KR20050045607A - 전자 빔 조사 장치 및 그 운용 방법 - Google Patents

전자 빔 조사 장치 및 그 운용 방법 Download PDF

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엘지.필립스 엘시디 주식회사
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Abstract

본 발명은 전자빔을 이용하여 배향막을 형성하는 전자 빔 조사 장치 및 그 운용 방법에 관한 것이다.
본 발명은 전자 빔 소스로부터 인출된 전자 빔이 배향막이 도포된 기판 상에 균일한 에너지로 조사될 수 있도록 하기 위해서 전자 빔 소스를 소정의 각도로 기울여서 기판에 전자 빔을 조사하고, 기판을 이송 및 회전 시킴으로써 상기 전자 빔이 기판의 어느 부분에서나 동일하게 작용하도록 함으로써 액정 배향의 균일성을 향상시킨다.
또한, 배향 장비에 다수의 전자 빔 조사 장치를 배치하여 배향 처리함으로써 생산성을 향상시키는 효과가 있다.

Description

전자 빔 조사 장치 및 그 운용 방법{a electron beam irradiation device and the operating method thereof}
본 발명은 전자빔을 이용하여 배향막을 형성하는 전자 빔 조사 장치 및 그 운용 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 화상 정보를 화면에 나타내는 디스플레이 장치들 중에서 브라운관 표시 장치(혹은 CRT:Cathode Ray Tube)가 지금까지 가장 많이 사용되어 왔는데, 이것은 표시 면적에 비해 부피가 크고 무겁기 때문에 사용하는데 많은 불편함이 따랐다.
그리고, 오늘날에는 전자산업의 발달과 함께 TV 브라운관 등에 제한적으로 사용되었던 디스플레이 장치가 개인용 컴퓨터, 노트북, 무선 단말기, 자동차 계기판, 전광판 등에 까지 확대 사용되고, 정보통신 기술의 발달과 함께 대용량의 화상정보를 전송할 수 있게 됨에 따라 이를 처리하여 구현할 수 있는 차세대 디스플레이 장치의 중요성이 커지고 있다.
이와 같은 차세대 디스플레이 장치는 경박단소, 고휘도, 대화면, 저전력 소모 및 저가격화를 실현할 수 있어야 하는데, 그 중 하나로 최근에 액정 표시 장치가 주목을 받고 있다.
상기 액정 표시 장치(LCD:Liquid Crystal Display Device)는 표시 해상도가 다른 평판 표시 장치보다 뛰어나고, 동화상을 구현할 때 그 품질이 브라운관에 비할 만큼 반응 속도가 빠른 특성을 나타내고 있다.
알려진 바와 같이, 액정 표시 장치의 구동 원리는 액정의 광학적 이방성과 분극 성질을 이용한 것이다.
액정 분자는 구조가 가늘고 길기 때문에 분자 배열에 방향성과 분극성을 가지고 있으며, 상기 액정 분자들에 인위적으로 전자기장을 인가하여 분자 배열 방향을 조절할 수 있다.
따라서, 배향 방향을 임의로 조절하면 액정의 광학적 이방성에 의하여 액정 분자의 배열 방향에 따라 빛을 투과 혹은 차단시킬 수 있게 되어, 이에 따라 달라지는 빛의 투과율에 의해 색상 및 영상을 표시할 수 있게 된다.
액정 표시 장치에서 액정 분자의 초기 배열 방향을 결정하기 위한 배향막 형성 과정에 대해서 좀 더 상세히 설명한다.
먼저, 배향막의 형성은 고분자 박막을 도포하고 배향막을 일정한 방향으로 배열시키는 공정으로 이루어진다.
상기 배향막에는 일반적으로 폴리이미드 계열의 유기 물질이 주로 사용되고, 상기 배향막을 배열시키는 방법으로는 주로 러빙(rubbing) 방법이 많이 이용되고 있다.
