KR200483331Y1 - 연속회분식 반응기 - Google Patents

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KR200483331Y1
KR200483331Y1 KR2020160005354U KR20160005354U KR200483331Y1 KR 200483331 Y1 KR200483331 Y1 KR 200483331Y1 KR 2020160005354 U KR2020160005354 U KR 2020160005354U KR 20160005354 U KR20160005354 U KR 20160005354U KR 200483331 Y1 KR200483331 Y1 KR 200483331Y1
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Abstract

본 고안의 일 실시 예에 따르면, 반응조의 상기 외벽에 배치되고, 상기 반응조의 바닥면을 기준으로 서로 다른 높이를 갖으며 처리된 폐수를 상기 반응조로부터 토출하는 복수의 처리수 유출구들을 포함하되, 상기 복수의 처리수 유출구들은 상기 반응조 외벽과 상기 베리어 사이를 관통함으로써, 상기 복수의 처리수 유출구들은, 상기 토출되는 폐수를 상기 고온의 온수와 열교환시킬 수 있다.

Description

연속회분식 반응기{Reactor for Sequencing Batch}
본 고안은 호기성 입상 슬러지의 생성을 위한 연속회분식 반응기에 관한 것이다.
공장 및 가정에서 발생되는 폐수를 처리하기 위해, 부유 미생물이 이용될 수 있다. 국내에서도 폐수를 처리하기 위해 부유 미생물을 이용하여 유기물을 산화, 제거하는 활성 슬러지 공법이 적용되었다.
특히, 최근 미생물의 자기 고정화 방식을 이용한 호기성 입상화 공정이 많은 관심을 받고 있다. 호기성 입상화는 반응조에 고농도의 미생물 군집체를 유지시켜, 밀도가 크고 조밀하여 강한 미생물적 구조를 가진 입자를 형성시켜, 높은 침강성을 나타내며, 고부하의 충격에도 견딜 수 있는 능력이 있다.
호기성 미생물 입상화를 위한 장치로 연속회분식 장치(Sequencing Batch Reactor)에 대한 연구가 증가하고 있다. 연속회분식 장치는 구성이 간소하여 부지가 적게 필요하여 소규모 처리장에 적합하고, 고액분리에 대한 효율성이 높으며, 운전이 유연한 장점이 있다.
특허공개공보 10-2003-0060732에서 개시된 것과 같이, 질소와 인을 효율적으로 제거하기 위해, 연속회분식 반응조들과 슬러지 저장 농축조들을 병렬로 연결시킨 구조들이 제안되고 있다.
하지만, 종래 방법에 따른 호기성 입상 슬러지의 생성 방법은 연속회분식 장치의 운전 과정이 복잡하고, 운전과정에서 거품, 스컴(Scum), 및 사상균 등이 발생하여 슬러지의 유지와 침전 효율에 악영향을 미치며, 호기성 이상 슬러지의 배양에 많은 시간 소요된다.
본 고안이 해결하고자 하는 일 기술적 과제는 높은 침강성을 갖는 연속회분식 반응기를 제공하는 데 있다.
본 고안이 해결하고자 하는 다른 기술적 과제는 운전 과정이 간소한 연속회분식 반응기를 제공하는 데 있다.
본 고안이 해결하고자 하는 또 다른 기술적 과제는 고효율의 연속회분식 반응기를 제공하는 데 있다.
상기 기술적 과제를 해결하기 위해 본 고안은 연속회분식 반응기를 제공한다.
