KR20040082483A - Devices for suppling photoresist - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체소자 제조장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체소자 제조장치 중 포토레지스트 공급장치에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor device manufacturing apparatus, and more particularly to a photoresist supply apparatus of the semiconductor device manufacturing apparatus.
일반적으로 반도체소자는 확산공정, 사진공정, 식각공정, 이온주입공정 등의 공정을 반복적으로 수행하여 이의 형성을 완료한다. 특히, 상기 공정 중 사진공정은 반복되는 과정마다 거치게 되므로 공정 난이도 및 공정 정확도가 중요시되고 있다.In general, a semiconductor device repeatedly performs a diffusion process, a photo process, an etching process, an ion implantation process, and the like to complete its formation. In particular, since the photographic process of the process is performed for each iterative process, the process difficulty and the process accuracy are important.
반도체 소자 제조공정의 상기 사진공정은, 웨이퍼 상에 포토레지스트를 코팅한 후, 노광 및 현상공정을 수행함으로써 웨이퍼 상에 소정의 포토레지스트 패턴을 형성하고, 이 형성된 포토레지스트 패턴을 이후의 식각, 금속증착 등의 공정에서 마스크로 사용될 수 있도록 하는 공정이다. 이 공정에 있어서, 웨이퍼 상에 포토레지스트의 공급은 복수 개의 포토레지스트 용기, 펌프, 필터 및 노즐을 포함한 각 구성이 조합 연결된 포토레지스트 공급장치에 의해 이루어진다.In the photolithography process of the semiconductor device fabrication process, after the photoresist is coated on the wafer, a photoresist pattern is formed on the wafer by performing an exposure and development process, and the formed photoresist pattern is subsequently etched and metalized. It is a process to be used as a mask in a process such as deposition. In this process, the supply of the photoresist on the wafer is made by a photoresist supply apparatus in which each configuration including a plurality of photoresist containers, pumps, filters, and nozzles is connected in combination.
도 1에 도시된 바와 같이 하나의 스핀척(42)에 대해 서로 다른 포토레지스트가 수용된 보틀(12a, 12b)을 두 개 이상 구비하고, 이들 각 보틀(12a, 12b)에서 상술한 스핀척(42)까지의 사이에는, 포토레지스트의 유통경로를 이루는 공급라인(14)이 구비된다. 또한, 퍼지가스 공급원(11)으로부터 보틀(12a, 12b)의 내부에 소정 압력으로 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스 공급관(16)이 연결된다. 그리고, 상기 각 보틀(12a, 12b)에서 연장되어 상기 공급라인 상에 포토레지스트 소정 양을 수용하도록 하는 버퍼부(18)와 이 버퍼부(18)를 통과하는 포토레지스트의 유동을 제어부(20)의 신호에 따라 제어하는 제어밸브(22)가 구비된다. 이 버퍼부 상에는 버퍼부(18) 상의 포토레지스트 존재유무를 확인하도록 발·수광부로 이루어진 포토센서(24a, 24b)가 구비된다. 그리고, 상술한 각 보틀(12a, 12b)에서 연장되어 각각이 상호 결합되는 부위 이후의 공급라인 상에는 유동하는 포토레지스트에 다시 강제적 유동압을 제공하는 펌프(PUMP)와; 공급라인을 따라 유동하는 포토레지스트에 함유된 각종 이물질과 변질된 포토레지스트 찌꺼기 및 기포 등을 필터링하기 위한 필터(30)와; 필터(30)의 일측에 연결되어 포토레지스트의 유량을 조절하도록 하는 석백(suction back)조절밸브(28)와; 상기 석백 조절밸브(28)의 말단에 연결되어 모터(40)에 의해 고속 회전하게 되는 스핀척(42)에 안착 고정되는 웨이퍼에 대향하여 유동 공급되는 포토레지스트를 공급하는 노즐(28)을 구비한다. 그리고, 상기 필터(30)의 타측에 연결되어 필터 내부에 충진된 기포를 제거할 수 있도록 에어밸브(34)가 설치된 PR 기포 배출라인(32)을 구비하게 된다.As shown in FIG. 1, two or more bottles 12a and 12b containing different photoresists are provided for one spin chuck 42, and the spin chuck 42 described above in each of these bottles 12a and 12b is provided. ), A supply line 14 constituting a distribution path of the photoresist is provided. Further, a purge gas supply pipe 16 for supplying purge gas at a predetermined pressure from the purge gas supply source 11 to the bottles 12a and 12b is connected. The controller 20 controls the flow of the buffer unit 18 and the photoresist passing through the buffer unit 18 to extend the respective bottles 12a and 12b to accommodate a predetermined amount of photoresist on the supply line. A control valve 22 for controlling in accordance with the signal is