상기 러빙 방법은 먼저 기판 위에 폴리미이드 계열의 유기물질을 도포하고, 60 ~ 80℃ 정도의 온도에서 용제를 날리고 정렬시킨 후, 80 ~ 200℃ 정도의 온도에서 경화시켜 폴리미이드 배향막을 형성한 후, 벨벳(velvet) 등을 감은 러빙포를 이용하여 상기 배향막을 일정한 방향으로 문질러 줌으로써 다양한 배향 패턴을 형성시키는 방법이다.
이와 같은 러빙에 의한 방법은 배향 처리가 용이하여 대량 생산에 적합하고, 배향이 안정되며 프리 틸트각(pretilt angle)의 제어가 용이한 장점이 있다.
그러나, 상기와 같은 러빙 방법은 배향막과 러빙포의 직접적인 접촉을 통해 이루어지므로 먼지(particle) 발생에 의한 셀(cell)의 오염, 정전기 발생에 의하여 미리 기판에 설치된 TFT 소자의 파괴, 러빙 후의 추가적인 세정 공정의 필요, 대면적 적용시의 배향의 비균일성(non-uniformity) 등과 같은 여러 가지 문제점이 발생하게 되어 액정 표시 장치의 제조시 수율을 떨어뜨리는 문제점이 있다.
이와같은 러빙 방법의 문제점을 개선하기 위하여 기계적인 러빙 방법을 이용하지 않는 여러 가지 넌러빙(non-rubbing) 배향 기술이 제안되고 있다.
이러한 배향 기술로는 랭뮤어-브로짓 필름(Langmuir-Blodgett film ; LB film)을 이용하는 방법, UV 조사를 이용한 광 배향법, SiO2의 사방 증착을 이용한 방법, 포토리소그래피(photolithography)로 형성된 마이크로 그루브(micro-groove)를 이용하는 방법, 그리고 전자 빔(electron beam) 조사를 이용하는 방법 등이 있다.
이 중에서 전자 빔을 이용하여 배향하는 방법은 기계적인 러빙 방법에 의한 문제점을 해결할 뿐 아니라, 종래의 배향 재료를 그대로 이용하는 것이 가능하다.
도 1은 종래 배향막을 형성하기 위한 전자 빔 조사 장치의 개략적인 구성을 보여주는 도면이다.
상기 전자 빔 조사 장치는 필라멘트(filament, 101)와 애노드(anode, 102)와 전자 빔 가속 매질(105)을 포함하는 전자 빔 소스(Ion beam source, 100)와, 상기 전자 빔 소스(100)로부터 발생되는 전자 빔(110)이 기판(120)까지 직진하여 조사될 수 있도록 하는 진공 용기(104)와, 상기 진공 용기(104) 내에서 기판(120)이 일정한 각도를 유지할 수 있도록 고정하는 홀더(121)와 배향막(111)을 형성하고 있는 기판(120)을 고정하는 스테이지(stage, 123)를 포함하여 이루어진다.
상기 전자 빔 소스(100)에서는 전자를 발생시키고 전자 빔(110)을 생성하는데, 필라멘트(101)와 애노드(102)의 전압 차에 의해서 전류가 흐르는 필라멘트(101)로부터 전자가 방출되어 전자 빔 가속 매질(105)에 걸리는 전계의 작용으로 가속화되어 기판(120) 상에 일정 각도를 가지고 조사되게 된다.
여기서, 상기 기판(120)은 조사되는 전자 빔(110)에 대해서 소정의 각도로 기울어지게 되는데, 이로써 상기 전자 빔(110)을 이용하여 기판(120) 상에 도포된 배향막(111)에 원하는 배향 패턴을 형성할 수 있으며 액정 분자의 초기 배열 상태 즉, 프리틸트(pretilt)를 형성할 수 있다.
이 때, 상기 기판(120) 상에는 폴리이미드(polyimide)와 같은 유기물질의 배향막(111)이 도포되어 있다.
