KR200408616Y1 - 임플란트용 지대주 아날로그 - Google Patents

임플란트용 지대주 아날로그 Download PDF

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KR200408616Y1 KR2020050032310U KR20050032310U KR200408616Y1 KR 200408616 Y1 KR200408616 Y1 KR 200408616Y1 KR 2020050032310 U KR2020050032310 U KR 2020050032310U KR 20050032310 U KR20050032310 U KR 20050032310U KR 200408616 Y1 KR200408616 Y1 KR 200408616Y1
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Abstract

임플란트용 지대주 아날로그가 개시된다. 본 고안의 임플란트용 지대주 아날로그는, 치조골에 매식되는 지대주와 실질적으로 동일한 외형을 가지되 상단부의 중앙에 소정 깊이의 중공이 형성되며, 인공치아가 착탈하는 인공치아 착탈부; 및 인공치아 착탈부의 하부에 결합되어 치아 모형에 매입되는 매입부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 투피스 지대주(two-piece abutment)를 사용하는 임플란트 시술 시에도 간편하게 임플란트 시술을 할 수 있을 뿐만 아니라 시술시간을 종래보다 현저히 단축할 수 있으며, 환자들의 불편함을 최소화할 수 있다.
임플란트, 지대주, 아날로그(analogue), 중공

Description

임플란트용 지대주 아날로그{ABUTMENT ANALOGUE FOR IMPLANT}
도 1은 본 고안의 일 실시 예에 따른 임플란트용 지대주 아날로그의 사시도이다.
도 2는 도 1의 단면도이다.
도 3은 인상체의 채득과정을 도시한 도면이다.
도 4는 도 3의 인상체의 배면 사진이다.
도 5는 도 3의 인상체의 종단면도이다.
도 6은 도 1의 임플란트용 지대주 아날로그가 인상체에 결합된 사진이다.
도 7은 도 6의 인상체를 이용하여 형성한 치아 모형의 종단면도이다.
도 8은 본 고안의 다른 실시예에 따른 임플란트용 지대주 아날로그의 사시도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10 : 임플란트용 지대주 아날로그 10a : 중공
11 : 인공치아 착탈부 21 : 매입부
23 : 면취부 30 : 인상재
40 : 인상체 41 : 치아홈
45 : 지대주 수용홈 47 : 돌기부
50 : 치아 모형 60 : 자연치아
65 : 인공치아 71 : 지대주
75 : 픽스츄어 123 : 단차부
본 고안은, 임플란트용 지대주 아날로그에 관한 것으로서, 구강 내의 치조골에 매식되는 픽스츄어에 별도의 나사로써 지대주가 결합되는 투피스 지대주(two-piece abutment)의 임플란트 시술 시 적용될 수 있는 임플란트용 지대주 아날로그에 관한 것이다.
임플란트는 원래 인체조직이 상실되었을 때 회복시켜 주는 대치물을 의미하지만 치과에서는 인공으로 만든 치근을 이식하는 것을 말한다. 상실된 치아의 치근(뿌리)을 대신할 수 있도록 인체에 거부반응이 없는 티타늄(Titanium) 등으로 만든 치근을 이가 빠져나간 뼈에 심은 뒤 인공치아를 고정시켜 치아의 기능을 회복하도록 하는 첨단 시술이다. 일반 보철물이나 틀니의 경우 시간이 지나면 주위 치아와 뼈가 상하지만 임플란트는 주변 치아조직을 상하지 않게 하며, 자연치아와 기능이나 모양이 같으면서도 충치가 생기지 않으므로 반영구적으로 사용할 수 있는 장점이 있다.
치과에서 행하는 임플란트 시술은 잇몸뼈, 즉 치조골에 임플란트를 매식하는 수술과정과, 심겨진 임플란트에 지대주를 연결하여 인공치아를 장착하는 보철과정 으로 구분된다.
환자가 편안하게 시술을 받기 위해서는 수술과정에서 숙련된 치과의사가 심기 쉬운 매식체를 매식할 수 있어야 한다. 숙련된 치과의사도 제대로 매식하기 힘들게 설계된 매식체를 심는다면 매식과정이 힘들고 시간도 많이 걸리게 된다.
