KR200456404Y1 - Nozzle Cleaning device - Google Patents

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KR200456404Y1
KR200456404Y1 KR2020070005564U KR20070005564U KR200456404Y1 KR 200456404 Y1 KR200456404 Y1 KR 200456404Y1 KR 2020070005564 U KR2020070005564 U KR 2020070005564U KR 20070005564 U KR20070005564 U KR 20070005564U KR 200456404 Y1 KR200456404 Y1 KR 200456404Y1
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김종길
장용배
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주식회사 케이씨텍
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B15/00—Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
    • B05B15/50—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles

Abstract

본 고안은 노즐 세정장치에 관한 것으로, 슬릿노즐의 토출구를 따라 주행하는 러버블록이 복수의 지지바를 통해 메인블록 상에 승강 가능하게 지지되어 있으며, 상기 러버블록은 동극이 상호 대면하여 척력을 갖는 복수 쌍의 자석에 의해 메인블록과 이격되어 슬릿노즐의 토출구에 긴밀히 접촉하는 노즐 세정장치를 제공한다.The present invention relates to a nozzle cleaning apparatus, wherein a rubber block traveling along a discharge port of a slit nozzle is supported on a main block via a plurality of support bars, and the rubber block has a plurality of repulsive forces having the same polarity. Provided is a nozzle cleaning device spaced apart from the main block by a pair of magnets in intimate contact with the outlet of the slit nozzle.

본 고안에 따르면, 러버블록을 슬리노즐 측으로 탄성 가압시키기 위한 탄성수단으로 동(同) 극간 척력을 갖는 자석이 이용된다. 따라서, 슬릿노즐과의 러버블록 간의 접촉특성 저하를 방지할 수 있고, 주기적인 탄성수단 교체 없이도 영구 사용이 가능하며, 완충 시 기계적 소음이 전혀 없어 정숙을 구현할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, a magnet having the same inter-pole repulsive force is used as an elastic means for elastically pressing the rubber block toward the slew nozzle side. Therefore, it is possible to prevent the deterioration of the contact characteristics between the slit nozzle and the rubber block, and to use it permanently without replacing the periodic elastic means, and there is no mechanical noise at the time of the shock absorbing, thereby achieving the quietness.

Description

노즐 세정장치{Nozzle Cleaning device}Nozzle Cleaning Device

도 1은 스핀리스 코팅법에 의한 종래 감광액 도포장치의 개략적인 사시도.1 is a schematic perspective view of a conventional photosensitive liquid coating apparatus by a spinless coating method.

도 2는 도 1의 감광액 도포장치에 구비된 노즐 세정장치의 단면도.FIG. 2 is a cross-sectional view of a nozzle cleaner provided in the photosensitive liquid applying device of FIG. 1. FIG.

도 3은 본 고안의 제1 실시예에 따른 노즐 세정장치의 단면도.3 is a cross-sectional view of the nozzle cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention.

도 4는 본 고안의 제2 실시예에 따른 노즐 세정장치의 단면도.Figure 4 is a cross-sectional view of the nozzle cleaning apparatus according to a second embodiment of the present invention.

도 5는 본 고안의 제3 실시예에 따른 노즐 세정장치의 단면도.5 is a cross-sectional view of a nozzle cleaning apparatus according to a third embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호 설명>Description of the Related Art [0002]

3...노즐 세정장치 30...메인블록3.Nozzle cleaning device 30 ... Main block

31...러버블록 32...제1 슬릿31.Rubber block 32 ... 1st slit

33...제2 슬릿 36...지지바33.2nd slit 36 ... support bar

38...자석38 ... magnet

본 고안은 노즐 세정장치에 관한 것으로, 특히 슬릿노즐의 세정액이 배출되는 토출구가 오염되지 않도록 이를 세정하는 노즐 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a nozzle cleaning apparatus, and more particularly, to a nozzle cleaning apparatus for cleaning the discharge outlet through which the cleaning liquid of the slit nozzle is discharged.

일반적으로, 반도체 디바이스 또는 평판 디스플레이(FPD; flat panel display)의 제조공정에서는 피처리기판(실리콘 웨이퍼 또는 유리 기판)상의 특정 기능을 수행하는 박막, 예를 들면, 산화 박막, 금속 박막, 반도체 박막 등이 원하는 형상으로 패터닝(patterning)되도록 광원과 반응하는 감광액(sensitive material)을 상기 박막상에 도포하는 공정이 수행된다.In general, in the manufacturing process of a semiconductor device or flat panel display (FPD), a thin film that performs a specific function on a substrate (silicon wafer or glass substrate), for example, an oxide thin film, a metal thin film, a semiconductor thin film, or the like. A process of applying a sensitive material on the thin film, which reacts with a light source so as to be patterned into this desired shape, is performed.

이처럼, 피처리기판의 박막에 소정의 회로패턴이 구현되도록 감광액을 도포하여 감광막 코팅하고, 회로패턴에 대응하여 상기 감광막을 노광하며, 노광된 부위 또는 노광되지 않은 부위를 현상처리하여 제거하는 일련의 과정을 사진공정 또는 포토리소그래피(Photolithography)공정이라 한다.As described above, a photoresist is coated by applying a photoresist to a thin film of a substrate to be processed so as to realize a predetermined circuit pattern, the photoresist is exposed in correspondence with a circuit pattern, and a series of developing and removing exposed or unexposed parts are developed. The process is called photolithography or photolithography.