그러나, 상기 기판(120)을 소정의 각도로 기울이게 되면 전자 빔 소스(100)로부터 기판(120)에 다다르는 거리가 상측과 하측에 있어서 일정하지 않으므로, 거리에 따라 기판 표면에서 전자 빔의 효과가 틀려지게 된다.
또한, 상기 전자 빔 소스(100)로부터 인출되어 나온 전자 빔은 전자 간의 충돌 또는 상호 작용과 입자의 확산 현상으로 인하여 그 직진성을 유지하기가 어렵다.
상기 전자 빔 소스(100)로부터 기판(120)까지의 거리가 상당하기 때문에 상기 전자 빔 소스(100)로부터 인출된 전자 빔(110)이 기판(120)에 도달했을 때에는 원하는 조사 각도와 상당히 달라질 수 있다.
상기와 같은 이유로 전자 빔(110)이 기판(120) 상에 도달했을 경우에 동일한 조사 각도로 입사되지 않고 그 차이는 조사 영역의 중심에서 멀어질 수록 심화되며 상기 전자 빔(110)이 기판(120) 상에서 동일한 에너지로 조사되지 않으므로 배향막(111)에서 배향 효과가 위치에 따라 달라지는 문제점이 발생된다.
따라서, 액정 분자에 원하는 프리틸트각을 주기 위하여 전자 빔이 소정의 조사 각도를 가지고 기판에 조사되도록 하기 위해서 기판을 경사지도록 기울이게 되면, 기판의 위치에 따라 조사 방향과 에너지가 달라져서 상기 전자 빔 소스와 거리가 멀어진 곳은 입자간 충돌의 확률이 커지고 직진성 및 에너지가 약해져 배향 효과를 떨어뜨리므로 균일하게 배향막이 형성되지 못하는 문제점이 발생한다.
본 발명은 전자 빔 소스로부터 인출된 전자 빔이 배향막이 도포된 기판 상에 균일한 에너지로 조사될 수 있도록 하기 위해서 전자 빔 소스를 소정의 각도로 기울여서 기판에 전자 빔을 조사함으로써 균일한 배향 특성을 가지는 배향막을 형성하기 위한 전자 빔 조사 장치를 제공하는데 또 다른 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 전자 빔 조사 장치는, 기판과; 상기 기판을 지지하는 이송 스테이지(stage)와; 기 기판에 일정 간격 이격하여 기판과 경사지게 배치되고 전자 빔을 방출하는 전자 빔 소스를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 기판은 배향막을 도포하고 있는 것을 특징으로 한다.
상기 스테이지는 수평으로 이송, 회전이 가능한 것을 특징으로 한다.
상기 전자 빔의 방사 각도는 약 1 내지 20도로 결정되는 것을 특징으로 한다.
상기 전자 빔 소스는 기판의 법선 방향에서 0 ~ 70도의 각도를 가지고 기울어지는 것을 특징으로 한다.
상기 전자 빔 소스는 필라멘트, 애노드 및 가속 매질을 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 전자 빔 조사 장치의 운용 방법은, 기판을 준비하는 단계와; 상기 기판이 대기 챔버에서 대기하는 단계와; 기 기판을 이송하기 위한 분배 로보트가 준비하는 단계와; 기 분배 로보트를 통해 상기 기판이 전자 빔 조사실로 수평하게 이송되는 단계와; 기 기판 전면이 상기 전자 빔에 의해서 소정의 각도로 배향 처리되는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기 분배 로보트는 여러 방향으로 이송 및 회전이 가능한 것을 특징으로 한다.
상기 기판은 배향막이 도포되는 것을 특징으로 한다.
상기 배향막은 상기 전자 빔에 의해 배향 처리되는 것을 특징으로 한다.
상기 배향 처리된 기판은 대기 챔버로 배출되는 것을 특징으로 한다.
