KR20040014067A - 리프트 핀 높이 정렬용 지그 - Google Patents

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Abstract

리프트 핀 높이 정렬용 지그를 개시한다. 본 발명에 따른 리프트 핀 높이 정렬용 지그는, 리프트 핀이 들어갈 수 있는 공간이 마련된 몸체, 리프트 핀의 표준 높이에 맞춰 공간 내부에 장착된 센서, 및 리프트 핀이 공간으로 들어와 표준 높이에 정렬되었을 때 센서로부터 출력되는 신호를 받아 소리를 출력하는 부저를 포함한다. 본 발명에 의하면, 챔버 외부에서 리프트 핀 업/다운을 하면서도 부저의 소리를 통해 현재 리프트 핀의 높이를 알 수 있다. 따라서, 리프트 핀 높이 정렬 시간이 절약되며 작업자 불편을 해소하고 생산성을 향상시킬 수 있다.

Description

리프트 핀 높이 정렬용 지그{Height alignment jig for lift pin}
본 발명은 이온주입장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 고전류 이온주입장치에 들어가는 리프트 핀의 높이를 정렬하는 데에 이용되는 도구에 관한 것이다.
웨이퍼에 불순물을 도입하는 공정은 재료의 전기적인 특성을 변화시키는 것으로서 반도체 소자 제조공정에서 가장 중요한 공정으로 간주되어 왔다. 불순물을 도입하는 데에는 이온주입법이 널리 이용되고 있다. 이온주입법은 불순물을 이온 상태로 만든 후 가속하여 웨이퍼에 물리적으로 주입하는 방식으로서, 주입된 깊이와 주입량은 가속전압과 이온 전류, 주입시간에 의해 정해지기 때문에 주입 공정의 자동 종점 검출과 정밀한 불순물 도입이 가능하다. 이와 같은 이온주입을 수행하는 장치에서, 이온주입될 웨이퍼는 디스크(disk) 상에 위치하고 디스크에서 특히 웨이퍼가 고정되는 부분을 사이트(site)라 한다.
도 1은 이온주입장치의 디스크 일부를 나타낸 것이다. 도 1을 참조하면, 원반 모양의 디스크(1) 가장자리에 소정 간격 이격되어 복수개의 사이트(10)가 위치한다. 각 사이트(10)의 상부면에는 복수개의 리프트 핀 홀(12)이 형성되어 있다. 이 리프트 핀 홀(12)을 통하여 리프트 핀(13)이 상하 운동을 하게 된다. 사이트(10)의 외주면에는 디스크(1)의 고속회전시 웨이퍼의 측방 이탈을 방지하기 위한 소정 높이의 펜스(14)가 설치되어 있다. 펜스(14)에 대향하는 사이트(10)의 외주면에는 수납홈(18)이 형성되어 있고, 수납홈(18) 내에는 웨이퍼를 클램핑(clamping)하기 위한 롤러(16)가 위치한다.
리프트 핀(13)은 웨이퍼를 지지하는 것이므로 여러 개의 리프트 핀(13)의 높이는 서로 같아야 하고, 또 매 공정마다 일정하게 유지되어야 한다. 따라서, 종래에는 도 2에서와 같은 방법으로 리프트 핀(13)의 높이를 정렬하고 있다. 도 2를 참조하면, 기준이 되는 높이를 가진 조정툴(20)을 사이트(10) 위에 리프트 핀(13) 옆쪽으로 놓고 리프트 핀(13)의 상면과 조정툴(20)의 상면이 육안으로 보아 나란해질 때까지 리프트 핀(13)을 상하 운동시켜 그 높이를 정렬한다.
리프트 핀(13)은 리프트 어셈블리(40) 위에 있기 때문에 리프트 어셈블리(40)를 상하 운동시키면 리프트 핀(13)이 사이트(10)로부터 돌출되는 높이도 변화한다. 이러한 리프트 어셈블리(40)는 챔버벽(30) 바깥쪽에 있는 리프트 핀 업/다운조정 너트(50)로 움직인다.
구체적으로, 작업자가 육안으로 보아 리프트 핀(13)의 상면과 조정툴(20)의 상면이 나란하지 않으면, 챔버벽(30) 하단으로 이동하여 리프트 핀 업/다운조정 너트(50)를 조절한다. 이 때, 리프트 핀(13) 높이가 변하는 것을 확인하면서 조정하여야 정렬이 빨리 완료되는데, 조정부위가 이처럼 챔버벽(30) 외부에 있기 때문에 조정시 리프트 핀(13) 높이를 확인하는 것이 매우 어렵다. 따라서, 작업자는 판단에 의해 임의로 조정한 다음 챔버벽(30) 상단으로 이동하여 리프트 핀(13) 높이를 확인하고, 리프트 핀(13)의 상면과 조정툴(20)의 상면이 나란하지 않으면 다시 챔버벽(30) 하단으로 이동하여 조정해야 한다. 정렬이 완료될 때까지 이러한 과정을 수없이 반복하게 되므로, 종래의 리프트 핀(13) 높이 정렬 작업은 매우 어렵고 번거롭다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 종래의 문제점을 해결하고자, 챔버외부에서 리프트 핀을 업/다운시키더라도 현재 리프트 핀의 높이를 용이하게 알 수 있도록 개선된 조정툴을 제공하는 것이다.
도 1은 이온주입장치의 디스크 일부를 나타낸 것이다.
도 2는 종래에 리프트 핀의 높이를 정렬하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 리프트 핀 높이 정렬용 지그를 도시한 것이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 리프트 핀 높이 정렬용 지그를 도시한 것이다.
도 5는 도 3의 지그를 사용하여 리프트 핀의 높이를 정렬하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
110, 110' : 몸체115 : 홈120 : 센서130 : 부저
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에서는 리프트 핀 높이 정렬용 지그를 제안한다. 이 지그는, 리프트 핀이 들어갈 수 있는 공간이 마련된 몸체(body), 상기 리프트 핀의 표준 높이에 맞춰 상기 공간 내부에 장착된 센서(sensor), 및 상기 리프트 핀이 상기 공간으로 들어와 상기 표준 높이에 정렬되었을 때 상기 센서로부터 출력되는 신호를 받아 소리를 출력하는 부저(buzzer)를 포함한다.
