KR20050001427A - 리소그래피장치 및 집적회로 제조방법 - Google Patents
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Description
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- 리소그래피 투영장치(1)에 있어서,방사선의 투영빔을 공급하는 방사선시스템; 필요한 패턴에 따라 상기 투영빔(PB)을 패터닝하는 역할을 하는 패터닝수단을 지지하는 지지구조체(MT), 기판의 타겟부상에 상기 패터닝된 빔을 투영하는 투영시스템(PL) 및 상기 투영시스템(PL)에 대한 상기 패터닝수단의 공간 위치를 판정하는 조립체를 포함하고, 상기 조립체는 상기 공간 위치를 판정하기에 충분한 다수의 센서를 가지는 측정 유닛을 포함하며, 상기 다수의 센서는 상기 투영시스템(PL)상에 장착되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치(1).
- 제1항에 있어서,상기 리소그래피 투영장치(1)는 EUV 방사선 소스로 작동되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치(1).
- 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 측정 유닛은 6 자유도 간섭계 측정 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치(1).
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 센서 중 1이상은 상기 패터닝수단의 패턴 영역 외부에서 상기 패터닝수단의 반사부상에 레이저 빔을 사용하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치(1).
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 리소그래피 투영장치(1)내의 상기 패터닝수단은 스캐닝 방향으로 조사되고, 상기 투영시스템(PL)에 대한 상기 패터닝수단의 상기 공간 위치는 제1평면내의 3개 이상의 측정 지점을 이용하여 판정되며, 상기 제1평면은 상기 스캐닝 방향과 소정 각도를 이루고, 제1라인상의 2개 이상의 측정 지점은 상기 제1평면내에 존재하지 않으며 1이상의 지점은 상기 제1평면과 상기 제1라인 모두에 존재하지 않는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치(1).
- 제5항에 있어서,상기 측정 지점은 상기 지지구조체(MT)상에 위치되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치(1).
- 제5항 또는 제6항에 있어서,상기 2개의 측정 지점은 상기 패터닝수단의 패턴 영역의 외부에서 상기 패터닝수단상에 위치되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 투영장치(1).
- - 방사선 소스(6)에 의하여 방출되는 방사선으로부터 방사선의 투영빔(6)을 형성하기 위해 방사선시스템(3, 4)을 제공하는 단계,- 상기 투영빔을 패터닝하기 위해 상기 투영빔에 의하여 조사될 패터닝수단을 유지하도록 구성된 지지구조체(MT)를 제공하는 단계,- 기판을 유지하도록 구성된 기판테이블(WT)을 제공하는 단계, 및- 상기 기판의 타겟부상에 상기 패터닝수단의 조사된 부분을 이미징하도록 구성되고 배치된 투영시스템(5)을 제공하는 단계를 포함하는 리소그래피 공정에 의하여 집적 회로(IC)를 제조하는 방법에 있어서,- 상기 지지구조체에 대한 상기 패터닝수단의 위치를 1회이상 판정하는 단계,- 리소그래피 투영장치의 작동 중에, 상기 지지구조체의 위치의 측정으로부터 상기 투영시스템에 대한 상기 패터닝수단의 위치를 판정하는 단계를 특징으로 하는 방법.
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