KR200416139Y1

KR200416139Y1 - Apparatus for drying substrate

Info

Publication number: KR200416139Y1
Application number: KR2020060001602U
Authority: KR
Inventors: 한찬희; 한홍수; 노재성
Original assignee: 엔티엠 주식회사
Priority date: 2006-01-18
Filing date: 2006-01-18
Publication date: 2006-05-12

Abstract

본 고안은 평판표시소자의 기판 건조에 필요한 시간을 단축하도록 한 기판 건조장치에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate drying apparatus which shortens the time required for substrate drying of a flat panel display element.

이 기판 건조장치는 기판을 가열하기 위한 가열수단과; 노출된 노즐을 통해 상기 기판에 고압의 기체를 분사하기 위한 기체 분사수단을 구비한다. 상기 가열수단과 상기 기체 분사수단은 하나의 모듈로 일체화되어 구조가 단순화되고 콤팩트화되며, 기판 상에 형성된 수분을 빠르게 증발시켜 검사 불량을 줄이고 평판표시소자의 생산량을 높일 수 있다.The substrate drying apparatus includes heating means for heating the substrate; Gas injection means for injecting a high pressure gas to the substrate through the exposed nozzle. The heating means and the gas injection means are integrated into a single module to simplify and compact the structure, and to quickly evaporate the moisture formed on the substrate, thereby reducing inspection defects and increasing the yield of the flat panel display device.

건조, 램프히터, 기체 Dry, Lamp Heater, Gas

Description

Substrate Drying Equipment {APPARATUS FOR DRYING SUBSTRATE}

도 1은 통상의 유기발광다이오드 표시소자의 구조를 개략적으로 나타내는 도면. 1 is a view schematically showing a structure of a conventional organic light emitting diode display device.

도 2는 본 고안에 따른 기판 건조장치의 구성을 알기 쉽게 보여 주는 분해 사시도. Figure 2 is an exploded perspective view showing clearly the configuration of the substrate drying apparatus according to the present invention.

도 3은 도 2에 도시된 건조장치가 조립된 후의 외관을 보여 주는 사시도. Figure 3 is a perspective view showing the appearance after the drying apparatus shown in Figure 2 is assembled.

도 4는 도 3에 도시된 건조장치의 측면도.Figure 4 is a side view of the drying apparatus shown in FIG.

도 5는 도 3에 도시된 건조장치의 정면도.5 is a front view of the drying apparatus shown in FIG.

도 6은 도 3에 도시된 건조장치의 저면도. Figure 6 is a bottom view of the drying apparatus shown in FIG.

도 7은 본 고안에 따른 기판 건조장치의 종단면을 보여 주는 단면도. Figure 7 is a cross-sectional view showing a longitudinal section of the substrate drying apparatus according to the present invention.

도 8은 본 고안에 따른 기판 건조장치의 동작을 보여 주는 단면도. 8 is a cross-sectional view showing the operation of the substrate drying apparatus according to the present invention.

도 9 및 도 10은 본 고안의 제2 실시예에 따른 기판 건조장치를 보여 주는 단면도들. 9 and 10 are cross-sectional views showing a substrate drying apparatus according to a second embodiment of the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

1 : 지지대 2 : 외장 커버1: support 2: exterior cover

3 : 유지보수용 커버 4 : 버퍼블록3: Maintenance cover 4: Buffer block

5 : 반사판 6 : 램프히터5: reflector 6: lamp heater

7 : 램프히터 브라켓 8 : 온도센서7: lamp heater bracket 8: temperature sensor

9 : 기체 입력단 10 : 버퍼블록 커버9: Air input terminal 10: Buffer block cover

11 : 에어슛팅 블레이드 12 : 노즐11: air shooting blade 12: nozzle

13 : 제1 버퍼공간 14 : 제2 버퍼공간13: first buffer space 14: second buffer space

15 : 아웃렛 홀 16 : 스커트15: outlet hole 16: skirt

17a : 광센서의 발광부 17b : 광센서의 수광부17a: light emitting portion of the optical sensor 17b: light receiving portion of the optical sensor

100 : 기판100: substrate

101 : 박막패턴101: thin film pattern

102 : 수분102: moisture

본 고안은 기판 건조장치에 관한 것으로 특히, 평판표시소자의 기판 건조에 필요한 시간을 단축하도록 한 기판 건조장치에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate drying apparatus, and more particularly, to a substrate drying apparatus for shortening the time required for substrate drying of a flat panel display device.

최근, 음극선관(Cathode Ray Tube)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판표시소자들(Flat Panel Display, FPD)이 개발되고 있다. 이러한 평판표시소자에는 액정표시소자(Liquid Crystal Display, LCD), 전계방출표시소자(Field Emission Display, FED), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel. PDP) 및 전계발광소자(Electroluminescence Device, EL) 등이 있다. Recently, various flat panel displays (FPDs) that can reduce weight and volume, which are disadvantages of cathode ray tubes, have been developed. Such flat panel displays include liquid crystal displays (LCDs), field emission displays (FEDs), plasma display panels (PDPs), and electroluminescent devices (ELs). have.