상기 사진공정에서는 감광막이 소정 두께로 균일하게 생성되어야 제조공정 중 불량이 발생되지 않는다. 예를 들어, 감광막이 기준치보다 두껍게 생성될 경우 박막 중 원하는 부분이 식각되지 않을 수 있고, 감광막이 기준치보다 얇게 생성될 경우 박막이 원하는 식각량보다 더 많이 식각될 수 있다. 이처럼 피처리기판에 균일한 두께의 감광막을 생성하려면, 우선 피처리기판에 감광액을 균일한 두께로 도포하는 것이 중요하다.In the photographing process, the photoresist film should be uniformly formed to a predetermined thickness so that no defects occur during the manufacturing process. For example, when the photoresist film is formed thicker than the reference value, a desired portion of the thin film may not be etched. When the photoresist film is formed thinner than the reference value, the thin film may be etched more than the desired etching amount. In order to produce a photosensitive film having a uniform thickness on the substrate to be processed as described above, it is important to first apply a photosensitive liquid having a uniform thickness on the substrate to be processed.

이에 유리 기판의 경우, 기판을 정반(surface plate)에 지지한 상태에서, 기판을 가로지르는 방향으로 감광액을 배출하는 슬릿(slit)이 형성된 슬릿노즐을 상기 슬릿이 형성된 방향과 직교하는 방향으로 기판상에서 주행시키는 동시에 상기 슬릿을 통하여 기판 표면에 감광액을 도포하는 스핀리스코팅(spinless coating)법 또는 슬릿코팅(slit coating)법이 주로 사용된다.In the case of a glass substrate, a slit nozzle having a slit for discharging the photosensitive liquid in a direction crossing the substrate is supported on the substrate in a direction orthogonal to the direction in which the slit is formed while the substrate is supported on a surface plate. A spinless coating method or a slit coating method of coating a photoresist on the surface of the substrate through the slit while traveling is mainly used.

도 1은 스핀리스코팅법에 의한 종래 감광액 도포장치의 개략적인 사시도이다.1 is a schematic perspective view of a conventional photosensitive liquid applying apparatus by a spin coating method.

도 1을 참조하면, 종래 감광액 도포장치는 감광액 처리될 기판(S)이 로딩되어 지지되는 정반(1)과, 상기 정반(1)상에 로딩된 기판(S)에 감광액을 도포하는 슬릿노즐(2)과, 정반(1)의 일측에는 상기 슬릿노즐(2)이 대기하는 대기부(11)를 포함한다.Referring to FIG. 1, a conventional photoresist coating apparatus includes a surface plate 1 on which a substrate S to be treated is loaded and supported, and a slit nozzle for applying a photosensitive solution to a substrate S loaded on the surface plate 1. 2) and one side of the surface plate 1 includes a waiting portion 11 on which the slit nozzle 2 stands.

상기 슬릿노즐(2)은 그 저단부에 기판(S)의 너비(W)에 대응하는 길이의 슬릿(21; 도 2참조)이 형성되고, 기판(S)에 감광액 도포할 시 대기부(11)에서 기판(S)측으로 전진이동하며 슬릿(21)을 통하여 기판(S) 표면에 감광액 도포하고, 감광액 도포작업이 완료되면 대기부(11)측으로 복귀하여 대기모드를 취한다.The slit nozzle 2 has a slit 21 (refer to FIG. 2) having a length corresponding to the width W of the substrate S at a lower end thereof, and a waiting portion 11 when the photoresist is applied to the substrate S. The substrate is moved forward to the substrate (S) side and the photosensitive liquid is applied to the surface of the substrate (S) through the slit 21, and when the photosensitive liquid coating operation is completed, returns to the standby portion 11 side to take the standby mode.

한편, 종래 감광액 도포장치는 슬릿노즐(2)을 통한 감광액 도포 후 토출구 주변에 유기절연물질 또는 감광액의 일부가 잔류되고, 이같은 상태로 소정시간 대기에 노출되면 잔류되어 있던 감광액이 경화되는 현상이 발생한다.On the other hand, in the conventional photoresist coating apparatus, after the photoresist is applied through the slit nozzle 2, a part of the organic insulating material or the photoresist is left around the discharge port, and when such a state is exposed to the atmosphere for a predetermined time, the remaining photoresist hardens. do.

따라서, 종래 감광액 도포장치는 공정상의 오염원으로 작용할 수 있는 잔류 감광액 등의 이물질 제거를 위하여 슬릿노즐(2)의 립(lip)부위를 세정하는 노즐 세정장치(3)가 구비되는 데, 상기 노즐 세정장치(3)는 슬릿노즐(2)의 대기시에 세정과정을 진행하도록 정반(1)의 대기부(11)에 설치된다.Therefore, the conventional photosensitive liquid coating apparatus is provided with a nozzle cleaning device (3) for cleaning the lip portion of the slit nozzle (2) in order to remove foreign substances such as residual photosensitive liquid that may act as a contaminant in the process, the nozzle cleaning The apparatus 3 is installed in the waiting section 11 of the surface plate 1 so as to proceed with the cleaning process at the time of the waiting of the slit nozzle 2.

도 2는 도 1에 도시된 감광액 도포장치에 구비된 노즐 세정장치의 단면도이 다.FIG. 2 is a cross-sectional view of the nozzle cleaner provided in the photosensitive liquid applying device shown in FIG. 1.

