KR20040100268A - Apparatus of sending wafer - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 웨이퍼 이송 장치에 관한 것으로, 특히 웨이퍼를 이송하는 장치의 구조를 간략화하고, 또한 유닛간의 웨이퍼의 고속 이송이 가능토록 한 웨이퍼 이송 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer transfer apparatus, and more particularly, to a wafer transfer apparatus that simplifies the structure of a wafer transfer apparatus and enables high-speed transfer of wafers between units.
일반적으로, 반도체 제조 장비에서 웨이퍼를 다른 처리 유닛 예를 들면 코터(Coater), 디벨로퍼(Developer), 핫 플레이트(Hot Plate), 쿨 플레이트(Cool Plate), 어디젼(Adhesion) 등으로 이송하기 위하여 이송 장치를 사용하게 된다.In general, semiconductor manufacturing equipment transfers wafers to other processing units, such as coaters, developers, hot plates, cool plates, adhesions, and the like. The device is used.
이러한 이송 장치는 웨이퍼를 집고 이송하기 위한 이송암, 이송암의 X, Y, Z, θ방향의 동작을 제어하기 위한 제어 구조물 등으로 이루어진다.The transfer device is composed of a transfer arm for picking up and transferring a wafer, a control structure for controlling the operation of the transfer arm in the X, Y, Z, and θ directions.
상기 각 방향의 이동을 위해서는 복잡한 기구적 구성을 가져야 하고, 이로 인해 장비의 부피도 커지게 되고, 유지 및 보수에 있어서도 결코 이롭지 못하다.The movement in each direction must have a complicated mechanical configuration, which increases the volume of the equipment, which is never beneficial in maintenance and repair.
또한, 상기 각 방향을 제어하여 웨이퍼를 이송하므로 이송 속도가 빠르지 못하여 결국 작업 수율도 저하되는 문제점이 있다.In addition, since the wafers are transferred by controlling the respective directions, the transfer speed may not be high, resulting in a decrease in the work yield.
본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위하여 창안된 것으로서, 웨이퍼 이송을 위한 장치 구조를 간략화하고, 또한 웨이퍼를 고속으로 이송할 수 있도록 한 웨이퍼 이송 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to provide a wafer transfer apparatus that simplifies the structure of an apparatus for wafer transfer and also transfers wafers at high speed.
도 1 은 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치를 나타낸 도.1 shows a wafer transfer device according to the invention.
도 2 는 웨이퍼를 집어서 들어올리는 동작을 나타낸 도.2 illustrates an operation of picking up and lifting a wafer.
도 3 및 도 4 는 웨이퍼를 측방향으로 이동시키는 동작을 나타낸 도.3 and 4 illustrate an operation of moving the wafer laterally.
도 5 는 웨이퍼를 유닛에 올려놓는 동작을 나타낸 도.5 is a view showing an operation of placing a wafer on a unit.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
1 : 지지판 2 : 상부 레일1: support plate 2: upper rail
3 : 제 1 실린더 5 : 하부 레일3: first cylinder 5: lower rail
6 : 제 1 이동체 7 : 연결부6: first mobile body 7: connection part
8 : 제 1 이송암 9 : 핑거8: first transfer arm 9: finger
10 : 이동 본체 11 : 제 2 실린더10 moving body 11 second cylinder
12 : 제 2 이동체 13 : 연결부12: second moving body 13: connecting portion
14 : 제 2 이송암 15 : 핑거14: second transfer arm 15: finger
16 : 제 3 실린더 17 : 제 3 이동체16: 3rd cylinder 17: 3rd moving body
18 : 브라켓 19 : 승하강 실린더18: bracket 19: lifting cylinder
20 : 버퍼 21 : 스피너20: buffer 21: spinner
22 : 척22: Chuck
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명 웨이퍼 이송 장치는,In order to achieve the above object, the present invention wafer transfer apparatus,
지지판;Support plate;
상기 지지판을 승하강시키기 위한 승하강 실린더;An elevating cylinder for elevating the supporting plate;
상기 지지판상에 횡방향으로 설치된 복수의 실린더;A plurality of cylinders installed transversely on the support plate;
상기 각 실린더 상에서 좌우 이동 가능토록 설치된 복수의 이동체;A plurality of moving bodies installed on the respective cylinders to move left and right;
상기 각 이동체에 고정 착설되어 웨이퍼를 이송시키는 복수의 이송암;으로 구성된 것을 특징으로 한다.And a plurality of transfer arms fixedly mounted to each of the movable bodies to transfer wafers.