provided. On this buffer portion, photosensors 24a and 24b made up of light-receiving and receiving portions are provided to confirm the presence or absence of a photoresist on the buffer portion 18. And a pump (PUMP) extending from each of the bottles 12a and 12b described above to provide a forced flow pressure back to the flowing photoresist on the supply line after the portions to which they are mutually coupled; A filter 30 for filtering various foreign substances contained in the photoresist flowing along the supply line and deteriorated photoresist residues and bubbles; A suction back control valve 28 connected to one side of the filter 30 to adjust the flow rate of the photoresist; And a nozzle 28 connected to the end of the seat back control valve 28 to supply a photoresist that is flow-fed against a wafer seated and fixed to a spin chuck 42 that is rotated at a high speed by a motor 40. . And, it is provided with a PR bubble discharge line 32 is connected to the other side of the filter 30, the air valve 34 is installed to remove the bubbles filled in the filter.
이와 같은 포토레지스트 공급장치의 구성요소인 두 개의 보틀에는 상기 스핀척에서 요구되는 서로 상이한 종류의 제1 및 제2 포토레지스트가 수납되고 있다. 이 보틀들 중 담겨진 제1 포토레지스트가 모두 소모된 보틀은 동일한 제1 포토레지스트가 담겨진 보틀로 교환한다.The two bottles, which are components of the photoresist supply device, accommodate the first and second photoresists of different types required for the spin chuck. Of these bottles, the bottles in which the first photoresist contained is exhausted are exchanged for bottles containing the same first photoresist.
이때, 동일한 제1 포토레지스트가 담겨진 보틀인지의 여부는 보틀의 외벽에 부착된, 포토레지스트명 등이 기재된 바코드를 바코드 리더기 등이 인식하여 이를 포토레지스트 공급장치의 전반적인 동작을 제어하는 제어부로 발신하여 이 제어부가 교환할 보틀간이 동일한 제1 포토레지스트인지를 판단한다.At this time, whether the bottle contains the same first photoresist is determined by a barcode reader or the like that recognizes a barcode written on the outer wall of the bottle, including the photoresist name, and sends it to a control unit that controls the overall operation of the photoresist supply device. The controller determines whether the bottles to be exchanged are the same first photoresist.
그러나, 바코드가 발신된 제어부에 오동작등이 발생되면 교환할 보틀간의 포토레지스트 동일성여부 판단이 불가능한 경우가 있는 데, 이때 서로 상이한 포토레지스트가 채워진 보틀간에 교환될 수 있다.However, when a malfunction or the like occurs in the control unit to which the barcode is sent, it may be impossible to determine whether the photoresist identity between the bottles to be exchanged is different, and at this time, different photoresists may be exchanged between the filled bottles.
따라서, 요구되는 적정시점에 도포되어야 할 포토레지스트와 서로 상이한 포토레지스트가 웨이퍼 상에 도포되는 문제점이 발생하게 되어, 불필요한 공정진행으로 인해 재작업 및 리젝트되는 웨이퍼가 발생하기 때문에 생산성저하 등의 문제점이 있다. Therefore, a problem arises in that a photoresist that is different from a photoresist to be applied at a proper time point is applied onto a wafer, and a wafer that is reworked and rejected occurs due to unnecessary process progress, thereby reducing productivity. There is this.
상술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 보틀 내 포토레지스트 완전 소모시에 수행되는 보틀간의 교환시, 동일한 포토레지스트가 채워진 보틀간의 교환이 이루어질 수 있도록 하는 포토레지스트 공급장치를 제공함에 있다.An object of the present invention for solving the above-described problems is to provide a photoresist supply apparatus that can be exchanged between the bottles filled with the same photoresist during the exchange between the bottles performed when the photoresist in the bottle is completely consumed.
