KR20050032182A - Method and apparatus for wetting in semiconductor chemical filter - Google Patents

Method and apparatus for wetting in semiconductor chemical filter Download PDF

Info

Publication number
KR20050032182A
KR20050032182A KR1020030068196A KR20030068196A KR20050032182A KR 20050032182 A KR20050032182 A KR 20050032182A KR 1020030068196 A KR1020030068196 A KR 1020030068196A KR 20030068196 A KR20030068196 A KR 20030068196A KR 20050032182 A KR20050032182 A KR 20050032182A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
ipa
ultrapure water
automatic valve
wetting
driving
Prior art date
Application number
KR1020030068196A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
심문한
Original Assignee
동부아남반도체 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동부아남반도체 주식회사 filed Critical 동부아남반도체 주식회사
Priority to KR1020030068196A priority Critical patent/KR20050032182A/en
Publication of KR20050032182A publication Critical patent/KR20050032182A/en

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment

Abstract

A wetting method and apparatus of a semiconductor chemical filter are provided to improve the stability and lifetime of the filter by performing automatically a wetting process before using the filter. A wetting apparatus of a semiconductor chemical filter includes a controller, an IPA(IsoPropyl Alcohol) self valve, an IPA check valve, a DIW(DeIonized Water) self valve, a DIW check valve, a vent self valve, and a filter housing. The controller(70) controls a solenoid according to a set timer. The IPA self valve(10) supplies IPA through an IPA line. The IPA check valve(20) is used for preventing the back-flow of IPA. The DIW self valve(40) supplies DIW through a DIW line. The DIW check valve(50) is used for preventing the back-flow of DIW. The vent self valve(60) is used for exhausting unnecessary gas. Air bubbles are removed from the filter housing(30) by using the IPA and the IPA is removed from the filter housing by using the DIW.

Description

반도체 케미컬 필터의 웨팅 방법 및 장치{METHOD AND APPARATUS FOR WETTING IN SEMICONDUCTOR CHEMICAL FILTER}METHOD AND APPARATUS FOR WETTING IN SEMICONDUCTOR CHEMICAL FILTER}

본 발명은 반도체 케미컬 필터의 웨팅(wetting) 방법 및 장치에 관한 것으로, 특히, 반도체 공급 장비에 있어서, 케미컬 필터를 사용하기 전에 자동으로 웨팅을 수행하도록 하는 방법 및 장치에 관한 것이다. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method and apparatus for wetting a semiconductor chemical filter, and more particularly, to a method and an apparatus for performing a wet process automatically before using a chemical filter in semiconductor supply equipment.

일반적으로, 반도체 공급 장비에서의 케미컬 필터는 도 1에 도시된 필터의 측면도를 참조하면, 이러한, 케미컬 필터는 건조 상태에서는 직접적으로 사용할 수 없는 것이 현 실정이며, 메인 장비 모두에 적용 가능하다. 다시 말해서, 필터 내부로 케미컬이 직접 스며들지 않아 필터의 안쪽과 외부(in/out) 쪽에 차압이 발생하게 된다. In general, when the chemical filter in the semiconductor supply equipment is referred to the side view of the filter shown in FIG. 1, it is currently the chemical filter can not be used directly in the dry state, it is applicable to all the main equipment. In other words, the chemical does not directly penetrate into the filter, and the differential pressure is generated inside and outside of the filter.

따라서, 필터의 안쪽과 외부 쪽의 차압이 발생함에 따라 그 수명이 짧아지게 되는 원인이 되는데, 이러한 원인을 방지하기 위해 케미컬 필터를 사용하기 전에 웨팅을 사전에 준비하고 있다가 언제라도 사용하도록 하여 필터의 안쪽과 외부(in/out) 쪽에 발생되는 차압 현상을 방지하는 본 발명의 필요성이 있다. Therefore, as the differential pressure between the inside and outside of the filter is generated, its life may be shortened. In order to prevent such a cause, the wetting is prepared in advance before the chemical filter is used. There is a need of the present invention to prevent the differential pressure phenomenon generated in the inner and outer (in / out) side of.