도 2를 참조하면, 노즐 세정장치(3)는 슬릿노즐(2)의 토출구에서 슬릿방향을 따라 이동하며 습식세정과정과 접촉식세정과정과 건조과정을 진행한다.Referring to FIG. 2, the nozzle cleaner 3 moves along the slit direction at the discharge port of the slit nozzle 2 and performs a wet cleaning process, a contact cleaning process, and a drying process.

구체적으로, 세정장치(3)는 슬릿노즐(2)의 슬릿 길이방향을 따라 주행하는 메인블록(30)을 구비한다. 상기 메인블록(30)에는 슬릿노즐(2)의 토출구에 세정액을 분사하는 제1 슬릿(32)과, 상기 제1 슬릿(32)의 상측에서 슬릿노즐(2)의 토출구에 건조공기(CDA; Clean Dry Air)를 분사하는 제2 슬릿(33)과, 슬릿노즐(2)의 토출구를 접촉주행하며 이물질을 제거하는 러버블록(31; Rubber block)이 구비된다.Specifically, the cleaning device 3 includes a main block 30 that travels along the slit length direction of the slit nozzle 2. The main block (30) includes a first slit (32) for injecting a cleaning liquid into the outlet of the slit nozzle (2) and dry air (CDA) at the outlet of the slit nozzle (2) above the first slit (32); The second slit 33 for spraying clean dry air and a rubber block 31 for driving the discharge port of the slit nozzle 2 and removing foreign substances are provided.

이 때, 상기 러버블록(31)은 그 일면에 V-홈(31a)을 가지며 압축스프링(34)을 통해 메인블록(3) 상에 탄성지지되어 슬릿노즐의 토출구에 긴밀히 접촉한다.At this time, the rubber block 31 has a V-groove 31a on one surface thereof and is elastically supported on the main block 3 through the compression spring 34 to be in close contact with the discharge port of the slit nozzle.

이와 같은 구성에 의해 종래 노즐 세정장치는, 슬릿노즐(2)의 슬릿(21)을 형성하는 토출구에 대하여 습식세정과정과 접촉식세정과정과 건조과정을 수행한다.By such a configuration, the conventional nozzle cleaning apparatus performs a wet cleaning process, a contact cleaning process, and a drying process with respect to the discharge port forming the slit 21 of the slit nozzle 2.

그러나 상기한 종래 노즐 세정장치의 경우, 슬릿노즐(2)의 토출구를 접촉주행하는 러버블록(31)이 전술한 바와 같이 압축스프링(34)을 통해 메인블록(30) 상에 지지되어 있다. 그런 관계로, 시간 경과에 따른 상기 압축스프링(34)의 탄성력 저하로 인하여 러버블록(31)과 슬릿노즐(2)의 토출구 간에 접촉특성이 떨어지는 문제가 있다. However, in the conventional nozzle cleaning apparatus described above, the rubber block 31 for contacting the discharge port of the slit nozzle 2 is supported on the main block 30 through the compression spring 34 as described above. As such, there is a problem in that contact characteristics between the rubber block 31 and the discharge port of the slit nozzle 2 are inferior due to the decrease in the elastic force of the compression spring 34 over time.

이처럼, 슬릿노즐에 대한 러버블록의 접촉특성이 저하되면, 슬릿노즐의 토출구에 대한 효율적 세정이 불가능하며, 따라서 슬릿노즐을 이용한 감광액 코팅시 코팅 불량이 야기된다. 이를 방지하기 위해서는 소모품인 상기 압축스프링을 주기적 으로 교환해주어야만 하나, 이 경우, 탄성수단을 주기적으로 교체해야 함에 따른 계속적인 유지보수가 요구되며, 스프링의 경우에 스프링 완충 시 특유의 기계적 소음으로 인하여 정숙하지 못한 문제가 있다.As such, when the contact characteristics of the rubber block with respect to the slit nozzle are deteriorated, efficient cleaning of the discharge port of the slit nozzle is impossible, and thus coating defects are caused when the photosensitive liquid is coated using the slit nozzle. In order to prevent this, the compression spring, which is a consumable, must be periodically replaced. In this case, continuous maintenance is required due to periodic replacement of the elastic means. There is a problem with being quiet.

본 고안은 상기한 종래 기술의 문제점을 감안하여 이를 해결하고자 안출한 것으로, 러버블록의 접촉특성이 저하되는 것을 방지하고, 주기적인 탄성수단 교체 없이도 영구 사용이 가능하며, 완충 시 기계적 소음이 전혀 없는 노즐 세정장치를 제공하는 데에 그 목적 있다.The present invention has been devised to solve the above-described problems in the prior art, and prevents the contact characteristics of the rubber block from deteriorating, and can be used permanently without replacing the periodic elastic means, and there is no mechanical noise during the cushioning. It is an object to provide a nozzle cleaner.

상기한 목적을 달성하기 위하여 본 고안은, 슬릿노즐의 토출구를 따라 주행하는 러버블록이 복수의 지지바를 통해 메인블록 상에 승강가능하게 지지되어 있으며, 상기 러버블록은 동극이 상호 대면하여 척력을 갖는 적어도 한 쌍 이상의 자석에 의해 메인블록과 이격되어 슬릿노즐의 토출구에 긴밀히 접촉하는 것을 특징으로 하는 노즐 세정장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention, the rubber block traveling along the discharge port of the slit nozzle is supported on the main block through a plurality of support bars to be elevated, the rubber block has a repulsive force of the same pole facing each other Provided is a nozzle cleaning apparatus, which is spaced apart from the main block by at least one pair of magnets and in close contact with the outlet of the slit nozzle.