도 1은 종래 기술에 따른 포토레지스트 공급장치의 대략 구성도를 도시한 도면이고,1 is a view showing a schematic configuration of a photoresist supply apparatus according to the prior art,
도 2는 본 발명에 따른 포토레지스트 공급장치의 대략 구성도를 도시한 도면이다.2 is a diagram showing a schematic configuration of a photoresist supply apparatus according to the present invention.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 사상은 서로 상이한 포토레지스트를 각각 수용한, 서로 상이한 각각의 형상을 구비한 복수의 보틀과; 상기 복수 보틀들 각각과 대응하여 상호 부합하는 형상으로 짝을 이루어, 대응하는 각 보틀의 안착지점을 안내하는 복수의 보틀 가이드를 포함하여 구비한다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention for achieving the above object is a plurality of bottles each having a different shape, each receiving a different photoresist; And a plurality of bottle guides formed in pairs corresponding to each of the plurality of bottles to guide each other, and guiding a seating point of each corresponding bottle.
이때, 상호 짝을 이루어 부합하도록 상기 복수의 보틀 각각은 돌출부를 구비하고, 상기 복수의 보틀 가이드 각각은 홈을 구비함이 바람직하다.In this case, it is preferable that each of the plurality of bottles is provided with a protrusion, and each of the plurality of bottle guides has a groove to match each other.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일 실시 예를 설명하고자 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명에 따른 포토레지스트 공급장치의 대략 구성도를 도시한 도면이고, 이를 참조하여 설명하면 다음과 같다.2 is a view showing a schematic configuration of a photoresist supply apparatus according to the present invention, when described with reference to this.
도 2를 참조하면, 하나의 스핀척(42)에 대해 서로 다른 포토레지스트가 수용된 제1 및 제2 보틀(120a, 120b)을 적어도 두 개 이상 구비하고, 이들 각 보틀(120a, 120b)에서 상술한 스핀척(42)까지의 사이에는, 어느 일정구간을 기준하여 일측부위는 상술한 각 보틀(120a, 120b)로 분기시켜 연통연결하고, 다른 상대측부위는 하나로 결합되어 상술한 스핀척(42)에 연결하여 포토레지스트의 유통경로를 이루는 공급라인(14)이 구비된다. 또한, 퍼지가스 공급원(11)으로부터 보틀(120a, 120b)의 내부에 소정 압력으로 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스 공급관(16)이 연결된다. 그리고, 상술한 각 보틀(120a, 120b)에서 연장되어 각각이 상호 결합되는 부위 이전의 공급라인 상에는 투명한 재질로 이루어져 통과하는 포토레지스트 소정 양을 수용하도록 구획하는 버퍼부(18)와 이 버퍼부(18)를 통과하는 포토레지스트의 유동을 제어부의 제어신호에 따라 제어하도록 하는 제어밸브(22)가 구비된다. 이 버퍼부 상에는 버퍼부(18) 상의 포토레지스트 존재유무를 확인하도록 발˙수광부로 이루어진 포토센서(24a, 24b)가 구비되고, 이 포토센서(24a, 24b)에서 감지된 신호를 제어부(20)에 인가하여 포토레지스트의 유동을 제어하도록 한다.Referring to FIG. 2, at least two first and second bottles 120a and 120b in which different photoresists are accommodated in one spin chuck 42 may be provided. Between up to one spin chuck 42, one side portion is branched to each of the bottles 120a and 120b described above and communicates with each other based on a certain section, and the other side portion is combined into one and the above-described spin chuck 42. Supply line 14 is connected to the supply line forming a distribution path of the photoresist. In addition, a purge gas supply pipe 16 for supplying purge gas at a predetermined pressure from the purge gas supply source 11 to the bottles 120a and 120b is connected. In addition, the buffer unit 18 and the buffer unit 18 extending from each of the bottles 120a and 120b described above and partitioned so as to receive a predetermined amount of photoresist made of a transparent material on a supply line before the portion to which each is coupled. A control valve 22 is provided to control the flow of the photoresist passing through 18 in accordance with the control signal of the controller. On the buffer part, photosensors 24a and 24b made up of light-receiving and receiving parts are provided to confirm the presence or absence of photoresist on the buffer part 18, and the control unit 20 receives signals detected by the photosensors 24a and 24b. To control the flow of the photoresist.