이에, 본 발명은 상술한 차압 현상 방지의 필요성에 의해 안출된 것으로, 그 목적은 반도체 공급 장비에서의 케미컬 필터를 사용하기 전에 웨팅을 사전에 준비하고 있다가 자동으로 웨팅을 수행하여 필터의 안정성 향상 및 수명 연장을 수행하도록 하는 반도체 케미컬 필터의 웨팅(wetting) 방법 및 장치를 제공함에 있다. Accordingly, the present invention has been made by the necessity of preventing the differential pressure phenomenon described above, the purpose is to prepare the wetting in advance before using the chemical filter in the semiconductor supply equipment and then perform the automatic wetting to improve the stability of the filter And a method and apparatus for wetting a semiconductor chemical filter to perform life extension.

이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 케미컬 필터의 웨팅(wetting) 방법은, 직류 전원에 의해 구동된 후, 전원을 순차적으로 스위칭(switching)하는 단계와, 전원 제어에 따라 구동되어 제1 타이머의 세팅된 시간을 구동하는 단계와, 시간 구동에 따라 릴레이를 붙이는 단계와, 릴레이 접점이 붙음에 따라 구동을 시작하여 IPA 자동 밸브를 조절하는 단계와, IPA 자동 밸브가 열러 IPA 라인을 통해 제공되는 IPA를 필터 하우징에 제공하여 자체 내의 기포를 제거하는 단계와, 기포가 제거되면, 전원 제어에 따라 구동되어 제2 타이머의 세팅된 시간을 구동하는 단계와, 시간 구동에 따라 릴레이를 붙이는 단계와, 릴레이 접점이 붙음에 따라 구동을 시작하여 초순수 자동 밸브를 조절하는 단계와, 초순수 자동 밸브가 열러 초순수 워터 라인을 통해 제공되는 초순수 워터를 필터 하우징에 제공하여 기포를 제거하고 남은 IPA를 제거하는 단계와, IPA가 제거되면, 전원 제어에 따라 구동되어 제3 타이머의 세팅된 시간을 구동하는 단계와, 시간 구동에 따라 릴레이를 붙이는 단계와, 릴레이 접점이 붙음에 따라 구동을 시작하여 VENT 자동 밸브를 조절하는 단계와, VENT 자동 밸브가 열러 필터 하우징 상부쪽에 있는 공기를 VENT 라인을 통해 빼내는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. The method for wetting the semiconductor chemical filter according to an embodiment of the present invention for achieving the above object, after being driven by a DC power supply, the step of sequentially switching the power supply (switching), and driving according to power control Driving the set time of the first timer, attaching a relay according to the time driving, starting driving as the relay contact is attached, adjusting the IPA automatic valve, and opening the IPA automatic valve. Providing an IPA provided through the filter housing to remove air bubbles in the filter housing; and when the air bubbles are removed, driving the set time of the second timer by driving the power control and operating the relay according to the time driving. Attaching, starting the drive as the relay contact is attached, adjusting the ultrapure water automatic valve, and opening the ultrapure water automatic valve Supplying the ultrapure water provided to the filter housing to remove bubbles and removing the remaining IPA; and when the IPA is removed, driving the set time of the third timer by driving the power control. And a step of attaching a relay, starting the drive as the relay contact is attached to adjust the VENT automatic valve, and opening the VENT automatic valve to extract air from the upper portion of the filter housing through the VENT line. do.

