During the precharge phase, CLK is a low voltage, such as V ss, and consequently, the transistor 7 OFF state, transistors 16 and 22 are ON state, since NODE_A is coupled to the drain of transistor 16 and V dd is coupled to the source of transistor 16, NODE_A is shown in FIG. Is precharged to V dd Similarly, NODE_B is precharged to V dd due to the connection of transistor 22. In this way, NODE_A and NODE_B are taken of V dd before circuit 2 is in the evaluation phase. Can be assigned a voltage value, because the transistor 16 alone can precharge NODE_A to V dd, and since the transistor 22 alone can precharge NODE_B to V dd , another signal during the precharge phase. (example For example, it should be noted that the states of IN_H and IN_L are meaningless In addition, since transistor 7 is OFF during the precharge phase, NODE_A and NODE_B are not connected to V ss , and the voltage states of IN_H and IN_L Is irrelevant.

도 2를 참조하면, CLK의 평가 위상은 회로(2)에 있어서 소망의 저장 값을 설정하는 것과 관련되어 있으며, 평가 위상동안에 저장 노드를 셋 업하는 것과 관련되어 있다. 평가 위상 동안에, CLK는 하이 상태이며, IN_H가 평가 위상 동안에 하이 상태이면, 트랜지스터(14)는 ON 상태로 된다. NODE_A가 하이 상태이기 때문에, 트랜지스터(21)는 ON 상태이다. 또한, CLK가 평가 위상에서 하이 상태이면, 트랜지스터(7) 역시 ON 상태이며, NODE_B(즉, 트랜지스터(21)의 드레인 단자)는 도 2에 도시된 바와 같이, 트랜지스터(7, 14, 21)의 조합을 통해 Vss의 전압값을 얻게 된다. NODE_B가 로우 상태일 때, C_H가 하이 상태로 되고, 키퍼 트랜지스터(19)가 턴 온되어, NODE_B의 평행 경로를 형성하여 Vss의 전압값을 얻게 된다는 것을 알아야 한다. 추가로, NODE_B가 Vss의 전압값을 얻을 때, 트랜지스터(23)는 턴 온 되어 Vdd에서 NODE_A의 프리차지 상태를 유지한다. 회로(2)가 이러한 방식으로 구성되면, IN_H 또는 IN_L의 후속 변화는, 회로(2)가 도시된 바와 같이 다시 프리차지될 때까지, NODE_A 또는 NODE_B의 값에 영향을 주지 않을 것이다.Referring to FIG. 2, the evaluation phase of CLK is related to setting a desired storage value in circuit 2 and to setting up a storage node during the evaluation phase. During the evaluation phase, CLK is high and if IN_H is high during the evaluation phase, transistor 14 is turned on. Since NODE_A is high, the transistor 21 is in an ON state. In addition, when CLK is high in the evaluation phase, transistor 7 is also in an ON state, and NODE_B (i.e., the drain terminal of transistor 21) is turned off of transistors 7, 14, and 21, as shown in FIG. The combination results in a voltage value of V ss . It should be noted that when NODE_B is low, C_H is high and the keeper transistor 19 is turned on, forming a parallel path of NODE_B to obtain a voltage value of V ss . In addition, when NODE_B obtains the voltage value of V ss , the transistor 23 is turned on to maintain the precharge state of NODE_A at V dd . If circuit 2 is configured in this manner, subsequent changes of IN_H or IN_L will not affect the value of NODE_A or NODE_B until circuit 2 is again precharged as shown.

충전 이벤트 동안에, 회로(2) 내의 여러 노드의 디지털 상태는 교란될 수 있다. 회로(2)의 각각의 노드가 전체적인 동작에 영향을 주지만, 몇몇 노드는 전체적인 상태에 큰 영향을 줄 수 있다. 예를 들어, NODE_A 및 NODE_B가 인버터(4, 5)를 통해 출력 C_H 및 C_L에 결합되어 있기 때문에, NODE_A 또는 NODE_B의 디지털 상태를 교란하는 것은 회로(2)의 출력에 직접적으로 영향을 미칠 수 있다. 따라서, NODE_A 및 NODE_B는 민감성 회로(2)가 얼마나 소프트 에러 상태에 있는지에 따라서 큰 영향을 준다. During the charging event, the digital states of the various nodes in the circuit 2 can be disturbed. Although each node of the circuit 2 affects the overall operation, some nodes can greatly affect the overall state. For example, since NODE_A and NODE_B are coupled to outputs C_H and C_L through inverters 4 and 5, disturbing the digital state of NODE_A or NODE_B can directly affect the output of circuit 2. . Thus, NODE_A and NODE_B have a great influence depending on how soft error state the sensitive circuit 2 is in.

