KR20040009841A - 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템 - Google Patents

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KR20040009841A
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Abstract

본 발명은 유기 EL 디스플레이의 성막공정시에 성막 소스의 효율을 극대화시키면서 대면적의 기판에 대한 성막공정에서도 우수한 두께 균일도를 갖도록 하기 위한 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템을 제공한다.
이를 위해 본 발명은 유기 EL 액상 소스와 용제를 이동시키기 위한 액체이동 장치와, 캐리어 가스와 퍼지가스를 이동시키기 위한 가스이동 장치, 상기 액체이동 장치로부터 이동된 액상 소스를 기화시키는 기화기, 상기 기화기로부터 기화된 소스를 분사시키기 위해 이송하는 기화기 라인, 상기 기화기 라인을 통해 이송받은 기화된 소스를 균일하게 분사하는 샤워헤드, 상기 기화된 소스를 성막시키기 위한 반응기, 상기 반응기로부터 배출되는 소스를 펌핑하는 펌핑라인 및, 상기 기화기로부터 기화된 소스를 배기시키기 위한 배기라인으로 구성된 것을 특징으로 한다.

Description

유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템{Thin film deposition system of electroluminecence display}
본 발명은 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 유기 EL(Electroluminescence) 디스플레이의 공정 중에서 다양한 형태의 박막에 대한 성막공정을 원활하게 수행하기 위한 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템에 관한 것이다.
일반적으로, 유기 EL 디스플레이는 휴대폰이나 개인정보 단말기 등에 적용되는 차세대 디스플레이로서 각광을 받고 있는 반도체 디스플레이소자에 해당되는 바, 그 유기 EL 디스플레이의 제조공정은 유기 EL 성막공정과 전극 성막공정이 있다.
이러한 유기 EL 성막공정과 전극 성막공정은 증발(Evaporation) 증착방식과 일렉트론빔 건(Electron Beam Gun) 증착방식이 널리 사용되고 있다.
그러나, 이러한 유기 EL 디스플레이의 성막공정에 채용되는 증발 증착방식과 일렉트론빔 건 증착방식의 경우에는 유기 EL 성막소스의 효율이 약 2∼3% 정도밖에 되지 않고, 기판의 크기가 370mm×470mm 이상의 대면적 성막공정에서는 두께의 균일도(Thickness Uniformity)가 나빠진다는 단점이 있다.
따라서, 본 발명은 상기한 종래의 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 그 목적은 유기 EL 디스플레이의 성막공정시에 성막 소스의 효율을 극대화시키면서 대면적의 기판에 대한 성막공정에서도 우수한 두께 균일도를 갖도록 하기 위한 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템을 제공하는 것이다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템에 대한 전체 구성을 나타낸 도면,
도 2는 도 1에 도시된 액체이동 장치의 내부 구성을 상세히 나타낸 도면,
도 3은 도 1에 도시된 기화기의 구성을 상세히 나타낸 도면,
도 4는 본 발명의 다른 예에 따라 플라즈마 발생부가 추가된 샤워헤드의 구성을 나타낸 도면,
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템에 대한 구성을 나타낸 도면이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
100:액체이동 장치, 150:혼합기,
200:가스이동 장치, 300:기화기,
400:기화기 라인, 500:샤워헤드,
600:가열장치, 650:이송장치,
700:펌핑장치, 800:배기라인.
상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명의 일실시예에 따르면, 유기 EL 액상 소스와 용제를 이동시키기 위한 액체이동 장치와, 캐리어 가스와 퍼지가스를 이동시키기 위한 가스이동 장치, 상기 액체이동 장치로부터 이동된 액상 소스를 기화시키는 기화기, 상기 기화기로부터 기화된 소스를 분사시키기 위해 이송하는 기화기 라인, 상기 기화기 라인을 통해 이송받은 기화된 소스를 균일하게 분사하는 샤워헤드, 상기 기화된 소스를 성막시키기 위한 반응기, 상기 반응기로부터 배출되는 소스를 펌핑하는 펌핑라인 및, 상기 기화기로부터 기화된 소스를 배기시키기 위한 배기라인으로 구성된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템을 제공한다.