본 고안의 일 실시 예에 따른 연속회분식 반응기는, 폐수가 유입되며 상기 폐수를 폭기시켜 호기성 입상 슬러지를 생성하는 반응조, 상기 반응조 외벽을 둘러싸는 베리어(barrier), 상기 반응조의 외벽과 상기 베리어 사이로 상기 폐수보다 고온의 온수를 공급하여, 상기 반응조 내의 상기 폐수의 온도가 기준온도범위를 유지하도록 구성된 온도 조절 장치, 상기 반응조의 바닥면에 위치하고, 산소를 공급하는 산소 공급 펌프 및 상기 반응조의 상기 외벽에 배치되고, 상기 반응조의 바닥면을 기준으로 서로 다른 높이를 갖으며 처리된 폐수를 상기 반응조로부터 토출하는 복수의 처리수 유출구들을 포함하되, 상기 복수의 처리수 유출구들은 상기 반응조 외벽과 상기 베리어 사이를 관통함으로써, 상기 복수의 처리수 유출구들은, 상기 토출되는 폐수를 상기 고온의 온수와 열교환시키며, 상기 온도 조절 장치는 상기 베리어의 상단에 연결된 유체 유출구 및 상기 베리어의 하단에 연결된 유체 투입구를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 온수를 저장하는 유체 저장소를 더 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 유체 저장소와 상기 유체 투입구를 연결하는 투입관 및 상기 유체 유출구와 상기 유체 저장소를 연결하는 유출관을 더 포함하고, 상기 유체는 상기 유체 저장소, 상기 투입관, 상기 반응조의 상기 외벽, 및 상기 유출관을 순환하는 것을 포함할 수 있다.
본 고안의 실시 예에 따르면, 반응조의 상기 외벽에 배치되고, 상기 반응조의 바닥면을 기준으로 서로 다른 높이를 갖으며 처리된 폐수를 상기 반응조로부터 토출하는 복수의 처리수 유출구들을 포함하되, 상기 복수의 처리수 유출구들은 상기 반응조 외벽과 상기 베리어 사이를 관통함으로써, 상기 복수의 처리수 유출구들은, 상기 토출되는 폐수를 상기 고온의 온수와 열교환시킬 수 있다.
이로써, 호기성 입상 슬러지가 생성된 처리된 폐수는 반응조로부터 토출되되, 복수의 처리수 유출구들이 반응조 외벽과 베리어 사이를 관통하므로, 토출되는 폐수는 지속적으로 고온의 온수와 열교환될 수 있다. 따라서, 호기성 입상 슬러지는 반응조 뿐만 아니라, 복수의 처리수 유출구들에서도 생성되므로, 고효율의 연속회분식 장치를 제공할 수 있다.
도 1은 본 고안의 실시 예에 따른 호기성 입상 슬러지의 생성 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 2는 본 고안의 실시 예에 따른 호기성 입상 슬러지의 생성 방법에 따라 생성된 호기성 입상 슬러지의 시간에 따른 SVI를 측정한 것이다.
도 3은 본 고안의 실시 예에 대한 비교 예에 따른 슬러지 생성 조건에서 시간의 경과에 따른 질소 농도 및 COD 농도를 측정한 것이다.
도 4는 본 고안의 실시 예에 따른 슬러지 생성 조건에서 시간의 경과에 따른 질소 농도 및 COD 농도를 측정한 것이다.
도 5는 본 고안의 실시 예에 대한 비교 예에 따라 생성된 슬러지의 SEM 사진이다.
도 6은 본 고안의 실시 예에 따라 생성된 슬러지의 SEM 사진이다.
도 7은 본 고안의 실시 예에 따른 호기성 입상 슬러지 생성 방법에 사용되는 연속회분식 장치를 설명하기 위한 도면이다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시 예를 상세히 설명할 것이다. 그러나 본 고안의 기술적 사상은 여기서 설명되는 실시 예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화 될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시 예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 고안의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.
본 명세서에서, 어떤 막이 다른 막 또는 기판상에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 막 또는 기판상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제 3의 막이 개재될 수도 있다는 것을 의미한다. 또한, 도면들에 있어서, 막 및 영역들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. 여기에 설명되고 예시되는 각 실시 예는 그것의 상보적인 실시 예도 포함한다.
도 1은 본 고안의 실시 예에 따른 호기성 입상 슬러지의 생성 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 1을 참조하면, 폐수가 준비된다.(S10) 상기 폐수의 암모늄 농도에 대한 화학적 산소 요구량(COD)의 비율이 4보다 큰 경우, 다량의 유기물에 의해 산소를 사용하기 위한 기질경쟁에서 호기성 종속 영양균이 우위를 점하게 되어, 질산화 독립 영양균의 배양이 어려워 질 수 있다. 이로 인해, 유기물 제거와 질산화가 용이하지 않아 대량의 사상균이 발생하여, 슬러지 침강성이 감소하고, 유출수의 수질이 낮아질 수 있다.