인공치아를 만들어 환자에게 장착하는 보철과정 또한 마찬가지이다. 치과의사가 아무리 숙련되어도 지대주를 장착하고, 그것을 재현해내는 인상과정이 어렵다면 치료시간은 많이 걸리고 환자는 불편함을 느끼게 된다. 그래서, 환자와 의사 모두에게 편안한 보철을 위한 잘 짜여진 부품들의 조합이 절실히 필요하다.
한편, 임플란트 상방에 인공치아를 장착하는 보철과정에서 구강 내 상황을 밖으로 그대로 재현해야만 기공소에서 인공치아를 정확하게 잘 만들 수 있다. 구강 내 상황을 밖으로 재현하는 것은 인상과 치아 모형 제작을 통해서 가능한데 여러 가지 방법들이 행해져 왔다.
임플란트가 시술되던 초창기에는 인공치아를 지대주에 나사를 이용해서 고정하는 방법이 사용되었다. 그러나, 나사를 통해서 인공치아를 지대주에 연결하는 경우, 조금이라도 잘못 만들어진 인공치아는 지대주와 정밀하게 맞지 않아, 임플란트가 실패하거나 부러지는 일이 종종 발생되어 왔다.
이에, 근래에는 제작된 인공치아의 정밀도가 떨어져도 임플란트에 잘못된 힘이 전달되지 않는 접착형 보철이 주류를 이루고 있다. 이는 인공치아를 치과용 접착제를 통해서 지대주에 강력하게 접착하는 방식으로서, 정밀하게 제작되지 못한 인공치아를 장착하는 경우, 그 틈을 치과용 접착제가 메워준다.
접착형 보철의 등장으로 환자와 치과의사들은 까다로운 보철에서 해방되어 한층 편안하게 진료받고 진료할 수 있는 환경이 마련된 것이다.
접착형 보철을 하든 나사형 보철을 하든, 일단 구강 내 상황을 밖으로 재현하여 모델을 만들어야 하고, 그러한 모델을 만들기 위해서는 인상을 채득하여야 하는데 그 과정은 크게 세 가지로 나눌 수 있다.
먼저, 픽스츄어 레벨 임프레션(fixture level impression) 과정은 매식체에 지대주를 연결하지 않은 상태에서 인상을 채득하는 방법으로 구강 내에 위치하는 매식체의 위치와 방향을 정확하게 구강 밖으로 재현하는 방법이다. 구강 내에서 인상 코핑(impression coping)을 연결하여야 하는 까다로운 진료를 행하여야 하고, 인상체에 인상 코핑과 픽스츄어 아날로그(fixture analogue)를 결합한 결합체를 삽입한 후, 모델을 완성해야 하는 번거로운 방법이다.
다음, 컨벡션 타입 임프레션(convection type impression)은 기존의 임플란트 보철이 아닌 일반 보철에 많이 쓰던 방법이다. 기능을 충족시키는 근대 치과보철이 행해진 이후 사용해오던 방법으로서, 씌우거나 걸어야 할 치아를 그대로 재현하는 방법이다. 즉, 임플란트에 지대주를 체결하고, 체결된 지대주의 위치와 모양을 그대로 인상 채득 후, 인상체에 치과용 경석고를 부어 인공치아를 만드는 기공작업을 하는 방법이다. 보철적 상황에 의해 지대주를 삭제하거나 변형해야 하는 경우, 이 방법을 많이 사용한다. 그러나, 치아 모형은 치과용 경석고 또는 초경석고를 이용해서 만들게 되는데, 시행상의 실수로 인하여 치아 모형에 기포가 생겨 기공작업이 어려울 수 있고 기공 과정 중에 치아 모형을 손상시켜서, 실제로 구강 내 에서 잘 안 맞는 커다란 문제점이 발생할 수 있다. 그래서, 시술 시 정밀한 인상체가 되도록 많은 신경을 써야 하고, 인공치아를 만드는 기공작업 또한 매우 예민해야만 한다.