또한, 상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 케미컬 필터의 웨팅(wetting) 장치는, 기 세팅된 타이머에 의해 솔레노이드를 조절하는 콘트롤러와, 솔레노이드에 의해 구동된 후, IPA 라인을 통해 제공되는 IPA를 공급하는 IPA 자동 밸브와, IPA 역류 현상을 방지하며, IPA가 역류하지 않도록 제공하는 IPA 체크 밸브와, 솔레노이드에 의해 구동된 후, 초순수 워터 라인을 통해 제공되는 초순수 워터를 공급하는 초순수 자동 밸브와, 초순수 워터 역류 현상을 방지하며, 초순수 워터가 역류하지 않도록 제공하는 초순수 체크 밸브와, 솔레노이드에 의해 구동된 후, IPA가 채워지고 남은 상부쪽에 있는 공기를 빼내는 VENT 자동 밸브와, IPA에 의해 기포가 제거되고, 초순수 워터에 의해 IPA가 제거되는 필터 하우징을 포함하는 것을 특징으로 한다. In addition, the wetting device of the semiconductor chemical filter according to another embodiment of the present invention for achieving the above object, the controller for adjusting the solenoid by a preset timer, and after being driven by the solenoid, the IPA line IPA automatic valve for supplying IPA provided through IPA, IPA check valve for preventing IPA backflow and preventing backflow of IPA, and ultrapure water supplied through ultrapure waterline after being driven by solenoid Ultrapure water automatic valves, ultrapure water check valves to prevent backflow of ultrapure water and to prevent backflow of ultrapure water; And a filter housing in which bubbles are removed by the IPA and in which the IPA is removed by the ultrapure water. .

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구성 및 동작에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the configuration and operation of the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 반도체 케미컬 필터의 웨팅 장치에 대한 블록 구성도로서, 이소 프로필 알콜(IPA) 자동 밸브(10)와, IPA 체크 밸브(20)와, 필터 하우징(30)과, 초 순수 자동 밸브(40)와, 초순수 체크 밸브(50)와, 분출구(vent) 자동 밸브(60)와, 콘트롤러(70)를 포함한다.2 is a block diagram of a wetting device for a semiconductor chemical filter according to the present invention, which is an isopropyl alcohol (IPA) automatic valve 10, an IPA check valve 20, a filter housing 30, and ultra pure water. An automatic valve 40, an ultrapure water check valve 50, a vent automatic valve 60, and a controller 70 are included.

IPA 자동 밸브(10)는 콘트롤러(70)의 구동 제어에 따라 구동되는 것으로, IPA 라인(S2)을 통해 제공되는 IPA를 IPA 체크 밸브(20)에 제공한다.The IPA automatic valve 10 is driven according to the drive control of the controller 70, and provides the IPA check valve 20 with IPA provided through the IPA line S2.

IPA 체크 밸브(20)는 필터 하우징(30)으로부터의 IPA 역류 현상을 방지하기 위한 밸브로서, IPA 자동 밸브(10)로부터 제공된 IPA를 배관 라인(S3)을 통해 필터 하우징(30)에 제공한다. The IPA check valve 20 is a valve for preventing an IPA backflow phenomenon from the filter housing 30, and provides the IPA provided from the IPA automatic valve 10 to the filter housing 30 through the piping line S3.

필터 하우징(30)은 IPA 체크 밸브(20)로부터 제공된 IPA로 인하여 자체 내의 기포를 제거한다. 이후, 필터 하우징(30)은 초순수 체크 밸브(50)로부터 제공된 초순수 워터를 이용하여 기포 제거를 수행하고 남은 IPA를 제거한다.The filter housing 30 removes bubbles in itself due to the IPA provided from the IPA check valve 20. Thereafter, the filter housing 30 performs bubble removal using ultrapure water provided from the ultrapure water check valve 50 and removes the remaining IPA.

초순수 자동 밸브(40)는 콘트롤러(70)의 구동 제어에 따라 구동되는 것으로, 초순수 워터 라인(S1)을 통해 제공되는 초순수 워터를 초순수 체크 밸브(50)에 제공한다.The ultrapure water automatic valve 40 is driven according to the drive control of the controller 70 and provides ultrapure water provided through the ultrapure water line S1 to the ultrapure water check valve 50.

초순수 체크 밸브(50)는 필터 하우징(30)으로부터의 초순수 워터 역류 현상을 방지하기 위한 밸브로서, 초순수 자동 밸브(40)로부터 제공된 초순수 워터를 배관 라인(S3)을 통해 필터 하우징(30)에 제공한다. The ultrapure water check valve 50 is a valve for preventing an ultrapure water backflow phenomenon from the filter housing 30, and provides the ultrapure water provided from the ultrapure water automatic valve 40 to the filter housing 30 through a pipe line S3. do.