임계 전하 Qcritical 는 노드의 디지털 상태를 와전시키기 위해 충전 이벤트 동안에 주입될 필요가 있는 전하의 한계량이다. 특정 노드에 주입된 전하의 양이 노드의 임계 전하(Qcritical)를 초과하면, 노드는 디지털 상태를 변경한다. 회로(2)에서, NODE_A 및 NODE_B 상에서 그들의 프리차지 상태를 와전시키는데 필요한 전하량은 CLK가 위상을 변경함에 따라 변한다. (다음의 예는 NODE_A와 연관되어 있지만, 동일한 원리가 NODE_B에 적용된다는 것을 알아야 한다.) 예를 들어, CLK가 프리차지 위상에서 평가 위상으로 위상을 변경하고 있는 동안에, NODE_A는 프리차지 값에서 최종값으로 변경하고, NODE_A의 디지털 상태를 변경하는데 필요한 임계 전하(Qcritical)는 감소한다. 그러나, NODE_A의 값이 NODE_A의 디지털 상태를 변경하는데 필요한 임계 전하량(Qcritical)은 증가한다. 실질적으로, NODE_A는 평가 위상의 개시부에서 이온 방사선에 보다 민감해질 것이다.Threshold charge Q critical is the threshold amount of charge that needs to be injected during a charge event to energize the digital state of the node. If the amount of charge injected into a particular node exceeds the node's critical charge Q critical , the node changes the digital state. In circuit 2, the amount of charge required to energize their precharge state on NODE_A and NODE_B changes as CLK changes phase. (The following example is related to NODE_A, but note that the same principle applies to NODE_B.) For example, while CLK is changing the phase from precharge phase to evaluation phase, NODE_A is final in the precharge value. To change the value, the critical charge (Q critical ) required to change the digital state of NODE_A is reduced. However, the amount of critical charge Q critical required for the value of NODE_A to change the digital state of NODE_A increases. In practice, NODE_A will be more sensitive to ion radiation at the beginning of the evaluation phase.

회로(2)와 같은 본 발명의 실시예는 소프트 에러의 발생을 감소시키는데 도움이 된다. 예를 들어, 도 1을 다시 참조하면, 트랜지스터(32, 33)는 NODE_B가 변경 상태에 있는 동안에 NODE_A가 Vdd의 프리차지 값을 유지하는 경로를 제공한다. 회로(2)에 도시된 바와 같이, 트랜지스터(32)의 게이트는 IN_L에 결합되어 있으며, 트랜지스터(33)의 게이트는 NODE_A의 반전인 출력 C_L에 결합되어 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, NODE_B가 변경 상태에 있을 때, IN_L의 값은 로우 상태로 되고, 트랜지스터(32)는 ON 상태로 된다. 유사하게, NODE_A가 Vdd로 프리차지되었기 때문에, 출력 C_L는 로우 상태이며, 트랜지스터(33)는 ON 상태이다. 이러한 방식으로, NODE_B가 변경 상태에 있는 동안에, NODE_A(트랜지스터(30)의 드레인에 결합됨)는 트랜지스터(32, 33)의 조합에 의해 Vdd로 유지된다. 따라서, NODE_A가 Vdd의 프리차지 레벨에서 유지되고, NODE_B가 로우 상태로 되고 변경 상태에 있기 때문에 평가 위상의 개시부에서 발생할 수 있는 소프트 에러의 회수가 감소될 수 있다. 트랜지스터(32, 33)에 의해 제공되는 대체 경로 없이, NODE_A는 이온 방사선에 의한 혼란 상태(upset)에 보다 민감하게 될 것이다.Embodiments of the invention, such as circuit 2, help to reduce the occurrence of soft errors. For example, referring back to FIG. 1, transistors 32 and 33 provide a path for NODE_A to maintain a precharge value of V dd while NODE_B is in a changed state. As shown in circuit 2, the gate of transistor 32 is coupled to IN_L, and the gate of transistor 33 is coupled to output C_L, which is the inversion of NODE_A. As shown in Fig. 2, when NODE_B is in the changed state, the value of IN_L goes low and the transistor 32 is turned on. Similarly, since NODE_A is precharged to V dd , output C_L is low and transistor 33 is on. In this way, while NODE_B is in the change state, NODE_A (coupled to the drain of transistor 30) is held at V dd by the combination of transistors 32, 33. Thus, the number of soft errors that may occur at the beginning of the evaluation phase can be reduced because NODE_A is maintained at the precharge level of V dd and NODE_B is low and in the changed state. Without alternative paths provided by transistors 32 and 33, NODE_A will be more sensitive to upsets by ion radiation.

