KR20040075985A - Guilt goods washing and dryness method - Google Patents
Guilt goods washing and dryness method Download PDFInfo
- Publication number
- KR20040075985A KR20040075985A KR1020030011258A KR20030011258A KR20040075985A KR 20040075985 A KR20040075985 A KR 20040075985A KR 1020030011258 A KR1020030011258 A KR 1020030011258A KR 20030011258 A KR20030011258 A KR 20030011258A KR 20040075985 A KR20040075985 A KR 20040075985A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- cleaning
- plating product
- solvent
- drying
- plating
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B43—WRITING OR DRAWING IMPLEMENTS; BUREAU ACCESSORIES
- B43K—IMPLEMENTS FOR WRITING OR DRAWING
- B43K25/00—Attaching writing implements to wearing apparel or objects involving constructional changes of the implements
- B43K25/02—Clips
Landscapes
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 도금품의 세척 및 건조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 한쪽부분이 막히거나 오목한 형상이 많은 깊고 복잡한 도금품의 오목히 파인 부분에 고여있는 수분을 표면장력이 높은 수절제 혼합물을 도포한 후 휘발성이 강한 용제로 세척하여 공기중에 노출 시킴과 동시에 급속으로 건조시킬 수 있도록 하는 도금품의 세척및 건조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for washing and drying a plated product, and more particularly, after applying a water-repellent mixture having a high surface tension to moisture accumulated in a concave portion of a deep and complicated plated product having a lot of clogged or concave shapes. The present invention relates to a method for washing and drying a plated product that can be rapidly dried while being exposed to air by washing with a highly volatile solvent.
일반적으로 탄피, 건전지케이스 또는 마그네트론의 A-seal류 등 Deep Drawing 제품의 외면은 도금층이 두껍게 형성되나 내면은 2~3 미크론 정도로 아주 얇게 도금층이 형성되고 탈수가 상당히 어렵다. 도금층이 얇고 탈수가 어렵다는 것은 녹이 발생할 확률이 높다는 것과 같다. 도금은 상품의 얼굴로써 외관을 미려하게 할 뿐아니라 발청을 방지함에도 그 목적이 있는바 관련 업계에서는 이를 발전시키기 위하여 노력을 계속하여 왔다. 그러나 작금까지 수세나 수절제 혼합물에 침적처리한 후 수세 또는 원심분리기에서 탈수하여 건조하는 구태한 방법을 탈피하지 못하고 있는 실정이다.In general, the outer surface of Deep Drawing products such as casings, battery cases or magnetron A-seals is thickly formed on the outer surface, but the inner surface is very thin, about 2 to 3 microns. The thinner the plating layer and the harder the dehydration, the higher the probability of rust. Plating not only looks beautiful as a product's face but also serves to prevent outbreaks, and the related industry has made efforts to develop it. However, it has not been able to escape the old method of dehydrating and drying in water or centrifuge after immersion in water or water mixture mixture until recently.
상기와 같은 세척 및 건조 방법은 도금품이 원심분리기 내에서 서로 부딛치고 하여 변형이나 흠집이 생겨 외관상 좋지않은 영향을 주게되며 도금품이 서로 닿인 부분과 깊은 내면에 수분이 완벽하게 제거되지 않아 쉽게 발청하게 된다. 이로 인해 불량률이 높아지고 출고 후 에도 반품되는 사례가 있어 손실이 막대한 문제점이 발생하게 되는 것이다.The above cleaning and drying methods cause the plating products to bump into each other in the centrifuge and cause deformation or scratches to adversely affect the appearance, and the plating products are not completely removed from the parts contacted with each other and the deep inner surface is easily removed. You will be asked. As a result, the defect rate is high and there are cases where the product is returned even after leaving the factory, resulting in a huge loss problem.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 휘발성이 강한 Methylene Chloride 나 Trichloro Ethylene 또는 Freon 등의 용제를 활용하여 도금품에 점막된 수분을 손쉽게 제거하고 건조시키는 방법을 제공하는데 본 발명의 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a method for easily removing and drying the moisture on the plated product by using a solvent such as volatile Methylene Chloride, Trichloro Ethylene or Freon to solve the above problems.
이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, Methylene Chloride 나 Trichloro Ethylene 또는 Freon 등의 용제를 다단식 용기에 담아 사용하는 용제에따라 30도 ~ 80도 정도 가열하여 도금품을 용기내에 투입하여 진동 또는 서서히 회전시켜 세척한 후 건져내게 되면 용제가 증발되어 급속으로 건조시키는 방법으로 이루어진 것에 특징이 있다.In order to achieve the above object, the present invention, by putting a solvent such as Methylene Chloride, Trichloro Ethylene or Freon in a multi-stage container and heated to about 30 ~ 80 degrees depending on the solvent used to put the plated product in the container to vibrate or rotate slowly After washing, the solution is characterized in that the solvent is evaporated to dry rapidly.