상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 액상의 소스가 저장되어 있는 반응원료 저장조와, 일측 끝단에 오리피스가 설치되고서, 오리피스와의 압력차에 의해 가속화된 가압가스를 발생하는 인젝터, 상기 인젝터로부터의 가압가스를 반응원료 저장조 내로 유도하여 액상 소스가 가압가스의 운동에너지에 의해 미립자화되도록 하는 가스 유도관, 상기 반응원료 저장조에서 미립자화된 소스를 배출시키는 배출관, 상기 배출관을 통해 배출되는 미립자화된 소스를 기화시키기 위해 가열하는 가열수단 및, 상기 가열수단을 통해 기화된 소스를 균일하게 분사시키기 위해 샤워헤드와 반응기를 갖춘 반응실로 구성된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템을 제공한다.
이하, 상기한 바와 같이 구성된 본 발명의 일실시예에 대해 첨부도면을 참조하여 상세히 설명한다.
즉, 도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템에 대한 전체 구성을 나타낸 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에서는 액체이동 장치(100)와, 혼합기(150), 가스이동 장치(200), 기화기(300), 기화기 라인(400), 샤워헤드(500), 하부 가열부(600), 측면 가열부(620), 이송장치(650), 펌핑장치(700), 배기라인(800)으로 구성된다.
동 도면에서, 상기 액체이동 장치(100)는 액체상태의 유기 EL 소스와 용제를 가입시켜서 기화기(300) 측으로 이동시키기 위한 것으로서, 그 액체이동 장치(100)로부터는 유기 EL 소스를 이동시키는 소스 이동라인(L1)과 용제를 이동시키는 용제 이동라인(L2)이 연결되어 있고, 각 소스 이동라인(L1)과 용제 이동라인(L2)은 제 1 및 제 2밸브(V1-1, V1-2)를 통하여 균일한 소스의 유입을 위해 설치된 체크밸브(CV)와 연결되어 있으며, 그 체크밸브(CV)를 통하여 혼합기(150)와 공통 연결된 상태에서 상기 기화기(300) 측에 이어져 있다.
상기 혼합기(150)는 각 소스 이동라인(L1)과 용제 이동라인(L2)을 통해 이동되는 유기 EL 소스와 용제를 균일하게 혼합하여 상기 기화기(300) 측으로 공급하게 된다.
여기서, 상기 액체이동 장치(100)는 도 2에 도시된 바와 같이, 유기 EL 소스를 갖춘 하나 이상의 유기 EL 소스용기(110,115)와, 해당 액체이동 장치(100)와 기화기(300)의 라인을 세정하기 위한 용제를 갖춘 용제용기(140), 상기 각 유기 EL 소스용기(110,115)에 유기 EL 소스를 리필(Refill)하기 위한 하나 이상의 리필용기(130,135)로 구성된다.
상기 각 유기 EL 소스용기(110,115)는 각각 매뉴얼밸브(MV2,MV3) 측의 라인으로부터 가압가스를 유입받아 각 매뉴얼밸브(MV1,MV4) 측의 라인을 통해 유기 EL 소스를 유출시키게 되고, 각 유기 EL 소스용기(10,115)로부터의 유출라인에 설치된 각각의 액체질량 유량조절기(LMFC)(120,125)는 유출되는 유기 EL 소스의 양을 조절하게 된다.
또한, 상기 용제용기(140)는 매뉴얼밸브(MV6) 측의 라인을 통해 가압가스를 유입받아 매뉴얼밸브(MV5) 측의 라인을 통해 용제를 유출시키게 되는 바, 그 용제용기(140)로부터의 유출라인에 설치된 액체질량 유량조절기(LMFC)(145)는 유출되는 용제의 양을 조절한다.
도 1에서, 상기 가스이동 장치(200)는 아르곤가스(Ar)과 산소(O2) 및 질소가스(N2)를 유입받아 캐리어가스 이동라인(L3)을 통해서 캐리어가스를 이동시키고, 활성가스 이동라인(L4)을 통해 활성가스를 이동시키며, 퍼지가스 이동라인(L5)을 통해서 퍼지가스를 이동시키기 위한 것이다.
여기서, 상기 가스이동 장치(200)의 모든 라인은 평균 표면거칠기가 5㎛ 이하로 전해연마 처리된 SUS 316L로 이루어진다.
상기 기화기(300)는 혼합기(150)를 매개로 하여 상기 액체이동 장치(100)로부터 유입받은 소스와 용제가 혼합된 액체소스를 기화시키도록 되어 있고, 상기 캐리어가스 이동라인(L3)은 상기 기화기(300)에서 기화된 액체소스를 고압으로 샤워헤드(500)로 분사시키게 된다.