본 고안의 일 양태에 따르면, 상기 자석은, 메인블록 상면과 러버블록 하면에 동극이 서로 대면토록 각각 설치될 수 있다.According to an aspect of the present invention, the magnets may be installed on the upper surface of the main block and the lower surface of the rubber block so that the copper poles face each other.

본 고안의 다른 양태에 따르면, 상기 자석은, 메인블록 상에 직립 설치된 상기 지지바 끝단과 지지바가 삽입되는 가이드홀 상면에 동극이 서로 대면토록 각각 설치될 수 있다.According to another aspect of the present invention, the magnets may be installed so that the opposite poles face each other on the upper surface of the guide bar is inserted into the support bar end and the support bar is installed upright on the main block.

본 고안의 또 다른 양태에 따르면, 상기 지지바가 아우터 튜브 일측 단부에 이너 파이프 일측이 삽입된 신축 가능한 구조로 이루어져, 상기 아우터 튜브 내에 위치하는 이너 파이프 일측 선단과 상기 아우터 튜브 내면 폐쇄단 측에 동극이 서로 대면토록 자석이 각각 설치될 수 있다.According to another aspect of the present invention, the support bar is made of a flexible structure in which one inner pipe is inserted into one end of the outer tube, the inner end of the inner pipe located in the outer tube and the outer end of the outer tube inner surface is closed. Magnets may be installed to face each other.

본 고안에 적용된 상기 자석은, 일반 영구자석이 이용될 수 있으며, 이와는 다르게, 전기에 의해 자력이 콘트롤되는 전자석이 이용될 수 있다.As the magnet applied to the present invention, a general permanent magnet may be used. Alternatively, an electromagnet in which magnetic force is controlled by electricity may be used.

이하, 첨부도면에 의거하여 본 고안의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 고안의 제1 실시예에 따른 노즐 세정장치의 단면도이다. 본 실시예를 설명하기에 앞서, 전술한 종래 기술과 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 명칭 및 도면참조부호를 부여하며, 일부 구성에 대해서는 종래 도면을 참조하기로 한다.3 is a cross-sectional view of the nozzle cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention. Prior to describing the present embodiment, the same components and reference numerals are given to the same components as those of the prior art described above, and some components will be referred to the conventional drawings.

도 3을 참조하면, 본 고안의 제1 실시예에 따른 상기 노즐 세정장치(3)는 슬릿노즐(2)이 대기하는 정반(1; 도 1참조) 일측의 대기부(11; 도 1참조)에 마련된 메인블록(30) 및 메인블록(30) 상에 탄성설치된 러버블록(31)을 포함한다. 메인블록(30)은 상기 대기부(11) 영역에서 슬릿노즐(2)의 슬릿 길이방향을 따라 주행하고, 러버블록(31)은 메인블록(30)에 의해 슬릿노즐(2)의 토출구를 접촉주행하며 이물질을 제거한다.Referring to FIG. 3, the nozzle cleaning apparatus 3 according to the first embodiment of the present invention is a standby part 11 (see FIG. 1) on one side of the surface plate 1 (see FIG. 1) in which the slit nozzle 2 stands. And a rubber block 31 elastically installed on the main block 30 and the main block 30. The main block 30 travels along the slit length direction of the slit nozzle 2 in the standby section 11, and the rubber block 31 contacts the discharge port of the slit nozzle 2 by the main block 30. Drive and remove debris.

구체적으로, 상기 메인블록(30)은 슬릿노즐(2)의 토출구에 세정액을 분사하 는 제1 슬릿(32)과, 상기 제1 슬릿(32)의 상측에서 슬릿노즐(2)의 토출구에 건조공기(CDA; Clean Dry Air)를 분사하는 제2 슬릿(33)을 포함한다. 따라서, 상기 제1 슬릿(32) 및 제2 슬릿(33)에 의해 메인블록(30) 이동 시 슬릿노즐(2)의 토출구에 대한 습식세정과 건식세정이 동시에 진행된다.Specifically, the main block 30 is dried in the discharge port of the slit nozzle 2 and the first slit 32 for spraying the cleaning liquid to the discharge port of the slit nozzle 2 and the upper side of the first slit 32. And a second slit 33 for injecting clean dry air (CDA). Therefore, the wet cleaning and the dry cleaning of the discharge port of the slit nozzle 2 are simultaneously performed by the first slit 32 and the second slit 33 when the main block 30 moves.

상기에서 슬릿노즐(2)의 세정을 위해 사용되는 세정액은, 슬릿노즐(2)의 토출구에서 건조 또는 고화된 잔류 감광액 등의 이물질을 용해 도는 제거하여야 하므로 시너(thinner)와 같은 솔벤트(solvent)를 사용하는 것이 바람직하다.Since the cleaning liquid used for cleaning the slit nozzle 2 must dissolve or remove foreign substances such as residual photoresist liquid dried or solidified at the discharge port of the slit nozzle 2, a solvent such as thinner is removed. It is preferable to use.