또한, 상기 폐수의 암모늄의 농도에 대한 화학적 산소 요구량(COD)의 비율이 2보다 작은 경우, 호기성 입상 슬러지를 생성하기 위한 운전 초기에 암모늄의 높은 농도로 인하여 free ammonia 또는 free nitrous acid가 발생하고, 이로 인해, 미생물이 사멸하여 입상화가 원활하게 진행되지 못할 수 있다.
따라서, 본 고안의 실시 예에 따른 상기 폐수의 암모늄 농도에 대한 화학적 산소 요구량(COD)의 비율은 2~4일 수 있다.
상기 폐수에 금속 양이온이 첨가될 수 있다.(S20) 상기 금속 양이온은 +2가 금속 이온일 수 있다. 예를 들어, 상기 금속 양이온은 칼슘(Ca) 이온을 포함할 수 있다. 상기 폐수의 칼슘의 농도는 100~150 mg/L일 수 있다.
상기 금속 양이온이 첨가된 상기 폐수가 반응조로 유입될 수 있다.(S30) 상기 반응조의 외벽에 유체가 공급될 수 있다. 상기 유체의 온도는 상기 폐수의 온도보다 높을 수 있다. 상기 반응조의 상기 외벽에 공급되는 상기 유체에 의해, 상기 폐수의 온도가 상승될 수 있다. 이와는 달리, 상기 유체의 온도가 상기 폐수의 온도보다 낮은 경우, 상기 반응조의 상기 외벽에 공급되는 상기 유체에 의해, 상기 폐수의 온도가 낮아질 수 있다.
상기 반응조의 상기 외벽에 공급되는 상기 유체에 의해, 상기 반응조 내의 상기 폐수는 기준온도범위로 유지될 수 있다. 예를 들어, 상기 폐수의 온도는 30~35℃로 유지될 수 있다. 상기 폐수의 온도가 35℃보다 높은 경우, 호기성 입상 슬러지의 생성을 위한 미생물이 원활하게 생성되지 못할 수 있다.
상기 반응조 내의 폐수가 기준온도범위를 유지하는 상태에서, 상기 폐수가 폭기(aeration) 및 침강 과정을 거쳐, 호기성 입상 슬러지가 생성될 수 있다.(S40)
본 고안의 실시 예에 따른 호기성 입상 슬러지의 생성 방법에 따르면, 상기 폐수의 암모늄의 농도에 대한 화학적 산소 요구량(COD)의 비율이 2~4이고, 상기 폐수에 금속 양이온이 첨가되며, 상기 반응조 내의 상기 폐수의 온도는 30~35℃로 유지될 수 있다. 이로 인해, 고침강성, 및 고효율의 호기성 입상 슬러지의 생성 방법이 제공될 수 있다. 이를, 도 2 내지 6을 참조하여 설명한다.
도 2는 본 고안의 실시 예에 따른 호기성 입상 슬러지의 생성 방법에 따라 생성된 호기성 입상 슬러지의 시간에 따른 SVI(Sludge Volume Index)를 측정한 것이다.
도 2를 참조하면, 운전조건 1은 반응조로 유입되는 폐수의 COD 농도가 400mg/L이고, 폐수의 NH4-N의 농도가 20mg/L이고, 폐수의 칼슘이온(Ca2 +) 농도가 40mg/L이고, 폐수의 온도를 25℃로 유지한 상태로 연속회분식 반응 장치를 이용하여 슬러지를 생성하여, 시간에 따라 SVI를 측정한 것이다. 즉, 운전조건 1은 폐수의 NH4-N의 농도에 대한 COD 농도의 비율이 20인 상태에서 슬러지를 생성한 것이다.
운전조건 2는, 본 고안의 실시 예에 따라, 반응조로 유입되는 폐수의 COD 농도가 300mg/L이고, 폐수의 NH4-N의 농도가 100mg/L이고, 폐수의 칼슘이온(Ca2 +) 농도가 100mg/L이고, 폐수의 온도를 35℃로 유지한 상태로 연소회분식 반응 장치를 이용하여 슬러지를 생성하여, 시간에 따라 SVI를 측정한 것이다. 즉, 운전조건 1은 폐수의 NH4-N의 농도에 대한 COD 농도의 비율이 4 상태에서 슬러지를 생성한 것이다.