여기서, 상기 기화기(300)의 전단에는 소스의 균일한 유입을 위해서 체크밸브가 설치되어 있고, 한편, 상기 액체이동 장치(100)로부터의 모든 이동라인은 급격한 소스유입으로 인한 기화기(300)의 클로깅을 방지하기 위해, 체크밸브의 양단이 1/8' 또는 1/16'라인으로 구성된다.
또한, 상기 액체이동 장치(100)로부터의 모든 라인은 내벽과의 접촉에 의한 파티클 발생 및 압력손실을 최소한으로 억제하기 위해, 각 라인의 내벽을 평균 표면거칠기 5㎛ 이하로 전해연마 처리한 SUS 316L로 이루어진다.
상기 기화기(300)는 도 3에 도시된 바와 같이, 제 1가스 흐름관(310)과, 오리피스(320), 제 2가스 흐름관(330), 소스 공급관(340), 제 1 및 제 2기화기 프릿(350a,350b), 기화기 몸체(360), 기화기 히터(370), 제 3가스 흐름관(380), 배출구(390)로 구성된다.
상기 기화기(300)의 내부는 평균 표면거칠기가 5㎛ 이하로 전해연마 처리한 SUS316L로 이루어져 있다.
또한, 상기 기화기(300)의 기화기 히터(370)는 소스의 클로깅을 방지하기 위해 열균일도가 뛰어난 몰딩히터로 구성되어 있고, 고온에도 견딜 수 있는 메탈밸브(도시되지 않음)를 갖추고 있다.
상기 기화기 히터(370) 측의 가열부는 스테인레스 스틸 계열이나, 인코넬(Inconel), 칸탈(Kanthal), 니크롬선, 하스트얼로리(Hastelloy),타이타늄(Titanium), 알루미늄(Al), 구리(Cu), PG(Pyrolitic Graphite) 등과 같은 금속, 비금속, 세라믹 열선을 사용하는 몰딩 형태로 이루어지고, 이는 실리콘 카바이드(SiC) 히터나, 실리콘 러버(Si Rubber) 히터, AIN 히터, 알루미나 히터, PG 히터, PBN 히터 등과 같은 금속, 비금속, 세라믹 계열 히터를 적용하는 것도 얼마든지 가능하다.
상기 제 1 및 제 2기화기 프릿(350a,350b)은 소스의 클로깅을 방지하기 위해 실리콘 카바이드(SiC)나 알루미나(Al2O3)와 같은 세라믹 재질로 이루어져 있다.
도 3에서, 상기 제 1가스 흐름관(310)을 통하여 흐르는 캐리어가스는 오리피스(320)와 연결된 제 2가스 흐름관(330)을 통하여 빠른 속도로 빠져 나가게 되는 바, 상기 제 1가스 흐름관(310)의 직경이 제 2가스 흐름관(330)의 내경보다 크기 때문에 제 2가스 흐름관(330)에 흐르는 가스의 속도가 훨씬 빠르게 되면서 제 1가스 흐름관(310) 보다 제 2가스 흐름관(330)의 내부 압력이 훨씬 낮아지게 된다.
한편, 상기 기화기 히터(370)는 방출되는 열을 기화기 몸체(360)를 통하여 상기 제 1 및 제 2기화기 프릿(350a,350b)에 전달하게 되고, 열전도율이 우수한 제 1 및 제 2기화기 프릿(350a,350b)에서는 액체상태의 소스를 기화시켜서 배출구(390)를 통해서 기화기 라인(400) 측으로 배출시키게 된다.
여기서, 상기 기화기(300)는 2개 이상의 유기 EL 소스를 사용하는 경우에 조성비를 맞추기 위해서 적어도 2개 이상으로 구성하도록 하는 것이 바람직하다.
동 도면에서, 상기 샤워헤드(500)는 별도의 내장 히터(520)와 절연부(540)로 구성되어 있고, 균일한 분사를 위해서 1 스테이지 또는 2 스테이지로 이루어져 있다.
상기 샤워헤드의 히터(520)는 스테인레스 스틸 계열, 인코넬, 칸탈, 니크롬선, 하스트얼로이, 타이타늄, 알루미늄, 구리, PG 등과 같은 금속, 비금속, 세라믹 열선을 사용하는 시스(Sheath) 형태 또는 실리콘 고무(Rubber) 형태의 히터를 적용할 수 있도록 되어 있다.