이들 중에 플라즈마 디스플레이 패널은 구조와 제조공정이 단순하기 때문에 경박단소하면서도 대화면화에 가장 유리한 표시장치로 주목받고 있지만 발광효율과 휘도가 낮고 소비전력이 큰 단점이 있다. 스위칭 소자로 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor : 이하 "TFT"라 한다)가 적용된 액티브 매트릭스 LCD는 반도체공정을 이용하기 때문에 대화면화에 어려움이 있지만 노트북 컴퓨터의 표시소자로 주로 이용되면서 수요가 늘고 있다. 이에 비하여, 전계발광소자는 발광층의 재료에 따라 무기 전계발광소자와 유기발광다이오드소자(Organic Light Emitting Diode, OLED)로 대별되며 스스로 발광하는 자발광소자로서 응답속도가 빠르고 발광효율, 휘도 및 시야각이 큰 장점이 있다. Among them, the plasma display panel is attracting attention as a display device that is lightest and lightest and most advantageous for large screens because of its simple structure and manufacturing process. Active matrix LCDs with thin film transistors (hereinafter referred to as "TFTs") as switching devices are difficult to screen due to the use of semiconductor processes, but demand is increasing as they are mainly used as display devices in notebook computers. In contrast, electroluminescent devices are classified into inorganic electroluminescent devices and organic light emitting diode devices (OLEDs) according to the material of the light emitting layer, and are self-luminous devices that emit light by themselves. There is a big advantage.

유기발광다이오드소자는 표시소자로써 도 1과 같이 기판 상에 투명도전성물질로 이루어진 애노드전극을 형성하고, 유기 화합물층 및 도전성 금속으로 된 캐소드전극이 적층된다. 유기 화합물층은 정공주입층(Hole injection layer, HIL), 정공수송층(Hole transport layer, HTL), 발광층(Emission layer, EML), 전자수송층(Electron transport layer, ETL) 및 전자주입층(Electron Injection layer, EIL)을 포함한다. In the organic light emitting diode device, an anode electrode made of a transparent conductive material is formed on a substrate as a display device, and an organic compound layer and a cathode electrode made of a conductive metal are stacked. The organic compound layer includes a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), an emission layer (EML), an electron transport layer (ETL), and an electron injection layer (Electron Injection layer, EIL).

애노드전극과 캐소드전극에 구동전압이 인가되면 정공주입층(HIL) 내의 정공과 전자주입층(EIL) 내의 전자는 각각 발광층(EML) 쪽으로 진행하여 그 발광층(EML)을 여기시키고, 그 결과 발광층(EML)이 가시광을 발산하게 한다. 이렇게 발 광층으로부터 발생되는 가시광으로 화상 또는 영상을 표시하게 된다. When a driving voltage is applied to the anode electrode and the cathode electrode, holes in the hole injection layer HIL and electrons in the electron injection layer EIL move toward the light emitting layer EML, respectively, to excite the light emitting layer EML. EML) emits visible light. Thus, an image or an image is displayed by the visible light generated from the light emitting layer.

이러한 OLED를 비롯하여 대부분의 평판표시소자를 제조하기 위한 제조공정은 포토리소그라피(Photorithography) 공정을 이용하여 박막을 패터닝하고 있다. 포토리소그라피 공정은 유기물 또는 무기물을 포함한 박막재료의 증착공정, 포토레지스트(Photo-resist, PR)의 코팅공정, 에칭공정, 포로레지스트의 제거를 위한 현상공정, 세정공정을 포함한다. 이러한 각 공정에서 기판 상에 형성된 수분을 제거하기 위하여 건조장치가 설치되고 있다. The manufacturing process for manufacturing most flat panel display devices, such as OLEDs, is patterning a thin film using a photolithography process. The photolithography process includes a deposition process of a thin film material including an organic material or an inorganic material, a coating process of a photo-resist (PR), an etching process, a developing process for removing a captive resist, and a cleaning process. In each of these processes, a drying apparatus is installed to remove moisture formed on the substrate.

한편, 포토레지스터의 코팅공정에서 포토레지스터를 박막 상에 잘 융착시키기 위하여 핫 플레이트 장치 내에서 기판이 적정 온도로 가열된 후 건조장치에서 기판 상에 형성된 물이나 수분이 완전히 제거된다. 그리고 가열된 기판을 식히기 위하여 쿨링 플레이트에서 가열된 기판이 냉각된다. 이러한 일련의 기판의 가열, 건조, 쿨링에 소요되는 시간은 제조공정 시간의 단축을 어렵게 하여 평판표시소자의 생산량을 늘리는데 한계가 있었다. Meanwhile, in the coating process of the photoresist, the substrate is heated to an appropriate temperature in the hot plate apparatus in order to fuse the photoresist onto the thin film well, and then water or moisture formed on the substrate is completely removed from the drying apparatus. And the heated substrate is cooled in the cooling plate to cool the heated substrate. The time required for heating, drying, and cooling the series of substrates has a limit in increasing the yield of the flat panel display device by making it difficult to shorten the manufacturing process time.

또한 포토 레지스터를 경화시키기 위하여 핫 플레이트에서 다소 높은 온도로 기판을 가열하고, 가열된 기판을 식히기 위하여 쿨링 플레이트에서 냉각을 한다. 이러한 작업시간 역시 상당한 시간이 소요되기 때문에 평판표시소자의 생산량이 낮은 실정이다. The substrate is also heated to a rather high temperature on a hot plate to cure the photoresist and cooled on a cooling plate to cool the heated substrate. This work time also takes a considerable amount of time, the production of flat panel display devices is low.

한편, 일반적으로 평판표시소자의 제조공정에서 양품판정을 위하여 기판 상에 형성된 각종 패턴에 대하여 검사공정이 수행된다. 그런데 기판 상의 패턴을 검사하기 위한 검사기에서 기판 상에 수분이나 이물질이 잔류하고 있으면 정밀한 검 사가 이루어질 수가 없었다. In general, an inspection process is performed on various patterns formed on a substrate for good quality judgment in a manufacturing process of a flat panel display device. However, in the inspector for inspecting the pattern on the substrate, if moisture or foreign matter remained on the substrate, precise inspection could not be performed.