마지막으로, 지대주 레벨 임프레션(abutment level impression)은 전술한 두 가지 인상 방법의 단점을 모두 보완한 것이다. 이 방법은 구강 내에 지대주를 미리 체결하고 이뤄지므로, 인상 코핑을 끼워서 인상한 후에, 다시 빼고 나중에 지대주를 다시 끼고 하는 번거로움이 없다. 구강 내에 한번 체결된 지대주는 최종 보철까지 제거할 일이 전혀 없다. 지대주를 구강 내 임플란트에 채결하고 인상체를 채득하면, 인상체에는 지대주 모양이 음형으로 생긴다. 그 음형의 지대주 구멍에 지대주랑 동일한 모양의 금속으로 된 지대주 아날로그를 삽입하여 치과용 경석고, 초경석고를 부으면 입안에서 있는 모양 그대로 구강 밖에 상황을 재현할 수 있다.
이 경우, 인상체는 지대주를 매우 정밀하게 재현할 필요가 없고, 경석고 또는 초경석고를 붓는 과정에서 기포가 약간 발생하여도 거의 불편함이 없이 기공이 가능하게 된다. 또한 구강 내에 지대주를 미리 체결한 상태에서 이루어지므로 인상 코핑을 끼워서 인상을 뜬 다음에 다시 빼고 나중에 다시 끼고 하는 번거러움이 없다. 즉 구강 내에 한번 체결된 지대주는 최종 보철까지 제거할 일이 전혀 없다. 이러한 형태의 인상을 허용하는 기종의 경우는, 구강 내에 체결되어진 지대주가 원피스 지대주(one-piece abutment)의 경우이다. 원피스 지대주는 지대주와 픽스츄어를 연결하는 나사를 별도로 만들지 않고 지대주에 일체로 형성한 지대주이며, 여기에 사용되는 지대주 아날로그는 상단부 중앙이 꽉 찬 형상을 갖는다.
한편, 지대주와 픽스츄어를 연결하는 나사를 별도로 제작하여 이 나사로 지대주와 픽스츄어를 상호 연결하는 투피스 지대주(two-piece abutment)를 쓰는 경우, 원피스 지대주의 인상 방법과 같은 지대주 레벨 임프레션 방법으로 보철할 수 없게 된다. 구강 내에 임플란트가 매식된 후, 인공치아를 만들어 장착하게 되는 보철은 대합치의 위치와 모양, 인접치의 위치와 모양에 따라 지대주의 모양과 방향을 바꿔야 하는 일이 종종 발생한다. 그래서, 픽스츄어 레벨 임프레션 형태로 인상체를 체득하여, 치아 모형상에서 지대주를 장착하고 변형시켜 인공치아를 만드는 기공작업을 하도록 모든 임플란트 제조 회사들이 권유하고 있다. 구강에 장착된 지대주의 모양과 방향에 수정을 가할 일이 없는 경우에는 굳이 픽스츄어 레벨 임프레션 방법을 고집할 필요가 없다. 즉, 지대주 레벨 임프레션 방법으로 충분하다.
그러나, 인접치, 대합치, 잇몸(치은), 치조골 등의 상황에 따라 사용되어지는 지대주의 모양과 크기는 다양하고, 소수의 지대주를 만들면 그 다양한 상황을 다 충족시킬 수 없으므로, 당연히 픽스츄어 레벨 임프레션 방법으로 보철하는 것이 권유될 수밖에 없다.
그런데, 다양한 모양과 크기의 지대주를 만들면 구강 내에서 지대주의 변형없이 쉽게 보철이 가능할 것이다. 따라서 투피스 지대주의 경우에도, 다양한 지대주의 크기와 모양을 만들고 그것에 맞는 임플란트용 지대주 아날로그를 만들어 시술한다면, 간편하게 임플란트 시술을 할 수 있을 뿐만 아니라 시술시간을 종래보다 현저히 단축할 수 있을 것이다.
투피스 지대주를 사용하여 임플란트 시술하는 경우에도 종래의 지대주 아날 로그를 사용하는 방법을 고려할 수 있는데, 만약 투피스 지대주를 사용하여 임플란트 시술하는 때에 종래의 원피스 지대주 아날로그와 같이 상단부 중앙 영역이 꽉 찬 형상을 가지게 되면, 우선 구강 내에 있는 지대주 내부에 형성된 구멍을 반드시 다 메우고 인상을 채득하여야 한다. 왜냐하면 만약 지대주 내부의 구멍을 다 메우지 않고 인상을 뜨는 경우 인상체 내부에는 돌출된 돌출물이 형성되어 상단부 중앙 영역이 꽉 찬 아날로그를 끼우는 경우 정확한 위치에 안착될 수가 없기 때문이다. 정확하게 안착되지 않은 상태에서 모형을 만들어 작업을 하면 최종 보철물이 구강 내에 맞을 리가 없다.