또한, 상기 샤워헤드 히터의 절연부(540)는 알루미나, AIN, 테프론(Tephlon) 등의 절연물질로 이루어져 있다.
한편, 상기 샤워헤드(500)의 다른 예에 따른 구성은 도 4에 도시된 바와 같다.
도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 예에 따른 샤워헤드(500)는 플라즈마를 가하기 위한 플라즈마 모듈(560)과, 샤워헤드의 절연부(580), 내장히터로 구성되고, 이는 균일한 분사를 위해 1 스테이지 또는 2 스테이지로 이루어진다.
상기 플라즈마 모듈(560)은 전원부로부터 전원을 인가받아 플라즈마를 발생하는 플라즈마 전극(570)과, 그 플라즈마 전극(570)으로부터 반응기를 절연시키는 플라즈마 절연부(582)로 구성되고, 상기 전원부는 MF 또는 RF로 이루어질 수 있고, 히터의 가열부는 스테인레스 스틸 계열, 인코넬, 칸탈, 니크롬선, 하스트얼로이, 타이타늄, 알루미늄, 구리, PG 등과 같은금속, 비금속, 세라믹 열선을 사용하는 시스(Sheath) 형태의 열선을 사용할 수 있다. 상기 절연부는 알루미나, AIN, 테프론 등의 절연물질로 구성될 수 있다.
도 1에서, 가열장치는 이송장치(650)에 의해 높이조절과 회전이 가능한 하부가열부(600)와 반응기 측면의 측면 가열부(620)로 구성되고, 각 하부 가열부(600)와 측면 가열부(620)는 열전도도와 열균일도가 우수하며 파티클(Particle)이 발생되지 않는 실리콘 카바이드 히터나, 실리콘 러버 히터, AIN 히터, 알루미나 히터, PG 히터, PBN 히터 등과 같은 금속, 비금속, 세라믹 계열의 히터를 적용하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 펌핑장치(700)는 상기 반응실의 외부로 배출되는 소스를 분말화하여 트랩하기 위한 콜드트랩(C/T)을 갖추고 있고, 상기 배기라인(800)에도 외부로 배출되는 소스를 분말화하여 트랩하기 위한 콜드트랩(C/T)이 설치되어 있다.
다음에, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 대해 상세히 설명한다.
즉, 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템에 대한 구성을 나타낸 도면이다.
도 5에 도시된 바와 같이, 인젝터(900)와, 오리피스(910), 가스 유도관(920), 반응원료 저장조(930), 배출관(940), 실링부재(950), 가열수단(960), 반응실(970)로 구성된다.
상기 인젝터(900)는 그 끝단에 내경이 0.1 내지 3mm 사이의 오리피스(910)와 결합되어 있는 바, 인젝터(900)와 오리피스(910)는 암나사와 수나사의 체결볼트에 의해 상호 연결되도록 하되, 그 경계부에 진공실링을 위해 예컨대 오링 또는 메탈로 이루어진 실링부재(도시되지 않음)를 삽입하도록 하는 것이 바람직하다.
상기 가스 유도관(920)은 그 일단이 오리피스(910)와 연결되고서 타단이 반응원료 저장조(930) 내에 삽입되도록 설치된다.
여기서, 상기 오리피스(910)의 직경은 인젝터(900)의 직경보다 작기 때문에 그 오리피스(910)를 통과할 때 유속이 증가되어 가속화되고, 상기 인젝터(900)와 오리피스(910)를 통하여 가속화된 가압가스는 가스 유도관(920)을 통하여 반응원료 저장조(930) 내의 액상소스에 전달된다.
상기 반응원료 저장조(930) 내의 액상 소스는 상기 가스 유도관(920)을 통해 유입되는 가스로부터의 운동에너지를 전달받아 분자단위로 미립자화되어 저장조(930)와의 압력차에 의하여 배출관(940)을 통해 배출되고, 상기 가열수단(960)은 배출관(940)을 통해 유입받은 미립자화된 미세입자 소스를 기화시키기 위해 가열시키게 된다.
여기서, 상기 반응원료 저장조(930)와 배출관(940)의 사이에는 암나사와 수나사의 체결볼트에 의해 상호 연결되도록 하되, 그 경계부에 액상의 소스가 대기중의 공기와 접촉되지 않도록 함과 더불어 액상소스와의 직접적인 접촉에 의한 상호반응을 방지하기 위해 메탈 가스켓으로 이루어진 실링부재(950)를 설치한다.
