KR20040017501A - Liquid crystal display device having optimum spacer and method for fabricating liquid crystal display device using the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 최적화된 스페이서를 갖는 액정표시장치 및 이의 액정표시장치의 제조 방법에 관한 것으로, 특히, 셀 갭(cell gap)을 유지시켜주는 스페이서(spacer)의 높이 및 단위 면적을 최적화하여 스페이서에 의한 셀 갭에 액정이 완전히 채워지지 않는 액정 언-필 영역(Liquid Crystal unfilled area) 및 스페이서에 의한 가압력에 의하여 기판이 파손되는 것을 방지한 최적화된 스페이서를 갖는 액정표시장치 및 이의 액정표시장치의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device having an optimized spacer and a method of manufacturing the liquid crystal display device thereof, and more particularly, by optimizing the height and unit area of a spacer for maintaining a cell gap. Liquid crystal display device having a liquid crystal unfilled area where the liquid crystal is not completely filled in the cell gap and an optimized spacer which prevents the substrate from being damaged by the pressing force by the spacer and a method of manufacturing the liquid crystal display device It is about.
일반적으로, 액정(Liquid Crystal)은 각각 서로 다른 제조 공정을 거쳐 제작된 TFT 기판(TFT substrate) 및 컬러필터기판(color filter substrate)의 사이에 위치한다.In general, liquid crystals are positioned between TFT substrates and color filter substrates, which are manufactured through different manufacturing processes.
액정은 TFT 기판 및 컬러필터기판의 사이에 형성된 전계에 영향을 받는다. 구체적으로, 액정은 전계에 따라서 외부에서 공급된 광의 투과율을 변경시킨다.The liquid crystal is affected by the electric field formed between the TFT substrate and the color filter substrate. Specifically, the liquid crystal changes the transmittance of light supplied from the outside according to the electric field.
TFT 기판 및 컬러필터기판의 사이에는 액정이 수납되도록 하기 위한 셀 갭(cell gap)이 존재한다. 이 셀 갭은 수 ㎛에 불과하며, 셀 갭의 크고 작음은 액정의 고유한 특성에 따라 다르다. 예를 들어 TN 모드(Twist Nematic mode) 액정의 경우는 4.6㎛ 정도의 셀 갭을 갖는다.There is a cell gap between the TFT substrate and the color filter substrate for allowing the liquid crystal to be accommodated. This cell gap is only a few micrometers, and the large and small of the cell gap depends on the inherent characteristics of the liquid crystal. For example, the TN mode liquid crystal has a cell gap of about 4.6 μm.
수 ㎛에 불과한 셀 갭에 액정을 공급하는 종래 방법은 먼저, 셀 갭이 형성된 액정표시패널을 액정이 수납된 통(barrel)에 일부가 담기도록 한다. 이어서, 셀 갭 내부에 진공압을 형성하여, 액정이 압력이 낮아진 셀 갭 내부로 빨려 올라가도록 한다.In the conventional method of supplying liquid crystal to a cell gap of only a few μm, first, a liquid crystal display panel having a cell gap is partially contained in a barrel containing liquid crystal. Subsequently, a vacuum pressure is formed inside the cell gap, so that the liquid crystal is sucked up into the cell gap where the pressure is lowered.
이처럼 진공압을 이용한 액정 주입 방법은 수 ㎛에 불과한 셀 갭의 내부에 빈 공간 없이 액정을 모두 채워 넣을 수 있는 장점을 갖는다. 반면, 진공압을 이용한 액정 주입 방법은 셀 갭 내부에 원하는 액정량보다 더 많은 액정이 공급되는 단점을 갖는다.As such, the liquid crystal injection method using vacuum pressure has an advantage of filling all liquid crystals without empty space inside a cell gap of only a few μm. On the other hand, the liquid crystal injection method using a vacuum pressure has a disadvantage that more liquid crystal is supplied into the cell gap than the desired liquid crystal amount.
따라서, 진공압을 이용한 액정 주입 방법은 셀 갭 내부로 액정을 주입하는 공정 이외에 셀 갭 내부에 과도하게 주입된 액정을 역으로 배출시키는 프레스 공정, 액정이 주입된 후 액정 주입구를 별도의 밀봉 물질로 밀봉하는 액정 밀봉 공정, 액정표시패널의 외부면에 묻은 액정을 세정하기 위한 세정 공정 등을 부수적으로 필요로 한다.Therefore, the liquid crystal injection method using the vacuum pressure is a press process for discharging the liquid crystal excessively injected into the cell gap reversely in addition to the process of injecting the liquid crystal into the cell gap, and after the liquid crystal is injected into the liquid crystal injection hole as a separate sealing material Incidentally, a liquid crystal sealing process for sealing, a cleaning process for cleaning the liquid crystal deposited on the outer surface of the liquid crystal display panel, and the like are additionally required.
최근에는 진공압을 이용한 액정 주입 방법 이외에 적하 방식(drop filling)으로 액정을 공급하는 방법이 개발된 바 있다.Recently, a method of supplying liquid crystals by drop filling has been developed in addition to a liquid crystal injection method using vacuum pressure.
적하 방식 액정 공급 방법은 컬러필터기판에 스페이서를 형성한 상태에서 액정을 적하하고, TFT 기판 및 컬러필터기판에 접합하는 과정을 거침으로써 완료된다.The dropping method liquid crystal supply method is completed by dropping a liquid crystal in a state where a spacer is formed on a color filter substrate and then bonding the liquid crystal onto a TFT substrate and a color filter substrate.
이와 같은 적하 방식 액정 공급 방법은 앞서 설명한 진공압 방식 액정 주입 방법에 비하여 공정이 간단한 장점을 갖는다. 반면, 적하 방식 액정 공급 방법은 액정표시패널 내부에 기포가 생기거나 액정이 오버플로(overflow) 되는 또 다른 문제점을 갖는다.Such a drop type liquid crystal supply method has a simple process compared to the vacuum type liquid crystal injection method described above. On the other hand, the dropping liquid crystal supply method has another problem that bubbles are generated inside the liquid crystal display panel or the liquid crystal overflows.
예를 들어, 액정이 요구되는 양보다 많이 공급될 경우, 잉여 액정은 TFT 기판 및 컬러필터기판이 접합되는 과정에서 외부로 오버플로 된다. 반대로 액정이 요구되는 양보다 적게 공급될 경우, 액정표시패널 내부에 액정이 존재하는 않는 언-필 영역(un-filled area)이 발생된다. 언-필 영역은 액정표시장치에서의 디스플레이특성을 크게 저하시킨다.For example, when more liquid crystal is supplied than the required amount, the excess liquid crystal overflows to the outside in the process of bonding the TFT substrate and the color filter substrate. On the contrary, when the liquid crystal is supplied less than the required amount, an un-filled area in which the liquid crystal does not exist inside the liquid crystal display panel is generated. The unfilled region greatly reduces the display characteristics of the liquid crystal display.
도 1은 종래 액정표시장치에 적용된 스페이서를 도시한 개념도이다.1 is a conceptual diagram illustrating a spacer applied to a conventional liquid crystal display device.
도 1을 참조하면, 컬러필터기판(10)의 에지에는 액정을 수납하기 위하여 액정 수납 월(20)이 형성된다. 액정 수납 월(20)의 내부에는 스페이서(30)가 형성된다. 액정 수납 월(20)의 내부에 형성된 스페이서(30)는 패터닝된 포토레지스트 박막에 의하여 형성된다.Referring to FIG. 1, a liquid crystal accommodating wall 20 is formed at an edge of the color filter substrate 10 to accommodate liquid crystal. Spacers 30 are formed inside the liquid crystal storage wall 20. The spacer 30 formed inside the liquid crystal accommodating wall 20 is formed by the patterned photoresist thin film.
도 2는 종래 스페이서가 형성된 액정 수납 월의 내부에 액정을 주입하는 것을 도시한 개념도이다.2 is a conceptual diagram illustrating the injection of liquid crystal into a liquid crystal storage wall in which a spacer is conventionally formed.
도 2를 참조하면, 디스펜서(40)는 액정 수납 월(20)의 내부에 액정(50)을 드롭 하여 채워 넣는다. 이때, 액정 수납 월(20)의 내부 공간에 채워지는 액정(50)의양 및 스페이서(30)의 높이 및 면적은 매우 중요하다.Referring to FIG. 2, the dispenser 40 drops and fills the liquid crystal 50 into the liquid crystal storage wall 20. At this time, the amount of liquid crystal 50 filled in the inner space of the liquid crystal storage wall 20 and the height and area of the spacer 30 are very important.
도 3은 종래 액정표시장치에서 액정이 오버플로 되는 것을 도시한 개념도이다.3 is a conceptual diagram illustrating that a liquid crystal overflows in a conventional liquid crystal display.
도 3을 참조하면, 스페이서(30)가 형성되고 액정(50)이 주입된 컬러필터기판(10)에 TFT 기판(60)이 얼라인 되면 TFT 기판(60)은 대기압(Patm)에 의하여 스페이서(30)를 가압하게 된다.Referring to FIG. 3, when the TFT 30 is aligned with the color filter substrate 10 in which the spacer 30 is formed and the liquid crystal 50 is injected, the TFT substrate 60 is formed by the atmospheric pressure P atm . 30 will be pressurized.