약 30일 이전까지는 운전조건 1의 SVI가 높게 측정되었지만, 약 20일 이후부터 운전조건 1의 SVI가 증가하기 시작했다. 그리고, 약 30일이 경과하는 경우, 본 고안의 실시 예에 따른 운전조건 2의 SVI가 운전조건 1의 SVI보다 현격하게 감소하는 것을 알 수 있다. 이에 따라, 운전조건 1과 비교하여, 운전조건 2가 현저하게 우수한 침강성을 갖는 것을 확인할 수 있다.
도 3은 본 고안의 실시 예에 대한 비교 예에 따른 슬러지 생성 조건에서 시간의 경과에 따른 질소 농도 및 COD 농도를 측정한 것이고, 도 4는 본 고안의 실시 예에 따른 슬러지 생성 조건에서 시간의 경과에 따른 질소 농도 및 COD 농도를 측정한 것이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 도 3은 도 2를 참조하여 설명된 운전조건 1에서 시간의 경과에 따른 질소 농도 및 COD 농도를 측정한 것이다. 도 4는 도 2를 참조하여 설명된 운전조건 2에서 시간의 경과에 따른 질소 농도 및 COD 농도를 측정한 것이다.
운전조건 1의 경우, 시간이 경과함에 따라 COD 농도가 완만하게 감소하는 것을 알 수 있다. 반면, 운전조건 2의 경우, 시간이 경과함에 따라 COD의 농도가 짧은 시간 내에 급격히 감소하는 것을 알 수 있다.
또한, 운전조건 1의 경우 시간이 경과함에 따라 NO2-N 및 NO3-N의 농도가 완만하게 증가하지만, 운전조건 2의 경우, 시간이 경과함에 따라 NO2-N 및 NO3-N의 농도가 급격하게 증가하는 것을 알 수 있다.
도 2를 참조하여 설명된 것과 같이, 운전조건 1에서는 폐수의 NH4-N의 농도에 대한 COD 농도의 비율이 20이다. 다시 말해, 운전조건 2와 달리, 운전조건 2에서는, NH4-N과 비교하여 상대적으로 다량의 유기물이 폐수 내에 존재하여, 산소를 사용하기 위한 기질경쟁에서 호기성 종속 영양균이 우위를 점하게 되고, 이에 따라 질산화 독립 영양균의 배양이 어려워 진 것을 알 수 있다.
이를 도 5 및 도 6을 참조하여 설명한다.
도 5는 본 고안의 실시 예에 대한 비교 예에 따라 생성된 슬러지의 SEM(Scanning Electron Microscope) 사진이고, 도 6은 본 고안의 실시 예에 따라 생성된 슬러지의 SEM 사진이다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 도 5는 도 2를 참조하여 설명된 운전조건 1에서 생성된 슬러지의 SEM 사진이고, 도 4는 도 2를 참조하여 설명된 운전조건 2에서 생성된 슬러지의 SEM 사진이다.
운전조건 1에서 생성된 슬러지의 SEM 사진에서 대량의 사상균을 발견할 수 있다. 반면, 운전조건 2에서 생성된 슬러지의 SEM 사진에는, 운전조건 1의 SEM 사진과 비교하여, 사상균이 현저하게 적은 것을 알 수 있다.
도 7은 본 고안의 실시 예에 따른 호기성 입상 슬러지 생성 방법에 사용되는 연속회분식 장치를 설명하기 위한 도면이다.
도 7을 참조하면, 연속회분식 장치(100)는 폐수가 유입되는 반응조(110)를 포함할 수 있다. 상기 폐수는 상기 반응조(110)의 상단에 위치한 폐수 유입구(151)를 통해 상기 반응조(110) 내로 유입될 수 있다.
상기 반응조(110)로 유입되는 상기 폐수의 암모늄의 농도에 대한 화학적 산소 요구량(COD)의 비율이 2~4일 수 있다. 상기 반응조(110)로 상기 폐수가 유입되기 전, 상기 폐수에 금속 양이온이 첨가될 수 있다. 상기 금속 양이온은 칼슘 이온일 수 있다. 상기 폐수의 칼슘 이온의 농도는 100~150 mg/L일 수 있다.
상기 연속회분식 장치(100)는 온도 조절 장치를 포함할 수 있다. 상기 온도 조절 장치는 상기 반응조(110)의 외벽에 유체를 공급할 수 있다. 상기 유체는 액체 상태일 수 있다.
상기 온도 조절 장치에서 공급되는 상기 유체에 의해, 상기 반응조(110) 내의 상기 폐수의 온도가 기준온도범위를 유지할 수 있다. 상기 기준온도범위는 30~35℃일 수 있다.
상기 온도 조절 장치는, 유체 저장소(122), 베리어(124), 유체 투입구(125), 유체 유출구(126), 투입관(127), 및 유출구(128)를 포함할 수 있다.
상기 유체 저장소(122)에는 상기 유체가 저장될 수 있다. 상기 유체 저장소(122)는 상기 유체가 일정 온도를 갖도록 유지시킬 수 있다. 예를 들어, 상기 유체 저장소(122)는 상기 유체가 상기 기준온도범위보다 높은 온도를 갖도록, 상기 유체에 열을 공급할 수 있다.
상기 베리어(124)는 상기 반응조(110)의 상기 외벽을 둘러쌀 수 있다. 상기 베리어(124) 및 상기 반응조(110)의 상기 외벽 사이에 상기 유체가 제공될 수 있다.
상기 유체 투입구(125)는 상기 베리어(124)의 하단에 위치할 수 있다. 상기 유체 투입구(125)로부터 상기 반응조(110)의 상기 외벽으로 상기 유체가 공급될 수 있다. 상기 유체 유출구(126)는 상기 베리어(124)의 상단에 위치할 수 있다. 상기 반응조(110)의 상기 외벽에 제공되었던 상기 유체는 상기 유체 유출구(126)를 통해 상기 반응조(110)의 상기 외벽으로부터 유출될 수 있다.
상기 투입관(127)은 상기 유체 저장소(122)와 상기 유체 투입구(125)를 서로 연결할 수 있다. 상기 유출관(128)은 상기 유체 유출구(126)와 상기 유체 저장소(122)를 서로 연결할 수 있다.
상기 유체는, 상기 유체 저장소(122), 상기 투입관(127), 상기 반응조(110)의 상기 외벽, 및 상기 유출관(128)을 순환할 수 있다.
상기 연속회분식 장치(100)는 산소 공급 펌프(130)를 포함할 수 있다. 상기 산소 공급 펌프(130)는 상기 반응조(110)의 바닥면에 위치하고, 상기 반응조(110) 내의 상기 폐수에 산소를 공급할 수 있다.
상기 연속회분식 장치(100)는 상기 반응조(110)의 상기 외벽에 배치된 복수의 처리수 유출구들(141~147)을 포함할 수 있다. 상기 처리 유출구들(141~147)은 상기 온도조절장치의 상기 베리어(124)를 관통할 수 있다. 상기 처리수 유출구들(141~147)은 상기 반응조(110)의 상기 바닥면을 기준으로 서로 다른 높이에 배치될 수 있다. 상기 연속회분식 장치(100)의 운전 조건 등에 따라, 상기 처리수 유출구들(141~147) 중의 일부가 개방되어, 상기 폐수가 정화된 상기 처리수가 상기 반응조(110)로부터 유출될 수 있다.
상기 연속회분식 장치(100)는 상기 반응조(110)의 상부에 위치한 폐수 유입구(151), 가스 유출구(152), 보충 유입구(153), 온도 및 pH 측정기(154), 및 용존산소 측정기(155)를 포함할 수 있다.
상기 폐수가 정화되는 과정에서 발생한 가스들이 상기 가스 배출구(152)를 통해 외부로 배출될 수 있다.