상기 대기 챔버는 다수의 기판이 다단으로 적층되는 것을 특징으로 한다.
상기 기판이 상기 전자 빔 조사실로 이송되는 단계 이전에, 기 전자 빔 조사실이 진공 상태가 되는 것을 특징으로 한다.
상기 전자 빔 조사실이 복수개로 이루어져 있는 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부한 도면을 참조로 하여 본 발명에 따른 전자 빔 조사 장치에 대해서 구체적인 실시예를 들어 설명한다.
도 2는 본 발명에 따른 액정 표시 장치에 대한 개략적인 단면도이다.
도 2를 참조하면, 투명한 제 1 기판(211) 위에 금속과 같은 도전 물질로 이루어진 게이트 전극(221)이 형성되어 있고, 그 위에 실리콘 질화막(SiNx)이나 실리콘 산화막(SiOx)으로 이루어진 게이트 절연막(230)이 게이트 전극(221)을 덮고 있다.
상기 게이트 전극(221) 상부의 게이트 절연막(230) 위에는 비정질 실리콘으로 이루어진 액티브층(241)이 형성되어 있으며, 그 위에 불순물이 도핑된 비정질 실리콘으로 이루어진 오믹 콘택층(251, 252)이 형성되어 있다.
또한, 상기 오믹 콘택층(251, 252) 상부에는 금속과 같은 도전 물질로 이루어진 소스 및 드레인 전극(261, 262)이 형성되어 있는데, 상기 소스 및 드레인 전극(261, 262)은 상기 게이트 전극(221)과 함께 박막 트랜지스터(T)를 이룬다.
상기 소스 및 드레인 전극(261, 262) 위에는 실리콘 질화막(SiNx)이나 실리콘 산화막(SiOx) 또는 유기 절연막으로 이루어진 보호층(270)이 형성되어 있으며, 상기 보호층(270)은 드레인 전극(262)을 드러내는 콘택홀(271)을 가진다.
상기 보호층(270) 상부의 화소 영역에는 투명 도전 물질로 이루어진 화소 전극(281)이 형성되어 있고, 상기 화소 전극(281)은 콘택홀을 통해서 상기 드레인 전극(262)과 연결되어 있다.
상기 화소 전극(281) 상부에는 폴리이미드(polyimide)와 같은 물질로 이루어지고 표면이 일정 방향을 가지도록 형성된 제 1 배향막(291)이 형성되어 있다.
이 때, 상기 게이트 전극(221)은 게이트 배선과 연결되어 있고, 상기 소스 전극(261)은 데이터 배선과 연결되어 있으며, 상기 게이트 배선과 데이터 배선은 서로 직교하여 화소 영역을 정의한다.
한편, 상기와 같이 구성되어 있는 제 1 기판(211)을 포함하는 하부 기판 상부에는 상기 제 1 기판(211)과 일정 간격을 가지며 투명한 제 2 기판(210)을 포함하는 상부 기판이 배치되어 있다.
상기 제 2 기판(210) 하부의 박막 트랜지스터와 대응되는 부분에는 화소 영역 이외의 부분에서 빛샘이 발생하는 것을 방지하기 위한 블랙 매트릭스(220)가 형성되어 있다.
상기 블랙 매트릭스(220) 하부에는 컬러 필터(231)가 형성되어 있으며, 상기 컬러 필터(231)는 적(R), 녹(G), 청(B)의 세 가지 색이 순차적으로 반복되어 형성되어 있으며, 하나의 색이 하나의 화소 영역에 대응된다.
이 때, 상기 컬러 필터(231)는 염색법, 인쇄법, 안료 분산법, 전착법 등에 의해 형성되어질 수 있다.
이어서, 상기 컬러 필터(231)의 하부에는 투명한 도전 물질로 이루어진 공통 전극(240)이 형성되어 있으며, 상기 공통 전극(240) 하부에는 플리이미드(polyimide)와 같은 물질로 이루어지고 표면이 일정 방향을 가지도록 형성된 제 2 배향막(250)이 형성되어 있다.