실시예에 따르면, 상기 몸체는 반전된 U자형 몸체이고, 상기 센서는 포토센서이며, 상기 부저는 상기 몸체 외벽에 장착된다. 이 경우, 상기 부저는 상기 몸체 외벽에 마련한 홈에 장착된 것일 수 있다.
본 발명에 의하면, 챔버 외부에서 리프트 핀 업/다운을 하면서도 부저의 소리를 통해 현재 리프트 핀의 높이를 알 수 있다. 따라서, 종래와 같이 챔버벽 하단에서 리프트 핀 업/다운 너트를 조절하던 작업자가 챔버벽 상단의 리프트 핀 위치를 확인하러 이동해야 하는 불편함이 개선된다. 정렬 시간이 절약되며 생산성을 향상시킬 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어져서는 안된다. 본 발명의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 동일한 부호는 시종 동일한 요소를 의미한다. 나아가, 도면에서의 다양한 요소와 영역은 개략적으로 그려진 것이다. 따라서, 본 발명은 첨부한 도면에 그려진 상대적인 크기나 간격에 의해 제한되어지지 않는다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 리프트 핀 높이 정렬용 지그를 도시한 것이다. 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 의한 리프트 핀 높이 정렬용 지그(100)는 반전된 U자형 몸체(110)를 가진다. 이 몸체(110)는 이온주입장치 사이트의 리프트 핀홀을 통해서 상하 운동하는 리프트 핀이 들어갈 수 있는 공간이 내부에 마련된 것이다.
몸체(110) 안쪽에는 사이트 상면으로부터 돌출된 리프트 핀의 표준 높이에 맞춰 센서(120)가 장착되어 있다. 센서(120)는 여러 종류의 센서가 이용될 수 있지만, 바람직하게는 포토센서이다. 포토센서인 경우 발진회로 및 포토다이오드를 포함하는 발광부와, 포토트랜지스터를 포함하는 수광부의 쌍으로 설치한다. 발광부에서 나온 빛이 수광부로 들어가는데, 중간에 리프트 핀과 만날 경우 회절상이 변화되기 때문에 변화된 회절상을 감지함으로써 리프트 핀의 높이가 표준위치에 도달하였음을 알 수 있다.
몸체(110) 외벽에는 부저(130)가 장착되어 있다. 부저(130)는 리프트 핀이 상기 표준 높이에 정렬되었을 때 센서(120)로부터 출력되는 신호를 받아 소리를 출력한다. 바림직하게, 부저(130)는 몸체(110) 외벽에 홈(115)을 마련하여 그 안에 장착함으로써 콤팩트(compact)한 외관을 이루도록 한다. 홈(115)을 마련하기 위해서, 부저(130)가 장착될 몸체 벽은 그렇지 않은 벽보다 더 두껍게 형성할 수도 있다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 리프트 핀 높이 정렬용 지그(100')를 도시한 것이다. 도 4를 참조하면, 몸체(110') 안쪽에 센서(120)가 장착되어 있고, 몸체(110') 외벽에 부저(130)가 장착되어 있는 점은 도 3의 실시예와 동일하다. 그런데, 몸체(110')는 부저(130)가 장착될 몸체 벽과 그렇지 않은 벽이 동일한 두께를 가지며, 상단도 도 3보다 둥그런 모양이고, 부저(130)는 홈에 수납되지 않고 몸체(110') 외벽에 곧바로 부착된다.
이상과 같이, 본 발명에 따른 지그는 여러 가지 모양을 가질 수 있고, 여기 제시한 형상의 예에 국한되는 것은 아니다. 몸체 내부에 센서를 장착하여 리프트 핀이 표준 높이 도달시 부저가 소리를 출력하게 만든다는 것이 중요하다. 작업자는 소리를 감지하여 리프트 핀의 정렬 여부를 알 수 있으므로, 종래와 같이 챔버벽 하단에서 리프트 핀 업/다운 너트를 조절하던 작업자가 챔버벽 상단의 리프트 핀 위치를 확인하러 이동하지 않아도 된다.
도 5는 도 3의 지그(100)를 사용하여 리프트 핀의 높이를 정렬하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 5를 참조하면, 지그(100)를 사이트(10) 위의 리프트 핀(13) 위에 놓는다. 리프트 핀(13)은 몸체(110) 안에 마련된 공간에서 리프트 핀홀(12)을 통해 상하 운동을 할 수 있다. 리프트 핀(13)은 리프트 어셈블리(40) 위에 있기 때문에 리프트 어셈블리(40)를 상하 운동시키면 리프트 핀(13)이 사이트(10)로부터 돌출되는 높이도 변화한다. 이러한 리프트 어셈블리(40)는 챔버벽(30) 바깥쪽에 있는 리프트 핀 업/다운조정 너트(50)로 움직인다.
센서(120)는 리프트 핀의 표준 높이에 부착하였으므로, 리프트 핀(13)이 업/다운되어 센서(120)에 닿으면 센서와 연결된 부저(130)가 온(on)되어 챔버 외부에서 업/다운 조정하는 작업자가 부저 소리를 듣고 쉽게 리프트 핀의 높이를 알 수 있다. 즉, 리프트 핀(13)이 센서(120)에 닿을 때 부저(130)가 울리므로, 부저(130)가 울린 순간, 조정을 멈추면 리프트 핀(13) 높이가 표준 높이에 정렬된다. 챔버 외부에서 조정을 해도 쉽게 리프트 핀 높이가 적정치에 들어왔음을 알 수 있어 작업손실을 줄일 수 있다. 따라서, 종래에 정렬 높이가 맞지 않을 경우에 작업자가 다시 챔버 밑으로 가서 작업하는 불합리 손실을 줄일 수 있으며 그로 인하여 공정유지 손실 시간 및 정확한 정렬을 실시할 수 있어 웨이퍼 손실을 방지할 수 있다. 1인 작업시에도 쉽고 빠르게 정렬할 수 있다.
이상, 본 발명을 바람직한 실시예들을 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 많은 변형이 가능함은 명백하다.
이상에서 설명한 바와 같이, 챔버 외부에서 리프트 핀 업/다운을 하면서도 부저의 소리를 통해 현재 리프트 핀의 높이를 알 수 있다. 따라서, 리프트 핀 높이 정렬 시간이 절약되며 작업자 불편을 해소하고 생산성을 향상시킬 수 있다.