그리고, 상술한 각 보틀(120a, 120b)에서 연장되어 각각이 상호 결합되는 부위 이후의 공급라인 상에는 유동하는 포토레지스트에 다시 강제적 유동압을 더 제공하게 되는 펌프(PUMP)가 설치되고, 이에 연이어 공급라인을 따라 유동하는 포토레지스트에 함유된 각종 이물질과 변질된 포토레지스트 찌꺼기 및 기포 등을 필터링하기 위한 필터(30)가 설치되며, 그에 연결되어 포토레지스트의 유량을 조절하도록 하는 석백(suction back)조절밸브(28)가 순차적으로 설치된다. 또한, 필터의 소정부위에는 필터(30)내부에 충진된 기포를 제거할 수 있도록 에어밸브(34)가 설치된 PR 기포 배출라인(32)이 연통하게 연결된다. 그리고, 상술한 노즐(28)은 모터(40)에 의해 고속 회전하게 되는 스핀척(42)에 안착 고정되는 웨이퍼에 대향하여 유동 공급되는 포토레지스트를 공급하게 된다.In addition, a pump (PUMP) extending from each of the bottles 120a and 120b described above to further provide a forced flow pressure to the flowing photoresist is further provided on the supply line after the portions where the respective coupling parts are coupled to each other. A filter 30 is provided for filtering various foreign substances contained in the photoresist flowing along the line and deteriorated photoresist residues and bubbles, and is connected thereto to adjust the flow rate of the photoresist. The valve 28 is installed sequentially. In addition, the PR bubble discharge line 32 in which the air valve 34 is installed is connected to a predetermined portion of the filter so as to remove bubbles filled in the filter 30. The nozzle 28 described above supplies the photoresist that is flow-fed against the wafer seated and fixed to the spin chuck 42 which is rotated at a high speed by the motor 40.
이때, 본 발명의 상기 제1 보틀(120a)에는 상기 제1 보틀의 안착지점을 안내하는 제1 보틀 가이드(130a)가 구비되어 있다. 즉, 이 제1 보틀(120a)의 밑면 하단에는 제1 보틀(120a)내에 수용된 제1 포토레지스트가 명명될 수 있는 고유의 양각 형태 제1 돌출부(122a) 예를 들어, 양각의 삼각형 형상 돌출부가 부착되어 있다. 그리고, 상기 제1 보틀(120a)의 안착지점을 안내하는 제1 보틀 가이드(130a)의 상면에는 상기 양각의 삼각형 형상 돌출부(122a)와 체결되도록 고유의 음각형태의 홈(132a) 예를 들어, 음각의 삼각형 형상 홈(132a)이 구비되어 있다. 따라서, 상기 제1 보틀(120a)이 제1 보틀 가이드(130a)에 안착되면, 상기 제1 보틀에 구비된 양각의 삼각형 형상 돌출부(122a)와 상기 제2 보틀 가이드에 구비된 음각의 삼각형 형상 홈(132a)은 체결된다.At this time, the first bottle 120a of the present invention is provided with a first bottle guide 130a for guiding a seating point of the first bottle. That is, the bottom surface of the first bottle 120a has a unique embossed first protrusion 122a, for example, an embossed triangular protrusion, on which the first photoresist accommodated in the first bottle 120a can be named. Attached. In addition, the upper surface of the first bottle guide 130a for guiding the seating point of the first bottle (120a) is inherent intaglio grooves (132a), for example, to be engaged with the embossed triangular protrusion (122a), A negative triangular groove 132a is provided. Therefore, when the first bottle 120a is seated on the first bottle guide 130a, the embossed triangular protrusion 122a provided in the first bottle and the negative triangular groove provided in the second bottle guide are provided. 132a is fastened.