VENT 자동 밸브(60)는 필터 하우징(30)에 IPA가 채워진 후, 상부쪽에 있는 공기를 빼낸다. After the VENT automatic valve 60 is filled with the IPA in the filter housing 30, the VENT automatic valve 60 drains the air at the upper side.

콘트롤러(70)는 도 3에 도시된 바와 같이, 상용전원(예로, 220V)을 공급하는 전원부(70-1)와, 전원 스위치(70-3) 및 제1, 제2, 제3 릴레이(70-7, 8, 9)를 구동하기 위한 직류 전원(예로, 12V 또는 24V)으로 변환하여 공급하는 파워 공급기(70-2)와, 제1, 제2, 제3 타이머(70-4, 5, 6)로 제공되는 직류 전원을 스위칭(switching)하는 전원 스위치(70-3)와, IPA 자동 밸브(10)와 초순수 자동밸브(40)와 VENT 자동 밸브(60)를 조작하기 위한 각각 다르게 시간을 세팅하고 있는 제1, 제2, 제3 타이머(70-4, 5, 6)와, 제1, 제2, 제3 타이머(70-4, 5, 6)의 시간 제어에 따라 솔레노이드(70-11, 12, 13)를 동작시키도록 하는 제1, 제2, 제3 릴레이(70-7, 8, 9)와, 솔레노이드(70-11, 12, 13) 각각에 에어를 공급하는 에어 공급부(70-10)와, IPA 자동 밸브(10)와 초순수 자동밸브(40)와 VENT 자동 밸브(60)를 직접적으로 조작하는 솔레노이드(70-11, 12, 13)를 구비하는 블록으로서, 제1, 제2, 제3 타이머(70-4, 5, 6)를 이용하여 솔레노이드(70-11, 12, 13)를 조절하는 방식으로 자동 웨팅을 수행한다. As shown in FIG. 3, the controller 70 includes a power supply unit 70-1 for supplying commercial power (eg, 220V), a power switch 70-3, and first, second, and third relays 70. A power supply 70-2 for converting and supplying DC power (for example, 12V or 24V) for driving -7, 8, 9, and the first, second, and third timers 70-4, 5, 6) different times for operating the power switch 70-3 for switching the DC power provided to the IPA automatic valve 10, the ultrapure water automatic valve 40, and the VENT automatic valve 60, respectively. The solenoid 70- in accordance with the time control of the first, second and third timers 70-4, 5 and 6 and the first, second and third timers 70-4, 5 and 6 that are being set. Air supply unit for supplying air to each of the first, second, and third relays 70-7, 8, 9 for operating the 11, 12, and 13, and the solenoids 70-11, 12, 13 ( 70-10), solenoid to directly operate IPA automatic valve 10, ultrapure water automatic valve 40 and VENT automatic valve 60 A block having ids 70-11, 12, and 13, which control solenoids 70-11, 12, and 13 by using first, second, and third timers 70-4, 5, and 6. Perform automatic wetting in a way.

도 4의 흐름도를 참조하면서, 상술한 구성을 바탕으로, 본 발명에 따른 반도체 케미컬 필터의 웨팅 방법에 대하여 보다 상세하게 설명한다. With reference to the flowchart of FIG. 4, the method of wetting the semiconductor chemical filter according to the present invention will be described in more detail based on the above-described configuration.

먼저, 필터 하우징(30)을 웨팅하기 위해 콘트롤러(70)내 전원부(70-1)에서 상용전원(예로, 220V)을 파워 공급기(70-2)에 공급한다(단계 401). First, in order to wet the filter housing 30, a commercial power supply (eg, 220V) is supplied from the power supply unit 70-1 in the controller 70 to the power supply 70-2 (step 401).

파워 공급기(70-2)는 상용전원을 공급받은 후, 전원 스위치(70-3) 및 제1, 제2, 제3 릴레이(70-7, 8, 9)를 구동하기 위한 직류 전원(예로, 12V 또는 24V)으로 변환하여 공급한다(단계 402). After the power supply 70-2 is supplied with commercial power, a DC power supply for driving the power switch 70-3 and the first, second, and third relays 70-7, 8, and 9 (eg, 12V or 24V) to supply (step 402).