Claims (4)

  1. 리프트 핀이 들어갈 수 있는 공간이 마련된 몸체;
    상기 리프트 핀의 표준 높이에 맞춰 상기 공간 내부에 장착된 센서; 및
    상기 리프트 핀이 상기 공간으로 들어와 상기 표준 높이에 정렬되었을 때 상기 센서로부터 출력되는 신호를 받아 소리를 출력하는 부저를 포함하는 것을 특징으로 하는 리프트 핀 높이 정렬용 지그.
  2. 제1항에 있어서, 센서는 포토센서인 것을 특징으로 하는 리프트 핀 높이 정렬용 지그.
  3. 제1항에 있어서, 상기 몸체는 반전된 U자형 몸체이고, 상기 센서는 포토센서이며, 상기 부저는 상기 몸체 외벽에 장착된 것을 특징으로 하는 리프트 핀 높이 정렬용 지그.
  4. 제3항에 있어서, 상기 부저는 상기 몸체 외벽에 마련한 홈에 장착된 것을 특징으로 하는 리프트 핀 높이 정렬용 지그.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5796066A (en) * 1996-03-29 1998-08-18 Lam Research Corporation Cable actuated drive assembly for vacuum chamber
JPH11204429A (ja) * 1998-01-16 1999-07-30 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置
KR20000009555U (ko) * 1998-11-06 2000-06-05 김영환 반도체 이온 주입장비의 웨이퍼 자동 정렬장치
KR20010002639A (ko) * 1999-06-16 2001-01-15 윤종용 반도체 장치 제조용 이온 주입 장비의 디스크 사이트 어셈블리및 이를 이용한 웨이퍼의 리프팅 보정방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5796066A (en) * 1996-03-29 1998-08-18 Lam Research Corporation Cable actuated drive assembly for vacuum chamber
JPH11204429A (ja) * 1998-01-16 1999-07-30 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置
KR20000009555U (ko) * 1998-11-06 2000-06-05 김영환 반도체 이온 주입장비의 웨이퍼 자동 정렬장치
KR20010002639A (ko) * 1999-06-16 2001-01-15 윤종용 반도체 장치 제조용 이온 주입 장비의 디스크 사이트 어셈블리및 이를 이용한 웨이퍼의 리프팅 보정방법

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