상기 러버블록(31; Rubber block)은 상기 슬릿노즐(2) 토출구 측 외형에 대응하는 V-홈(31a)을 상면 중앙에 가진다. 동시에, 상기 러버블록(31)은 복수의 지지바(36)를 매개로 메인블록(30) 상에 승강가능하게 견인된 상태에서 탄성수단을 통해 메인블록(30) 상에 탄성지지된다. 따라서, 상기 러버블록(31)은 상기 메인블록(30) 상면으로부터 이격되는 복원력을 가지며, 이에 의해 상기 슬릿노즐(2)의 토출구에 가압접촉된다.The rubber block 31 has a V-groove 31a corresponding to the outer shape of the outlet of the slit nozzle 2 at the center of the upper surface thereof. At the same time, the rubber block 31 is elastically supported on the main block 30 through elastic means in a state in which the rubber block 31 is pulled up and down on the main block 30 via a plurality of support bars 36. Thus, the rubber block 31 has a restoring force spaced apart from the upper surface of the main block 30, thereby being in pressure contact with the discharge port of the slit nozzle (2).

본 고안의 실시예에서의 상기 탄성수단은 동극이 상호 대면했을 때 서로 이격시키려는 척력을 갖는 적어도 한 쌍 이상의 자석(38)이 이용된다. 구체적으로, 본 실시예에서의 상기 자석(38)은 도 3에서와 같이, 상기 메인블록(30) 상면과 러버블록(31) 하면에 동극(同極)이 서로 대면토록 각각 설치된다. 예컨대, N극이면 N극, S극이면 S극이 서로 대면토록 메인블록(30) 상면과 러버블록(31) 하면에 적어도 한 쌍이 설치된다. 이 경우, 상기 러버블록(31)은 동극이 상호 대면하여 척력을 갖는 상기 자석(38)에 의해 메인블록(30)으로부터 이격되는 복원력을 가지며, 상기 이격되는 복원력에 의해 슬릿노즐(2)의 토출구에 가압접촉된다.The elastic means in the embodiment of the present invention is used at least one pair of magnets 38 having a repulsive force to be spaced apart from each other when the copper poles face each other. Specifically, as shown in FIG. 3, the magnet 38 in the present embodiment is provided with the same polarity facing each other on the upper surface of the main block 30 and the lower surface of the rubber block 31. For example, at least one pair is provided on the upper surface of the main block 30 and the lower surface of the rubber block 31 such that the north pole of the N pole and the south pole of the S pole face each other. In this case, the rubber block 31 has a restoring force spaced apart from the main block 30 by the magnet 38 having the same polarity facing each other, and the discharge hole of the slit nozzle 2 by the spaced restoring force. Pressurized contact

상기 자석(38)은 일반 영구자석이 이용될 수 있으며, 바람직하게는, 전기에 의해 자력이 콘트롤되는 전자석이 이용될 수 있다. 전자석의 경우에는, 인가되는 전류 제어를 통한 자력의 세기를 조절함에 의해 메인블록(30)으로부터 러버블록(31)을 이격시키는 척력의 세기를 조절 할 수 있다. 즉, 척력 세기 조절을 통해 토출구에 대한 러버블록의 가압접촉력을 보다 용이하게 조절할 수 있다. As the magnet 38, a general permanent magnet may be used, and preferably, an electromagnet whose magnetic force is controlled by electricity may be used. In the case of the electromagnet, the strength of the repulsive force separating the rubber block 31 from the main block 30 can be adjusted by adjusting the strength of the magnetic force through the applied current control. That is, it is possible to more easily adjust the pressure contact force of the rubber block to the discharge port by adjusting the repulsive force.

즉, 전자석의 경우에는, 상기 러버블록이 슬릿노즐을 따라 이동 시 발생되는 마찰저항 및 마찰에 의한 열이 최소화되면서 슬릿노즐 토출구에 대한 세정효율을 극대화시키는 데에 요구되는 러버블록(31)과 슬릿노즐(2)의 토출구 사이에 가압접촉력을 용이하게 조절할 수 있다.That is, in the case of the electromagnet, the rubber block 31 and the slit required to maximize the cleaning efficiency for the slit nozzle discharge port while minimizing the frictional resistance and frictional heat generated when the rubber block moves along the slit nozzle. The pressure contact force can be easily adjusted between the ejection openings of the nozzle 2.

상기한 본 고안의 제1 실시예에 따르면, 메인블록(30) 상에 러버블록(31)을 탄력지지하기 위한 탄성수단으로 동(同) 극간 척력을 갖는 자석(38)이 이용된다. 이에 따라, 자력이 소실되지 않는 한 영구 사용이 가능하고, 따라서 종래 압축스프링을 적용했을 때와 같은 주기적인 탄성수단의 교체가 요구되지 않는다. 결과적으로, 영구 사용에 따라 장치를 유지보수하는 데에 요구되는 비용을 절감시킬 수 있고, 또한 자석의 경우 완충 시 기계적 소음이 전혀 없어 정숙을 구현할 수 있다.According to the first embodiment of the present invention described above, the magnet 38 having the same interpole repulsive force is used as the elastic means for elastically supporting the rubber block 31 on the main block 30. Accordingly, it is possible to use permanently as long as the magnetic force is not lost, so that periodic replacement of the elastic means such as when applying a conventional compression spring is not required. As a result, it is possible to reduce the cost required to maintain the device according to its permanent use, and also to realize the quietness of the magnet with no mechanical noise when fully charged.