한편, 상기 반응원료 저장조(930)는 2개 이상의 유기 EL 소스를 사용하는 경우에 조성비를 맞추기 위해서 적어도 2개 이상으로 구성하도록 하는 것이 바람직하다.
상기 반응실(970)에서는 샤워헤드와 반응기로 구성되고서, 샤워헤드에 의해 상기 가열수단(960)으로부터 기화된 소스를 균일하게 분사시키게 된다.
상기 샤워헤드는 알루미늄이나 타이타늄 등과 같은 금속재질로 이루어지고,균일한 분사를 위해 1 스테이지 또는 2 스테이지로 구성된다.
상기 반응기는 높이조절과 회전이 가능한 하부 가열부와 배기라인으로 구성되는 바, 상기 하부 가열부는 스테인레스 스틸 계열, 인코넬, 칸탈, 니크롬선, 하스트얼로이, 타이타늄, 알루미늄, 구리, PG 등과 같은 금속, 비금속, 세라믹 계열의 히터로 구성될 수 있고, 상기 배기라인은 기화 소스를 분말형태로 트랩하기 위한 콜드트랩이 설치되어 있다.
상기한 실시예를 갖는 본 발명은 그 실시양태에 구애받지 않고 그 기술적 요지를 벗어나지 않는 한도 내에서 얼마든지 다양하게 변형하여 실시할 수 있음은 물론이다.
이상과 같이 본 발명에 따르면, 유기 EL 성막 소스 효율을 극대화 할 수 있게 되고, 370×470mm 이상의 대면적 기판에서 우수한 두께 균일도를 갖는 유기 EL 성막공정이 가능하게 됨과 더불어, 유기 EL 디스플레이 제조공정에 있어서 홀 주입층(HIL) 성막공정과, 홀 전달층(HTL) 성막공정, 발광층(EML) 성막공정, 전자전달층(ETL) 성막공정, 전자주입층(EIL) 성막공정과 같은 다양한 유기 EL 성막공정과 전극 성막공정에 광범위하게 적용가능하다는 효과를 갖게 된다.

Claims (25)

  1. 유기 EL 액상 소스와 용제를 이동시키기 위한 액체이동 장치와,
    캐리어 가스와 퍼지가스를 이동시키기 위한 가스이동 장치,
    상기 액체이동 장치로부터 이동된 액상 소스를 기화시키는 기화기,
    상기 기화기로부터 기화된 소스를 분사시키기 위해 이송하는 기화기 라인,
    상기 기화기 라인을 통해 이송받은 기화된 소스를 균일하게 분사하는 샤워헤드,
    상기 기화된 소스를 성막시키기 위한 반응기,
    상기 반응기로부터 배출되는 소스를 펌핑하는 펌핑라인 및,
    상기 기화기로부터 기화된 소스를 배기시키기 위한 배기라인으로 구성된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 액체이동 장치는 가압가스를 유입받아 소스 이동라인을 통해 유기 EL 소스를 배출하는 하나 이상의 유기 EL 소스용기와, 해당 액체이동 장치와 기화기의 라인을 세정하기 위해 가압가스를 유입받아 용제 이동라인을 통해 용제를 배출하는 용제용기, 상기 각 유기 EL 소스용기에 유기 EL 소스를 리필하기 위한 하나 이상의 리필용기를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 액체이동 장치는 상기 하나 이상의 유기 EL 소스용기와 용제용기의 배출라인 측에 소스 및 용제의 양을 조절하는 액체질량 유량조절기가 설치되고, 소스와 용제를 혼합하는 혼합기와 연결된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  4. 제 2 항에 있어서, 상기 액체이동 장치의 이동라인으로부터 기화기의 앞단에는 균일한 소스유입을 위한 체크밸브가 양단이 1/8'과 1/16' 중에 어느 하나의 라인으로 설치된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 가스이동 장치는 기화기에서 기화된 액상 소스를 샤워헤드에 고압으로 분사시키는 캐리어가스 이동라인과 퍼지가스 이동라인을 포함한 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 기화기는 캐리어 가스를 압력차에 의해 가속시키는 가스 흐름관 및 오리피스와, 소스를 기화시키기 위해 열을 발생하는 히터, 기화기 몸체를 통해 히터로부터의 열을 전달받아 액상 소스를 기화시켜서 배출하는 기화기 프릿을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 기화기 프릿은 실리콘 카바이드(SiC) 또는알루미나(Al2O3) 중에서 어느 하나의 세라믹 재질을 갖고서 2중으로 설치된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  8. 제 6 항에 있어서, 상기 기화기는 2개 이상의 유기 EL 소스를 사용하면 조성비를 맞추기 위해 적어도 2개 이상을 구성하도록 이루어진 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  9. 