여기서, 상기 제 1 배향막(291)과 제 2 배향막(250) 사이에는 액정층(290)이 주입되며, 상기 액정층(290)의 액정 분자는 상기 배향막(291, 250)의 배향 방향에 의해서 초기 배향 상태가 결정된다.
상기 제 1 배향막(291)과 제 2 배향막(250)은 전자 빔에 의해서 배향 처리되며, 이를 위하여 상기 제 1 기판(211) 및 제 2 기판(210)은 배향막(291, 250)이 형성되어 있는 상태로 전자 빔 조사 장치에 투입되어 배향 공정을 거치게 된다.
이때, 본 발명에 따라 전자 빔 조사에 의해 배향 처리된 배향막을 형성하는 상기 기판은 조사되는 소정의 각도로 기울어진 전자 빔에 대해서 일정한 거리를 유지하여 수평으로 이동하게 되며 이로써 상기 전자 빔을 이용하여 기판 상에 도포된 배향막에 원하는 배향 패턴을 형성할 수 있고 액정 분자의 초기 배열 상태 즉, 프리틸트(pretilt)를 형성할 수 있다.
도 3은 본 발명에 따른 배향막을 형성하기 위한 전자 빔 조사 장치의 개략적인 구성을 보여주는 도면이다.
상기 전자 빔 조사 장치는 필라멘트(filament, 301)와 애노드(anode, 302)와 전자 빔 가속 매질(305)을 포함하는 전자 빔 소스(Ion beam source, 300)와, 상기 전자 빔 소스(300)로부터 발생되는 전자 빔(310)이 기판(320)까지 직진하여 조사될 수 있도록 하는 진공 용기(340)와, 상기 진공 용기(340) 내에서 기판(320)이 일정한 각도를 유지할 수 있도록 고정하는 홀더(321)와 배향막(311)을 형성하고 있는 기판을 고정하는 스테이지(stage, 323)를 포함하여 이루어진다.
상기 전자 빔 소스(300)는 수평으로 투입되는 기판(320)에 대해서 소정 각도 기울어져 전자 빔(310)을 조사하며 상기 기판(320)을 고정하는 스테이지(323)는 수평으로 전자 빔 조사 장치 내로 인입되어 기판(320) 전 영역을 조사하기 위한 이송 및 회전이 가능하다.
상기 전자 빔 소스(300)에서는 전자를 발생시키고 전자 빔(310)을 생성하는데, 필라멘트(301)와 애노드(302)의 전압 차에 의해서 전류가 흐르는 필라멘트(301)로부터 전자가 방출되어 전자 빔 가속 매질(305)에 걸리는 전계의 작용으로 가속화되어 기판(320) 상에 일정 각도를 가지고 조사되게 된다.
이때, 전자 빔(310)의 퍼짐 폭(방사 각도)은 1 ~ 20도 정도의 각도를 가지게 되며, 상기 전자 빔 소스(300)는 기판(320)의 법선 방향에서 0 ~ 70도의 각도를 가진다.
여기서, 상기 전자 빔 소스(300)는 기판(320)에 대해서 소정의 각도로 기울어져 배치되는데, 이로써 상기 전자 빔(310)을 이용하여 기판(320) 상에 도포된 배향막(311)에 원하는 배향 패턴을 형성할 수 있으며 액정 분자의 초기 배열 상태 즉, 프리틸트(pretilt)를 형성할 수 있다.
이 때, 상기 기판(320) 상에는 폴리이미드(polyimide)와 같은 유기물질의 배향막(311)이 도포되어 있다.
상기 폴리이미드와 같이 배향막(311)으로 사용되는 유기 물질은 화학적 구조로서 주쇄(main chain)와 측쇄(side chain)로 나뉘어진다.