이때, 도 2에 도시된 디스펜서(40)로부터 액정(50)이 과다하게 공급되거나 스페이서(30)의 높이 및 면적이 최적화되지 않을 경우, 컬러필터기판(10) 및 TFT 기판(60)의 사이에는 액정이 부족하거나 넘치게 된다.At this time, when the liquid crystal 50 is excessively supplied from the dispenser 40 shown in FIG. 2 or the height and area of the spacer 30 are not optimized, between the color filter substrate 10 and the TFT substrate 60. The liquid crystal runs out or overflows.
예를 들어, 스페이서(30)의 높이 및 면적이 너무 작을 경우, 대기압에 의하여 스페이서(30)는 많이 압축되면서 액정 수납 월(20)의 내부 공간에 적하 된 액정(50)중 일부분은 오버플로 된다. 오버플로된 액정(55)은 주변 설비 및 액정표시장치를 오염시키고, 고가의 액정이 낭비되도록 한다.For example, when the height and area of the spacer 30 are too small, a portion of the liquid crystal 50 dropped in the inner space of the liquid crystal storage wall 20 overflows while the spacer 30 is compressed much by atmospheric pressure. . The overflowed liquid crystal 55 contaminates the peripheral equipment and the liquid crystal display device and causes expensive liquid crystal to be wasted.
또한 스페이서(30)가 너무 많이 압축될 경우, 스페이서(30)가 컬러필터기판(10)을 가압하는 가압력(P2)이 지나치게 커져 컬러필터기판(10)이 파손될 수도 있다.In addition, when the spacer 30 is compressed too much, the pressing force P 2 for pressing the color filter substrate 10 by the spacer 30 may be excessively large and the color filter substrate 10 may be damaged.
도 4는 종래 액정표시장치에서 액정이 부족하여 언-필 영역이 형성된 것을 도시한 개념도이다.4 is a conceptual diagram illustrating an unfilled region formed due to lack of liquid crystal in a conventional liquid crystal display.
도 4를 참조하면, 액정량이 부족하거나, 스페이서(30)의 높이 및 면적이 너무 클 경우, TFT 기판(60)과 컬러필터기판(10) 사이에 액정(50)이 모두 채워지지 않는 언-필 영역(55)이 발생된다. 언-필 영역(55)에서는 액정(50)이 전계에 의하여 정상적으로 배열되지 않음으로 디스플레이는 불가능하다.Referring to FIG. 4, when the amount of liquid crystal is insufficient, or when the height and area of the spacer 30 are too large, the liquid crystal 50 is not filled between the TFT substrate 60 and the color filter substrate 10. Region 55 is generated. In the unfilled region 55, the display is impossible since the liquid crystal 50 is not normally arranged by the electric field.
이를 극복하기 위해서는 스페이서(30)의 높이 및 면적을 정밀하게 산출하거나, 액정량을 정밀하게 산출하면 되지만, 실제 스페이서(30)의 요구 체적 또는 액정량을 정밀하게 산출하기는 현실적으로 매우 어렵다.In order to overcome this problem, the height and area of the spacer 30 may be precisely calculated or the amount of liquid crystal may be precisely calculated. However, it is very difficult to accurately calculate the required volume or the amount of liquid crystal of the actual spacer 30.
이유는 도 3 또는 도 4에 도시된 바와 같이 TFT 기판(60)은 대기압에 의하여 스페이서(30)를 가압하고, 스페이서(30)는 대기압 및 TFT 기판(60)의 무게에 의하여 압축된다.The reason is that as shown in FIG. 3 or 4, the TFT substrate 60 presses the spacer 30 by atmospheric pressure, and the spacer 30 is compressed by the atmospheric pressure and the weight of the TFT substrate 60.
또한, TFT 기판(60)의 바닥면은 박막 트랜지스터, 화소 전극 등에 의하여 평평하지 않아 실제 액정이 공급되는 체적을 정밀하게 산출하는 것이 어려워 액정량의 정밀한 산출을 어렵게 한다.In addition, since the bottom surface of the TFT substrate 60 is not flat by a thin film transistor, a pixel electrode, or the like, it is difficult to accurately calculate the volume to which the actual liquid crystal is supplied, making it difficult to accurately calculate the amount of liquid crystal.
이로 인해 현재까지 액정표시장치에서는 적하 방식으로는 액정을 공급하기 어려우며, 공정수가 많고 액정 소모량이 매우 단점을 갖는 진공 주입 방식으로 액정을 주입하고 있다.For this reason, it has been difficult to supply liquid crystals by the dropping method in the liquid crystal display device up to now, and liquid crystals are injected in a vacuum injection method having a large number of processes and a very small amount of liquid crystal consumption.
그러나, 최근 들어 액정표시장치의 크기가 점차 커지면서 진공 주입 방식에도 한계가 있어 적하 방식을 이용하여 액정을 공급하고자 하는 노력들이 계속 진행되고 있다. 적하 방식으로 액정을 컬러필터기판 및 TFT 기판의 사이에 공급하기 위해서는 스페이서를 최적화 및 액정량을 최적화해야 해야만 한다.However, in recent years, as the size of the liquid crystal display device is gradually increased, there are limitations in the vacuum injection method, and efforts to supply the liquid crystal using the dropping method have been continuously performed. In order to supply liquid crystal between the color filter substrate and the TFT substrate in a dropping manner, it is necessary to optimize the spacer and the amount of liquid crystal.
따라서, 본 발명의 제 1 목적은 이와 같은 종래 요구에 부응한 것으로써, 본 발명의 제 1 목적은 적하 방식으로 액정을 공급하는 과정에서 액정의 부족에 의한 언-필 영역이 발생하지 않도록 함은 물론 스페이서에 의한 기판 파손까지도 함께 방지한 최적화된 스페이서를 갖는 액정표시장치를 제공한다.Accordingly, the first object of the present invention is to meet the above conventional requirements, and the first object of the present invention is to prevent the unfilled region caused by the lack of liquid crystal in the process of supplying the liquid crystal in a dropping manner. Of course, there is provided a liquid crystal display device having an optimized spacer that prevents even the substrate damage caused by the spacer.
본 발명의 제 2 목적은 이와 같은 종래 요구에 부응한 것으로써, 본 발명의 제 2 목적은 적하 방식으로 액정을 공급하는 과정에서 액정에 부족에 의한 언-필 영역이 발생하지 않도록 함은 물론 스페이서에 의한 기판 파손까지도 함께 방지한 최적화된 스페이서를 갖는 액정표시장치의 제조 방법을 제공함에 있다.The second object of the present invention is to meet such a conventional demand. The second object of the present invention is to prevent the unfilled region due to lack of the liquid crystal in the process of supplying the liquid crystal in a dropping manner, as well as a spacer. The present invention provides a method of manufacturing a liquid crystal display device having an optimized spacer which prevents even the damage of the substrate.
도 1은 종래 액정표시장치에 적용된 스페이서를 도시한 개념도이다.1 is a conceptual diagram illustrating a spacer applied to a conventional liquid crystal display device.
도 2는 종래 스페이서가 형성된 액정 수납 월의 내부에 액정을 주입하는 것을 도시한 개념도이다.2 is a conceptual diagram illustrating the injection of liquid crystal into a liquid crystal storage wall in which a spacer is conventionally formed.
도 3은 종래 액정표시장치에서 액정이 오버플로 되는 것을 도시한 개념도이다.3 is a conceptual diagram illustrating that a liquid crystal overflows in a conventional liquid crystal display.
도 4는 종래 액정표시장치에서 액정이 부족하여 언-필 영역이 형성된 것을 도시한 개념도이다.4 is a conceptual diagram illustrating an unfilled region formed due to lack of liquid crystal in a conventional liquid crystal display.
도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 의한 액정표시장치의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 의한 액정표시장치의 제 1 기판을 도시한 평면도이다.6 is a plan view illustrating a first substrate of a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention.
도 7은 도 6의 A-A 단면도이다.7 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.
도 8a는 본 발명의 제 1 실시예에 의하여 스페이서의 단위 면적 대비 액정의 셀 갭 변화를 시뮬레이션한 그래프이다.FIG. 8A is a graph simulating the change of the cell gap of the liquid crystal relative to the unit area of the spacer according to the first embodiment of the present invention.
도 8b는 본 발명의 제 1 실시예에 의하여 스페이서의 단위 면적 대비 스페이서의 압축률 변화를 시뮬레이션한 그래프이다.8B is a graph simulating a change in compression ratio of a spacer relative to a unit area of the spacer according to the first embodiment of the present invention.
도 9a는 본 발명의 제 1 실시예에 의하여 탄성 계수를 낮춘 상태에서 단위 면적에 대한 액정의 셀 갭 변화 및 압축률을 도시한 그래프이다.FIG. 9A is a graph illustrating a cell gap change and a compression ratio of a liquid crystal with respect to a unit area in a state where an elastic modulus is lowered according to a first embodiment of the present invention.
도 9b는 본 발명의 제 1 실시예에 의하여 탄성 계수를 높인 상태에서 단위 면적에 대한 액정의 셀 갭 변화 및 압축률을 도시한 그래프이다.9B is a graph showing the cell gap change and the compression ratio of the liquid crystal with respect to the unit area in the state where the modulus of elasticity is increased according to the first embodiment of the present invention.
도 10은 본 발명의 제 1 실시예에 의한 액정표시장치의 제 2 기판을 도시한 평면도이다.10 is a plan view showing a second substrate of the liquid crystal display according to the first embodiment of the present invention.
도 11a는 본 발명의 제 2 실시예에 의해 투명 기판에 크롬 박막이 형성된 것을 도시한 공정도이다.FIG. 11A is a process diagram illustrating a chromium thin film formed on a transparent substrate according to a second embodiment of the present invention. FIG.
도 11b는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 크롬 박막에 패터닝된 포토레지스트 박막을 도시한 공정도이다.11B is a flowchart illustrating a photoresist thin film patterned on a chromium thin film according to a second embodiment of the present invention.
도 11c는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 크롬 박막을 패터닝하기 위한 패턴 마스크의 평면도이다.11C is a plan view of a pattern mask for patterning a chromium thin film according to a second embodiment of the present invention.
도 11d는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 크롬 박막이 패터닝되어 블랙 매트릭스가 제조된 것을 도시한 도 11c의 C-C 단면도이다.FIG. 11D is a cross-sectional view taken along the line C-C of FIG. 11C showing that a black matrix is manufactured by patterning a chromium thin film according to a second embodiment of the present invention.
도 11e는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 블랙 매트릭스에 컬러 필터 및 제 1 전극이 형성된 것을 도시한 공정도이다.FIG. 11E is a flowchart illustrating the formation of a color filter and a first electrode on a black matrix according to a second embodiment of the present invention.
도 11f는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 제 1 전극의 상면에 스페이서를 형성하기 위한 스페이서 형성용 박막이 형성된 것을 도시한 공정도이다.FIG. 11F is a process diagram showing a spacer forming thin film for forming a spacer on an upper surface of a first electrode according to a second embodiment of the present invention.
도 11g는 도 11f의 패턴 마스크의 평면도이다.FIG. 11G is a plan view of the pattern mask of FIG. 11F.
도 11h는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 스페이서가 형성된 제 1 기판에 액정이 적하 되는 것을 도시한 공정도이다.FIG. 11H is a flowchart illustrating the dropping of liquid crystal onto a first substrate having spacers according to a second embodiment of the present invention.
도 11i는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 단부가 테이퍼 진 스페이서를 도시한 단면도이다.FIG. 11I is a cross-sectional view showing a tapered end portion according to a second embodiment of the present invention. FIG.
도 11j는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 제 1 기판에 제 2 기판이 어셈블리 된 것을 도시한 단면도이다.11J is a cross-sectional view illustrating a second substrate assembled to a first substrate according to a second embodiment of the present invention.
이와 같은 본 발명의 제 1 목적을 구현하기 위하여 본 발명은 투명 기판, 격자 형상을 갖는 블랙 매트릭스, 블랙 매트릭스에 의해 형성된 내부 영역에 형성된 컬러필터 및 투명 기판의 전면적에 레퍼런스 전원이 인가되도록 형성된 제 1 전극을 포함하는 제 1 기판, 제 1 전극 중 상기 블랙 매트릭스의 상부에 형성되는 제 1 단부, 제 1 단부로부터 허용 액정 셀 갭 이상의 제 1 높이로 형성된 제 2 단부, 각 제 2 단부에 가해진 제 1 압력에 의해 제 1 높이가 제 1 압축률 이하로 압축되어 허용 액정 셀 갭보다 작은 제 2 높이로 압축되도록 하기 위한 단위 면적을 갖는 스페이서, 스페이서가 형성된 제 1 기판에 허용 액정 셀 갭의 높이까지 채워진 액정 및 제 2 단부에 제 1 압력을 가하는 기판 및 기판에 컬러필터들과 마주보며, 화소 전압을 인가 받기 위한 제 2 전극들을 갖는 제 2 기판을 포함하는 최적화된 스페이서를 갖는 액정표시장치를 제공한다.In order to realize the first object of the present invention, the present invention provides a transparent substrate, a black matrix having a lattice shape, a color filter formed in an inner region formed by the black matrix, and a first power formed so that a reference power is applied to the entire area of the transparent substrate. A first substrate comprising an electrode, a first end formed above the black matrix among the first electrodes, a second end formed at a first height above the allowable liquid crystal cell gap from the first end, and a first applied to each second end Spacer having a unit area for compressing the first height below the first compression ratio by a pressure to a second height smaller than the allowable liquid crystal cell gap, and a liquid crystal filled up to the height of the allowable liquid crystal cell gap in the first substrate on which the spacer is formed. And a second electrode facing the color filters on the substrate and the substrate applying the first pressure to the second end and receiving the pixel voltage. There is provided a liquid crystal display device having an optimized spacer including a second substrate having the same.
또한, 본 발명의 제 2 목적을 구현하기 위하여 본 발명은 허용 액정 셀 갭 이상의 높이를 갖는 스페이서의 제 1 높이를 산출, 제 1 높이가 제 1 압력에 의하여 제 1 압축률 이하로 압축되어 허용 액정 셀 갭보다 작은 제 2 높이로 압축되는 스페이서의 단위 면적을 산출하는 단계, 투명 기판에 격자 형상을 갖는 블랙 매트릭스를 형성, 블랙 매트릭스에 의해 형성된 내부 영역에 컬러필터를 형성, 투명 기판의 전면적에 레퍼런스 전원이 인가되도록 형성된 제 1 전극을 형성 및 제 1 높이 및 단위 면적에 의하여 블랙 매트릭스의 상부에 해당하는 제 1 전극의 상면에 스페이서를 형성하여 제 1 기판을 제조하는 단계, 제 1 기판에 허용 액정 셀 갭의 높이까지 액정을 채우는 단계, 기판에 컬러필터들과 마주보며, 화소 전압을 인가 받기 위한 제 2 전극들이 형성된 제 2 기판을 제조하는 단계 및 스페이서가 제 1 압력에 의하여 허용 액정 셀 갭까지 압축되도록 제 1 기판 및 제 2 기판을 어셈블리 하는 단계를 포함하는 액정표시장치의 제조 방법을 제공한다.Furthermore, in order to realize the second object of the present invention, the present invention calculates a first height of a spacer having a height greater than or equal to the allowable liquid crystal cell gap, and the first height is compressed to be less than or equal to the first compression ratio by the first pressure to allow the allowed liquid crystal cell. Calculating a unit area of the spacer compressed to a second height smaller than the gap, forming a black matrix having a lattice shape on the transparent substrate, forming a color filter on an inner region formed by the black matrix, and a reference power source over the entire surface of the transparent substrate Forming a first electrode to be applied and forming a spacer on an upper surface of the first electrode corresponding to the upper part of the black matrix by the first height and the unit area to manufacture the first substrate, and the acceptable liquid crystal cell on the first substrate. Filling the liquid crystal to the height of the gap; forming second electrodes facing the color filters on the substrate and configured to receive pixel voltages; 2. A method of manufacturing a liquid crystal display device, the method comprising: manufacturing a substrate and assembling the first substrate and the second substrate such that the spacer is compressed to an allowable liquid crystal cell gap by a first pressure.
본 발명에 의하면 스페이서의 높이 및 단위 면적을 최적화하여 스페이서에 의한 액정표시장치에서 액정 언-필 영역이 발생하는 것을 방지 및 스페이서에 의한 제 1, 제 2 기판 또는 스페이서 자신의 파손을 방지한다.According to the present invention, the height and unit area of the spacer are optimized to prevent the liquid crystal unfilled region from being generated in the liquid crystal display device by the spacer and to prevent the first and second substrates or the spacer itself from being damaged by the spacer.
이하, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하고자 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
<실시예 1><Example 1>
도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 의한 액정표시장치의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.
도 5를 참조하면, 액정표시장치(500)는 제 1 기판(100), 스페이서(200), 액정(300) 및 제 2 기판(400)을 포함한다.Referring to FIG. 5, the liquid crystal display 500 may include a first substrate 100, a spacer 200, a liquid crystal 300, and a second substrate 400.
도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 의한 액정표시장치의 제 1 기판을 도시한 평면도이다.6 is a plan view illustrating a first substrate of a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention.
도 5 또는 도 6을 참조하면, 제 1 기판(100)은 투명기판(110), 블랙 매트릭스(120), 컬러필터(130), 제 1 전극(140) 및 액정 밀봉 월(150)을 포함한다.5 or 6, the first substrate 100 includes a transparent substrate 110, a black matrix 120, a color filter 130, a first electrode 140, and a liquid crystal sealing wall 150. .
투명기판(110)은 블랙 매트릭스(120), 컬러필터(130) 및 제 1 전극(140)이 지지되도록 하는 베이스 역할을 한다.The transparent substrate 110 serves as a base for supporting the black matrix 120, the color filter 130, and the first electrode 140.
블랙 매트릭스(120)는 광 흡수율이 높은 크롬(Cr) 또는 크롬 산화막(CrO2) 물질을 투명기판(110)의 전면적에 걸쳐 도포 및 패터닝하여 형성된다. 이때, 블랙 매트릭스(120)는 투명 기판(110)에 격자 형상으로 형성된다. 도 5를 참조하면, 블랙 매트릭스(120)는 제 2 기판(400)의 화소 전극과 화소 전극의 사이로부터 광 누설을 방지한다.The black matrix 120 is formed by applying and patterning a chromium (Cr) or chromium oxide layer (CrO 2 ) material having high light absorption over the entire surface of the transparent substrate 110. In this case, the black matrix 120 is formed in a lattice shape on the transparent substrate 110. Referring to FIG. 5, the black matrix 120 prevents light leakage between the pixel electrode and the pixel electrode of the second substrate 400.
컬러필터(130)는 격자 형상을 갖는 블랙 매트릭스(120)에 의하여 감싸여진 내부 영역마다 하나씩 형성된다. 컬러필터(130)는 레드 파장의 광이 통과되도록 하는 레드 컬러필터(132), 그린 파장의 광이 통과되도록 하는 그린 컬러필터(134) 및 블루 파장의 광이 통과되도록 하는 블루 컬러필터(136)로 구성된다. 컬러필터(130)의 에지는 블랙 매트릭스(120)상에 형성된다.One color filter 130 is formed for each inner region surrounded by the black matrix 120 having a lattice shape. The color filter 130 includes a red color filter 132 through which light of a red wavelength passes, a green color filter 134 through which a green wavelength light passes, and a blue color filter 136 through which a blue wavelength light passes. It consists of. The edge of the color filter 130 is formed on the black matrix 120.
도 5를 참조하면, 제 1 전극(140)은 컬러필터(130)가 덮이도록 투명기판(110)의 전면적에 걸쳐 형성된다. 제 1 전극(140)에는 레퍼런스 전압이 인가된다.Referring to FIG. 5, the first electrode 140 is formed over the entire surface of the transparent substrate 110 to cover the color filter 130. The reference voltage is applied to the first electrode 140.
도 7은 도 6의 A-A 단면도이다.7 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.
도 6 또는 도 7을 참조하면, 스페이서(200)들은 제 1 기판(100)에 형성된 블랙 매트릭스(120)의 상부에 해당하는 제 1 전극(140)의 상면에 제 1 높이(H1)로 형성된다. 이때, 스페이서(200)들은 바람직한 일실시예로 제 1 단부(210), 제 2 단부(220) 및 원주면을 갖는 원기둥 형상을 갖는다. 제 1 단부(210)는 스페이서(200)중 제 1 전극(140)과 접촉하며, 제 2 단부(220)는 제 1 단부(210)와 마주보는 관계를 갖는다.6 or 7, the spacers 200 are formed at a first height H 1 on the upper surface of the first electrode 140 corresponding to the upper portion of the black matrix 120 formed on the first substrate 100. do. In this case, the spacers 200 may have a cylindrical shape having a first end 210, a second end 220, and a circumferential surface. The first end 210 contacts the first electrode 140 of the spacer 200, and the second end 220 has a relationship facing the first end 210.
원기둥 형상의 스페이서(200)들의 제 1 높이(H1)는 도면부호 H2로 도시된 허용 액정 셀 갭 보다 높게 형성된다. 반대로, 제 1 높이(H1)가 허용 액정 셀 갭(H2)이하로 설정되면, 스페이서(200)들은 셀 갭 조절 기능을 상실하게 된다.The first height H 1 of the cylindrical spacers 200 is formed higher than the allowable liquid crystal cell gap indicated by the reference H 2 . In contrast, when the first height H 1 is set to be less than or equal to the allowable liquid crystal cell gap H 2 , the spacers 200 lose the cell gap adjustment function.
이때, 스페이서(200)들의 제 1 높이(H1)가 허용 액정 셀 갭(H2)보다 높게 형성하는 것은 제 1 기판(100)에 액정(300)이 적하 된 상태에서 도 5에 도시된 제 2 기판(400)이 결합되었을 때 제 2 기판(400)에 의하여 스페이서(200)가 압축되어 제 1 높이(H1)가 감소하기 때문이다.In this case, forming the first height H 1 of the spacers 200 higher than the allowable liquid crystal cell gap H 2 is performed by the method illustrated in FIG. 5 in a state where the liquid crystal 300 is dropped on the first substrate 100. This is because the spacer 200 is compressed by the second substrate 400 when the two substrates 400 are combined, thereby reducing the first height H 1 .
이때, 스페이서(200)들의 압축량은 각 스페이서(200)의 단위 면적, 개수 및 탄성 계수와 밀접한 관계가 있다.In this case, the compression amount of the spacers 200 is closely related to the unit area, the number, and the elastic modulus of each spacer 200.
일단, 탄성 계수를 고려하지 않았을 때, 스페이서(200)들의 압축량은 각 스페이서(200)의 단위 면적 및 개수에 의하여 결정된다.Once the elastic modulus is not considered, the compression amount of the spacers 200 is determined by the unit area and the number of each spacer 200.
우선, 스페이서(200)들은 컬러필터(130)의 개수에 일대일 대응하는 개수로 블랙 매트릭스(120)의 상부에 해당하는 제 1 전극(140)에 형성된다. 이는 각 스페이서(200)의 단위 면적을 결정하기 위함이다. 일단, 각 스페이서(200)의 단위 면적이 결정된 후에는 스페이서의 단위 면적을 감안하여 스페이서의 개수를 마음대로 조절할 수 있다.First, the spacers 200 are formed on the first electrode 140 corresponding to the upper portion of the black matrix 120 in a number corresponding one to one to the number of the color filters 130. This is to determine the unit area of each spacer 200. Once the unit area of each spacer 200 is determined, the number of spacers may be arbitrarily adjusted in consideration of the unit area of the spacer.
이때, 스페이서(200)의 단위 면적이 너무 작아 스페이서(200)가 너무 많이 압축될 경우, 스페이서(200)는 제 1 기판(100)에 무리한 힘을 가하게 된다. 이에 따라 제 1 기판(100)의 제 1 전극(140)의 파손, 블랙 매트릭스(120) 깨짐 및 스페이서(200) 자신을 파손시킬 수 있다.At this time, if the unit area of the spacer 200 is too small and the spacer 200 is compressed too much, the spacer 200 exerts an excessive force on the first substrate 100. Accordingly, the first electrode 140 of the first substrate 100 may be damaged, the black matrix 120 may be broken, and the spacer 200 itself may be damaged.
반대로 스페이서(200)의 단위 면적이 너무 커 스페이서(200)가 너무 조금 압축될 경우, 도 5에 도시된 제 1 기판(100) 및 제 2 기판(400) 사이에는 액정(300)이 채워지지 않은 언-필 영역(un-filled area)이 발생될 수 있다. 언-필 영역은 액정을 이용한 디스플레이에 있어 치명적인 불량을 발생시킨다.On the contrary, if the unit area of the spacer 200 is too large and the spacer 200 is compressed a little, the liquid crystal 300 is not filled between the first substrate 100 and the second substrate 400 shown in FIG. 5. An un-filled area may be generated. The unfilled area causes a fatal defect in a display using liquid crystals.
앞서 설명한 바와 같이 스페이서(200)의 압축량이 너무 많거나 너무 적을 경우 치명적인 불량이 발생될 수 있음으로 스페이서(200)의 단위 면적은 매우 신중하고 정밀하게 고려되어야 한다.As described above, if the compression amount of the spacer 200 is too large or too small, a fatal defect may occur, so the unit area of the spacer 200 should be considered very carefully and precisely.
이하, 스페이서의 단위 면적을 산출하는 방법을 설명하기로 한다.Hereinafter, a method of calculating the unit area of the spacer will be described.
스페이서(200)의 단위 면적은 컴퓨터 시뮬레이션에 의하여 산출되는데, 스페이서의 단위 면적을 산출하기 위해서는 비교 패널을 필요로 한다.The unit area of the spacer 200 is calculated by computer simulation. In order to calculate the unit area of the spacer, a comparison panel is required.
일실시예로 비교 패널은 17인치 SXGA 해상도를 갖는 컬러 액정표시패널이다. 비교 패널은 88 ×264㎛의 컬러필터 면적(컬러필터 면적과 픽셀 면적은 거의 유사)을 갖는다. 비교 패널에서의 블랙 매트릭스의 폭은 12∼32㎛이며, 비교 패널에서는 12 개의 컬러필터 당 1 개의 스페이서가 형성된다. 비교 패널에서 12 개의 컬러필터 당 1 개로 형성된 스페이서의 면적은 약 500㎛2이고, 스페이서의 직경은 25㎛이며 원기둥 형상을 갖는다. 이때, 비교 패널에서의 스페이서의 탄성 계수는 487 N/㎟이다.In one embodiment, the comparison panel is a color liquid crystal display panel having 17 inch SXGA resolution. The comparison panel has a color filter area of 88 x 264 mu m (the color filter area and the pixel area are almost similar). The width of the black matrix in the comparison panel is 12 to 32 µm, and one spacer is formed per twelve color filters in the comparison panel. In the comparison panel, the area of the spacer formed by one per twelve color filters is about 500 mu m 2 , and the spacer has a diameter of 25 mu m and has a cylindrical shape. At this time, the elastic modulus of the spacer in the comparison panel is 487 N / mm 2.
이와 같은 사양을 갖는 비교 패널에서 1 개의 컬러필터 당 스페이서를 형성하기 위해서는 12 개의 컬러필터 당 1개가 형성된 스페이서의 면적을 500㎛^2을 컬러필터의 개수인 12로 나누면 됨으로 약 41.6㎛2정도이다. 이때, 41.6㎛2은 1 개의 컬러필터 당 1 개가 형성된 스페이서의 "단위 면적"이다.In order to form a spacer per one color filter in the comparison panel having such a specification, the area of one spacer formed per 12 color filters is divided by 500 μm ^ 2 by the number of color filters, which is about 41.6 μm 2 . . At this time, 41.6 μm 2 is the “unit area” of the spacer in which one is formed per one color filter.
이와 같은 비교 패널의 사양에 의하여 비교 패널보다 큰 액정표시패널에 형성될 스페이서의 단위 면적 또한 결정할 수 있다.By the specification of the comparison panel, the unit area of the spacer to be formed in the liquid crystal display panel larger than the comparison panel can also be determined.
예를 들어, 40인치 XGA 해상도를 갖는 컬러 액정표시패널(이하, 실험 패널이라 칭한다)에서의 스페이서의 "단위 체적"을 산출하면 다음과 같다.For example, the "unit volume" of the spacer in a color liquid crystal display panel (hereinafter referred to as an experiment panel) having a 40-inch XGA resolution is calculated as follows.
<수학식 1>에서 A는 스페이서의 단위 면적이고, 계수 a는이고, B는 n 개의 컬러필터 당 형성된 스페이서 면적이며, C는 n개의 컬러필터 당 형성된 스페이서의 개수이다. 예를 들어 12 개의 컬러필터 당 형성된 스페이서가 1 개일 경우 C는 수치적으로이다. 이때, 스페이서의 탄성계수는 487 N/㎟ 이다.In Equation 1, A is the unit area of the spacer, and the coefficient a is Where B is the spacer area formed per n color filters and C is the number of spacers formed per n color filters. For example, if there is one spacer formed per twelve color filters, C is numerically to be. At this time, the modulus of elasticity of the spacer is 487 N / mm 2.
이때, <수학식 1>에서 B 및 C는 항상 일정한 값을 갖는다. 예를 들어 B 가 증가하면 C는 작아지며, B 가 감소되면 C가 증가된다.At this time, in Equation 1, B and C always have a constant value. For example, as B increases, C decreases, and when B decreases, C increases.
구체적으로 계수 a는 비교 패널과 실험 패널의 면적 차이를 보상하기 위한 계수이다. 구체적으로 실험 패널의 컬러필터 면적이 비교 패널의 컬러필터 면적과 동일할 경우 계수 a는 1이다.Specifically, the coefficient a is a coefficient for compensating for the area difference between the comparison panel and the experiment panel. Specifically, the coefficient a is 1 when the color filter area of the test panel is the same as the color filter area of the comparison panel.
한편, 실험 패널의 컬러필터 면적이 비교 패널의 컬러필터 면적보다 클 경우에는 계수 a는 1 보다 작아지고, 실험 패널의 컬러필터 면적이 비교 패널의 컬러 필터 면적보다 작아질 경우 계수 a는 1보다 커진다.On the other hand, when the color filter area of the test panel is larger than the color filter area of the comparison panel, the coefficient a is smaller than 1, and when the color filter area of the test panel is smaller than the color filter area of the comparison panel, the coefficient a is larger than 1. .
이때, 계수 a가 1 보다 작아짐은 스페이서의 단위 면적이 감소됨을 의미하고, 계수 a가 1보다 커짐은 스페이서의 단위 면적이 증가함을 의미한다.In this case, when the coefficient a is smaller than 1, the unit area of the spacer is reduced, and when the coefficient a is larger than 1, the unit area of the spacer is increased.
예를 들어, 40 인치의 크기를 갖는 실험 패널에서 컬러필터의 면적은 227 ×681㎛이고, 비교 패널 컬러필터 면적은 88×264㎛ 이었을 때, 계수 a40은이다. 이를 계산하면, a40은 0.15 정도이다. 즉, 실험 패널에서는 스페이서의 단위 면적이 증가해야 한다.For example, in an experimental panel having a size of 40 inches, when the area of the color filter is 227 × 681 μm and the area of the comparison panel color filter is 88 × 264 μm, the coefficient a 40 is to be. Calculating this, a 40 is about 0.15. In other words, the experimental area should increase the unit area of the spacer.
<수학식 1>의 B는 블랙 매트릭스에 형성된 n 개의 컬러필터마다 형성된 1 개의 스페이서의 면적이다. 실험 패널에서 스페이서가 가질 수 있는 면적은 30∼45㎛의 폭을 갖는 블랙 매트릭스에 약 35㎛의 직경으로 형성되었기 때문에 B는의 공식(D=35㎛)에 의하여 약 800㎛2이 된다. 스페이서의 직경은 블랙 매트릭스의 폭 보다 커지지 않도록 한다.B of Equation 1 is the area of one spacer formed for each of the n color filters formed on the black matrix. In the experiment panel, the area that the spacer can have is formed in a black matrix having a width of 30 to 45 μm with a diameter of about 35 μm, so B is It becomes about 800 micrometer <2> by the formula (D = 35 micrometer). The diameter of the spacer does not become larger than the width of the black matrix.
한편, <수학식 1>에서 C는 비교 패널과 실험 패널의 컬러필터의 면적 크기로 설정되며, 실험 패널의 컬러필터의 면적이 비교 패널의 컬러필터 면적에 비하여 약 4 배 가량 큼으로 C는에 의하여이 적절하다.In Equation 1, C is set to the size of the area of the color filter of the comparison panel and the experiment panel, and the area of the color filter of the experiment panel is about four times larger than the area of the color filter of the comparison panel. By This is appropriate.
이와 같은 과정을 거쳐, <수학식 1>에서 계수 a, B 및 C가 결정되면, 실험 패널에서의 1 개의 컬러필터 당 1 개씩 형성되는 스페이서의 단위 면적을 산출할 수 있다.Through such a process, when the coefficients a, B, and C are determined in Equation 1, the unit area of the spacer formed one per color filter in the test panel can be calculated.
예를 들면, 40인치를 갖는 실험 패널에서 계수 a가 0.15이고, n 개당 컬러필터의 면적이 800㎛2이고, n 개당 형성되는 스페이서의 개수가일 경우, 0.15×800×에 의하여 40㎛2정도가 된다. 즉, 40인치 실험 패널에서의 단위 면적은 40㎛2이다. 이와 같은 방법으로 15인치, 17인치, 20인치, 40인치, 60인치 등에서의 컬러필터 면적 및 블랙 매트릭스의 폭만 산출되면 단위 면적을 모두 산출할 수 있다.For example, in an experimental panel having 40 inches, the coefficient a is 0.15, the area of the color filter per n pieces is 800 µm 2 , and the number of spacers formed per n pieces is , 0.15 × 800 × It becomes about 40 micrometer <2> by. That is, the unit area in the 40 inch test panel is 40 μm 2 . In this way, if only the color filter area and the width of the black matrix are calculated at 15 inches, 17 inches, 20 inches, 40 inches, and 60 inches, the unit area can be calculated.
이때, <수학식 1>에 의하여 산출된 스페이서의 단위 면적에는 실제로는 사용할 수 없는 단위 면적도 있다. 이를 고려하지 않고 스페이서의 단위 면적을 잘못선택할 경우에는 앞서 설명한 바와 같이 언-필 영역이 발생하거나 제 1 기판의 파손의 발생할 수 있다.At this time, there is also a unit area which cannot be actually used in the unit area of the spacer calculated by Equation (1). If the unit area of the spacer is incorrectly selected without taking this into consideration, as described above, an un-filled region may occur or damage of the first substrate may occur.
실제로 스페이서의 단위 면적은 외부로부터 제 1 압력이 스페이서에 가해졌을 때 발생하는 액정의 셀 갭 변화가 고려되어야 한다. 액정의 셀 갭 변화를 관측하기 위해서 스페이서의 단위 면적을 0㎛2에서 점차 증가되도록 한다. 또한, 제 1 압력은 후술될 제 1 기판의 자중 및 대기압에 의하여 스페이서의 제 2 단부에 가해지는 압력과 동일하도록 설정한다.In fact, the unit area of the spacer has to take into account the cell gap change of the liquid crystal generated when the first pressure is applied to the spacer from the outside. In order to observe the cell gap change of the liquid crystal, the unit area of the spacer is gradually increased at 0 μm 2 . Further, the first pressure is set to be equal to the pressure applied to the second end of the spacer by the weight and atmospheric pressure of the first substrate to be described later.
스페이서의 제 2 단부에 제 1 압력이 가해질 경우, 액정의 셀 갭은 스페이서의 단위 면적에 의하여 변경된다.When the first pressure is applied to the second end of the spacer, the cell gap of the liquid crystal is changed by the unit area of the spacer.
예를 들어, 단위 면적이 증가될 경우, 제 1 압력에 의한 스페이서의 압축량이 적어짐으로 셀 갭은 증가하게 될 것이다.For example, if the unit area is increased, the cell gap will increase as the amount of compression of the spacer due to the first pressure decreases.
도 8a는 본 발명의 제 1 실시예에 의하여 스페이서의 단위 면적 대비 액정의 셀 갭 변화를 시뮬레이션한 그래프이다.FIG. 8A is a graph simulating the change of the cell gap of the liquid crystal relative to the unit area of the spacer according to the first embodiment of the present invention.
도 8a의 그래프를 참조하면, 스페이서의 단위 면적이 0㎛2에서 점차 증가됨에 따라 액정의 셀 갭은 약 30㎛^2 근처까지 급속히 증가되고, 단위 면적이 30㎛2이후에서는 서서히 증가되는 경향을 보인다.Referring to the graph of FIG. 8A, as the unit area of the spacer gradually increases from 0 μm 2 , the cell gap of the liquid crystal rapidly increases to about 30 μm 2 and gradually increases after 30 μm 2 . see.
단위 면적을 계속 증가시킨 결과, 단위 면적이 76㎛2이상에서 액정의 셀 갭은 최대 허용 액정 셀 갭인 4.75㎛ 이상이 되었다. 이는 제 1 압력에 의하여 압축된 스페이서가 액정의 표면과 일치하지 못함을 의미한다. 즉, 스페이서의 단위 면적이 76㎛2이상인 상태에서 액정표시패널이 조립될 경우 액정표시패널의 내부에는 액정이 채워지지 않은 언-필 영역이 존재하게 된다. 언-필 영역은 도 8a의 그래프 중 빗금친 부분이다.As the unit area was continuously increased, the cell gap of the liquid crystal became 4.75 μm or more, which is the maximum allowable liquid crystal cell gap, when the unit area was 76 μm 2 or more. This means that the spacer compressed by the first pressure does not coincide with the surface of the liquid crystal. That is, when the liquid crystal display panel is assembled in a state in which the unit area of the spacer is 76 μm 2 or more, there is an unfilled region in which the liquid crystal is not filled in the liquid crystal display panel. The unfilled area is hatched in the graph of FIG. 8A.
도 8a의 그래프에 의하면 스페이서의 단위 면적이 76㎛2이하에서는 언-필 영역이 발생하지 않는다. 그러나, 실제로 스페이서의 단위 면적이 너무 작아 0㎛2에 근접할 경우 스페이서가 제 1 기판에 가하는 제 2 압력은 점차 커지게 되고 제 2 압력이 너무 클 경우, 제 1 기판의 제 1 전극 등에 손상을 줄 수 있다.According to the graph of FIG. 8A, when the unit area of the spacer is 76 μm 2 or less, no unfilled region occurs. However, when the unit area of the spacer is too small to approach 0 μm 2 , the second pressure applied by the spacer to the first substrate is gradually increased, and when the second pressure is too large, damage to the first electrode or the like of the first substrate is caused. Can give
이를 방지하기 위해서는 스페이서의 압축률이 고려되어야 한다. 실제 스페이서의 압축률이 커지면 스페이서가 제 1 기판에 가하는 제 2 압력도 비례하여 커진다.To prevent this, the compression ratio of the spacer should be considered. As the actual compressibility of the spacer increases, the second pressure exerted on the first substrate also increases proportionally.
도 8b는 본 발명의 제 1 실시예에 의하여 스페이서의 단위 면적 대비 스페이서의 압축률 변화를 시뮬레이션한 그래프이다.8B is a graph simulating a change in compression ratio of a spacer relative to a unit area of the spacer according to the first embodiment of the present invention.
도 8b의 그래프를 참조하면, 스페이서의 단위 면적이 0㎛2에 가까울수록 스페이서의 압축률은 커지며, 스페이서의 단위 면적이 점차 증가됨에 따라 스페이서의 압축률은 급격히 감소한다.Referring to the graph of FIG. 8B, as the unit area of the spacer approaches 0 μm 2 , the compressibility of the spacer increases, and as the unit area of the spacer gradually increases, the compressibility of the spacer decreases rapidly.
각 스페이서마다 약간씩 다르지만 탄성 계수가 487 N/㎟인 스페이서의 압축률은 15% 정도가 제 1 기판 및 스페이서를 파손시키지 않는 안전한 값이다.Although slightly different for each spacer, the compressibility of the spacer having an elastic modulus of 487 N / mm 2 is a safe value that does not damage the first substrate and the spacer.
이때, 스페이서의 압축률이 15%라는 것은 일실시예로 100㎛의 제 1 높이를 갖는 스페이서가 85㎛ 까지 압축됨을 의미한다. 즉, 압축된 스페이서는 제 1 높이의 85%이다.At this time, the compression rate of the spacer is 15% means that the spacer having a first height of 100㎛ in one embodiment is compressed to 85㎛. That is, the compressed spacer is 85% of the first height.
이와 같은 이유로 스페이서의 압축률이 15% 이하가 되는 스페이서의 단위 면적을 그래프에서 찾으면 약 32㎛2정도이다. 즉, 스페이서의 단위 면적이 32㎛2이하가 될 경우 제 1 기판 또는 스페이서의 파손이 발생할 수 있다.For this reason, if the unit area of the spacer where the compression ratio of the spacer is 15% or less is found in the graph, it is about 32 μm 2 . That is, when the unit area of the spacer is 32 μm 2 or less, damage to the first substrate or the spacer may occur.
이와 같은 이유로, 스페이서의 단면적은 제 1 기판 또는 스페이서가 파손될 수 있는 32㎛2, 언-필 영역이 발생할 수 있는 76㎛2이상을 제외한 구간이 적합하다. 즉, 스페이서의 단면적은, 32㎛2≤단위 면적 ≤76㎛2(단, 탄성 계수는 487 N/㎟)이다.For this reason, the cross-sectional area of the spacer is 32㎛ 2, unloading can result in destruction of the first substrate or spacer is suitable for this region except over 76㎛ 2 that can result in filter area. That is, the cross-sectional area of the spacer is, 32㎛ 2 ≤ unit area ≤76㎛ 2 (However, the modulus of elasticity 487 N / ㎟).
그러나, 이와 같은 스페이서의 단위 면적의 최적화된 구간은 탄성 계수에 의하여 영향 받아 변경된다.However, the optimized section of the unit area of the spacer is affected by the elastic modulus.
도 9a는 본 발명의 제 1 실시예에 의하여 탄성 계수를 낮춘 상태에서 단위 면적에 대한 액정의 셀 갭 변화 및 압축률을 도시한 그래프이다.FIG. 9A is a graph illustrating a cell gap change and a compression ratio of a liquid crystal with respect to a unit area in a state where the modulus of elasticity is lowered according to the first embodiment of the present invention.
도 9a의 그래프를 참조하면, 탄성 계수가 487N/㎟에서 243.5N/㎟으로 낮아질 경우, 언-필 영역이 발생하지 않는 스페이서의 단위 면적은 76㎛2보다 훨씬 큰 100㎛2이상 약 120㎛2정도까지 증가된다. 또한, 제 1 기판 또는 스페이서의 파손이 발생하지 않는 스페이서의 단위 면적에 대한 스페이서의 압축률이 15% 이하인 단위면적의 구간은 66㎛2이상이다. 즉, 스페이서의 단위 면적은, 66㎛2≤단위 면적 ≤120㎛2이상(단, 탄성 계수는 243.5 N/㎟)이다.Referring to the graph of FIG. 9A, when the elastic modulus is lowered from 487 N / mm 2 to 243.5 N / mm 2, the unit area of the spacer in which the un-fill area does not occur is 100 μm 2 or more and about 120 μm 2, which is much larger than 76 μm 2. Is increased to a degree. In addition, the interval of the unit area whose compression ratio of the spacer with respect to the unit area of the spacer which does not cause damage to the first substrate or the spacer is 15% or less is 66 µm 2 or more. That is, the unit area of the spacer, 66㎛ 2 ≤ unit area ≤120㎛ 2 or more (however, Young's modulus is 243.5 N / ㎟) a.
도 9b는 본 발명의 제 1 실시예에 의하여 탄성 계수를 높인 상태에서 단위 면적에 대한 액정의 셀 갭 변화 및 압축률을 도시한 그래프이다.9B is a graph showing the cell gap change and the compression ratio of the liquid crystal with respect to the unit area in the state where the modulus of elasticity is increased according to the first embodiment of the present invention.
도 9b의 그래프를 참조하면, 탄성 계수가 487N/㎟에서 974N/㎟으로 높아질 경우, 언-필 영역이 발생하지 않는 스페이서의 단위 면적은 76㎛2보다 훨씬 작은 40㎛2이하이다. 또한, 제 1 기판 또는 스페이서의 파손이 발생하지 않는 스페이서의 단위 면적에 대한 스페이서의 압축률이 15% 이하인 단위 면적은 18㎛2이다. 즉, 스페이서의 단위 면적은, 18㎛2≤단위 면적 ≤40㎛2(단, 탄성 계수는 974 N/㎟)이다.Referring to the graph of FIG. 9B, when the modulus of elasticity is increased from 487 N / mm 2 to 974 N / mm 2, the unit area of the spacer where no unfilled region occurs is 40 μm 2 or less, much smaller than 76 μm 2 . In addition, the unit area whose compressibility of the spacer with respect to the unit area of the spacer which does not cause damage to the first substrate or the spacer is 15% or less is 18 µm 2 . That is, the unit area of the spacer, 18㎛ 2 ≤ unit area ≤40㎛ 2 (However, the modulus of elasticity 974 N / ㎟) a.
이와 같은 결과에 따르면, 탄성 계수가 변경될 경우 변경된 탄성 계수의 비율을 단위 면적에 반영해줘야 올바른 스페이서의 단위 면적을 산출할 수 있다.According to the result, when the modulus of elasticity is changed, the ratio of the modulus of elasticity must be reflected in the unit area to calculate the correct unit area of the spacer.
이때, <수학식 2>에서 비교 탄성 계수는 487N/㎟이다.At this time, the comparative elastic modulus in Equation 2 is 487 N / mm 2.
<수학식 2>에서 실험 탄성 계수를 243.5N/㎟으로부터 974N/㎟까지 변화시키면 스페이서의 단위 면적은 최소 18㎛2에서 최대 약 120㎛2정도가 된다.When the experimental modulus of elasticity is changed from 243.5 N / mm 2 to 974 N / mm 2 in Equation 2, the unit area of the spacer is about 18 μm 2 minimum and about 120 μm 2 maximum.
도 7을 참조하면, 앞서 설명한 바에 의하여 선택된 스페이서의 단위 면적에의하여 블랙 매트릭스(120)에 해당하는 제 1 전극(140)의 상면에는 단위 면적 및 제 1 높이에 의하여 스페이서(200)가 형성된다.Referring to FIG. 7, the spacer 200 is formed on the upper surface of the first electrode 140 corresponding to the black matrix 120 by the unit area of the spacer selected as described above by the unit area and the first height.
이때, 스페이서(200)는 제 1 기판(100)의 1 개의 컬러필터(130)의 대응하여 1 개의 스페이서가 형성될 수 있다. 이때, 스페이서의 면적은 단위 면적이다.In this case, one spacer may be formed in the spacer 200 corresponding to one color filter 130 of the first substrate 100. At this time, the area of the spacer is a unit area.
이와 달리 스페이서(200)는 제 1 기판(100)에 형성된 n 개의 컬러필터(130) 마다 1 개씩 형성될 수 있다. 이때, n 개의 컬러필터(130)마다 1 개씩 형성된 스페이서(200)의 면적은 단위 면적에 n 배를 곱해주면 된다.In contrast, one spacer 200 may be formed for every n color filters 130 formed on the first substrate 100. In this case, the area of the spacer 200 formed by one for each of the n color filters 130 may be multiplied by n times the unit area.
예를 들어, 컬러필터(130)의 개수에 대응하는 개수로 스페이서를 형성하였을 때 스페이서의 단위 면적을 A라고 하였을 때, n 개의 컬러필터(130)마다 1 개씩 형성된 스페이서(200)들은 A ×n 배의 면적을 갖는다.For example, when the spacers are formed in a number corresponding to the number of the color filters 130, assuming that the unit area of the spacer is A, the spacers 200 formed by 1 for each of the n color filters 130 are A × n. It has an area of twice as much.
한편, 액정(300)은 스페이서(200)의 단위 면적에 근거하여 스페이서(200)가 형성된 제 1 기판(100)에 디스펜서 등에 의하여 도 7에 도시된 허용 액정 셀 갭(H2)까지 적하 방식으로 채워진다.Meanwhile, the liquid crystal 300 is dropped into the first liquid crystal cell gap H 2 shown in FIG. 7 by a dispenser or the like on the first substrate 100 on which the spacer 200 is formed based on the unit area of the spacer 200. Is filled.
도 10은 본 발명의 제 1 실시예에 의한 제 2 기판의 평면도이다.10 is a plan view of a second substrate according to a first embodiment of the present invention.
도 10을 참조하면, 제 2 기판(400)은 다시 기판(410), 박막 트랜지스터(미도시) 및 제 2 전극(420)을 포함한다.Referring to FIG. 10, the second substrate 400 again includes a substrate 410, a thin film transistor (not shown), and a second electrode 420.
기판(410)은 일실시예로 투명하다. 제 2 전극(420)은 제 1 기판(100)에 형성된 컬러필터(130)와 마주보고, 각 제 2 전극(420)에는 박막 트랜지스터가 연결된다.The substrate 410 is transparent in one embodiment. The second electrode 420 faces the color filter 130 formed on the first substrate 100, and a thin film transistor is connected to each second electrode 420.
제 2 기판(400)에 형성된 제 2 전극(420)은 제 1 기판(100)의 컬러필터(130)과 얼라인 되도록 합착되어 액정표시장치(500)가 제조된다.The second electrode 420 formed on the second substrate 400 is bonded to be aligned with the color filter 130 of the first substrate 100 to manufacture the liquid crystal display 500.
<실시예 2><Example 2>
본 발명의 제 2 실시예에서는 액정표시장치를 제조하는 방법이 개시되어 있다.In a second embodiment of the present invention, a method of manufacturing a liquid crystal display device is disclosed.
제 2 실시예에 의하여 도 5에 도시된 액정표시장치를 제조하기 위해서는 스페이서(200)의 제 1 높이(H1) 및 단위 면적을 산출하는 단계, 산출된 스페이서(200)의 단위 면적 및 제 1 높이(H1)대로 제 1 기판(100)에 스페이서(200)를 형성하는 단계, 제 1 기판(100)에 액정(300)을 공급하는 단계, 제 1 기판(100)에 제 2 기판(400)을 어셈블리 하는 단계를 포함한다.In order to manufacture the liquid crystal display shown in FIG. 5 according to the second embodiment, calculating the first height H 1 and the unit area of the spacer 200, the calculated unit area and the first area of the spacer 200. Forming a spacer 200 on the first substrate 100 at a height H 1 , supplying the liquid crystal 300 to the first substrate 100, and supplying the second substrate 400 to the first substrate 100. ) Assembling).
먼저, 스페이서(200)의 제 1 높이(H1)는 최소한 액정(300)으로 디스플레이를 수행하기 위한 액정의 허용 액정 셀 갭(H2) 이상이 되도록 설정된다. 스페이서(200)의 단위 면적은 제 1 높이(H1)를 갖는 스페이서(200)가 제 1 압력에 의하여 압축되어 액정(300)의 표면과 실질적으로 접촉될 수 있도록 설정된다.First, the first height H 1 of the spacer 200 is set to be at least equal to the allowable liquid crystal cell gap H 2 of the liquid crystal for performing display with the liquid crystal 300. The unit area of the spacer 200 is set such that the spacer 200 having the first height H 1 may be compressed by the first pressure to be substantially in contact with the surface of the liquid crystal 300.
이때, 스페이서(200)의 "단위 면적"은 1 개의 컬러필터(130)에 1개의 스페이서가 형성되었을 때의 면적이다. 스페이서(200)가 n 개의 컬러필터(130)마다 1 개씩 형성될 경우, 스페이서(200)는 단위 면적에 n 배를 곱한 면적으로 형성된다.At this time, the "unit area" of the spacer 200 is an area when one spacer is formed in one color filter 130. When one spacer 200 is formed for every n color filters 130, the spacer 200 is formed by an area multiplied by n times the unit area.
이와 같은 스페이서(200)의 제 1 높이(H1) 및 단위 면적을 산출하는 방법은앞서 제 1 실시예에서 상세하게 설명 한 바 그 중복된 설명은 생략하기로 한다.The method of calculating the first height H 1 and the unit area of the spacer 200 as described above in detail in the first embodiment will be omitted.
스페이서(200)의 제 1 높이(H1) 및 단위 면적이 산출된 후에는 제 1 기판(100)을 제조하는 단계가 수행된다.After the first height H 1 and the unit area of the spacer 200 are calculated, a step of manufacturing the first substrate 100 is performed.
도 11a 내지 도 11j는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 제 1 기판을 제조하는 방법이 도시된 공정도이다.11A to 11J are process diagrams illustrating a method of manufacturing a first substrate according to a second embodiment of the present invention.
도 11a는 본 발명의 제 2 실시예에 의해 투명 기판에 크롬 박막이 형성된 것을 도시한 공정도이다.FIG. 11A is a process diagram illustrating a chromium thin film formed on a transparent substrate according to a second embodiment of the present invention. FIG.
도 11a를 참조하면, 투명 기판(110)의 일측면에는 전면적에 걸쳐 크롬 박막(125)이 형성된다. 크롬 박막(125)은 화학 기상 증착 공정 또는 스퍼터링 공정에 의하여 형성된다.Referring to FIG. 11A, a chromium thin film 125 is formed on one side of the transparent substrate 110 over the entire area. The chromium thin film 125 is formed by a chemical vapor deposition process or a sputtering process.
도 11b는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 크롬 박막에 패터닝된 포토레지스트 박막을 도시한 공정도이다.11B is a flowchart illustrating a photoresist thin film patterned on a chromium thin film according to a second embodiment of the present invention.
도 11b를 참조하면, 포토레지스트 박막은 크롬 박막(125)의 상면에 스핀 코팅 또는 슬릿 코팅 등의 방법으로 도포된다. 이어서, 격자 형상의 패턴을 갖는 패턴 마스크(127)가 투명 기판(110)에 얼라인 된다.Referring to FIG. 11B, the photoresist thin film is applied to the upper surface of the chromium thin film 125 by spin coating or slit coating. Subsequently, the pattern mask 127 having a lattice pattern is aligned with the transparent substrate 110.
도 11c는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 크롬 박막을 패터닝하기 위한 패턴 마스크의 평면도이다.11C is a plan view of a pattern mask for patterning a chromium thin film according to a second embodiment of the present invention.
도 11c를 참조하면, 패턴 마스크(127)는 투명한 유리 기판(128), 유리 기판(128)에 격자 형상으로 패터닝되어 광이 통과하지 못하는 크롬 패턴(129) 및광이 투과하는 개구부(129a)로 구성된다.Referring to FIG. 11C, the pattern mask 127 is composed of a transparent glass substrate 128, a chrome pattern 129 patterned in a lattice shape on the glass substrate 128 to prevent light from passing through, and an opening 129a through which light passes. do.