따라서 지대주 구멍을 다 막지 못하면 정확한 위치에 안착되지 못하여 시술에 장애를 주고 결과적으로 치명적인 오류를 범하게 되므로 심리적으로 치과의사는 지대주 구멍을 과도하게 막고 인상을 뜰 수 있다. 그런데 그러한 경우에는 오히려 아날로그가 정확하게 위치를 잡기보다는 인상체 속에 과도하게 깊이 삽입되는 일이 발생할 수 있다. 지대주의 속을 과도하게 막아서 인상체의 음형 바닥이 다 비어버리기 때문이다.
이상과 같이 상단부 중앙 영역이 꽉 찬 형상을 갖는 종래의 원피스 지대주 아날로그를 사용하는 경우에는 구강내 지대주를 적게 막아도 문제가 될 수 있고 과도하게 막아도 문제가 될 수 있어 시술하는 치과의사는 엄청나게 정성을 기울여 정밀하게 막아야 한다. 이러한 진료행위는 진료시간을 증가시키게 된다.
상단부 중앙 영역이 꽉 찬 형상을 갖는 종래의 원피스 지대주 아날로그를 사용하는 또 하나의 방법은 구강 내 지대주에 플라스틱 모자를 사용하는 방법이다. 구강 내 지대주 모양과 일치하는 플라스틱 모자를 씌워 인상을 뜨게 되면 인상체는 결국 그 플라스틱 모자를 함유하게 된다. 플라스틱을 함유한 인상체는 지대주 아날로그를 넣기에 아주 적당하다. 그러나 플라스틱 모자를 사용하는 방법은 구강 내에서 그것을 끼워야 하는 불편함을 유발할 뿐만 아니고 잘못 끼워지면 결정적 오류의 직접적 원인이 되므로 매우 예민한 진료 행위가 된다. 또한 플라스틱 모자가 구강내 지대주에 끼워지는 형태와 지대주 아날로그에 끼워지는 형태가 완전히 동일하다고 가정할 수 없다. 만약 약간 다른 형태로 끼워진다면 모형에서의 상황은 구강 내 상황과 동일하다고 볼 수 없으므로 모형에서 제작된 최종 보철물은 구강 내에서 맞지 않게 될 것이다.
이상과 같이, 종래의 임플란트용 지대주 아날로그에 있어서는, 투피스 지대주를 사용하는 임플란트 시술 시, 다양한 모양과 크기의 지대주를 만들더라도, 원피스 지대주를 사용하는 임플란트 시술과 같이, 구강 내에 지대주를 미리 체결하고 인상한 후, 인상체에 지대주 아날로그를 끼워서 치아 모형을 제작하여 인공치아를 기공할 수 없어 임플란트 시술이 복잡하고 시술시간이 길고 임시치아 하기가 곤란하며 또한 이에 의하여 환자들도 시술 시 상당한 불편을 느끼는 문제점이 있었다.
따라서, 본 고안의 목적은, 투피스 지대주(two-piece abutment)를 사용하는 임플란트 시술 시에도 간편하게 임플란트 시술을 할 수 있을 뿐만 아니라 시술시간을 종래보다 현저히 단축할 수 있으며, 환자들의 불편함을 최소화할 수 있는 임플란트용 지대주 아날로그를 제공하는 것이다.
상기 목적은, 본 고안에 따라, 치조골에 매식되는 지대주와 실질적으로 동일한 외형을 가지되 상단부의 중앙에 소정 깊이의 중공이 형성되며, 인공치아가 착탈하는 인공치아 착탈부; 및 상기 인공치아 착탈부의 하부에 결합되어 치아 모형에 매입되는 매입부를 포함하는 것을 특징으로 하는 임플란트용 지대주 아날로그에 의해 달성된다.