상기 주쇄는 액정 분자를 한 방향으로 배열시키는 역할을 하고, 상기 측쇄는 프리틸트각을 형성하는 역할을 한다.
특히, 상기 측쇄는 전자 빔 조사시에 반응하여 소정 부위가 끊어지도록 함으로써 배향시에 액정 분자가 방향성을 가지고 배향되도록 한다.
이와 같이, 상기 전자 빔 소스(300)로부터 발생되는 전자 빔(310)은 상기 기판(320)의 법선 방향에서 소정의 각도로 기울어져 인출되어 기판(320) 상의 배향막(311)으로 조사되며 프리틸트각(pretilt angle)을 결정하게 된다.
상기 전자 빔 조사 각도에 따라 결정되는 프리틸트 각을 임의로 조절하면 액정의 광학적 이방성에 의하여 액정 분자의 배열 방향에 따라 빛을 투과 혹은 차단시킬 수 있게 되어, 이에 따라 달라지는 빛의 투과율에 의해 원하는 색상 및 영상을 표시할 수 있게 된다.
여기서, 상기 전자 빔 소스(300)와 기판(320)과의 거리가 일정하게 유지되어 빔이 퍼지는 특성을 보상하고 전자 빔(310)이 균일하게 기판(320)에 조사될 수 있도록 한다.
도 4는 본 발명에 따른 전자 빔 조사 장치를 이용한 배향 장비에 대한 개략적인 구성도이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 배향 장비는 이송되는 기판(320)의 투입을 준비하고 배향이 완료된 기판(320)의 추출을 대기하기 위한 대기 챔버(chamber, 400)와, 적어도 하나 이상의 전자 빔 조사실(430, 440, 450) 및 분배 로보트(420)로 구성되어 있다.
여기서, 상기 전자 빔 조사실(430, 440, 450)은 전자 빔 조사 제 1실(430), 전자 빔 조사 제 2 실(440), 전자 빔 조사 제 3실(450)의 다수로 구성되어 있다.
먼저, 배향막(311)이 형성되어 있는 기판(320)이 대기 챔버(400)로 이송되어 전자 빔 조사실로 투입되기 전에 대기 챔버(400)에서 준비한다.
상기 대기 챔버(400)는 다수의 기판(320)을 수용할 수 있도록 구성된다.
이어서, 상기 대기 챔버(400)에 대기하는 기판(320)을 분배 로보트(420)에 의해서 전자 빔 조사실(430, 440, 450)로 이송된다.
이때, 상기 기판(320)은 배향막(311)이 균일하게 도포된 것으로 배향 처리되기 전의 기판(320)이다.
상기 분배 로보트(420)에 의해 전자 빔 조사실로 수평하게 이송된 기판(320)은 진공 용기(340) 안에서 소정의 각도로 기울어진 전자 빔 소스(300)에 의해서 전자 빔(310)이 조사된다.
이때, 상기 기판(320)은 진공 용기(340) 안에서 기판(320) 전면을 스캔할 수 있도록 다양한 방향으로 이송 및 회전이 가능하다.
이와같이 기판(320) 상에 형성되어 있는 배향막(311) 전면에 전자 빔 조사가 끝나면 상기 분배 로보트(420)에 의해서 대기 챔버(400)로 배출된다.
상기 배향 장비는 다수의 전자 빔 조사 장치를 배치하여 전자 빔 조사실의 진공을 형성하는 시간을 단축시킬 수 있으며, 전자 빔 조사실(430, 440, 450)로 이송하기 전, 후의 기판(320)을 다단으로 적층 가능한 대기 챔버(400)를 둠으로써 생산을 높일 수 있다.
이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 배향막을 형성하기 위한 전자 빔 조사 장치 및 그 운용 방법은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.
본 발명은 전자 빔 조사 장치에서 전자 빔이 조사되는 소스를 기판의 법선 방향에 대해서 소정 각도로 기울이고 기판을 이송 및 회전 시킴으로써 상기 전자 빔이 기판의 어느 부분에서나 동일하게 작용하도록 함으로써 액정 배향의 균일성을 향상시키는 효과가 있다.
또한, 배향 장비에 다수의 전자 빔 조사 장치를 배치하여 배향 처리함으로써 생산성을 향상시키는 효과가 있다.
도 1은 종래 배향막을 형성하기 위한 전자 빔 조사 장치의 개략적인 구성을 보여주는 도면.
도 2는 본 발명에 따른 액정 표시 장치에 대한 개략적인 단면도.
도 3은 본 발명에 따른 배향막을 형성하기 위한 전자 빔 조사 장치의 개략적인 구성을 보여주는 도면.
도 4는 본 발명에 따른 전자 빔 조사 장치를 이용한 배향 장비에 대한 개략적인 구성도.
<도면의 주요부분에 대한 부호 설명>
300 : 전자 빔 소스 301 : 필라멘트
302 : 애노드 305 : 가속 매질
311 : 배향막 320 : 기판
321 : 홀더 323 : 스테이지
400 : 대기 챔버 420 : 분배 로보트
430, 440, 450 : 전자 빔 조사실

Claims (14)

  1. 기판과;
    상기 기판을 지지하는 이송 스테이지(stage)와;
    상기 기판에 일정 간격 이격하여 기판과 경사지게 배치되고 전자 빔을 방출하는 전자 빔 소스를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전자 빔 조사 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 기판은 배향막을 도포하고 있는 것을 특징으로 하는 전자 빔 조사 장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 스테이지는 수평으로 이송, 회전이 가능한 것을 특징으로 하는 전자 빔 조사 장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 전자 빔의 방사 각도는 약 1 내지 20도로 결정되는 것을 특징으로 하는 전자 빔 조사 장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 전자 빔 소스는 기판의 법선 방향에서 0 ~ 70도의 각도를 가지고 기울어지는 것을 특징으로 하는 전자 빔 조사 장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 전자 빔 소스는 필라멘트, 애노드 및 가속 매질을 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전자 빔 조사 장치.
  7. 기판을 준비하는 단계와;
    상기 기판이 대기 챔버에서 대기하는 단계와;
    상기 기판을 이송하기 위한 분배 로보트를 준비하는 단계와;
    상기 분배 로보트를 통해 상기 기판이 전자 빔 조사실로 수평하게 이송되는 단계와;
    상기 기판 전면이 상기 전자 빔에 의해서 소정의 각도로 배향 처리되는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전자 빔 조사 장치의 운용 방법.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 분배 로보트는 여러 방향으로 이송 및 회전이 가능한 것을 특징으로 하는 전자 빔 조사 장치의 운용 방법.
  9. 제 7항에 있어서,
    상기 기판은 배향막이 도포되는 것을 특징으로 하는 전자 빔 조사 장치의 운용 방법.
  10. 제 9항에 있어서,
    상기 배향막은 상기 전자 빔에 의해 배향 처리되는 것을 특징으로 하는 전자 빔 조사 장치의 운용 방법.
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 배향 처리된 기판은 대기 챔버로 배출되는 것을 특징으로 하는 전자 빔 조사 장치의 운용 방법.
  12. 제 11항에 있어서,
    상기 대기 챔버는 다수의 기판이 다단으로 적층되는 것을 특징으로 하는 전자 빔 조사 장치의 운용 방법.
  13. 제 7항에 있어서,
    상기 기판이 상기 전자 빔 조사실로 이송되는 단계 이전에,
    상기 전자 빔 조사실이 진공 상태가 되는 것을 특징으로 하는 전자 빔 조사 장치의 운용 방법.
  14. 제 7항에 있어서,
    상기 전자 빔 조사실이 복수개로 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 전자 빔 조사 장치의 운용 방법.
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