그리고, 본 발명의 제2 보틀(120b)의 하단에는 양각의 직사각형 형상 돌출부(122b)가 구비되고, 제2 보틀 가이드(130b)의 상면에는 상기 음각의 직사각형 형상 홈(132b)이 구비되어, 상기 제2 보틀(120b)이 제2 보틀 가이드(130b)에 안착되면, 상기 제2 보틀(120b)에 구비된 양각의 직사각형 형상 돌출부(122b)와 상기 제2 보틀 가이드(130b)에 구비된 음각의 직사각형 형상 홈(132b)은 체결된다.In addition, an embossed rectangular protrusion 122b is provided at a lower end of the second bottle 120b of the present invention, and an intaglio rectangular groove 132b is provided on an upper surface of the second bottle guide 130b. When the second bottle 120b is seated on the second bottle guide 130b, an intaglio rectangular protrusion 122b provided on the second bottle 120b and an intaglio provided in the second bottle guide 130b are provided. The rectangular groove 132b is fastened.
이와 같은 보틀과 보틀 가이드가 구비된 포토레지스트 공급장치에서 사진공정이 진행되는 데, 이때 포토레지스트 공급장치에 공급되는 제1 보틀(120a)에 수용된 제1 포토레지스트가 모두 소모될 경우, 상기 제1 보틀(120a)을 제1 포토레지스트가 수용된 다른 제1 보틀(120a)로 교환해야 한다.The photo process is performed in the photoresist supply apparatus provided with the bottle and the bottle guide. When the first photoresist accommodated in the first bottle 120a supplied to the photoresist supply apparatus is exhausted, the first photoresist The bottle 120a must be replaced with another first bottle 120a in which the first photoresist is accommodated.
그래서, 제1 포토레지스트가 모두 소모된 제1 보틀(120a)과 제1 포토레지스트가 수용된 다른 제1 보틀(120a)간을 교환해야 하는 데, 이 교환시 제1 포토레지스트가 수용된 제1 보틀의 양각 삼각형 형상 돌출부(122a)와 상기 양각 삼각형 형상 돌출부의 음각 삼각형 형상 홈(132a)이 체결 결합되도록 제1 보틀(120a)을 이동하면, 모두 소모된 제1 포토레지스트의 제1 보틀과 동일한 제1 포토레지스트로 채워진 제1 보틀로 교환할 수 있게 된다. 따라서, 제1 포토레지스트가 포토레지스트 공급장치에 공급되어 사진공정이 계속 진행된다.Therefore, it is necessary to exchange between the first bottle 120a in which the first photoresist is exhausted and the other first bottle 120a in which the first photoresist is accommodated. When the first bottle 120a is moved such that the relief triangle protrusion 122a and the relief triangle groove 132a of the relief triangle protrusion are coupled to each other, the same first bottle as that of the first photoresist of the first photoresist is exhausted. The first bottle filled with the photoresist can be exchanged. Thus, the first photoresist is supplied to the photoresist supply apparatus and the photolithography process continues.
이와 같이 양각형태의 제1 돌출부와 제1 홈을 각각 구비한 제1 보틀과 제1 보틀 가이드를 구비함으로써, 종래 기술의 포토레지스트 동일성 판단시 사용하는 바코드 인식을 사용하지 않아, 이로 인해 발생되는 오류를 방지하여 불필요한 공정진행으로 인한 재작업 및 리젝트되는 웨이퍼가 발생하는 것을 방지하여 생산성을 향상시킬 수 있게 된다.The first bottle and the first bottle guide each having the first protrusion and the first groove of the embossed shape as described above do not use the barcode recognition used in determining the photoresist identity of the prior art, thereby causing an error. It can prevent the rework and rejected wafer due to unnecessary process progress to improve the productivity can be improved.
또한, 이송장치의 오동작 등으로 인해 제1 보틀 가이드에 예를 들어, 제2 보틀이 안착될 경우 이들간은 체결되지 못하는 양각형태의 제1 돌출부(122a)와 제2 홈(132b)을 가지기 때문에 제1 포토레지스트의 공급할 수 없게 되어 공정진행이 정지된다.In addition, when the second bottle is seated on the first bottle guide, for example, due to a malfunction of the transfer device, they have a first protrusion 122a and a second groove 132b having an embossed shape that cannot be fastened therebetween. The process of the process is stopped because the first photoresist cannot be supplied.