여기서, 상기 중공은, 상기 지대주의 상단부 중앙에 형성된 나사공과 실질적으로 동일한 직경을 갖는 것이 바람직하다.
또한, 상기 중공은, 상기 지대주의 상단부 중앙에 형성된 나사공의 깊이보다 약간 깊거나 약간 얕을 수 있으나, 상기 지대주의 상단부 중앙에 형성된 나사공과 실질적으로 동일한 깊이를 갖는 것이 바람직하다.
한편, 일 실시예로서 상기 매입부의 외주 일 영역에 면취된 면취부를 형성하거나, 다른 실시예로서 상기 매입부의 외주 일 영역에 단차를 이루는 단차부를 형성함으로써, 상기 매입부가 치과용 경석고 등에 의해 매입될 때, 지대주 아날로그가 치아 모형으로부터 이탈하는 것을 방지할 수 있다. 특히, 면취부는 지대주 아날로그가 회전하는 것을 방지할 수 있게 된다.
이하에서는 첨부도면을 참조하여 본 고안에 대해 상세히 설명한다.
도 1은 본 고안의 일 실시 예에 따른 임플란트용 지대주 아날로그의 사시도이고, 도 2는 도 1의 단면도이며, 도 3은 인상체의 채득과정을 도시한 도면이고, 도 4는 도 3의 인상체의 배면 사진이며, 도 5는 도 3의 인상체의 종단면도이고, 도 6은 도 1의 임플란트용 지대주 아날로그가 인상체에 결합된 사진이며, 도 7은 도 6의 인상체를 이용하여 형성한 치아 모형의 종단면도이다. 이들 도면에 도시된 바와 같이, 본 고안의 일 실시 예에 따른 임플란트용 지대주 아날로그(10, abutment analogue)는, 치조골에 매식되는 지대주와 실질적으로 동일한 외형을 가지되 상단부의 중앙에 소정 깊이의 중공(10a)이 형성되며 인공치아가 착탈하는 인공치아 착탈부(11)와, 인공치아 착탈부(11)의 하부에 결합되어 치아 모형에 매입되는 매입부(21)를 구비한다.
인공치아 착탈부(11)는, 구강 내의 치조골에 매식되어 있는 투피스 지대주(two-piece abutment)와 실질적으로 동일한 형상과 크기를 갖는다. 그리고 상단부의 중앙에 형성된 소정 깊이의 중공(10a)이 형성되어 있는데, 이는 투피스 지대주(two-piece abutment)에서 지대주 나사가 들어가도록 형성된 구멍과 실질적으로 동일한 것으로서, 따라서 중공(10a)의 직경과 깊이는, 치조골에 매식되어 있는 투피스 지대주(two-piece abutment)에서 지대주 나사가 들어가도록 형성된 지대주 구멍의 크기와 깊이와 실질적으로 동일하다. 즉 중공(10a)의 직경은 치조골에 매식되는 지대주에 형성된 나사공과 실질적으로 동일하며, 중공(10a)의 깊이 또한 치조골에 매식되는 지대주에 형성된 나사공과 실질적으로 동일하다. 그런데 중공(10a)의 깊이는 치조골에 매식되는 지대주에 형성된 나사공의 깊이보다 약간 깊어도 되고, 또한 구강 내에서 투피스 지대주에는 지대주 나사가 들어가므로 중공(10a)의 깊이가 구강 내의 투피스 지대주에 형성된 깊이보다 조금 얕게 형성되어도 무방하다. 이러한 중공(10a)은 치아 모형 제작 시에 도 4에 도시된 바와 같이 인상체(40)의 지대 주 수용홈(45)에 형성된 돌기부(47)에 수용되게 된다. 따라서 종래 상단부 중앙 영역이 꽉 찬 아날로그를 사용할 때 발생하던, 인상체(40) 내부에 돌출된 돌기부(47)에 의하여 정확한 위치에 안착될 수가 없는 종래의 문제점이 해소된다.
매입부(21)는 인공치아 착탈부(11)의 하부에 결합되어 도 7에 도시된 바와 같이 치아 모형(50)의 잇몸 영역에 매입된다. 매입부(21)의 외주 일 영역에는 면취부(23)가 형성되어 있으며, 면취부(23)는 매입부(21)가 치과용 경석고에 의해 매입될 때, 지대주 아날로그(10)가 회전하는 것을 방지하는 역할을 한다.