상기 보충 유입구(153)를 통해, 상기 폐수의 pH 조절을 위한 알칼리성 물질이 상기 반응조(110) 내로 유입되거나, 미생물의 성장에 필요한 영양염이 상기 반응조(110) 내로 유입될 수 있다.
상기 온도 및 pH 측정기(154)는 상기 반응조(110) 내의 상기 폐수가 상기 기준온도범위를 유지하는지 여부를 측정하고, 상기 반응조(110) 내의 상기 폐수의 pH를 측정할 수 있다. 예를 들어, 상기 온도 및 pH 측정기(154)에서 측정된 상기 폐수의 온도가 기준온도범위 내에 있지 않은 경우, 상기 온도조절장치는 상기 반응조(110) 내의 상기 폐수가 상기 기준온도범위를 갖도록 상기 유체의 온도를 조절할 수 있다.
상기 용존 산소 측정기(155)는 상기 반응조(110) 내의 상기 폐수의 용존 산소량(dissolved dxygen)을 측정할 수 있다.
이상, 본 고안을 바람직한 실시 예를 사용하여 상세히 설명하였으나, 본 고안의 범위는 특정 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 특허청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 고안의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.
100: 연속회분식 장치 110: 반응조
122: 유체 저장소 124: 베리어
125: 유체 투입구 126: 유체 유출구
127: 투입관 128: 유출구
130: 산소 공급 펌프 141~147: 처리수 유출구
151: 페수 유입구 152: 가스 유출구
153: 보충 유입구 154: 온도 및 pH 측정기
155: 용존산소 측정기

Claims (3)

  1. 폐수가 유입되며 상기 폐수를 폭기시켜 호기성 입상 슬러지를 생성하는 반응조;
    상기 반응조 외벽을 둘러싸는 베리어(barrier);
    상기 반응조의 외벽과 상기 베리어 사이로 상기 폐수보다 고온의 온수를 공급하여, 상기 반응조 내의 상기 폐수의 온도가 기준온도범위를 유지하도록 구성된 온도 조절 장치;
    상기 반응조의 바닥면에 위치하고, 산소를 공급하는 산소 공급 펌프; 및
    상기 반응조의 상기 외벽에 배치되고, 상기 반응조의 바닥면을 기준으로 서로 다른 높이를 갖으며 처리된 폐수를 상기 반응조로부터 토출하는 복수의 처리수유출구들을 포함하되,
    상기 복수의 처리수 유출구들은 상기 반응조 외벽과 상기 베리어 사이를 관통함으로써, 상기 복수의 처리수 유출구들은, 상기 폐수를 상기 고온의 온수와 열교환시키며
    상기 온도 조절 장치는
    상기 베리어의 상단에 연결되고, 상기 복수의 처리수 유출구들보다 상단에 마련되어 상기 고온의 온수를 유출하는 유체 유출구 및
    상기 베리어의 하단에 연결되고, 상기 복수의 처리수 유출구들보다 하단에 마련되어 상기 고온의 온수를 투입하는 유체 투입구를 포함하는 연속회분식 반응기..
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 온도 조절 장치는,
    상기 온수를 저장하는 유체 저장소;를 더 포함하는 연속회분식 반응기
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 온도 조절 장치는,
    상기 유체 저장소와 상기 유체 투입구를 연결하는 투입관; 및
    상기 유체 유출구와 상기 유체 저장소를 연결하는 유출관을 더 포함하고,
    상기 유체는 상기 유체 저장소, 상기 투입관, 상기 반응조의 상기 외벽, 및 상기 유출관을 순환하는 것을 포함하는 연속회분식 반응기.
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JP2007136363A (ja) * 2005-11-18 2007-06-07 Sumitomo Heavy Ind Ltd 粒状微生物汚泥生成方法
KR101276756B1 (ko) * 2012-06-13 2013-06-24 벽산엔지니어링주식회사 회분식 호기,혐기 순차 건식발효시스템 및 방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007136363A (ja) * 2005-11-18 2007-06-07 Sumitomo Heavy Ind Ltd 粒状微生物汚泥生成方法
KR101276756B1 (ko) * 2012-06-13 2013-06-24 벽산엔지니어링주식회사 회분식 호기,혐기 순차 건식발효시스템 및 방법

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