따라서, 공급되어야 할 포토레지스트가 공급되지 않아 공정이 정지되므로, 요구되는 적정시점에 도포되어야 할 제1 포토레지스트와 서로 상이한 포토레지스트가 웨이퍼 상에 도포되지 않게 되어, 불필요한 공정진행으로 인한 재작업 및 리젝트(reject)되는 웨이퍼가 발생하는 것을 방지하여 생산성을 향상시킬 수 있게 된다.Therefore, since the photoresist to be supplied is not supplied and the process is stopped, the photoresist different from the first photoresist to be applied at the required time point is not applied onto the wafer, so that rework and It is possible to improve productivity by preventing wafers from being rejected.
이때, 본 발명의 바람직한 일 실시예에서 양각의 삼각형 형상 돌출부 또는 양각의 직사각형 형상 돌출부 등과 같은 서로 상이한 포토레지스트를 명명하는 고유의 돌출부는 양각의 반원 형상돌출부, 양각의 정사각형 형상 돌출부 등과 같은 형상의 돌출부로 구비될 수도 있다.At this time, in a preferred embodiment of the present invention, inherent protrusions that name different photoresists, such as an embossed triangular protrusion or an embossed rectangular protrusion, may be protrusions of a shape such as an embossed semicircular protrusion, an embossed square protrusion, or the like. It may be provided as.
또한, 본 발명의 바람직한 일 실시 예에서 양각의 돌출부는 보틀의 하면에 부착되어 있지만, 보틀 하부의 측벽 등에 부착될 수도 있다.In addition, in one preferred embodiment of the present invention, the protrusion of the relief is attached to the lower surface of the bottle, it may be attached to the side wall of the bottle, and the like.
또한, 본 발명의 바람직한 일 실시예에서 돌출부는 보틀에, 홈은 보틀 가이드에 구비되어 있지만, 돌출부가 보틀 가이드에, 홈이 돌출부에 구비되어 형성될 수도 있다.In addition, although the protrusion is provided in the bottle and the groove is provided in the bottle guide in the preferred embodiment of the present invention, the protrusion may be formed in the bottle guide and the groove is provided in the protrusion.
이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명은 양각형태의 돌출부를 가진 제1 보틀과 상기 양각형태의 돌출부와 체결되는 음각 형태의 홈이 구비된제1 보틀 가이드를 구비함으로써, 보틀 내 포토레지스트의 완전 소모시에 수행되는 보틀 간의 교환시 동일한 포토레지스트가 채워진 보틀 간의 교환이 이루어져, 불필요한 공정진행으로 인해 재작업 및 리젝트되는 웨이퍼의 발생을 방지하여 생산성을 향상시키는 효과가 있다.As described above, the present invention has a first bottle guide having an embossed protrusion and a first bottle guide provided with an indented groove engaged with the embossed protrusion, so that the photoresist in the bottle is completely consumed. When the bottles are exchanged, the same photoresist-filled bottles are exchanged, thereby improving productivity by preventing wafers from being reworked and rejected due to unnecessary process progress.
본 발명은 구체적인 실시 예에 대해서만 상세히 설명하였지만 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 변형이나 변경할 수 있음은 본 발명이 속하는 분야의 당업자에게는 명백한 것이며, 그러한 변형이나 변경은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 할 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to specific embodiments, it is apparent to those skilled in the art that modifications or changes can be made within the scope of the technical idea of the present invention, and such modifications or changes belong to the claims of the present invention. something to do.
Claims (2)
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| KR1020030017026A KR20040082483A (en) | 2003-03-19 | 2003-03-19 | Devices for suppling photoresist |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family
ID=37366260
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| KR1020030017026A KR20040082483A (en) | 2003-03-19 | 2003-03-19 | Devices for suppling photoresist |
Country Status (1)
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106716598A (en) * | 2014-09-24 | 2017-05-24 | 东京毅力科创株式会社 | Container accommodation device |
-
2003
- 2003-03-19 KR KR1020030017026A patent/KR20040082483A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106716598A (en) * | 2014-09-24 | 2017-05-24 | 东京毅力科创株式会社 | Container accommodation device |
| CN106716598B (en) * | 2014-09-24 | 2020-08-14 | 东京毅力科创株式会社 | Container storage device |
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