이러한 구성에 의하여, 본 고안에 따른 임플란트용 지대주 아날로그를 이용한 임플란트 시술 과정을 개략적으로 설명하면 다음과 같다.
먼저, 도 3에 도시된 바와 같이, 구강 내의 시술하고자 하는 치조골에 픽스츄어(75)를 매식한다.
다음, 픽스츄어(75)의 상부에 지대주(71)를 배치한 후, 지대주(71)의 내주에 형성된 나사공을 통해 나사(미도시)를 삽입하여 지대주(71)와 픽스츄어(75)를 결합한다.
계속해서, 도 3에 도시된 바와 같이, 지대주(71)는 물론 자연치아(60)의 위에 인상재(30)를 씌워, 치아 형태를 본뜬다.
그리고, 일정시간 경과 후, 인상체(40)를 구강 내의 자연치아(60)와 지대주(71)로부터 분리한다. 즉, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 인상체(40)를 채득한다. 한편, 인상체(40)에는 치아 형태의 치아홈(41)이 형성됨과 동시에, 지대주(71)와 동일 형상을 갖는 지대주 수용홈(45)이 형성된다. 특히, 지대주 수용홈(45)에는 인상체(40) 채득시 지대주(71)의 나사공으로 주입된 인상재(30)에 의해 소정의 길이로 돌출된 돌기부(47)가 형성되어 있다. 이 때, 지대주(71)는 구강 내의 픽스츄어(75)에 결합된 상태를 유지한다.
이어서, 도 6에 도시된 바와 같이, 지대주 아날로그(10)를 인상체(40)의 지대주 수용홈(45)에 장착한다. 이 때, 지대주 아날로그(10)는 지대주(71)와 동일한 형상과 크기를 가지므로, 지대주 아날로그(10)는 인상체(40)의 지대주 수용홈(45)에 형상 맞춤 결합된다. 특히, 지대주 아날로그(10)는 중공(10a)이 상단부 중앙에 형성되어 있으므로, 인상체(40)의 지대주 수용홈(45)에 형성된 돌기부(47)는 지대주 아날로그(10)의 중공(10a)에 수용된다.
그리고, 지대주 아날로그(10)가 결합된 인상체(40)에 치과용 경석고를 부어 치아 모형(50)을 제작한다. 이 때, 매입부(21)의 외주 일 영역에 형성된 면취부(23)에 의해 지대주 아날로그(10)가 회전하지 않으며 치아 모형(50)으로부터 이탈하지 않게 되어, 정확한 치아 모형(50)을 얻을 수 있게 된다. 한편, 완성된 치아 모형(50)에는, 도 7에 도시된 바와 같이, 지대주 아날로그(10)의 인공치아 착탈부(11)가 치아 모형(50)의 잇몸영역으로부터 돌출되어 있다.
계속해서, 치아 모형(50)의 지대주 아날로그(10)의 인공치아 착탈부(11)에 인공치아(65)를 착탈하며, 인공치아(65)와 지대주 아날로그(10)를 서로 맞추어 가면서, 인공치아(65)를 치조골에 매식된 지대주에 결합할 인공치아(65)로 기공한다. 이 때, 인공치아(65)와 지대주 아날로그(10) 사이에 접착제 즉 치과용 시멘트를 사용하지 않는다.
이렇게 해서, 치조골에 매식된 지대주에 결합할 인공치아(65)가 완성되면, 구강 내의 치조골에 매식된 픽스츄어(75)에 고정된 지대주(71)에 인공치아(65)를 끼운다. 이 때, 지대주(71)와 인공치아(65) 사이에 치과용 시멘트 즉 접착제를 개재하여 지대주(71)와 인공치아(65)를 부착시킨다.
이로써, 본 고안에 따른 지대주 아날로그(10)를 이용한 임플란트의 시술이 완료된다.
이에, 인공치아(65)는 자연치아(60)와 정확히 맞아 유동이 근본적으로 방지되며, 인접한 자연치아(60)와 어울려 심미감을 향상시킬 수 있게 된다.