따라서, 본 고안의 목적은 전술한 종래 기술의 문제점들을 해결하기 위하여 안출된 고안으로써 평판표시소자의 기판 건조에 필요한 시간을 단축하도록 한 기판 건조장치를 제공함에 있다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a substrate drying apparatus designed to shorten the time required for substrate drying of a flat panel display device by devising to solve the problems of the prior art described above.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 고안에 따른 기판 건조장치는 기판을 가열하기 위한 가열수단과; 노출된 노즐을 통해 상기 기판에 고압의 기체를 분사하기 위한 기체 분사수단을 구비한다. In order to achieve the above object, the substrate drying apparatus according to the present invention and the heating means for heating the substrate; Gas injection means for injecting a high pressure gas to the substrate through the exposed nozzle.

상기 가열수단과 상기 기체 분사수단은 하나의 모듈로 일체화된다. The heating means and the gas injection means are integrated into one module.

상기 기판 건조장치는 상기 노즐 근방에 설치되어 상기 기판으로 분사되는 기체를 안내하기 위한 스커트를 더 구비한다. The substrate drying apparatus further includes a skirt installed near the nozzle and guiding a gas injected into the substrate.

상기 기판 건조장치는 저면이 개방되고 상기 가열수단을 지지함과 아울러 상기 기체 분사수단이 내장되는 외장 커버를 더 구비한다. The substrate drying apparatus further includes an exterior cover having an open bottom and supporting the heating means and in which the gas injection means is built.

상기 기체 분사수단은 상기 외장 커버를 관통하고 상기 기체의 유로를 형성하는 입력단, 상기 입력단으로부터 상기 기체가 유입되는 제1 버퍼공간, 상기 노즐로 상기 기체를 공급하는 제2 버퍼공간(14), 상기 제1 및 제2 버퍼공간을 분리하고 상기 제1 버퍼공간 내의 기체를 상기 제2 버퍼공간으로 공급하기 위한 아웃렛 홀이 형성된 버퍼블록, 상기 버퍼블록에 체결되어 상기 제1 버퍼공간의 개방된 일측을 차폐하는 버퍼블록 커버, 상기 버퍼블록에 체결되어 상기 제2 버퍼공간의 개방된 일측을 차폐하고 상기 버퍼블록과의 계면에서 상기 노즐을 형성하는 에어슛팅 블레이드을 구비한다. The gas injection means includes an input terminal penetrating the outer cover and forming a flow path of the gas, a first buffer space through which the gas flows from the input terminal, a second buffer space 14 supplying the gas to the nozzle, and A buffer block formed with an outlet hole for separating first and second buffer spaces and supplying gas in the first buffer space to the second buffer space, and coupled to the buffer block to open one side of the first buffer space; And a buffer block cover for shielding, and an air shooting blade fastened to the buffer block to shield one open side of the second buffer space and form the nozzle at an interface with the buffer block.

상기 가열수단은 상기 외장 커버의 개방된 저면에 고정되는 반사판, 고압의 교류전압에 의해 점등되는 램프히터, 상기 반사판에 고정되어 상기 램프히터를 지지하는 램프히터 브라켓을 구비한다. The heating means includes a reflector plate fixed to an open bottom surface of the outer cover, a lamp heater lit by a high voltage AC voltage, and a lamp heater bracket fixed to the reflector plate to support the lamp heater.

상기 기판 건조장치는 상기 외장 커버 또는 반사판에 고정되어 상기 건조장치의 온도를 감지하기 위한 온도센서(8)와; 상기 반사판에 고정되는 발광부(17a)와 상기 기판 아래에 설치되는 수광부(17b)를 포함하여 상기 기판을 감지하는 광센서를 더 구비한다. The substrate drying apparatus includes a temperature sensor 8 fixed to the exterior cover or the reflecting plate to sense a temperature of the drying apparatus; It further includes an optical sensor for sensing the substrate including a light emitting portion 17a fixed to the reflecting plate and a light receiving portion 17b provided below the substrate.

상기 가열수단과 상기 기체 분사수단이 일체화된 모듈은 세정장비의 후단, 현상장비의 후단, 식각장비의 후단, 스트리퍼장비 후단, 검사장비의 전단 중 적어도 어느 한 위치에 설치된다. The module in which the heating means and the gas injection means are integrated is installed at at least one of the rear end of the cleaning equipment, the rear end of the developing equipment, the rear end of the etching equipment, the rear end of the stripper equipment, and the front end of the inspection equipment.

본 고안의 다른 실시예에 따른 기판 건조장치는 기판을 가열하기 위한 가열수단과, 노출된 제1 노즐을 통해 상기 기판에 고압의 가열된 기체를 분사하기 위한 온기 분사수단이 하나의 모듈로 일체화된 제1 건조 모듈과; 노출된 제2 노즐을 통해 상기 기판에 고압의 냉기 기체를 분사하기 위한 냉기 분사수단을 포함하는 제2 건조 모듈을 포함한다. According to another embodiment of the present invention, a substrate drying apparatus includes a heating means for heating a substrate, and a warming means for injecting a high-pressure heated gas to the substrate through an exposed first nozzle into a single module. A first drying module; And a second drying module including cold air spraying means for spraying high pressure cold air onto the substrate through the exposed second nozzle.