더욱이, 자석에 의한 척력의 경우에, 그 압축 변위량(x)에 비례하여 탄성력(E=1/2kx, k: 탄성계수)이 커지는 일반 압축스프링과는 달리, 두 자석간의 거리의 제곱에 반비례하여 그 힘이 증가한다. 따라서, 메인블록과 러버블록 두 물체가 서로 가까워지면, 예컨대, 두 물체사이의 거리가 반으로 줄면, 척력의 크기는 4배 가 된다. 결과적으로, 메인블록과 러버블록이 상호 근접되면 될수록 척력이 배가되므로 탄성반발력이 커지고, 따라서 슬릿노즐의 토출구에 대한 러버블록의 가압접촉력이 보다 향상된다. 즉, 슬릿노즐에 대한 러버블록의 접촉특성을 개선시킬 수 있다.Furthermore, in the case of the repulsive force by the magnet, unlike the general compression spring in which the elastic force (E = 1 / 2kx, k: modulus of elasticity) increases in proportion to its compression displacement amount x, inversely proportional to the square of the distance between the two magnets Its power increases. Therefore, when two objects of the main block and the rubber block come closer to each other, for example, if the distance between the two objects is reduced by half, the magnitude of the repulsive force is four times. As a result, the closer the main block and the rubber block are to each other, the greater the repulsive force, so that the elastic repulsive force is increased, and thus the pressure contact force of the rubber block to the discharge port of the slit nozzle is further improved. That is, the contact characteristics of the rubber block with respect to the slit nozzle can be improved.

도 4는 본 고안의 제2 실시예에 따른 노즐 세정장치의 단면도이다. 4 is a cross-sectional view of a nozzle cleaner according to a second embodiment of the present invention.

도면에 도시된 바와 같이, 본 고안의 제2 실시예에 따른 노즐 세정장치는 자석의 설치 위치에 있어서의 차이점을 제외하고는 전술한 제1 실시예와 동일한 구성 및 작용을 갖는다. 따라서, 이하에서는 전술한 제1 실시예와 차별되는 제2 실시예에 따른 주요 구성만을 설명하며, 전술한 제1 실시예와 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면부호 및 명칭을 사용하고 그에 대한 상세한 설명은 생략한다. As shown in the figure, the nozzle cleaning apparatus according to the second embodiment of the present invention has the same configuration and operation as the above-described first embodiment except for the difference in the installation position of the magnet. Therefore, hereinafter, only the main configuration according to the second embodiment that is different from the above-described first embodiment will be described, and the same reference numerals and names will be used for the same configuration as the above-described first embodiment, and a detailed description thereof will be omitted. do.

도 4를 참조하면, 본 고안의 제2 실시예에 따른 세정장치는 메인블록(30) 상에 그 한 쪽 끝이 고정토록 직립 설치된 복수의 지지바(36)와, 상기 지지바(36)가 삽입되는 러버블록(31)의 가이드홀(31b)과, 상기 복수의 지지바(36)와 상기 가이드홀(31b)에 각각 설치되는 동극이 상호 대면되는 한 쌍의 자석(38)을 포함한다.Referring to FIG. 4, the cleaning device according to the second embodiment of the present invention includes a plurality of support bars 36 installed on the main block 30 so that one end thereof is fixed upright, and the support bars 36 are provided. The guide hole 31b of the rubber block 31 to be inserted, and the pair of magnets 38 in which the plurality of support bars 36 and the copper poles respectively installed in the guide holes 31b face each other.

구체적으로, 상기 가이드홀(31b)은 이 가이드홀(31b) 내부에 위치하는 상기 지지바(36) 최상단이 마주하는 상부측이 폐쇄된 하부 개방형 구조이며, 상기 자석(38)은 상기 지지바(36) 최상단과 상기 하부 개방형 구조의 가이드홀(31b) 폐쇄단 측에 각각 동극이 서로 대면토록 구비된다. 상기 자석(38)은 전술한 제1 실시예와 마찬가지로 일반 영구자석이 이용될 수 있으며, 바람직하게는, 전기에 의해 자력이 콘트롤되는 전자석이 이용될 수 있다. Specifically, the guide hole 31b is a lower open type structure in which an upper side facing the top end of the support bar 36 located inside the guide hole 31b is closed, and the magnet 38 is the support bar ( 36) At the top end and the closed end of the guide hole 31b of the lower open type structure, the copper poles are provided to face each other. As for the magnet 38, a general permanent magnet may be used as in the first embodiment, and preferably, an electromagnet whose magnetic force is controlled by electricity may be used.

위와 같은 구성의 본 고안의 제2 실시예에 따르면, 전술한 제1 실시예와 마찬가지로 메인블록(30) 상에 러버블록(31)을 탄력지지하기 위한 탄성수단으로 동(同) 극간 척력을 갖는 자석(38)이 이용된다. 이에 따라, 자력이 소실되지 않는 한 영구 사용이 가능하고, 따라서, 종래 압축스프링을 적용했을 때와 같은 주기적인 탄성수단의 교체가 요구되지 않는다. According to the second embodiment of the present invention having the above configuration, similarly to the first embodiment described above, the resilient means for elastically supporting the rubber block 31 on the main block 30 has the same interpolar repulsive force. Magnet 38 is used. Accordingly, it is possible to use permanently as long as the magnetic force is not lost, and therefore, periodical replacement of elastic means such as when applying a conventional compression spring is not required.