전원 스위치(70-3)는 파워 공급기(70-2)로부터 제공되는 직류 전원에 의해 구동된 후, 제1, 제2, 제3 타이머(70-4, 5, 6)로 제공되는 전원을 순차적으로 스위칭(switching)한다(단계 403). The power switch 70-3 is driven by the DC power supplied from the power supply 70-2, and then sequentially supplies power supplied to the first, second, and third timers 70-4, 5, and 6. Switch to step 403.

제1 타이머(70-4)는 전원 스위칭(70-3)의 전원 제어에 따라 먼저 구동된 후, 세팅된 시간을 구동한다(단계 404). The first timer 70-4 is first driven according to the power control of the power switching 70-3, and then drives the set time (step 404).

제1 릴레이(70-7)는 제1 타이머(70-4)의 시간 구동에 따라 릴레이를 붙여 솔레노이드(70-13)를 조절하도록 한다(단계 405). The first relay 70-7 attaches a relay to adjust the solenoid 70-13 according to the time driving of the first timer 70-4 (step 405).

솔레노이드(70-13)는 에어 공급부(70-10)로부터 제공되는 에어와 릴레이 접점이 붙음에 따라 구동을 시작하여 IPA 자동 밸브(10)를 조절한다(단계 406).The solenoid 70-13 starts driving as the air and relay contacts provided from the air supply 70-10 are attached to adjust the IPA automatic valve 10 (step 406).

IPA 자동 밸브(10)는 솔레노이드(70-13)의 구동 제어에 따라 구동되어 IPA 라인(S2)을 통해 제공되는 IPA를 IPA 체크 밸브(20)에 제공한다(단계 407).The IPA automatic valve 10 is driven according to the drive control of the solenoids 70-13 to provide the IPA check valve 20 with the IPA provided through the IPA line S2 (step 407).

IPA 체크 밸브(20)는 IPA 자동 밸브(10)로부터 제공된 IPA를 필터 하우징(30)에 제공한다(단계 408). 이에, 필터 하우징(30)은 IPA 체크 밸브(20)로부터 제공된 IPA로 인하여 자체 내의 기포를 제거한다(단계 408).IPA check valve 20 provides the IPA provided from IPA automatic valve 10 to filter housing 30 (step 408). Thus, the filter housing 30 removes bubbles in itself due to the IPA provided from the IPA check valve 20 (step 408).

이어서, 제2 타이머(70-5)는 필터 하우징(30)에 잔재하고 있는 IPA를 제거하기 위해 전원 스위칭(70-3)의 전원 제어에 따라 다음으로 구동된 후, 세팅된 시간을 구동한다(단계 409). Subsequently, the second timer 70-5 is next driven according to the power control of the power switching 70-3 to remove the IPA remaining in the filter housing 30, and then drives the set time ( Step 409).

제2 릴레이(70-8)는 제2 타이머(70-5)의 시간 구동에 따라 릴레이를 붙여 솔레노이드(70-12)를 조절하도록 한다(단계 410). The second relay 70-8 attaches the relay to adjust the solenoid 70-12 according to the time driving of the second timer 70-5 (step 410).

솔레노이드(70-12)는 에어 공급부(70-10)로부터 제공되는 에어와 릴레이 접점이 붙음에 따라 구동을 시작하여 초순수 자동 밸브(40)를 조절한다(단계 411). The solenoid 70-12 starts driving as the air and relay contacts provided from the air supply unit 70-10 are attached to adjust the ultrapure water automatic valve 40 (step 411).

초순수 자동 밸브(40)는 솔레노이드(70-12)의 구동 제어에 따라 구동되어 초순수 워터 라인(S1)을 통해 제공되는 초순수 워터를 초순수 체크 밸브(50)에 제공한다(단계 412).The ultrapure water automatic valve 40 is driven under the drive control of the solenoid 70-12 to provide the ultrapure water to the ultrapure water check valve 50 provided through the ultrapure water line S1 (step 412).

