KR20050017267A - 균일한 대면적 플라즈마 발생을 위한 고주파전원 공급장치 - Google Patents
균일한 대면적 플라즈마 발생을 위한 고주파전원 공급장치Info
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- supply pipe
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/321—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
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- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
Claims (6)
- 고주파발진기와;플라즈마전극과;일부에 상기 고주파발진기와 연결되는 입력단을 구비하고, 다른 일부에 상기 플라즈마전극과 연결되는 출력단을 구비하며, 상기 고주파발진기에 대해 병렬로 연결되는 다수의 임피던스정합기를 포함하는 고주파전원 공급장치
- 제1항에 있어서,상기 다수의 임피던스정합기는 상기 플라즈마전극의 상부에서 서로 대칭적으로 위치하는 고주파전원 공급장치
- 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 플라즈마전극의 중심부에는 반응가스를 공급하는 가스공급관의 일단이 연결되는 고주파전원 공급장치
- 제3항에 있어서,상기 임피던스정합기는 상기 가스공급관의 둘레를 밀착하여 감싸는 클램프도선에 의해 상기 가스공급관에 연결되는 고주파전원 공급장치
- 제3항에 있어서,상기 임피던스정합기는, 하단이 상기 플라즈마 전극과 접하며 상기 가스공급관을 감싸는 원통형상의 도전관에, 상기 도전관의 둘레를 밀착하여 감싸는 클램프도선에 의해 연결되는 고주파전원 공급장치
- 제5항에 있어서,상기 도전관은 은이 도금된 금속 또는 구리 중에서 선택되는 어느 하나의 재질로 구성되는 고주파전원 공급장치
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Also Published As
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