제 6 항에 있어서, 상기 기화기의 히터는 스테인레스 스틸 계열과, 인코넬(Inconel), 칸탈(Kanthal), 니크롬선, 하스트얼로리(Hastelloy), 타이타늄(Titanium), 알루미늄(Al), 구리(Cu), PG(Pyrolitic Graphite) 중에서 어느 하나의 금속, 비금속, 세라믹 열선을 사용하는 몰딩 형태로 이루어지고, 실리콘 카바이드(SiC) 히터와, 실리콘 러버(Si Rubber) 히터, AIN 히터, 알루미나 히터, PG 히터, PBN 히터 중에서 어느 하나의 금속, 비금속, 세라믹 계열 히터로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  10. 제 1 항에 있어서, 상기 샤워헤드는 내장 히터와 절연부를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  11. 제 10 항에 있어서, 상기 샤워헤드는 균일한 분사를 위해 1 스테이지와 2 스테이지 중에서 어느 하나로 구성된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  12. 제 10 항에 있어서, 상기 샤워헤드의 히터는 스테인레스 스틸 계열과, 인코넬, 칸탈, 니크롬선, 하스트얼로리, 타이타늄, 알루미늄, 구리, PG 중에서 어느 하나의 금속, 비금속, 세라믹 열선을 사용하는 시스(Sheath) 형태 또는 실리콘 고무로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  13. 제 10 항에 있어서, 상기 샤워헤드의 절연부는 알루미나, AIN, 테프론(Tephlon) 중에서 어느 하나의 절연물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  14. 제 10 항에 있어서, 상기 샤워헤드는 플라즈마를 발생하는 플라즈마 모듈을 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  15. 제 1 항에 있어서, 상기 반응기는 하부 가열부와 측면 가열부를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 하부 가열부와 측면 가열부는 실리콘 카바이드 히터와, 실리콘 러버 히터, AIN 히터, 알루미나 히터, PG 히터, PBN 히터 중에서 어느 하나의 금속, 비금속, 세라믹 계열의 히터로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  17. 제 1 항에 있어서, 상기 펌핑라인은 배출되는 소스를 분말화하여 트랩하는 콜드트랩을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  18. 제 17 항에 있어서, 상기 콜드트랩은 내부의 냉각 라인과 외부 커버를 포함하여 구성되고, 상기 냉각 라인은 나선형으로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  19. 제 1 항에 있어서, 상기 배기라인은 외부로 배출되는 소스를 분말화하여 트랩하는 콜드트랩을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  20. 액상의 소스가 저장되어 있는 반응원료 저장조와,
    일측 끝단에 오리피스가 설치되고서, 오리피스와의 압력차에 의해 가속화된 가압가스를 발생하는 인젝터,
    상기 인젝터로부터의 가압가스를 반응원료 저장조 내로 유도하여 액상 소스가 가압가스의 운동에너지에 의해 미립자화되도록 하는 가스 유도관,
    상기 반응원료 저장조에서 미립자화된 소스를 배출시키는 배출관,
    상기 배출관을 통해 배출되는 미립자화된 소스를 기화시키기 위해 가열하는 가열수단 및,
    상기 가열수단을 통해 기화된 소스를 균일하게 분사시키기 위해 샤워헤드와 반응기를 갖춘 반응실로 구성된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  21. 제 20 항에 있어서, 상기 오리피스의 내경은 가압가스의 속도를 가속화하기 위해 인젝터의 내경보다 작은 크기로 형성된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  22. 제 20 항에 있어서, 상기 반응원료 저장조와 배출관의 사이에는 실링부재가 삽입된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  23. 제 20 항에 있어서, 상기 반응원료 저장조는 적어도 하나 이상 설치된 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  24. 제 20 항에 있어서, 상기 가열수단은 온도의 균일도를 갖는 금속 몰딩 히터로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
  25. 제 20 항에 있어서, 상기 반응실의 샤워헤드는 알루미늄과 타이타늄 중에서어느 하나의 금속재질로 이루어지고, 균일한 분사를 위해 1스테이지와 2스테이지 중에서 어느 하나의 구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기이엘 디스플레이의 박막형성 시스템.
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