이와 같은 구성을 갖는 패턴 마스크(127)의 상부에서 투명 기판(110)쪽으로는 광이 공급된다. 이때, 패턴 마스크(127)에 의하여 크롬 패턴(125)으로 공급된 광은 크롬 패턴(129)에 의하여 차단되고, 개구부(129a)로 공급된 광은 개구부(129a)를 통하여 포토레지스트 박막에 도달된다.Light is supplied toward the transparent substrate 110 from the upper portion of the pattern mask 127 having such a configuration. At this time, the light supplied to the chrome pattern 125 by the pattern mask 127 is blocked by the chrome pattern 129, and the light supplied to the opening 129a reaches the photoresist thin film through the opening 129a. .
개구부(129a)를 통하여 공급된 광이 도달한 포토레지스트 박막은 현상 공정에 의하여 제거되고, 크롬 패턴(129)에 의하여 광이 도달하지 않은 포토레지스트 박막은 형상 공정에 의하여 제거되지 않고 남아 있게 된다.The photoresist thin film in which the light supplied through the opening 129a has reached is removed by the developing process, and the photoresist thin film in which the light has not reached by the chromium pattern 129 remains without being removed by the shape process.
도 11d는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 크롬 박막이 패터닝되어 블랙 매트릭스가 제조된 것을 도시한 도 11c의 C-C 단면도이다.FIG. 11D is a cross-sectional view taken along the line C-C of FIG. 11C showing that a black matrix is manufactured by patterning a chromium thin film according to a second embodiment of the present invention.
도 11d를 참조하면, 크롬 박막(125)중 패터닝된 포토레지스트 박막에 의하여 보호받지 못하는 부분은 건식 식각 공정 또는 습식 식각 공정을 통하여 식각 되어 격자 형상을 갖는 블랙 매트릭스(120)가 형성된다. 이후, 블랙 매트릭스(120)의 상부에 형성된 잔여 포토레지스트 박막은 애싱(ashing) 공정 등을 통하여 제거된다.Referring to FIG. 11D, a portion of the chromium thin film 125 that is not protected by the patterned photoresist thin film is etched through a dry etching process or a wet etching process to form a black matrix 120 having a lattice shape. Thereafter, the remaining photoresist thin film formed on the black matrix 120 is removed through an ashing process or the like.
도 11e는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 블랙 매트릭스에 컬러 필터 및 제 1 전극이 형성된 것을 도시한 공정도이다.FIG. 11E is a flowchart illustrating the formation of a color filter and a first electrode on a black matrix according to a second embodiment of the present invention.
도 11e를 참조하면, 격자 형상을 갖는 블랙 매트릭스(120)의 내부 영역(121)에는 컬러필터(130)가 형성된다. 컬러 필터(130)는 레드 컬러필터(132), 그린 컬러필터(134) 및 블루 컬러필터(136)로 구분되어 형성되며, 레드 컬러필터(132), 그린 컬러필터(134) 및 블루 컬러필터(136)의 에지는 각각 블랙 매트릭스(120)에 오버랩된다.Referring to FIG. 11E, the color filter 130 is formed in the inner region 121 of the black matrix 120 having a lattice shape. The color filter 130 is divided into a red color filter 132, a green color filter 134, and a blue color filter 136, and is formed by the red color filter 132, the green color filter 134, and the blue color filter ( Each edge of 136 overlaps the black matrix 120.
투명 기판(110)에 블랙 매트릭스(120) 및 컬러필터(130)가 형성된 상태에서 컬러필터(130)의 상면에는 제 1 전극(140)이 형성된다. 제 1 전극(140)은 인듐 주석 산화막(Indium Tin Oxide) 또는 인듐 아연 산화막(Indium Zinc Oxide) 물질을 화학 기상 증착 방식으로 형성된다.The first electrode 140 is formed on the top surface of the color filter 130 in a state where the black matrix 120 and the color filter 130 are formed on the transparent substrate 110. The first electrode 140 is formed of an indium tin oxide film or an indium zinc oxide film by chemical vapor deposition.
도 11f는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 제 1 전극의 상면에 스페이서를 형성하기 위한 스페이서 형성용 박막이 형성된 것을 도시한 공정도이다.FIG. 11F is a process diagram showing a spacer forming thin film for forming a spacer on an upper surface of a first electrode according to a second embodiment of the present invention.
도 11f를 참조하면, 제 1 전극(110)의 상면에는 일실시예로 탄성계수 487 N/㎟을 갖는 스페이서 형성용 박막(210)이 스핀 코팅 또는 슬릿 코팅 등의 방법으로 형성된다. 이때, 스페이서 형성용 박막(210)은 앞서 산출된 제 1 높이(H1)로 형성된다. 이때, 스페이서 형성용 박막(210)은 광과 반응하여 제거가 가능한 감광성 물질이다.Referring to FIG. 11F, a thin film 210 for spacer formation having an elastic modulus of 487 N / mm 2 is formed on the top surface of the first electrode 110 by spin coating or slit coating. At this time, the spacer formation thin film 210 is formed to the first height (H 1 ) calculated previously. At this time, the spacer formation thin film 210 is a photosensitive material that can be removed by reacting with light.
제 1 전극(140)의 상면에 스페이서 형성용 박막(210)이 형성된 상태에서 스페이서 형성용 박막(210)의 상면에는 패턴 마스크(220)가 위치한다.The pattern mask 220 is positioned on the upper surface of the spacer formation thin film 210 in a state where the spacer formation thin film 210 is formed on the upper surface of the first electrode 140.
도 11g는 도 11f의 패턴 마스크의 평면도이다.FIG. 11G is a plan view of the pattern mask of FIG. 11F.
도 11g를 참조하면, 패턴 마스크(220)에는 앞서 산출된 스페이서(220)의 단위 면적과 동일한 면적을 갖도록 스페이서 형성용 패턴(225)이 형성된다.Referring to FIG. 11G, a spacer forming pattern 225 is formed in the pattern mask 220 to have the same area as the unit area of the spacer 220 calculated above.
패턴 마스크(220)로부터 스페이서 형성용 박막(210)으로는 광이 공급되어 스페이서가 형성될 부분을 제외한 스페이서 형성용 박막(210)의 나머지 부분은 모두제거되어 스페이서가 제조된다.Light is supplied from the pattern mask 220 to the spacer formation thin film 210 to remove all remaining portions of the spacer formation thin film 210 except for the portion where the spacer is to be formed, thereby manufacturing the spacer.
도 11h는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 스페이서가 형성된 제 1 기판에 액정이 적하 되는 것을 도시한 공정도이다.FIG. 11H is a flowchart illustrating the dropping of liquid crystal onto a first substrate having spacers according to a second embodiment of the present invention.
도 11h를 참조하면, 도면부호 200은 스페이서이다. 이때, 스페이서는 도 11i에 도시된 바와 같이 단부가 테이퍼 지도록 형성될 수 있다. 제 1 기판(100)에 스페이서(200)가 형성된 상태에서 제 1 기판(100)에는 디스펜서(310)에 의하여 액정(300)이 적하 된다. 이때, 적하 된 액정은 허용 액정 셀 갭(H2)을 갖도록 채워진다.Referring to FIG. 11H, reference numeral 200 is a spacer. At this time, the spacer may be formed so that the end is tapered, as shown in FIG. In the state where the spacer 200 is formed on the first substrate 100, the liquid crystal 300 is dropped onto the first substrate 100 by the dispenser 310. At this time, the dropped liquid crystal is filled to have an acceptable liquid crystal cell gap H 2 .
도 11j는 본 발명의 제 2 실시예에 의하여 제 1 기판에 제 2 기판이 어셈블리 된 것을 도시한 단면도이다.11J is a cross-sectional view illustrating a second substrate assembled to a first substrate according to a second embodiment of the present invention.
도 11j를 참조하면, 액정(300)이 제 1 기판(100)에 모두 채워진 상태에서 제 1 기판(100)에는 박막 트랜지스터, 제 2 전극(410)이 형성된 제 2 기판(400)이 어셈블리 된다. 제 2 기판(400)은 제 1 압력을 제 1 기판(100)에 형성된 스페이서(200)에 가하여 제 1 기판(100)에 형성된 스페이서(200)가 허용 액정 셀 갭(H2)까지 채워진 액정(300)의 표면까지 압축되도록 한다.Referring to FIG. 11J, the second substrate 400 having the thin film transistor and the second electrode 410 is assembled to the first substrate 100 while the liquid crystal 300 is completely filled in the first substrate 100. The second substrate 400 applies a first pressure to the spacer 200 formed on the first substrate 100 so that the spacer 200 formed on the first substrate 100 fills the liquid crystal cell gap H 2 . To a surface of 300).
이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 스페이서의 높이 및 단위 면적을 최적화하여 적하 방식으로 액정을 공급할 때 발생하는 액정 언-필 영역 방지 및 기판 또는 스페이서의 파손을 방지할 수 있는 효과를 갖는다.As described above in detail, the height and unit area of the spacer may be optimized to prevent the liquid crystal unfilled region generated when the liquid crystal is supplied in the dropping manner and to prevent the breakage of the substrate or the spacer.
앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.In the detailed description of the present invention described above with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art or those skilled in the art having ordinary knowledge in the scope of the invention described in the claims to be described later It will be understood that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the scope of the present invention.
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