상기 제1 건조 모듈은 상기 제1 노즐의 근방에 설치되어 상기 기판으로 분사 되는 상기 온기의 기체를 안내하기 위한 제1 스커트, 저면이 개방되는 제1 외장 커버, 상기 제1 외장 커버를 관통하고 상기 기체의 유로를 형성하는 제1 입력단, 상기 제1 입력단으로부터 상기 기체가 유입되고 상기 기체가 가열되는 제1 버퍼공간, 상기 제1 노즐로 상기 온기의 기체를 공급하는 제2 버퍼공간, 상기 제1 및 제2 버퍼공간을 분리하고 상기 제1 버퍼공간 내의 기체를 상기 제2 버퍼공간으로 공급하기 위한 제1 아웃렛 홀이 형성된 제1 버퍼블록, 상기 제1 버퍼블록에 체결되어 상기 제1 버퍼공간의 개방된 일측을 차폐하는 제1 버퍼블록 커버, 상기 제1 버퍼블록에 체결되어 상기 제2 버퍼공간의 개방된 일측을 차폐하고 상기 제1 버퍼블록과의 계면에서 상기 제1 노즐을 형성하는 제1 에어슛팅 블레이드, 상기 제1 외장 커버의 개방된 저면에 고정되는 제1 반사판, 고압의 교류전압에 의해 점등되는 램프히터, 상기 제1 반사판에 고정되어 상기 램프히터를 지지하는 램프히터 브라켓, 상기 제1 외장 커버 또는 상기 제1 반사판에 고정되어 상기 제1 건조모듈의 온도를 감지하기 위한 온도센서, 및 상기 반사판에 고정되는 제1 발광부와 상기 기판 아래에 설치되는 제1 수광부를 포함하여 상기 기판을 감지하는 제1 광센서를 구비한다. The first drying module is installed in the vicinity of the first nozzle and passes through a first skirt for guiding the gas of the warmth injected to the substrate, a first outer cover having an open bottom, and passing through the first outer cover. A first input space forming a flow path of a gas, a first buffer space into which the gas flows from the first input end, and the gas is heated, a second buffer space to supply the warm gas to the first nozzle, and the first And a first buffer block having a first outlet hole for separating a second buffer space and supplying a gas in the first buffer space to the second buffer space, the first buffer block being coupled to the first buffer block, A first buffer block cover for shielding the open one side, the first buffer block is fastened to the first buffer block to shield the open one side of the second buffer space and to form the first nozzle at the interface with the first buffer block A first air shooting blade, a first reflector fixed to an open bottom surface of the first exterior cover, a lamp heater lit by a high voltage AC voltage, and a lamp heater bracket fixed to the first reflector to support the lamp heater. And a temperature sensor fixed to the first exterior cover or the first reflecting plate to sense the temperature of the first drying module, a first light emitting part fixed to the reflecting plate, and a first light receiving part installed under the substrate. And a first optical sensor for sensing the substrate.

상기 제2 건조 모듈은 상기 제2 노즐의 근방에 설치되어 상기 기판으로 분사되는 상기 냉기의 기체를 안내하기 위한 제2 스커트, 저면이 개방되는 제2 외장 커버, 상기 제2 외장 커버를 관통하고 상기 기체의 유로를 형성하는 제2 입력단, 상기 제2 입력단으로부터 상기 기체가 유입되는 제3 버퍼공간, 상기 제2 노즐로 상기 냉기의 기체를 공급하는 제4 버퍼공간, 상기 제3 및 제4 버퍼공간을 분리하고 상기 제3 버퍼공간 내의 기체를 상기 제4 버퍼공간으로 공급하기 위한 제2 아웃렛 홀이 형성된 제2 버퍼블록, 상기 제2 버퍼블록에 체결되어 상기 제3 버퍼공간의 개방된 일측을 차폐하는 제2 버퍼블록 커버, 상기 제2 버퍼블록에 체결되어 상기 제4 버퍼공간의 개방된 일측을 차폐하고 상기 제2 버퍼블록과의 계면에서 상기 제2 노즐을 형성하는 제2 에어슛팅 블레이드, 상기 제2 외장 커버의 개방된 저면에 고정되는 제2 반사판, 상기 제2 외장 커버 또는 상기 제2 반사판에 고정되어 상기 제2 건조모듈의 온도를 감지하기 위한 제2 온도센서, 및 상기 제2 반사판에 고정되는 제2 발광부와 상기 기판 아래에 설치되는 제2 수광부를 포함하여 상기 기판을 감지하는 제2 광센서를 구비한다. The second drying module is installed in the vicinity of the second nozzle and passes through a second skirt for guiding the gas of the cold air injected into the substrate, a second outer cover having an open bottom, and passing through the second outer cover. A second input stage forming a gas flow path, a third buffer space into which the gas flows from the second input terminal, a fourth buffer space for supplying the cold air gas to the second nozzle, and the third and fourth buffer spaces And a second buffer block having a second outlet hole for supplying gas in the third buffer space to the fourth buffer space, the second buffer block being coupled to the second buffer block to shield an open side of the third buffer space. A second air blocking block fastened to the second buffer block cover and the second buffer block to shield an open side of the fourth buffer space and to form the second nozzle at an interface with the second buffer block; Raid, a second reflector is fixed to the open bottom surface of the second outer cover, a second temperature sensor fixed to the second outer cover or the second reflector to sense the temperature of the second drying module, and the second And a second light sensor configured to detect the substrate, including a second light emitting part fixed to the second reflecting plate and a second light receiving part provided below the substrate.

이하, 도 2 내지 도 10을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 2 to 10.

도 2 내지 도 6을 참조하면, 본 고안의 실시예에 따른 기판 건조장치는 지지대(1), 외장 커버(혹은 케이싱)(2), 기체 입력단(9), 유지보수용 커버(3), 버퍼블록(Buffer block)(4), 버퍼블록 커버(10), 에어슛팅 블레이드(Air shooting Blade)(11), 반사판(5), 램프히터(Lamp heater)(6), 램프히터 브라켓(7), 온도센서(8), 스커트(16) 및 광센서(17a, 17b)를 구비한다. 2 to 6, the substrate drying apparatus according to an embodiment of the present invention is a support (1), an outer cover (or casing) (2), gas input stage (9), maintenance cover (3), buffer Buffer block (4), Buffer block cover (10), Air shooting blade (11), Reflector (5), Lamp heater (6), Lamp heater bracket (7), And a temperature sensor 8, a skirt 16, and optical sensors 17a and 17b.

지지대(1)는 외장 커버(2)의 상면 좌우측에 분리 고정되어 본 고안에 따른 기판 건조장치 전체를 지지한다. The support 1 is separated and fixed to the upper left and right sides of the outer cover 2 to support the entire substrate drying apparatus according to the present invention.

외장 커버(2)의 상면에는 다수의 기체 입력단(9)이 고정되고 그 내부에 버퍼블록(4), 버퍼블록 커버(10), 에어슛팅 블레이드(11)가 설치된다. 또한, 외장 커버(2)의 상면 좌우측 각각에는 유지보수용 개구부가 형성되고 그 개구부에는 유지 보수용 커버(3)가 개폐 가능하게 설치된다. 외장 커버(2)의 저면은 개구(open)되고 그 개구부에 반사판(5)이 설치된다. 이러한 외장 커버(3)는 외부의 충격원이나 오염원으로부터 버퍼블록(4), 버퍼블록 커버(10), 에어슛팅 블레이드(11)을 보호하고 반사판(5), 램프히터(6), 램프히터 브라켓(7), 온도센서(8) 등을 지지하는 역할을 한다. A plurality of gas input terminals 9 are fixed to the upper surface of the outer cover 2, and a buffer block 4, a buffer block cover 10, and an air shooting blade 11 are installed therein. In addition, a maintenance opening is formed in each of the left and right upper surfaces of the exterior cover 2, and the maintenance cover 3 is provided in the opening so as to be openable and openable. The bottom of the outer cover 2 is opened and a reflecting plate 5 is provided in the opening. The outer cover 3 protects the buffer block 4, the buffer block cover 10, and the air shooting blade 11 from an external impact source or pollutant source, and reflector plate 5, lamp heater 6 and lamp heater bracket. (7), and serves to support the temperature sensor (8) and the like.

버퍼블록(4)은 일측면에 버퍼블록 커버(10)가 체결되고 타측면에 에어슛팅 블레이드(11)가 체결된다. 이 버퍼블록(4)과 에어슛팅 블레이드(11) 사이에는 기체를 분사하기 위한 노즐이 형성된다. 버퍼블록(4), 버퍼블록 커버(10) 및 에어슛팅 블레이드(11)는 기체 입력단(1)으로부터 공급되는 기체(air)의 압력을 일정하게 조절하여 저면에 노출된 노즐을 통해 일정한 압력으로 기체를 분사하는 역할을 한다. The buffer block 4 is fastened to the buffer block cover 10 on one side and the air shooting blade 11 is fastened to the other side. A nozzle for injecting gas is formed between the buffer block 4 and the air shooting blade 11. The buffer block 4, the buffer block cover 10, and the air shooting blade 11 constantly adjust the pressure of the air supplied from the gas input stage 1 so that the gas is kept at a constant pressure through a nozzle exposed on the bottom surface. Serves to spray.

램프히터(6)는 내면에 형광체가 형성되고 방전가스가 밀봉된 유리관, 유리관의 양측에 설치되는 전극들을 포함한다. 이 램프히터(6)는 도시하지 않은 교류전력 구동기(혹은 인버터)로부터의 교류 고전압에 의해 점등되어 빛과 열을 발산하여 기판의 표면, 버퍼블록(4) 및 버퍼블록 커버(10)를 가열하는 역할을 한다. 이러한 램프히터(6)는 빛과 열을 발산하는 공지의 어떠한 램프로도 구현될 수 있고 그 예로, 할로겐램프, 자외선램프, 적외선램프, 백열등 램프 등이 이용될 수 있다. 이 램프히터(6)의 온도는 대략 20℃~100℃ 정도이다. 한편, 램프히터(6)로부터 발산되는 단파장의 빛은 기판 표면의 수분 깊숙히 침투하므로 건조효율과 건조속도를 높인다. The lamp heater 6 includes a glass tube in which a phosphor is formed on an inner surface thereof and a discharge gas is sealed, and electrodes installed on both sides of the glass tube. The lamp heater 6 is turned on by an AC high voltage from an AC power driver (or inverter), not shown, to emit light and heat to heat the surface of the substrate, the buffer block 4 and the buffer block cover 10. Play a role. The lamp heater 6 may be implemented as any known lamp that emits light and heat. For example, a halogen lamp, an ultraviolet lamp, an infrared lamp, an incandescent lamp, or the like may be used. The temperature of this lamp heater 6 is about 20 degreeC-about 100 degreeC. On the other hand, the short wavelength light emitted from the lamp heater 6 penetrates deeply into the moisture on the surface of the substrate, thereby increasing drying efficiency and drying speed.

램프히터 브라켓(7)은 반사판(5)에 스크류로 고정되어 램프히터들(6)의 양측을 반사판(5) 상에 고정한다. The lamp heater bracket 7 is screwed to the reflecting plate 5 to fix both sides of the lamp heaters 6 on the reflecting plate 5.

온도센서(8)는 외장 커버(2) 또는 반사판(5)에 스크류로 고정된다. 이 온도센서(8)는 건조장치의 온도를 실시간적으로 감지하기 위한 제1 온도센서와, 과열판정에 기준이 되는 기준 온도 이상의 온도를 감지하기 위한 제2 온도센서를 포함한다. 제1 온도센서는 도시하지 않은 제1 콘트롤러에 접속되고, 제1 콘트롤러는 제1 온도센서의 출력에 따라 램프히터(6)에 인가되는 전류를 조절하여 건조 장치의 온도를 제어한다. 그리고 제2 온도센서는 도시하지 않은 제2 콘트롤러에 접속되고, 제2 콘트롤러는 제2 온도센서의 출력이 미리 설정된 기준 온도 이상으로 감지되면 램프히터(6)를 턴-오프시킨다. The temperature sensor 8 is screwed to the outer cover 2 or the reflector plate 5. The temperature sensor 8 includes a first temperature sensor for detecting the temperature of the drying apparatus in real time, and a second temperature sensor for detecting a temperature higher than a reference temperature as a reference for overheating determination. The first temperature sensor is connected to a first controller (not shown), and the first controller controls the temperature of the drying apparatus by adjusting a current applied to the lamp heater 6 according to the output of the first temperature sensor. The second temperature sensor is connected to a second controller (not shown), and the second controller turns off the lamp heater 6 when the output of the second temperature sensor is detected to be higher than or equal to a preset reference temperature.

광센서(17a, 17b)는 반사판(5)에 부착된 발광부(17a)와, 그 발광부(17a)와 대향하는 수광부(17b)를 포함한다. 이 광센서(17a, 17b)는 건조장치에 대한 기판 진입 여부를 감지하여 상기 제1 콘트롤러에 접속되고, 제1 콘트롤러는 광센서(17a, 17b)의 출력에 따라 램프히터(6)와 기체를 공급하기 위한 펌프를 구동한다. The photosensors 17a and 17b include a light emitting portion 17a attached to the reflecting plate 5 and a light receiving portion 17b facing the light emitting portion 17a. The photosensors 17a and 17b are connected to the first controller by sensing whether the substrate enters the drying apparatus, and the first controller supplies the lamp heater 6 and the gas in accordance with the outputs of the photosensors 17a and 17b. Drive the pump to supply.

스커트(16)는 도 7 및 도 8과 같이 노즐(12)의 근방에 설치되어 노즐(12)로부터 분사된 기체의 와류를 억제하여 기판(100) 쪽으로 기체의 층류 흐름을 유도하는 기구이다. The skirt 16 is a mechanism which is installed in the vicinity of the nozzle 12 as shown in FIGS. 7 and 8 to suppress vortices of the gas injected from the nozzle 12 to induce laminar flow of the gas toward the substrate 100.

도 7은 본 고안에 따른 기판 건조장치의 종단면을 보여 주는 단면도이다. 7 is a cross-sectional view showing a longitudinal section of the substrate drying apparatus according to the present invention.

도 7을 참조하면, 버퍼블록(4)에는 제1 및 제2 버퍼공간(13, 14)이 형성되고, 제1 및 제2 버퍼공간(13, 14) 사이에는 기체의 유로를 형성하는 아웃렛 홀(15) 이 형성된다. Referring to FIG. 7, first and second buffer spaces 13 and 14 are formed in the buffer block 4, and an outlet hole forming a gas flow path between the first and second buffer spaces 13 and 14. (15) is formed.

제1 버퍼공간(13)은 버퍼블록(4)과 버퍼블록 커버(10)의 조립에 의해 버퍼블록(4)의 일측에 형성되고, 제2 버퍼공간(14)과 그에 연결된 노즐(12)은 버퍼블록(4)과 에어슛팅 블레이드(11)의 조립에 의해 버퍼블럭(4)의 타측에 형성된다. 입력단(9)을 통해 버퍼블록(4) 내로 유입되는 기체의 압력은 제1 버퍼공간(13), 아웃렛 홀(15) 및 제2 버퍼공간(14)으로 흐르면서 압력이 일정하게 변하게 된 후, 노즐(12)을 통해 기판으로 분사된다. 제1 버퍼공간(13) 내에서 기체가 램프히터(6)에 의해 가열되므로 노즐(12)을 통해 분사되는 기체의 온도는 대략 50℃ 정도이다. The first buffer space 13 is formed at one side of the buffer block 4 by assembling the buffer block 4 and the buffer block cover 10, and the second buffer space 14 and the nozzle 12 connected thereto are The buffer block 4 is formed on the other side of the buffer block 4 by assembling the air shooting blade 11. After the pressure of the gas flowing into the buffer block 4 through the input end 9 flows into the first buffer space 13, the outlet hole 15, and the second buffer space 14, the pressure changes constantly, and then the nozzle Through 12 is injected to the substrate. Since the gas is heated by the lamp heater 6 in the first buffer space 13, the temperature of the gas injected through the nozzle 12 is about 50 ° C.

이와 같은 기판 건조장치는 램프히터(6)에 의해 가열된 기판 상에 일정한 압력으로 가열된 기체를 분사하여 기판 상에서 나오는 수증기를 빠르게 증발시킨다. Such a substrate drying apparatus sprays heated gas at a constant pressure on the substrate heated by the lamp heater 6 to rapidly evaporate water vapor emitted from the substrate.

본 고안에 따른 기판 건조장치는 도 2 내지 도 7과 같이 가열수단(램프히터)과 기체 분사수단(버퍼블록, 버퍼블록 커버 및 에어슛팅 블레이드)을 하나의 모듈로 일체화시켜 기판의 가열과 기체 분사를 동시에 행함으로써 기판 상에 형성된 수분을 빠르게 증발시킨다. 이러한 본 고안에 따른 기판 건조장치는 세정장비의 후단, 현상장비의 후단, 식각장비의 후단, 스트리퍼장비 후단에 설치하여 건조속도를 높인다. 또한, 본 고안에 따른 기판 건조장치는 검사장비의 전단에 설치되어 검사장비로 공급되는 피 검사기판 상의 수분을 빠르게 건조시킨다. In the substrate drying apparatus according to the present invention, as shown in FIGS. 2 to 7, the heating means (lamp heater) and the gas ejection means (buffer block, buffer block cover, and air shooting blade) are integrated into one module to heat the substrate and spray the gas. The water formed on the substrate is rapidly evaporated by simultaneously performing the process. The substrate drying apparatus according to the present invention is installed at the rear end of the cleaning equipment, the rear end of the developing equipment, the rear end of the etching equipment, and the rear end of the stripper equipment to increase the drying speed. In addition, the substrate drying apparatus according to the present invention is installed in the front of the inspection equipment to quickly dry the moisture on the test substrate to be supplied to the inspection equipment.

본 고안에 따른 기판 건조장치의 동작과 그로 인한 작용효과를 도 8을 결부하여 상세히 설명하면 다음과 같다. The operation of the substrate drying apparatus according to the present invention and the resulting effects thereof will be described in detail with reference to FIG. 8.

도 8을 참조하면, 전공정에서 기판(100) 상에는 유기재료의 박막패턴 및/또 는 무기재료의 박막패턴(101)이 형성된 후, 그 기판(100)이 도시하지 않은 콘베이어장치에 의해 본 고안에 따른 기판 건조장치 아래를 지나게 된다. 기판(100)은 투명한 유리 또는 플라스틱 기판이다. Referring to FIG. 8, after the thin film pattern 101 of the organic material and / or the thin film pattern 101 of the inorganic material is formed on the substrate 100 in the previous process, the substrate 100 is designed by a conveyor apparatus (not shown). Passed under the substrate drying apparatus according to. Substrate 100 is a transparent glass or plastic substrate.

한편, 기판(100) 상에는 주위 환경과 전 공정과 후 공정의 온도차에 의해 원치 않는 수분 또는 물방울(102)이 형성될 수 있다. 이러한 수분(102)은 검사공정이나 기타 봉지 공정에서 검사의 에러를 유발하고 불량 발생의 원인으로 작용한다. On the other hand, unwanted moisture or water droplets 102 may be formed on the substrate 100 by the temperature difference between the surrounding environment and the pre-process and the post-process. This water 102 causes an error of inspection in the inspection process or other encapsulation process and acts as a cause of the occurrence of defects.

본 고안에 따른 기판 건조장치의 아래로 기판(100)이 지나갈 때 점등된 램프히터(4)에 의해 그 기판(100)이 가열된다. 이와 동시에, 노즐(101)로부터 고압의 청정 기체가 기판(100)으로 분사된다. 그 결과, 기판(100) 상에 형성된 수분은 열에 의해 수증기로 변한 직후에, 고압의 청정 기체에 의해 빠르게 증발된다. The substrate 100 is heated by the lamp heater 4 which is turned on when the substrate 100 passes under the substrate drying apparatus according to the present invention. At the same time, high pressure clean gas is injected from the nozzle 101 onto the substrate 100. As a result, the moisture formed on the substrate 100 is rapidly evaporated by the clean gas of high pressure immediately after it turns into water vapor by heat.

도 9 및 도 10은 본 고안의 다른 실시예에 따른 건조장치를 보여 준다. 9 and 10 show a drying apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 9 및 도 10을 참조하면, 이 건조장치는 전술한 건조장치에 비하여 히터 램프가 없다는 점을 제외하고 전술한 실시예와 실질적으로 동일하다. 9 and 10, this drying apparatus is substantially the same as the above-described embodiment except that there is no heater lamp compared to the above-mentioned drying apparatus.

제1 버퍼공간(13)에서 기체가 가열되지 않고 그 버퍼공간(13) 내의 기체 압력이 높은 반면에 노즐(12)의 바깥쪽이 대기압으로써 압력이 낮기 때문에 그들 사이의 압력차로 인하여 노즐(12)로부터 분사되는 기체는 흡열반응에 의해 온도가 낮아진다. 따라서, 이 실시예의 건조장치는 기판(100) 상에 냉기를 분사하게 된다. Since the gas is not heated in the first buffer space 13 and the gas pressure in the buffer space 13 is high while the outside of the nozzle 12 has a low pressure due to atmospheric pressure, the nozzle 12 is caused by the pressure difference therebetween. The gas injected from the temperature is lowered by the endothermic reaction. Thus, the drying apparatus of this embodiment injects cold air onto the substrate 100.

전술한 실시예들에서 각각 설명된 온기를 분사하는 건조장치와 함께 냉기를 분사하는 건조장치를 조합하면 종래의 핫 플레이트와 쿨링 플레이트를 제거할 수 있다. Combining the drying apparatus for injecting cold air together with the drying apparatus for injecting warmth described in each of the above-described embodiments can remove the conventional hot plate and cooling plate.