특히, 이와 같은 제2 실시예의 경우에는, 전술한 제1 실시예와는 달리 자석이 외부로 노출되지 않는다. 따라서, 장치 외관상 유리한 이점이 있으며, 자석이 복수의 지지바(36) 및 이 지지바(36)가 슬라이딩 가능하게 삽입된 러버블록 가이드홀(31b) 각각에 배치됨에 따라, 전술한 제1 실시예와 비교하여 러버블록(31)에 보다 안정적으로 탄성력을 제공할 수 있고, 그 결과 슬릿노즐(2) 토출구에 대한 러버블록(31)의 접촉특성을 보다 향상시킬 수 있다. In particular, in the case of this second embodiment, unlike the first embodiment described above, the magnet is not exposed to the outside. Therefore, there is an advantage in terms of the device appearance, and as the magnet is disposed in each of the plurality of support bars 36 and the rubber block guide holes 31b into which the support bars 36 are slidably inserted, the first embodiment described above. Compared with that of the rubber block 31, the elastic force can be more stably provided, and as a result, the contact characteristics of the rubber block 31 with respect to the discharge port of the slit nozzle 2 can be further improved.

도 5는 본 고안의 제3 실시예에 따른 노즐 세정장치의 단면도이다. 5 is a cross-sectional view of a nozzle cleaner according to a third embodiment of the present invention.

도면에 도시된 바와 같이, 본 고안의 제3 실시예에 따른 노즐 세정장치는 메인블록으로부터 세정블록을 이격되게 지지하는 지지바 및 이 지지바가 자석을 내설하고 있다는 점을 제외하고는 전술한 제1 실시예와 동일한 구성 및 작용을 갖는다. 따라서, 이하에서는 전술한 제1 실시예와 차별되는 제3 실시예에 따른 주요 구성만을 설명하며, 전술한 제1 실시예와 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면부호 및 명칭을 사용하고 그에 대한 상세한 설명은 생략한다. As shown in the figure, the nozzle cleaning apparatus according to the third embodiment of the present invention includes a support bar for supporting the cleaning block spaced apart from the main block, and the above-described first support bar except that the support bar implies a magnet. It has the same structure and operation as in the embodiment. Therefore, hereinafter, only the main configuration according to the third embodiment that is different from the above-described first embodiment will be described, and the same reference numerals and names will be used for the same configuration as the above-described first embodiment, and a detailed description thereof will be omitted. do.

도 5를 참조하면, 본 실시예에 의하면 메인블록(30)으로부터 러버블록(31)을 이격되게 지지하는 상기 지지바(36)가 아우터 튜브(36a) 일측 단부에 이너 파이 프(36b) 일측이 삽입되어 신축이 가능한 구조로 된 것을 요지로 한다. Referring to FIG. 5, according to the present exemplary embodiment, one side of the inner pipe 36b is formed at one end of the outer tube 36a to support the rubber bar 31 spaced apart from the main block 30. The main point is to have a structure that can be inserted and expanded.

이 때, 상기 아우터 튜브(36a) 내에 위치하는 이너 파이프(36b) 일측 선단과 상기 아우터 튜브(36a) 내면 폐쇄단 측에 각각 동극이 서로 대면토록 자석(38)이 설치된다. 상기 자석(38)은 전술한 제1, 제2 실시예와 마찬가지로 일반 영구자석이 이용될 수 있으며, 바람직하게는, 전기에 의해 자력이 콘트롤되는 전자석이 이용될 수 있다. At this time, the magnet 38 is installed so that the same polarity of the inner end of the inner pipe (36b) located in the outer tube (36a) and the inner end of the outer tube (36a) facing each other. As for the magnet 38, a general permanent magnet may be used as in the above-described first and second embodiments, and preferably, an electromagnet whose magnetic force is controlled by electricity may be used.

위와 같은 구성의 본 고안의 제3 실시예에 따르면, 전술한 제1 실시예와 마찬가지로 메인블록(30) 상에 러버블록(31)을 탄력지지하기 위한 탄성수단으로 동(同) 극간 척력을 갖는 자석(38)이 이용된다. 이에 따라, 자력이 소실되지 않는 한 영구 사용이 가능하고, 따라서, 종래 압축스프링을 적용했을 때와 같은 주기적인 탄성수단의 교체가 요구되지 않는다.According to the third embodiment of the present invention having the above configuration, similarly to the first embodiment described above, the resilient means for elastically supporting the rubber block 31 on the main block 30 has the same interpolar repulsive force. Magnet 38 is used. Accordingly, it is possible to use permanently as long as the magnetic force is not lost, and therefore, periodical replacement of elastic means such as when applying a conventional compression spring is not required.

특히, 이와 같은 제3 실시예의 경우에는, 전술한 제1 실시예와는 달리, 지지바(36)가 아우터 튜브(36a)와 이에 일부가 삽입되는 이너 파이프(36b)로 이루어져 자체 신축이 가능하다. 따라서, 전술한 실시예와는 달리 러버블록에 지지바가 삽입될 가이드홀(31b)을 가공하지 않아도 된다. 결과적으로, 장치가공에 있어 매우 유리하며, 자석(38)이 메인블록(30) 상에서 러버블록(31)을 지지하는 복수의 지지바(36) 배치됨에 따라, 전술한 제2 실시예와 마찬가지로 러버블록(31)에 보다 안정적으로 탄성력을 제공할 수 있고, 그 결과 슬릿노즐(2) 토출구에 대한 러버블록(31)의 접촉특성을 보다 향상시킬 수 있다. In particular, in the case of the third embodiment, unlike the first embodiment described above, the support bar 36 is made of an outer tube 36a and an inner pipe 36b inserted into a portion thereof, and thus can be stretched by itself. . Therefore, unlike the embodiment described above, it is not necessary to process the guide hole 31b into which the support bar is inserted into the rubber block. As a result, it is very advantageous in the processing of the device, and as the magnet 38 is arranged on the main block 30 with a plurality of support bars 36 supporting the rubber block 31, the rubber is similar to the second embodiment described above. The elastic force can be more stably provided to the block 31, and as a result, the contact characteristic of the rubber block 31 with respect to the discharge port of the slit nozzle 2 can be further improved.