상기 이송암은, 이송암의 하부면의 전후 소정 위치에서 하부방향으로 일정부분 돌출되어 형성된 한쌍의 핑거부를 가진다.The transfer arm has a pair of finger portions formed by projecting a predetermined portion in a downward direction at a predetermined position before and after the lower surface of the transfer arm.
상기 핑거부는 링의 형태에서 서로 대향되는 양쪽이 개방되어 있는 형태를 가진다.The finger portion has a form in which both sides of the ring are opened opposite to each other.
상기 적어도 하나의 이동체 상에는 실린더가 구비되고, 그 실린더 상에는 좌우 이동 가능토록 설치된 이동체가 구비되며, 상기 이동체에는 고정 착설되어 웨이퍼를 이송시키는 복수의 이송암으로 구성된다.A cylinder is provided on the at least one movable body, and a movable body installed to move left and right is provided on the cylinder, and the movable body is configured of a plurality of transfer arms fixedly installed to transfer wafers.
이와 같이 구성되는 본 발명을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.The present invention configured as described above will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1 은 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치를 나타낸 도이고, 도 2 내지 도 5 는 본 발명의 동작 상태를 보여주는 도이다.1 is a view showing a wafer transfer apparatus according to the present invention, Figures 2 to 5 are views showing the operating state of the present invention.
먼저, 지지판(1)은 두 장의 전면 및 후면 지지판(1-1,1-2)이 공간부(1-3)를 두고 서로 겹쳐진 상태로 세워져서 설치되며, 상기 지지판(1)의 하부에는 브라켓(18)이 형성되어 그 브라켓(18)이 승하강 실린더(19)의 축에 연결됨으로써 상기 지지판(1)이 상하로 이동하게 된다.First, the support plate (1) is installed so that the two front and rear support plates (1-1,1-2) are overlapped with each other with a space (1-3) installed, the lower portion of the support plate (1) 18 is formed so that the bracket 18 is connected to the shaft of the elevating cylinder 19, the support plate 1 is moved up and down.
또한, 전면 지지판(1-1)에는 이송암(8,14)이 이동할 수 있는 범위에서 홈이 형성된 개방부(1-4)를 가지며, 상기 후면 지지판(1-1)에는 실린더(3,16)가 설치되고, 그 실린더(3,16)는 상기 전면 지지판(1-1)의 개방부(1-4,1-5)를 통하여 전면으로 돌출되도록 설치되어 있다.In addition, the front support plate (1-1) has an opening (1-4) formed with a groove in the range that the transfer arms (8,14) can move, the rear support plate (1-1) has a cylinder (3,16) ) Is installed, and the cylinders 3 and 16 are installed to protrude to the front through the openings 1-4 and 1-5 of the front support plate 1-1.
상기 전면 지지판(1-1)의 제 1 개방부(1-4) 위쪽 및 아래쪽에는 상부 레일(2)과 하부 레일(5)이 횡방향으로 나란히 형성되어 있어, 제 1 이동체(6)와 제 2 이동체(12) 및 이동 본체(10)가 이의 상부 및 하부 레일(2,5)을 타고 좌우 이동을 하게 된다.The upper rail 2 and the lower rail 5 are formed side by side in the transverse direction above and below the first opening 1-4 of the front support plate 1-1. 2 moving body 12 and the moving body 10 is to move left and right on the upper and lower rails (2, 5).