유사하게, NODE_A가 변경 상태에 있으면서 능동적으로 로우 상태가 되는 노드이면, NODE_B는 충전 이벤트의 결과에 따라 변경 상태에 보다 민감하게 되며, 트랜지스터(30, 31)는 트랜지스터(32, 33)와 유사한 기능을 제공한다. 즉, NODE_B는 Vdd의 프리차지 레벨로 유지되고, NODE_A는 변경 상태에 있다. NODE_A와 NODE_B의 프리차지 위상을 능동적으로 유지하는 것에 추가로, 트랜지스터(30, 31, 32, 33)소프트 에러의 회수를 감소시키는데 도움이 되는 다른 특징을 제공한다. 예를 들어, 트랜지스터(33)의 게이트는 추가적인 커패시턴스를 부가하는 출력 C_L에 결합되어, 출력 C_L가 최종값을 얻게 되는 속도를 지연시킨다. 따라서, 출력 C_L에 결합된 트랜지스터(18)는 턴 온될 때 지연되고, 결과적으로, NODE_A(트랜지스터(18)의 드레인에 결합됨)는 주입된 전하에 대해 지연의 반응을 나타낸다. 이러한 지연 반응은 다른 방식으로 달성된다. 추가적인 인버터가 인버터(4, 5)의 전후에 부가될 수 있으며, 여기서, 출력 C_L 및 C_H는 최종 인버터의 최종 출력을 나타내며, C_H와 C_L가 그들의 최종값을 얻는 속도가 지연될 수 있다. CLK가 프리차지 위상에서 평가 위상으로 진행할 때 소프트 에러에 대한 민감도가 최상으로 되고, 이러한 에지에 대한 지연이 회로를 "무감각"(즉, 이온 방사선에 의해 발생되는 혼란 상태에 대한 민감도를 저하)하게 하기 때문에, NODE_A에 있어서 트랜지스터(18)를 통한 Vss의 다른 경로와 NODE_B에 있어서 트랜지스터(19)를 통한 Vss로의 다른 경로를 지연시키면, 소프트 에러 속도를 보다 낮게 할 것이다.Similarly, if NODE_A is a node that is in the change state and actively goes low, NODE_B becomes more sensitive to the change state as a result of the charge event, and transistors 30 and 31 have similar functions to transistors 32 and 33. To provide. That is, NODE_B is held at the precharge level of V dd, NODE_A is changing states. In addition to actively maintaining the precharge phases of NODE_A and NODE_B, transistors 30, 31, 32, 33 provide other features that help reduce the number of soft errors. For example, the gate of transistor 33 is coupled to output C_L, which adds additional capacitance, delaying the rate at which output C_L gets its final value. Thus, transistor 18 coupled to output C_L is delayed when turned on, and as a result, NODE_A (coupled to the drain of transistor 18) exhibits a response of the delay to the injected charge. This delayed response is achieved in other ways. Additional inverters can be added before and after inverters 4 and 5, where outputs C_L and C_H represent the final outputs of the final inverter, and the speed at which C_H and C_L obtain their final values can be delayed. The sensitivity to soft errors is best when CLK proceeds from the precharge phase to the evaluation phase, and the delay to these edges makes the circuit "insensitive" (i.e., less sensitive to chaotic conditions caused by ion radiation). Therefore, delaying the other path of V ss through the transistor 18 in NODE_A and the other path to V ss through the transistor 19 in NODE_B will lower the soft error rate.

회로(2)와 유사한 저장형 회로는 단일의 집적 회로 상에 여러회 복제될 수 있다. 따라서, 회로(2) 내의 개별적인 트랜지스터는 공간을 보존하기 위해서 가능한 한 소형으로 유지된다. 이러한 방식으로, 트랜지스터(30, 31, 32, 33)의 크기는 소프트 에러 속도의 소망 레벨의 감소를 위해서 최적화될 수 있다. 예를 들어, 소프트 에러의 회수는 프로세스에 의해 인에이블되는 최소 크기보다 큰 트랜지스터(30, 31, 32, 33)를 제조함으로써 감소될 수 있다. 따라서, 회로 설계자는 회로 영역을 증가시키는 것과 소프트 에러 속도를 감소시키는 것 사이에서, 또는 회로 영역을 감소시키는 것과 소프트 에러 속도를 증가시키는 것 사이에서 선택할 수 있다. Storage circuits similar to circuit 2 may be duplicated multiple times on a single integrated circuit. Thus, the individual transistors in the circuit 2 are kept as small as possible to conserve space. In this way, the size of transistors 30, 31, 32, 33 can be optimized for reducing the desired level of soft error rate. For example, the number of soft errors can be reduced by making transistors 30, 31, 32, 33 larger than the minimum size enabled by the process. Thus, the circuit designer may choose between increasing the circuit area and reducing the soft error rate, or between reducing the circuit area and increasing the soft error rate.

본 명세서에 기재된 저장 회로와, 소프트 에러 속도를 감소시키는 방법은 컴퓨터 시스템에 사용될 수 있다. 도 3은 예시적인 컴퓨터 시스템(100)을 도시한다. 도 3의 컴퓨터 시스템은 CPU 버스를 통해 브리지 로직 소자(106)에 결합된 CPU(102)를 포함한다. 브리지 로직 소자(106)는 "노스 브리지(North bridge)"라고도 한다. 노스 브리지(106)는 메모리 버스에 의해 메인 메모리 어레이(104)에 결합되고, 고도의 그래픽 프로세서("AGP")를 통해 그래픽 컨트롤러(108)에 또한 결합될 수 있다. 노스 브리지(106)는 예를 들어, 주변 구성 요소 상호 접속부("PCI") 버스 또는 확장형 산업 표준 아키텍쳐("EISA") 버스와 같은 1차 확장 버스("BUS A")를 통해 시스템내의 다른 주변 장치에 CPU(102), 메모리(104) 및 그래픽 컨트롤러(108)를 접속한다. BUS A의 버스 프로토콜을 이용하여 동작하는 여러 구성 요소는 오디오 장치(114), IEEE 1394 인터페이스 장치(116) 및 네트워크 인터페이스 카드("NIC")(118)와 같이, 이러한 버스 상에 상주할 수 있다. 이들 구성 요소는 도 3에 제시된 바와 같이, 마더보드 상에 집적될 수 있거나, BUS A에 접속된 확장 슬롯(110)에 플러그될 수 있다. The storage circuits described herein and methods for reducing the soft error rate can be used in computer systems. 3 illustrates an example computer system 100. The computer system of FIG. 3 includes a CPU 102 coupled to a bridge logic element 106 via a CPU bus. Bridge logic element 106 is also referred to as a "North bridge". The north bridge 106 is coupled to the main memory array 104 by a memory bus and may also be coupled to the graphics controller 108 via a high graphics processor (“AGP”). The north bridge 106 may be connected to other peripherals in the system via a primary expansion bus (“BUS A”), such as, for example, a peripheral component interconnect (“PCI”) bus or an extended industry standard architecture (“EISA”) bus. The CPU 102, the memory 104, and the graphics controller 108 are connected to the device. Various components operating using the bus protocol of BUS A may reside on this bus, such as the audio device 114, the IEEE 1394 interface device 116, and the network interface card (“NIC”) 118. . These components may be integrated on the motherboard, as shown in FIG. 3, or may be plugged into an expansion slot 110 connected to BUS A.