이상에서 설명한 것은 본 고안을 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 고안은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 실용신안등록 청구범위에서 청구하는 바와같이 본 고안의 요지를 벗어남이 없이 당해 고안이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 고안의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.What has been described above is only one embodiment for carrying out the present invention, the present invention is not limited to the above embodiment, without departing from the gist of the present invention as claimed in the utility model registration claims below Anyone with ordinary knowledge in the field to which the present invention belongs will have a technical spirit of the present invention to the extent that various modifications can be made.

이상에서 살펴본 바와 같이 본 고안은, 러버블록을 슬릿노즐 측으로 탄성 가압시키기 위한 탄성수단으로 동(同) 극간 척력을 갖는 자석이 이용된다. 따라서, 러버블록의 접촉특성이 저하되는 것을 방지할 수 있어 노즐 토출구의 효율적 세정이 가능하며, 주기적인 탄성수단 교체 없이도 영구 사용이 가능하여 유지보수 비용을 절감시킬 수 있고, 완충 시 기계적 소음이 전혀 없어 정숙을 구현할 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention uses a magnet having the same interpole repulsive force as an elastic means for elastically pressing the rubber block toward the slit nozzle side. Therefore, the contact characteristics of the rubber block can be prevented from being lowered, so that the nozzle outlet can be efficiently cleaned, and it can be permanently used without periodically changing the elastic means, thereby reducing maintenance costs, and completely free of mechanical noise when fully charged. There is no effect that can achieve quietness.

Claims (6)

노즐을 세정하는 세정장치에 있어서,In the cleaning device for cleaning the nozzle, 슬릿노즐의 토출구를 따라 주행하는 러버블록이 복수의 지지바를 통해 메인블록 상에 승강가능하게 지지되며, 상기 러버블록은 동극이 상호 대면하여 척력을 갖는 적어도 한 쌍 이상의 자석에 의해 메인블록과 이격되어 슬릿노즐의 토출구에 긴밀히 접촉하며, 상기 자석은 상기 메인블록 상에 직립 설치된 상기 지지바 끝단과 상기 지지바가 삽입되는 가이드홀 폐쇄단 측에 각각 동극이 서로 대면토록 설치된 것을 특징으로 하는 노즐 세정장치.The rubber block traveling along the discharge port of the slit nozzle is supported on the main block through a plurality of support bars, and the rubber block is spaced apart from the main block by at least one pair of magnets having the same polarity and having repulsive force. In close contact with the discharge port of the slit nozzle, the magnet is a nozzle cleaning device, characterized in that the same polarity is installed facing each other on the end of the support bar end and the guide hole is inserted into the support bar is installed upright on the main block. 노즐을 세정하는 세정장치에 있어서,In the cleaning device for cleaning the nozzle, 슬릿노즐의 토출구를 따라 주행하는 러버블록이 복수의 지지바를 통해 메인블록 상에 승강가능하게 지지되며, 상기 러버블록은 동극이 상호 대면하여 척력을 갖는 적어도 한 쌍 이상의 자석에 의해 메인블록과 이격되어 슬릿노즐의 토출구에 긴밀히 접촉하며, 상기 지지바는 아우터 튜브 일측 단부에 이너 파이프 일측이 삽입된 신축 가능한 구조로 이루어지되 상기 아우터 튜브 내에 위치하는 이너 파이프 일측 선단과 상기 아우터 튜브 내면 폐쇄단 측에 동극이 서로 대면토록 자석이 각각 설치된 것을 특징으로 하는 노즐 세정장치.The rubber block traveling along the discharge port of the slit nozzle is supported on the main block through a plurality of support bars, and the rubber block is spaced apart from the main block by at least one pair of magnets having the same polarity and having repulsive force. In close contact with the discharge port of the slit nozzle, the support bar has a flexible structure in which one inner pipe is inserted into one end of the outer tube, and the inner end of the inner pipe located in the outer tube and the inner end of the inner end of the outer tube. The nozzle cleaning apparatus, characterized in that the magnet is provided so as to face each other. 제 1 항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 자석은, 메인블록 상면과 러버블록 하면에 동극이 서로 대면토록 각각 설치된 것을 특징으로 하는 노즐 세정장치. The magnets are nozzle cleaning apparatus, characterized in that the same polarity is installed to face each other on the upper surface of the main block and the lower surface of the rubber block. 제 1 항 또는 제 2항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 자석은 영구자석인 것을 특징으로 하는 노즐 세정장치.The magnet is a nozzle cleaning device, characterized in that the permanent magnet. 제 1 항 또는 제 2항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 자석은 전기에 의해 자력이 콘트롤되는 전자석인 것을 특징으로 하는 노즐 세정장치.The magnet is a nozzle cleaning apparatus, characterized in that the electromagnet is controlled magnetic force by electricity. 삭제delete
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