초순수 체크 밸브(50)는 초순수 자동 밸브(40)로부터 제공된 초순수 워터를 필터 하우징(30)에 제공한다(단계 413). The ultrapure water check valve 50 provides ultrapure water provided from the ultrapure water automatic valve 40 to the filter housing 30 (step 413).

필터 하우징(30)은 초순수 체크 밸브(50)로부터 제공된 초순수 워터를 이용하여 기포 제거를 수행하고 남은 IPA를 제거한다(단계 414).The filter housing 30 performs bubble removal using the ultrapure water provided from the ultrapure water check valve 50 and removes the remaining IPA (step 414).

다음으로, IPA가 제거된 후, 상부쪽에 있는 공기를 빼내기 위해 제3 타이머(70-6)는 전원 스위칭(70-3)의 전원 제어에 따라 마지막으로 구동된 후, 세팅된 시간을 구동한다(단계 415). Next, after the IPA is removed, the third timer 70-6 drives the set time after being last driven according to the power control of the power switching 70-3 in order to drain the air on the upper side ( Step 415).

제3 릴레이(70-9)는 제3 타이머(70-6)의 시간 구동에 따라 릴레이를 붙여 솔레노이드(70-11)를 조절하도록 한다(단계 416). The third relay 70-9 attaches a relay to adjust the solenoid 70-11 according to the time driving of the third timer 70-6 (step 416).

솔레노이드(70-11)는 에어 공급부(70-10)로부터 제공되는 에어와 릴레이 접점이 붙음에 따라 구동을 시작하여 VENT 자동 밸브(60)를 조절한다(단계 417).The solenoid 70-11 starts driving as the air and relay contacts provided from the air supply 70-10 are attached to adjust the VENT automatic valve 60 (step 417).

VENT 자동 밸브(60)는 필터 하우징(30)에 IPA가 채워진 후, 상부쪽에 있는 공기를 VENT 라인(S4)을 통해 빼냄에 따라 자동으로 웨팅을 수행할 수 있는 것이다(단계 418). After the VENT automatic valve 60 is filled with the IPA in the filter housing 30, the VENT automatic valve 60 may automatically perform the wetting as the upper air is drawn out through the VENT line S4 (step 418).

상기와 같이 설명한 본 발명은 반도체 공급 장비에서의 케미컬 필터를 사용하기 전에 웨팅을 사전에 준비하고 있다가 자동으로 웨팅을 수행함으로써, 케미컬 필터의 안정성 향상 및 수명 연장을 수행할 수 있는 효과가 있다. As described above, the present invention prepares the wetting before using the chemical filter in the semiconductor supply equipment, and then automatically performs the wetting, thereby improving the stability and extending the life of the chemical filter.

도 1은 종래 케미컬 필터의 측면도이고, 1 is a side view of a conventional chemical filter,

도 2는 본 발명에 따른 반도체 케미컬 필터의 웨팅 장치에 대한 블록 구성도이며,2 is a block diagram of a wetting device for a semiconductor chemical filter according to the present invention;

도 3은 도 2에 도시된 콘트롤러(70)를 세부적으로 도시한 블록 구성도이며,3 is a block diagram showing in detail the controller 70 shown in FIG.

도 4는 본 발명에 따른 반도체 케미컬 필터의 웨팅 방법에 대하여 상세하게 설명한 흐름도이다. 4 is a flow chart illustrating in detail the method of wetting the semiconductor chemical filter according to the present invention.