다른 2차 확장 버스가 컴퓨터 시스템에 제공되면, 다른 브리지 로직 소자(112)는 1차 확장 버스("BUS A")를 2차 확장 버스("BUS B")에 전기적으로 접속하는데 사용될 수 있다. 이러한 브리지 로직(112)은 "사우스 브리지(South bridge)")라고도 한다. BUS B의 버스 프로토콜을 이용하여 동작하는 여러 구성 요소는, 하드 디스크 컨트롤러(112), 시스템 판독 전용 메모리("ROM")(124) 및 슈퍼 입력-출력("I/O") 컨트롤러(126)와 같이, 이러한 버스 상에 상주할 수 있다. 슬롯(120)은 BUS B의 프로토콜에 따르는 플러그 인(plug-in) 구성 요소용으로 또한 제공될 수 있다. 컴퓨터 시스템(100)의 구성 요소는 본 명세서에 기재된 저장 회로를 구현할 수 있다. 예를 들어, 메인 메모리 어레이(104)는 소프트 에러 속도를 감소시키는 회로(2)와 유사한 저장 회로를 포함할 수 있다. 이러한 방식으로, 시스템의 글리치의 회수가 최소로 유지된다. If another secondary expansion bus is provided to the computer system, another bridge logic element 112 may be used to electrically connect the primary expansion bus ("BUS A") to the secondary expansion bus ("BUS B"). This bridge logic 112 is also referred to as the "South bridge". Several components operating using the bus protocol of BUS B include a hard disk controller 112, a system read only memory (“ROM”) 124, and a super input-output (“I / O”) controller 126. As such, it may reside on such a bus. Slot 120 may also be provided for a plug-in component that conforms to the protocol of BUS B. Components of computer system 100 may implement the storage circuits described herein. For example, main memory array 104 may include a storage circuit similar to circuit 2 for reducing the soft error rate. In this way, the recovery of glitches in the system is kept to a minimum.

상술한 명세서가 충분히 이해되면, 당업자라면 여러 수정 및 변경이 이루어질 수 있음을 알 것이다. 예를 들어, NODE_B가 변경 상태에 있는 동안에 NODE_A의 프리차지 값을 유지하는 다른 방법(또는 NODE_A가 변경 상태에 있는 동안에 NODE_B를 유지하는 다른 방법)이 구현될 수 있다. 또한, 네가티브 로직을 이용하여 동일 기능을 달성할 수 있도록, 예를 들어, 로우 값인 CLK 동안에 평가 위상이 이루어질 수 있도록, 본 명세서에 기재된 전압 레벨은 임의적이다. Once the above-described specification is fully understood, those skilled in the art will recognize that various modifications and changes can be made. For example, other ways of maintaining the precharge value of NODE_A while NODE_B is in a change state (or other method of maintaining NODE_B while NODE_A is in change state) may be implemented. In addition, the voltage levels described herein are arbitrary so that the same functionality can be achieved using negative logic, such that the evaluation phase can be made during the low value CLK, for example.

본 발명에 따르면, 소프트 에러를 감소시킬 수 있다.According to the present invention, the soft error can be reduced.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 회로 구성을 도시하는 도면, 1 is a diagram showing a circuit configuration according to an embodiment of the present invention;

도 2는 여러 노드에 대한 예시적인 타이밍도, 2 is an exemplary timing diagram for several nodes;

도 3은 예시적인 컴퓨터 시스템. 3 is an exemplary computer system.