이상과 같이, 임플란트용 지대주 아날로그(10)가, 치조골에 매식되는 지대주와 실질적으로 동일한 외형을 가지되 상단부의 중앙에 소정 깊이의 중공(10a)이 형성되며, 인공치아가 착탈하는 인공치아 착탈부(11)와, 인공치아 착탈부(11)의 하부에 결합되어 치아 모형에 매입되는 매입부(13)를 구비함으로써, 투피스 지대주를 사용하는 임플란트 시술 시에도, 구강 내에 지대주를 미리 체결하고 인상한 후, 인상체에 지대주 아날로그를 끼워서 치아 모형을 제작하여 인공치아를 기공하고, 기공된 인공치아를 구강 내의 지대주에 결합하기만 하면 되므로, 환자들의 불편함을 최소화하며, 간편하게 임플란트 시술을 할 수 있을 뿐만 아니라 시술시간을 단축할 수 있게 된다.
도 8은 본 고안의 다른 실시 예에 따른 임플란트용 지대주 아날로그의 사시도이다. 이하에서는 본 고안의 일 실시 예와 다른 부분만을 설명하고자 하며, 설명을 위해 필요한 경우 일 실시 예와 동일한 부분에 대해서는 동일한 참조부호를 부 여하여 인용하고 변경되는 부분에 대해서는 '100'을 부가한 참조부호를 부여하여 인용하기로 한다.
본 고안의 다른 실시 예에 따른 임플란트용 지대주 아날로그(110)는 전술한 일 실시 예와는 달리, 매입부(121)의 외주 일 영역에 단차를 이루는 단차부(123)가 형성되어 있다.
이에, 매입부(121)가 치과용 경석고 등에 의해 매입될 때, 지대주 아날로그(110)의 단차부(123)는 지대주 아날로그(110)가 치아 모형으로부터 이탈하지 않게 된다.
한편, 전술한 실시 예들에서는 지대주 아날로그의 중공은 구강 내에 매식된 지대주의 상단 중앙에 나사공의 직경과 깊이와 실질적으로 동일한 것에 대하여 상술하였지만, 지대주 아날로그의 내주 전체가 축선 방향을 따라 중공으로 형성되어 있을 수도 있을 것이다.
이와 같이 본 고안은 기재된 실시 예에 한정되는 것이 아니고, 본 고안의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서, 그러한 수정 예 또는 변형 예들은 본 고안의 실용신안등록청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
이상 설명한 바와 같이, 본 고안에 따르면, 투피스 지대주(two-piece abutment)를 사용하는 임플란트 시술 시에도 간편하게 임플란트 시술을 할 수 있을 뿐만 아니라 시술시간을 종래보다 현저히 단축할 수 있으며, 환자들의 불편함을 최 소화할 수 있다.

Claims (5)

  1. 치조골에 매식되는 지대주와 실질적으로 동일한 외형을 가지되 상단부의 중앙에 소정 깊이의 중공이 형성되며, 인공치아가 착탈하는 인공치아 착탈부; 및
    상기 인공치아 착탈부의 하부에 결합되어 치아 모형에 매입되는 매입부를 포함하는 것을 특징으로 하는 임플란트용 지대주 아날로그.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 중공은, 상기 지대주의 상단부 중앙에 형성된 나사공과 실질적으로 동일한 직경을 갖는 것을 특징으로 하는 임플란트용 지대주 아날로그.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 중공은, 상기 지대주의 상단부 중앙에 형성된 나사공과 실질적으로 동일한 깊이를 갖는 것을 특징으로 하는 임플란트용 지대주 아날로그.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 매입부의 외주 일 영역에는 면취된 면취부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 임플란트용 지대주 아날로그.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 매입부의 외주 일 영역에는 단차를 이루는 단차부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 임플란트용 지대주 아날로그.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2014109511A1 (ko) * 2013-01-09 2014-07-17 Lee In Han 탈부착식 픽스쳐 레벨 및 어뷰트먼트 레벨 임플란트 아날로그
WO2017002111A1 (en) * 2015-06-28 2017-01-05 Optical Metrology Ltd. Dental implant procedure by scanning a closed tray impression
KR101940737B1 (ko) * 2017-09-01 2019-01-21 주식회사 디오 디지털보철 컨펌용 장치

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