Claims (5)

반도체 케미컬 필터의 웨팅 장치에 있어서,In the wetting device of a semiconductor chemical filter, 기 세팅된 타이머에 의해 솔레노이드를 조절하는 콘트롤러와,Controller to adjust solenoid by preset timer, 상기 솔레노이드에 의해 구동된 후, IPA 라인을 통해 제공되는 IPA를 공급하는 IPA 자동 밸브와, An IPA automatic valve which is driven by the solenoid and supplies the IPA provided through the IPA line, 상기 IPA 역류 현상을 방지하며, 상기 IPA가 역류하지 않도록 제공하는 IPA 체크 밸브와,An IPA check valve preventing the IPA backflow phenomenon and providing the IPA with no backflow; 상기 솔레노이드에 의해 구동된 후, 초순수 워터 라인을 통해 제공되는 초순수 워터를 공급하는 초순수 자동 밸브와, An ultrapure water automatic valve which is driven by the solenoid and supplies ultrapure water provided through an ultrapure water line, 상기 초순수 워터 역류 현상을 방지하며, 상기 초순수 워터가 역류하지 않도록 제공하는 초순수 체크 밸브와, An ultrapure water check valve which prevents the ultrapure water backflow and provides the ultrapure water so as not to backflow; 상기 솔레노이드에 의해 구동된 후, 상기 IPA가 채워지고 남은 상부쪽에 있는 공기를 빼내는 VENT 자동 밸브와, A VENT automatic valve which is driven by the solenoid and then drains the air in the upper part left after the IPA is filled; 상기 IPA에 의해 기포가 제거되고, 상기 초순수 워터에 의해 상기 IPA가 제거되는 필터 하우징A filter housing in which air bubbles are removed by the IPA and the IPA is removed by the ultrapure water. 을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 케미컬 필터의 웨팅 장치.Wetting device for a semiconductor chemical filter comprising a. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 콘트롤러는, The controller, 상용전원을 공급하는 전원부와,A power supply unit for supplying commercial power; 상기 상용전원을 직류 전원으로 변환하는 파워 공급기와,A power supply for converting the commercial power into direct current power; 상기 직류 전원을 스위칭(switching)하는 전원 스위치와,A power switch for switching the DC power source; 상기 스위칭 제어에 따라 각각 구동되며, 다르게 세팅된 시간을 갖는 복수의 타이머와,A plurality of timers each driven according to the switching control and having differently set times; 상기 복수 타이머의 다른 시간 제어에 따라 접점을 상기 시간에 맞게 붙이는 복수의 릴레이와, A plurality of relays for attaching contacts according to the time according to different time control of the plurality of timers; 공기를 제공하는 에어 공급부와,An air supply for providing air, 상기 에어 공급부로부터 제공되는 공기와, 상기 접점이 붙음에 따라 동작하는 솔레노이드The solenoid which operates as the air provided from the air supply unit and the contact is attached 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 케미컬 필터의 웨팅 장치.Wetting device for a semiconductor chemical filter comprising a. 반도체 케미컬 필터의 웨팅 방법에 있어서,In the wetting method of a semiconductor chemical filter, 직류 전원에 의해 구동된 후, 상기 전원을 순차적으로 스위칭(switching)하는 단계와, After being driven by a DC power supply, sequentially switching the power; 상기 전원 제어에 따라 구동되어 제1 타이머의 세팅된 시간을 구동하는 단계와, Driving according to the power control to drive a set time of a first timer; 상기 시간 구동에 따라 릴레이를 붙이는 단계와, Attaching a relay according to the time driving; 상기 릴레이 접점이 붙음에 따라 구동을 시작하여 IPA 자동 밸브를 조절하는 단계와, Adjusting the IPA automatic valve by starting driving as the relay contact is attached; 상기 IPA 자동 밸브가 열러 IPA 라인을 통해 제공되는 IPA를 상기 필터 하우징에 제공하여 자체 내의 기포를 제거하는 단계Opening the IPA automatic valve to provide IPA provided through an IPA line to the filter housing to remove air bubbles in itself; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 케미컬 필터의 웨팅 방법.Wetting method of a semiconductor chemical filter comprising a. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 기포가 제거되면, 상기 전원 제어에 따라 구동되어 제2 타이머의 세팅된 시간을 구동하는 단계와, When the bubble is removed, driving the set time of a second timer driven by the power control; 상기 시간 구동에 따라 릴레이를 붙이는 단계와, Attaching a relay according to the time driving; 상기 릴레이 접점이 붙음에 따라 구동을 시작하여 초순수 자동 밸브를 조절하는 단계와, Adjusting the ultrapure water automatic valve by starting driving the relay contact; 상기 초순수 자동 밸브가 열러 초순수 워터 라인을 통해 제공되는 초순수 워터를 상기 필터 하우징에 제공하여 기포를 제거하고 남은 IPA를 제거하는 단계Opening the ultrapure water automatic valve to provide ultrapure water provided through the ultrapure water line to the filter housing to remove bubbles and remove the remaining IPA 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 케미컬 필터의 웨팅 방법.Wetting method of a semiconductor chemical filter further comprises. 제 4 항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 IPA가 제거되면, 상기 전원 제어에 따라 구동되어 제3 타이머의 세팅된 시간을 구동하는 단계와, If the IPA is removed, driving according to the power control to drive a set time of a third timer; 상기 시간 구동에 따라 릴레이를 붙이는 단계와, Attaching a relay according to the time driving; 상기 릴레이 접점이 붙음에 따라 구동을 시작하여 VENT 자동 밸브를 조절하는 단계와, Adjusting the VENT automatic valve by starting driving as the relay contact is attached; 상기 VENT 자동 밸브가 열러 상기 필터 하우징 상부쪽에 있는 공기를 VENT 라인을 통해 빼내는 단계Opening the VENT automatic valve to draw air at the top of the filter housing through the VENT line 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 케미컬 필터의 웨팅 방법.Wetting method of a semiconductor chemical filter further comprises.
KR1020030068196A 2003-10-01 2003-10-01 Method and apparatus for wetting in semiconductor chemical filter KR20050032182A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030068196A KR20050032182A (en) 2003-10-01 2003-10-01 Method and apparatus for wetting in semiconductor chemical filter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030068196A KR20050032182A (en) 2003-10-01 2003-10-01 Method and apparatus for wetting in semiconductor chemical filter

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20050032182A true KR20050032182A (en) 2005-04-07

Family

ID=37236755

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030068196A KR20050032182A (en) 2003-10-01 2003-10-01 Method and apparatus for wetting in semiconductor chemical filter

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20050032182A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108854556A (en) * 2017-05-16 2018-11-23 东京毅力科创株式会社 Liquid filter humidity method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108854556A (en) * 2017-05-16 2018-11-23 东京毅力科创株式会社 Liquid filter humidity method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MY144150A (en) Method and device for coding a video picture in inter or intra mode
JP2009239061A (en) Substrate processor
WO2016119708A1 (en) Water tank assembly for water purifier, and water purifier
JP5318670B2 (en) Substrate processing apparatus, substrate processing method, program, and storage medium
KR20050032182A (en) Method and apparatus for wetting in semiconductor chemical filter
KR102263669B1 (en) Cleaning apparatus and cleaning method for water treatment membrane, and water treatment system
JP4877659B2 (en) Ice making equipment
JP2017019046A (en) Working fluid supply device for electrical discharge machine
JP4913643B2 (en) Tank cleaning system
KR200493478Y1 (en) Concent applying type safe device for shut down of airconditioner power supply
JP2006241708A (en) Siphon draining system
MY131232A (en) Method and installation for manufacturing lime water using deionized water
KR100328268B1 (en) Cleaner of chemical supply line
US20010050092A1 (en) Wafer cleaning method
JP2000185203A (en) Operating method for membrane deaeration device
JP2000240600A (en) Vacuum liquid pumping device
JPH0332792A (en) Method for controlling vacuum pump of deoxidation system
CN215165122U (en) Automatic air-blowing drainage system for high-pressure water channel and pavement cleaning mechanical equipment
CN206731754U (en) A kind of Analog radon observction observes the multiple auto-flushing in scintillation chamber and power-off protection apparatus
KR102236984B1 (en) Concent applying type safe device for shut down of airconditioner power supply
KR200365779Y1 (en) A control document of pump-motor
KR200241407Y1 (en) Apparatus for rinsing semiconductor wafer and using quick dump
KR0166213B1 (en) Wet treating apparatus of chemical filter
JP3003429U (en) Deaerator
JP2016046268A (en) Liquid discharging method of substrate processing device and substrate processing device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application