상술한 바와 같이, 본 고안에 따른 기판 건조장치는 가열수단과 기체 분사수단을 하나의 모듈로 일체화시켜 구조가 단순화되고 콤팩트화된다. 또한, 본 고안에 따른 기판 건조장치는 기판의 가열과 고압의 기체 분사를 실질적으로 동시에 행함으로써 기판 상에 형성된 수분을 빠르게 증발시킬 수 있으며, 검사 불량을 줄이고 단위 시간당 평판표시소자의 생산량을 높일 수 있다. 나아가, 본 고안에 따른 기판 건조장치를 적용하면 평판표시장치의 제조장비는 핫 플레이트와 쿨링 플레이트를 제거할 수 있다. As described above, the substrate drying apparatus according to the present invention integrates the heating means and the gas ejection means into one module, thereby simplifying and compacting the structure. In addition, the substrate drying apparatus according to the present invention can rapidly evaporate the moisture formed on the substrate by substantially simultaneously heating the substrate and high-pressure gas injection, reducing inspection defects and increasing the yield of the flat panel display device per unit time. have. Furthermore, if the substrate drying apparatus according to the present invention is applied, the manufacturing apparatus of the flat panel display device may remove the hot plate and the cooling plate.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 고안의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 고안의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 실용신안등록청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be determined by the scope of the utility model registration request.

Claims

In the substrate drying apparatus for drying the substrate of the flat panel display device,

Heating means for heating the substrate;

Gas injection means for injecting a high pressure gas to the substrate through an exposed nozzle;

And said heating means and said gas ejection means are integrated into one module.

The method of claim 1,

And a skirt installed near the nozzle to guide the gas injected into the substrate.

The method of claim 1,

Substrate drying apparatus, characterized in that the bottom surface is open and further supports an external cover (2) to support the heating means and the gas ejection means.

The method of claim 3, wherein

The gas injection means includes an input end 9 penetrating the outer cover and forming a flow path of the gas, a first buffer space 13 through which the gas flows from the input end 9, and the nozzle 12. A buffer block 4 in which a second buffer space 14 for supplying a second buffer space is provided, and an outlet hole 15 for separating the first and second buffer spaces and for supplying a gas in the first buffer space to the second buffer space. ), A buffer block cover 10 fastened to the buffer block to shield an open side of the first buffer space, and fastened to the buffer block to shield an open side of the second buffer space and to the buffer block. An air shooting blade (11) forming said nozzle at an interface;

The heating means includes a reflector plate 5 fixed to an open bottom of the outer cover, a lamp heater 6 that is turned on by a high voltage AC voltage, and a lamp heater bracket 7 that is fixed to the reflector plate and supports the lamp heater. Substrate drying apparatus comprising a.

The method according to claim 3 or 4,

A temperature sensor 8 fixed to the outer cover or a reflecting plate to detect a temperature of the drying apparatus;

And a light sensor for detecting the substrate, including a light emitting portion (17a) fixed to the reflecting plate and a light receiving portion (17b) disposed below the substrate.

The method of claim 1,

The module in which the heating means and the gas injection means are integrated is installed at least at any one position of the rear end of the cleaning equipment, the rear end of the developing equipment, the rear end of the etching equipment, the rear end of the stripper equipment, and the front end of the inspection equipment. Drying equipment.

A first drying module in which a heating means for heating the substrate and a warming means for injecting a high pressure heated gas to the substrate through the exposed first nozzle are integrated into one module;

And a second drying module including cold air injecting means for injecting high pressure cold air into the substrate through the exposed second nozzle.

The method of claim 7, wherein

The first drying module,

A first skirt for guiding the gas of the warmth injected to the substrate and installed near the first nozzle, a first exterior cover having an open bottom, and passing through the first exterior cover to form a flow path of the gas A first input space (9), a first buffer space (13) through which the gas is introduced and the gas is heated from the first input terminal, a second buffer space (14) for supplying the gas of warmth to the first nozzle, A first buffer block 4 and a first buffer block having a first outlet hole 15 for separating the first and second buffer spaces and supplying gas in the first buffer space to the second buffer space; A first buffer block cover 10 fastened to the first buffer block to shield the open side of the first buffer space, the first buffer block fastened to the first buffer block to shield the open side of the second buffer space, and the first buffer block Forming the first nozzle at the interface with the A first air shooting blade 11, a first reflecting plate 5 fixed to an open bottom of the first exterior cover, a lamp heater 6 lit by a high-voltage alternating voltage, and fixed to the first reflecting plate A lamp heater bracket 7 for supporting a lamp heater, a temperature sensor 8 for detecting a temperature of the first drying module fixed to the first exterior cover or the first reflecting plate, and a first fixing to the reflecting plate A first optical sensor including a light emitting unit (17a) and a first light receiving unit (17b) disposed below the substrate to sense the substrate;

The second drying module,

A second skirt installed in the vicinity of the second nozzle to guide the gas of the cold air injected into the substrate, a second exterior cover having a bottom surface opened, and a second flow passage through the second exterior cover to form a flow path of the gas; A second input terminal, a third buffer space into which the gas is introduced from the second input terminal, a fourth buffer space for supplying the gas of cold air to the second nozzle, and the third and fourth buffer spaces, and are separated from each other. A second buffer block having a second outlet hole for supplying gas in the buffer space to the fourth buffer space, and a second buffer block cover fastened to the second buffer block to shield an open side of the third buffer space; And a second air shooting blade fastened to the second buffer block to shield an open side of the fourth buffer space and to form the second nozzle at an interface with the second buffer block. A second reflector fixed to the open bottom surface of the cover, a second temperature sensor fixed to the second exterior cover or the second reflector to sense the temperature of the second drying module, and a second fixer fixed to the second reflector And a second optical sensor for sensing the substrate, including a light emitting portion and a second light receiving portion provided below the substrate.

The method according to claim 7 or 8,

And the first and second drying modules are installed at at least one of a rear end of the cleaning equipment, a rear end of the developing equipment, a rear end of the etching equipment, a rear end of the stripper equipment, and a front end of the inspection equipment.