도 1은 도금품의 세척 및 건조 공정도1 is a process of washing and drying the plating product
도 2는 4차 용제 세척 및 건조조의 평면도2 is a plan view of the fourth solvent washing and drying bath
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
1 : 용제 2 : 수분1: solvent 2: moisture
3 : 펌프 4 : 노즐3: pump 4: nozzle
5 : 히터 6 : 냉각장치5 heater 6 cooling device
이하 첨부된 도면에 의해 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, described in detail by the accompanying drawings as follows.
도 1은 도금품의 세척 및 건조 공정도로서 도금품을 세척하고 건조하는 공정을 도시한 것이며 도 2는 4차 도금품의 세척 및 건조방법에 관한 것으로서, 본 발명은 도금품을 작은 구멍이 형성된 용기에 담아서,1 is a process for washing and drying a plated product showing a process of washing and drying a plated product, and FIG. 2 relates to a method for cleaning and drying a fourth plated product. The present invention includes a plated product in a small hole formed container. ,
1차 수세 2~3 단계 또는 그이상의 단계로 도금품의 표면에 점막되어 있는 도금액을 세척하고,Wash the plating liquid on the surface of the plated product in the first two or three steps of washing with water,
2차 침적처리 단계에서 표면장력이 수분에 비해 탁월한 Anti Wetting Agent(수절제)에 유기산을 첨가한 수절제 혼합물에 침적 처리하여 도금품의 내, 외부 표면에 수분의 점막을 최소화 한 도금품을In the second immersion treatment step, the surface tension is superior to the water, and the plating solution is minimized to the internal and external surfaces of the plated product by dipping the mixture into the water-repellent mixture containing the organic acid in the anti-wetting agent.
3차 수세 2~3단계 또는 그 이상의 단계로 중복 세척한 후After washing 3rd step 2 ~ 3 times or more
4차 세척 및 건조 2~3 단계 또는 그이상의 단계로 도금품을 세척 및 건조장치의 작은 구멍이 형성된 바렐에 담아 Methylene Chloride 나 Trichloro Ethylene 또는 Freon 등의 용제(1)를 가득 채운 히터(5)가 구비된 세척조를 사용된 용제(1)의 종류에 따라 탈수 와 건조가 용이하도록 히터(5)로 30도~80도 정도로 가열하여1 단계로 바렐을 세척조에 투입하여 일정시간 서서히 회전, 진동 또는 초음파 방식으로 세척한 후 공기중에 바렐을 들어 올리게 되면 급속으로 건조된다. 이와 같은 방법으로 2~3 단계 또는 제품에 따라 그이상의 단계로 증감하여 세척 및 건조 공정을 거치는 동안 최상의 도금품을 얻을 수 있는 것이다. 이때, 도금품에서 제거되는 수분(2)은 점진적으로 줄어 들면서 도금품의 부피만큼 용제(1)와 함께 전단계 세척조로 넘쳐 흘러가게 되는데 탈수의 원리는 항상 수분이 용제의 상부에 분리되게 되어있어 도금품에 용제가 침적되어 수분의 점막을 방해하는 것이다. 이는, 비중(수분: 1, 용제: 1.3 ~ 1.46)의 차이로 인한 것이며 3단계에서 2단계 그리고 2단계에서 1단계로 넘쳐 흘러간 수분(2)은 하부 저수조의 펌프(3)에 의해 노즐(4)로 순환하고 히터(5)에 의해 가열되어 증발한 용제(1)는 세척조 상부의 양면에 구비된 냉각장치(6)로 응축시켜서 세척조로 회수 하도록 되어 있으며 아무리 복잡한 형상의 도금품 내, 외면에 점막된 수분이라 할지라도 완벽하게 탈수되고 공기중에서 용제(1)의 증발성에 의해 급속으로 건조되어 미려하고도 균일한 최고 품질의 도금 제품을 얻을 수 있는 것이다.4) Washing and drying The heater (5) filled with a solvent (1) such as Methylene Chloride, Trichloro Ethylene, or Freon is put in the barrel formed with small holes of the washing and drying device in 2 ~ 3 or more steps. Depending on the type of solvent (1) used, the provided washing tank is heated to about 30 degrees to 80 degrees with a heater (5) to facilitate dehydration and drying. After washing in such a way, the barrel dries up in the air and it dries rapidly. In this way, it is possible to obtain the best plated product during the washing and drying process by increasing or decreasing it in two or three steps or more depending on the product. At this time, the water (2) removed from the plated product gradually decreases and flows to the previous stage washing tank together with the solvent (1) by the volume of the plated product. Solvents are deposited in the water to interfere with the mucous membranes. This is due to the difference in specific gravity (moisture: 1, solvent: 1.3 to 1.46), and the water (2) flowing from step 3 to step 2 and step 2 to step 1 is discharged to the nozzle (4) by the pump (3) of the lower reservoir. The solvent (1), which is circulated to and heated by the heater (5) and condensed, is condensed by the cooling device (6) provided on both sides of the upper part of the washing tank to be recovered to the washing tank. Even if the moisture is mucosal, it is perfectly dehydrated and rapidly dried by evaporation of the solvent (1) in the air to obtain a beautiful and uniform top quality plating product.