제 1 실린더(3)는 후면 지지판(1)의 상측 좌측에 횡방향으로 소정 길이만큼 설치되어 전면 지지판(1-1)의 제 1 개방부(1-4)를 통하여 전면 돌출되는데, 이때, 상기 제 1 실린더(3)의 길이는 대략 처리 유닛간의 이격된 거리에 맞게 결정함이 바람직하다.The first cylinder 3 is installed on the upper left side of the rear support plate 1 in a transverse direction by a predetermined length and protrudes in front through the first opening 1-4 of the front support plate 1-1. The length of the first cylinder 3 is preferably determined approximately in accordance with the spaced distance between the processing units.
즉, 제 1 실린더(3)의 좌측 끝은 버퍼(20)(예를 들어 버퍼를 가정한다)의 상측에 있고, 우측 끝은 스피너(21)의 상부에 존재함이 바람직한 것이다.That is, it is preferable that the left end of the first cylinder 3 is above the buffer 20 (eg, assume a buffer), and the right end is above the spinner 21.
물론, 용도에 따라서는 상부 레일(2)과 마찬가지로 지지판(1)의 좌측 끝부분부터 우측 끝부분까지의 길이를 갖도록 설치될 수 있을 것이다.Of course, depending on the application it may be installed to have a length from the left end portion to the right end portion of the support plate 1 as in the upper rail (2).
제 3 실린더(16)는 상기 제 1 실린더(3)의 우측 끝부분의 하측 즉, 스피너(21)가 위치하는 부분으로부터 다음 유닛이 위치하는 부분까지의 길이를 가지고 후면 지지판(1-2)에 고정 설치되며, 제 2 개방부(1-5)를 통하여 전면 지지판(1-1)의 전면으로 돌출되도록 설치된다.The third cylinder 16 has a length from the lower side of the right end of the first cylinder 3, that is, from the position where the spinner 21 is located to the position where the next unit is located, and is attached to the rear support plate 1-2. It is fixedly installed and installed to protrude toward the front surface of the front support plate 1-1 through the second openings 1-5.
결국, 제 1 실린더(3)는 제 1 개방부(1-4)를 통하여 전면으로 돌출되고, 제 3 실린더(16)는 제 2 개방부(1-5)를 통하여 전면을 돌출되어 있게 되는 것이다.As a result, the first cylinder 3 protrudes to the front through the first opening 1-4, and the third cylinder 16 protrudes to the front through the second opening 1-5. .
상기, 제 1 실린더(3)에는 제 1 이동체(6)가 결합되어 좌우 이동하게 되는데, 상기 제 1 이동체(6)의 상부 및 하부는 상부 레일(2) 및 하부 레일(5)에 지지되어 안정적으로 이동을 할 수 있게 된다.The first cylinder 3 is coupled to the first cylinder 3 so as to move left and right, and the upper and lower portions of the first movable body 6 are supported by the upper rail 2 and the lower rail 5 so as to be stable. You can move to.
상기 제 1 이동체(6)에는 연결부(7)를 통하여 제 1 이송암(8)이 고정 결합되어 있게 되는데, 상기 제 1 이송암(8)의 하면에는 한쌍의 핑거(9)가 구비된다.The first transfer arm 8 is fixedly coupled to the first movable body 6 through a connecting portion 7, and a pair of fingers 9 are provided on the lower surface of the first transfer arm 8.
상기 핑거(9)는 내측과 외측이 웨이퍼의 외주 형상대로 만곡되어 형성되는데, 링의 형태에서 서로 대향되는 양쪽이 개방되어 있는 형태이다.The finger 9 is formed by bending the inner and outer sides in the shape of the outer circumference of the wafer, and in the form of a ring, the opposite sides of the finger 9 are open.
한편, 제 3 실린더(16)에는 이동 본체(10)가 설치되어 좌우 이동하게 되는데, 상기 이동 본체(10)는 저면의 일측부가 제 3 실린더(16)상에서 이동 가능토록설치되고, 그 이동 본체(10)의 상부에는 제 1 개방부(1-4)의 턱부분과 하부 레일(5)에 지지되어 설치되어 상기 제 3 실린더(16)의 길이 범위내에서 좌우 이동하게 된다.On the other hand, the third cylinder 16 is provided with a moving main body 10 to move left and right, the moving main body 10 is provided so that one side of the bottom surface is movable on the third cylinder 16, the moving main body ( The upper portion of 10) is supported by the jaw portion of the first opening 1-4 and the lower rail 5 so as to move left and right within the length of the third cylinder 16.
또한, 상기 이동 본체(10)의 상부면에는 제 2 실린더(11)가 고정되어 설치되며, 이 제 2 실린더(11)상에 제 2 이동체(12)가 결합되어 좌우 이동하게 된다.In addition, a second cylinder 11 is fixedly installed on an upper surface of the moving body 10, and the second moving body 12 is coupled to the second cylinder 11 to move left and right.
상기 제 2 이동체(12)는 그 상부가 상부 레일(2)에 지지되어 좌우 이동하게 된다.The upper portion of the second movable body 12 is supported by the upper rail 2 to move left and right.
상기 제 2 이동체(12)에는 제 1 이동체(6)와 마찬가지로 연결부(13)를 통하여 제 2 이송암(14)이 고정 결합되어 있게 되는데, 상기 제 2 이송암(14)의 하면에는 한쌍의 핑거(15)가 구비된다.Like the first movable body 6, the second transfer arm 14 is fixedly coupled to the second movable body 12 through a connecting portion 13. A pair of fingers is provided on the lower surface of the second transfer arm 14. 15 is provided.
이러한 핑거(15)는 상기 제 1 이송암(1)에 구비된 핑거(9)와 동일하다. 그러나, 목적에 따라서 상기 제 1 이송암(8) 및 제 2 이송암(14), 그리고 핑거(9,15)의 구조는 얼마든지 달리할 수 있을 것이다.This finger 15 is the same as the finger 9 provided on the first transfer arm 1. However, depending on the purpose, the structures of the first transfer arm 8 and the second transfer arm 14 and the fingers 9 and 15 may vary.
이의 동작 과정을 상세히 설명한다.The operation process thereof will be described in detail.
도 1 에 도시한 바와 같이 제 1 이송암(8)의 하부에는 웨이퍼를 올려놓기 위한 버퍼(20)가 위치하게 되는데, 꼭 버퍼(20)로 한정되는 것이 아니고 다양한 처리 유닛이 위치할 수 있는 것이다.As shown in FIG. 1, a buffer 20 for placing a wafer is positioned below the first transfer arm 8, but is not limited to the buffer 20, and various processing units may be located. .
또한, 제 2 이송암(14)의 하부에도 처리 유닛 예를 들어 스피너(21)가 위치하는데 이 또한 굳이 스피너(21)로 한정되지 않고 다양한 처리 유닛이 위치할 수있으며, 설명의 편의상 버퍼(20)와 스피너(21)로 가정하여 설명한다.In addition, a processing unit, for example, a spinner 21 is located below the second transfer arm 14, and this is not limited to the spinner 21, but various processing units may be located. ) And the spinner 21 will be described.
카세트(도시하지 않음)로부터 인출된 웨이퍼가 버퍼(20)의 상부에 놓여지게 되면, 제 1 이송암(8)의 핑거(9)는 제 1 실린더(3)에 의하여 좌측으로 이동하여 웨이퍼의 측면으로부터 삽입되어 웨이퍼의 하부에 위치하게 된다.When the wafer withdrawn from the cassette (not shown) is placed on top of the buffer 20, the finger 9 of the first transfer arm 8 is moved to the left by the first cylinder 3 to the side of the wafer. Is inserted from the bottom of the wafer.
또한, 제 2 이송암(14)의 핑거(15) 또한 제 2 실린더(11)에 의하여 좌측으로 이동하여 스피너(21)의 척(22)의 상부에 놓인 웨이퍼의 측면으로부터 삽입되어 웨이퍼의 하부에 위치하게 된다.In addition, the finger 15 of the second transfer arm 14 is also moved from the left side by the second cylinder 11 to be inserted from the side of the wafer placed on the top of the chuck 22 of the spinner 21 to be placed on the lower side of the wafer. Will be located.
이때, 이동 본체(10)도 마찬가지로 제 3 실린더(16)에 의하여 좌측으로 이동하여 있게 된다.At this time, the moving body 10 is also moved to the left by the third cylinder 16 in the same way.
이후, 지지판(1)의 하부에 위치한 승하강 실린더(19)에 의해 지지판(1)이 상승하게 되면 도 2 에 도시한 바와 같이 각 핑거(9,15)가 웨이퍼(W1,W2)를 버퍼(20)와 스피너(21)로부터 들어올리게 되는 것이다.Subsequently, when the support plate 1 is raised by the elevating cylinder 19 positioned below the support plate 1, as shown in FIG. 2, each of the fingers 9 and 15 buffers the wafers W1 and W2. 20) and the spinner 21 will be lifted.
이 상태에서 도 3 에 도시한 바와 같이, 제 1 실린더(3)에 의하여 제 1 이송암(8)의 우측으로 이동하고, 제 2 실린더(11)에 의하여 제 2 이송암(14)이 우측으로 이동하여 제 1 이송암(8)은 스피너(21)의 상부에 위치하고, 제 2 이송암(14)은 제 2 실린더(11)의 맨우측에 존재하게 된다.In this state, as shown in FIG. 3, the first cylinder 3 moves to the right side of the first transfer arm 8, and the second cylinder 11 moves the second transfer arm 14 to the right. By moving, the first transfer arm 8 is positioned above the spinner 21, and the second transfer arm 14 is present at the far right side of the second cylinder 11.
또한, 도 4 에 도시하 바와 같이 제 3 실린더(16)에 의하여 이동 본체(10)가 제 3 실린더(16)상의 맨우측으로 이동하게 되고, 이로 인해 제 1 이송암(14)은 지지판(1)의 상부 레일(2)과 하부 레일(5)의 맨 우측에 존재하게 되는 것이다.In addition, as shown in FIG. 4, the moving body 10 is moved to the far right side on the third cylinder 16 by the third cylinder 16, which causes the first transfer arm 14 to support the support plate 1. ) Will be present on the far right of the upper rail (2) and the lower rail (5).
현재, 제 1 이송암(14)이 존재하는 위치는 그 하부에 또 다른 유닛(도시하지않음)이 존재하게 된다.Currently, the position where the first transfer arm 14 is present will be another unit (not shown) beneath it.
이후, 도 5 에 도시한 바와 같이, 상기 승하강 실린더(19)가 하강하게 되면, 핑거(9)에 안착된 웨이퍼(W1)는 스피너(21)의 척(22)의 상부에 얹혀지게 되고, 또한 핑거(15)의 에 안착된 웨이퍼(W2)는 이웃하는 처리 유닛에 얹혀지게 된다.Subsequently, as shown in FIG. 5, when the elevating cylinder 19 is lowered, the wafer W1 seated on the finger 9 is placed on the upper portion of the chuck 22 of the spinner 21. In addition, the wafer W2 seated on the finger 15 is placed on a neighboring processing unit.
이후, 승하강 실린더(19)에 의하여 지지판(1)이 조금 더 밑으로 하강하게 되면 핑거(9,15)로부터 웨이퍼(W1,W2)가 완전히 이탈되게 되고, 그 상태에서 제 1 이송암(8)과 제 2 이송암(14)이 좌측으로 이동하게 되는데, 제 1 이송암(8)은 제 1 실린더(3)의 맨 좌측으로 이동하여 핑거(9)가 핑거(9)는 버퍼(20)에 올려진 웨이퍼의 하부에 다시 위치하게 되고, 제 2 이송암(14)은 제 2 실린더(11)의 맨 좌측으로만 이동하고 이동 본체(10)는 제 3 실린더(16)의 맨 우측에 그대로 위치하게 된다.Subsequently, when the support plate 1 is lowered a little further by the elevating cylinder 19, the wafers W1 and W2 are completely separated from the fingers 9 and 15, and the first transfer arm 8 is in that state. ) And the second transfer arm 14 move to the left. The first transfer arm 8 moves to the far left side of the first cylinder 3 so that the finger 9 moves the finger 9 to the buffer 20. The second transfer arm 14 moves only to the far left side of the second cylinder 11 and the moving body 10 remains on the far right side of the third cylinder 16. Will be located.
그 이유는 스피너(21)상에서 웨이퍼의 처리 완료되지 않은 관계로 대기 위치에서 웨이퍼가 처리될 때까지 대기하고 있는 것이며, 이웃하는 유닛으로부터는 상기 제 2 이송암(14)의 핑거(15)가 이탈되도록 하는 것이다.The reason is that the wafer 15 is waiting until the wafer is processed at the standby position because the wafer is not processed on the spinner 21, and the finger 15 of the second transfer arm 14 is separated from the neighboring unit. To make it possible.
스퍼너(21)에서 웨이퍼의 처리가 완료되면 이동 본체(10)는 제 2 실린더(11)의 맨 좌측으로 이동하여 제 2 이송암(14)의 핑거(15)가 스피너(21)의 척(22) 상부에 올려진 웨이퍼의 하부에 다시 위치하도록 하는 것이다.When the wafer is processed in the spinner 21, the moving body 10 moves to the far left side of the second cylinder 11 so that the finger 15 of the second transfer arm 14 moves to the chuck of the spinner 21. 22) It is to be located at the bottom of the wafer placed on top.
이와 같이 제 1 이송암(8)과 제 2 이송암(14)이 동시에 웨이퍼를 이웃하는 처리 유닛에 이송함으로써 빠른 이송이 가능한 것이다.As described above, the first transfer arm 8 and the second transfer arm 14 simultaneously transfer the wafers to neighboring processing units, thereby enabling rapid transfer.
또한, 이러한 실린더의 개수와 이송암의 개수를 처리 유닛의 수만큼 증가시켜 구비함으로써 각 유닛에 올려진 웨이퍼를 일괄적으로 한 스텝씩 이송이 가능한것이다.In addition, by increasing the number of cylinders and the number of transfer arms by the number of processing units, it is possible to transfer the wafers placed on each unit one step at a time.
이와 같은 본 발명 웨이퍼 이송 장치는, 웨이퍼의 이송을 고속으로 행할 수 있으며, 또한 다수의 웨이퍼를 동시에 각 처리 유닛으로 빠르게 이송할 수 있으며, 기구적 구성도 단순하여 유지 보수가 용이하다.Such a wafer transfer apparatus of the present invention can transfer wafers at high speed, transfer a large number of wafers to each processing unit at the same time, and the mechanical structure is also simple and easy to maintain.
아울러 부피가 작으므로 공간 활용성이 뛰어난 효과가 있다.In addition, since the volume is small, there is an excellent space utilization.
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2003
- 2003-05-22 KR KR1020030032559A patent/KR20040100268A/en active IP Right Grant
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100777390B1 (en) * | 2006-03-06 | 2007-11-20 | 세메스 주식회사 | Apparatus for transferring substrate |
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