도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for the main parts of the drawings

100 : 컴퓨터 시스템 102 : CPU100: computer system 102: CPU

104 : 메모리 106 : 노스 브리지104: memory 106: North Bridge

108 : 그래픽 컨트롤러 110 : 슬롯108: graphics controller 110: slot

112 : 사우스 브리지 114 : 오디오112: South Bridge 114: Audio

122 : 하드 디스크 124 : ROM122: hard disk 124: ROM

126 : 슈퍼 I/O 126: Super I / O

Claims (10)

저장 회로(2) 내의 복수의 노드를 소정 상태로 할당하는 단계와, Allocating a plurality of nodes in the storage circuit 2 to a predetermined state; 상기 저장 회로에 결합된 복수의 신호를 평가하여, 제 1 노드(Node_A)가 소정의 상태로부터 변경될 수 있게 하고, 제 2 노드(Node_B)가 교란에 대해 보다 민감해지게 하는 단계와, Evaluating a plurality of signals coupled to the storage circuit to allow the first node Node_A to change from a predetermined state and to make the second node Node_B more sensitive to disturbances; 소정 시간동안에 상기 제 2 노드(Node_B)를 소정 상태로 유지하여, 소프트 에러에 대한 상기 저장 회로의 민감성을 감소시키는 단계 Maintaining the second node Node_B for a predetermined time to reduce the sensitivity of the storage circuit to soft errors. 를 포함하는 방법. How to include. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 프리차지 위상 동안에 상기 복수의 신호 내의 클록 신호(CLK)를 디스에이블 상태로 하는 단계를 더 포함하는 방법. Disabling a clock signal (CLK) in the plurality of signals during a precharge phase. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 클록 신호(CLK)의 상기 프리차지 위상 동안에 상기 복수의 신호 내의 입력 신호를 구성하는 단계를 더 포함하는 방법. Constructing input signals in the plurality of signals during the precharge phase of the clock signal (CLK). 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 평가 위상 동안에 클록 신호(CLK)를 인에이블 상태로 하는 단계를 더 포함하는 방법. Enabling the clock signal CLK during the evaluation phase. 제 4 항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 소정의 시간을 상기 클록 신호(CLK)의 상기 평가 위상의 개시에 연관시키는 단계를 더 포함하는 방법. Correlating the predetermined time to the start of the evaluation phase of the clock signal (CLK). 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 복수의 인버터(4, 5)를 이용하여 상기 제 1 노드와 제 2 노드간의 신호 전파를 지연시키는 단계를 더 포함하는 방법. Delaying signal propagation between the first and second nodes using a plurality of inverters (4, 5). 저장 회로(2)에 있어서, In the storage circuit 2, 서로 결합된 제 1 노드(Node_A)와 제 2 노드(Node_B)를 포함하는 복수의 노드와, A plurality of nodes including a first node Node_A and a second node Node_B coupled to each other, 상기 저장 회로에 결합되어, 제 1 노드(Node_A)가 소정 상태로부터 변경될 수 있게 하는 복수의 신호와, A plurality of signals coupled to the storage circuitry to allow the first node Node_A to change from a predetermined state; 상기 제 2 노드에 결합되어, 소정 시간 동안에 상기 제 2 노드를 소정의 상태로 유지하는 회로 구성 요소(20)A circuit component 20 coupled to the second node to hold the second node in a predetermined state for a predetermined time 를 포함하는 저장 회로. Storage circuit comprising a. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 회로 구성 요소는 금속 산화물 반도체 전계 효과 트랜지스터("MOSFET")를 포함하며, 상기 트랜지스터의 크기는 변경되어, 상기 제 2 노드(Node_B)가 상기 소정 상태로 유지되는 시간 주기를 변경하는 저장 회로. The circuit component includes a metal oxide semiconductor field effect transistor (" MOSFET "), wherein the size of the transistor is changed to change a time period during which the second node Node_B remains in the predetermined state. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 적어도 하나의 인버터(4, 5)는 상기 제 1 노드(Node_A)와 상기 제 2 노드(Node_B) 사이에 결합되는 저장 회로. At least one inverter (4, 5) is coupled between the first node (Node_A) and the second node (Node_B). 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 타이밍 신호는 프리차지 위상과 평가 위상을 포함하며, 상기 노드들은 상기 프리차지 위상 동안에 하이 상태로 설정되고, 상기 노드들은 상기 평가 위상 동안에 최종 상태로 설정되는 저장 회로.The timing signal comprises a precharge phase and an evaluation phase, wherein the nodes are set to a high state during the precharge phase and the nodes are set to a final state during the evaluation phase.
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