이상에서 상술한 바와 같이 본 발명은, Methylene Chloride 나 Trichloro Ethylene 또는 Freon 등의 용제를 이용하여 도금픔을 이원분리 방식으로 탈수하고 건조함으로서 도금품의 손상을 방지하고 미려한 도금품을 구현할 수 있으며 수명을 연장하고 다량의 소형 또는 복잡한 형상의 도금품을 단시간내 탈수하고 건조함으로서 생산성을 향상시키고 제품의 고급화를 달성할 수 있는것이다.As described above, the present invention, by using a solvent such as Methylene Chloride, Trichloro Ethylene or Freon to dehydrate and dry the plating pain in a binary separation method to prevent damage to the plated product and to implement a beautiful plated product and to extend the life In addition, by dehydrating and drying a large amount of small or complex shaped plating products in a short time, it is possible to improve productivity and to achieve high quality products.
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030011258A KR20040075985A (en) | 2003-02-24 | 2003-02-24 | Guilt goods washing and dryness method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030011258A KR20040075985A (en) | 2003-02-24 | 2003-02-24 | Guilt goods washing and dryness method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20040075985A true KR20040075985A (en) | 2004-08-31 |
Family
ID=37361995
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020030011258A KR20040075985A (en) | 2003-02-24 | 2003-02-24 | Guilt goods washing and dryness method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20040075985A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101880958B1 (en) * | 2017-09-29 | 2018-07-23 | 임회진 | Method for manufacturing aperture of camera module |
-
2003
- 2003-02-24 KR KR1020030011258A patent/KR20040075985A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101880958B1 (en) * | 2017-09-29 | 2018-07-23 | 임회진 | Method for manufacturing aperture of camera module |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5361789A (en) | Washing/drying method and apparatus | |
ATE302869T1 (en) | WASHER DRYERS AND DRY CLEANING MACHINES | |
JP2870587B2 (en) | Cleaning / drying method and apparatus | |
JP2002282801A (en) | Vacuum steam cleaning method and device for the same | |
RU2002103601A (en) | SYSTEM AND METHOD FOR WATER REMOVAL DURING A DRY CHEMICAL CLEANING PROCESS USING A SILICONE-BASED SOLVENT AND METHODS IMPROVING A CLEANING PROCESS | |
KR20040075985A (en) | Guilt goods washing and dryness method | |
JPS5835108B2 (en) | How to wash and dry items | |
JP4872199B2 (en) | Semiconductor manufacturing equipment | |
JPH04271882A (en) | Washing/drying method and device | |
JPS60174889A (en) | Washing device | |
JPH08229524A (en) | Device for washing cassette for liquid crystal | |
RU2283008C2 (en) | Method for applying of protective coating | |
JP2002165743A (en) | Dishwasher, synthetic resin molded article and method for producing it, and forming die for this method | |
JP2000345392A5 (en) | ||
JPH09236382A (en) | Liquid removal device, liquid removal method and vacuum drying system | |
JP3009006B2 (en) | Equipment for drying semiconductor substrates | |
JPS6034701A (en) | Continuous regeneration apparatus of liquid detergent | |
JPS6367735A (en) | Substrate dry and substrate container | |
JP2501520B2 (en) | Degreasing and cleaning method and device | |
JP2007190760A (en) | Method for manufacturing inkjet head | |
JPS6212319B2 (en) | ||
KR100403999B1 (en) | A method for drying water after surface treatment on the kinds of can | |
JPH05114594A (en) | Method and device for draining and drying article | |
JPS6227003A (en) | Method and device for draining and washing | |
JPH07265817A (en) | Method for cleaning method and device therefor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |