KR20040007436A - 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생산하는 방법 및 그 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 고체 타겟의 플라즈마-지지된 오토마이제이션(스퍼터링)에 의해 제 일 면(1a) 및 제 이 면(1b)을 포함하는 기판(1)에 광학적으로 유효한 층의 시스템(3)을 생산하는 방법 및 장치에 관한 것이다. 후면에 손상을 줄이기 위해, 기판의 전면(1a) 상에 층의 시스템(3)의 증착에 앞서, 보호층(2)이 상기 기판의 후면(1b)에 적용되거나 또는 보호층(2)이 이미 적용된 기판이 사용된다.

Description

광학적으로 유효한 시스템의 층을 생산하는 방법 및 그 장치{Method and device for producing an optically effective system of layers}

한정된 광학 특성을 갖는 광학 요소를 생산하기 위하여, 소정의 방법으로 기판에 다른 광학적 특성, 특히 다른 굴절 지수를 갖는 다수의 층을 포함하는 층의 시스템을 제공하는 것이 공지되어 있다. 층의 시스템의 구조에 의존하여, 예를 들어 어떤 파장 범위에서 반사 또는 투과를 실질적으로 억제하는 것이 가능하다. 이런 타입의 층의 시스템은 예를 들어, 안경용 또는 광학적 필터 또는 거울에 도막하는 항반사로서 사용된다. 표준 층 물질은 특히 실리콘 산화물 또는 실리콘 질화물과 같은 절연체이다. 안경에 대한 항반사 도막 구조의 예는 예를 들어, H. Pulker, 유리 상에 광학적 도막, 제2판, Elsevier, Amsterdam 1999 에 기술되어 있다. 양질의 광학적 요소를 생산하기 위해, 층 시스템의 각 층은 기판 전 표면 상에 소정의 두께를 가져야만 한다. 더욱이, 기판은 소정의 표면 구조를 가져야만 한다.

일 예를 들면, 스퍼터링(sputtering) 과정은 박막 층을 생산하는데 사용된다. 고체 타겟이 이온 빔에 의해 폭격되어지거나 또는 플라즈마에서 이온으로 폭격되어져 이 결과 개개의 원자는 타겟으로부터 제거되어 기판에 증착된다. 광학적 도막을 생산하기 위하여, 증착된 원자와 반응하는 반응성 기체, 즉 산소 또는 질소가 스퍼터링 가스 즉, 아르곤에 가끔 부가된다. 예를 들어, 반응성 기체로 예를 들어 산소 또는 질소를 부가함에 의해 단일 타겟 물질을 사용하여 다른 조성, 즉 SiO₂및 Si₃N₄의 광학 층을 생산하는 것이 M. Ruske 등의 "다른 타겟 물질을 사용한 엠에프 트윈 마그네트론(MF twin magnetron) 스퍼터링에 의해 증착된 SiO₂및 Si₃N₄의 특성", 박막 고체 필름(Thin Solid Films) 351 (1999) 158-163으로 부터 공지되어 있다. 이 스퍼터링의 경우는, 타겟이 면하는 면에 도포하는 것 만이 가능하다. 따라서, 양 면에 도포되어져야 하는 기판의 경우, 즉 안경 렌즈의 경우에는 기판은 전면이 도포 완료되고 난 후 후면을 도포하기 위해 돌려져야 한다.

기판에 광학적 층 시스템을 생산하기 위한 플라즈마-고양 스퍼터링 공정이 갖는 문제점은 예를 들어, 마모적 물질, 분해, 오염 등에 기인한 손상과 같은 후면 적층으로 알려진 것이다. 일면이 도포되는 동안, 기판의 다른 면은 둘러싼 플라즈마 때문에 원치않는 변화를 받는다. 특히 산소를 함유하는 플라즈마는 기판 표면에 손상을 입힌다. 산소 함유 플라즈마는 적어도 일 층의 물질, 즉 SiO₂의 증착을 위한 모든 종래의 반응적 스퍼터링 공정에 사용된다. 후면 적층은 전ㆍ후면이 한정된 시스템의 층이 제공되어야 하는 광학적 요소에 결정적이다. 또한, 표면의 변화는 적용된 도막이 영구적으로 접합되지 못하게 할 수 있다.

바람직하지 못한 증착으로부터 처리되지 않는 면을 보호하기 위해, 기판을 가능한한 기판 홀더에 단단히 고정되게 삽입하여 처리되지 않는 면이 플라즈마 또는 타겟 물질과 접촉되지 않도록 하는 것이 알려져 있다. 이를 위해 기판 홀더의 형상이 기판과 홀더 사이가 최대한 2mm(암공간 거리) 이하의 거리가 되도록 하여 이 영역에 어떤 플라즈마도 형성될 수 없도록 하는 방식으로 기판의 표면의 형상에 매치된다. 안경 렌즈의 곡선은 크게 변하기 때문에, 다수의 다른 기판 홀더가 요구되고 이들 기판 홀더를 검사하여 필요하다면 기판을 로딩하기 전에 매회 바꾸어야 한다.

기계적인 수단에 의해 바람직하지 못한 증착으로부터 스퍼터-도포되지 않는 광학 렌즈의 면을 보호하는 것이 미국특허 제6,143,143호에 알려져 있다. 이렇게 하기 위해서, 스퍼터-도포되는 면의 반대 면에 막을 접착하거나 또는 보호적인 젤 또는 스프레이를 적층함에 의해 커버되어지는 것을 제안하고 있다. 추가로 제안된 해결책은 탄성 물질, 즉 포옴(foam) 또는 네오프렌(neoprene)으로 만들어져 기판에 대해 밀접하게 안착되는 기판 홀더이다. 이 경우에 있어서의 단점은 상기 물질을 장착하고 다시 이것을 도포된 다른 면으로 제거하는데 포함되는 높은 수준의 지출비용이다. 이를 위해 스퍼터링 챔버는 공정 중에 통기되어야 한다. 더더욱이, 점착되는 막과 같은 물질은 스퍼터링 챔버에서 반응 조건을 해칠 수 도 있어 바람직하지 못한 증착 또는 층 구조의 변화를 일으킬 수 있다.

본 발명은 청구항 1의 특징을 갖는 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생산하는 방법 및 청구항 13의 특징을 갖는 상기 방법을 수행하기 위한 그 장치에 관한 것이다.

도 1A 내지 E는 기판의 전면 및 후면의 도막에 있어 개개의 방법을 단계로 도시하고,

도 2는 작업위치(코팅)에서 3차원 도로 본 발명에 따른 기판 홀더를 도시하고,

도 3은 전환위치에 있는 도 2에 도시된 기판 홀더를 도시하고,

도 4는 작업위치에서 세로 단면으로 도 2의 기판 홀더를 도시하고,

도 5는 전환위치에서 세로 단면으로 도 2의 기판 홀더를 도시한다.

따라서, 본 발명은 기판의 후면에 또는 기판 상에 증착된 층의 시스템에 손상이 실질적으로 없는 국부 기판 상에 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생성하기 위한 플라즈마-고양 스퍼터링 공정을 제공하는 것이 기본 목적이다. 더욱이, 상기 방법을 수행하는 장치를 제공하는 것이 본 발명의 목적이다.

상기 목적은 청구항 1의 특징을 갖는 방법과 청구항 13의 특징을 갖는 장치에 의해 달성된다. 상기 방법과 장치의 바람직한 제한이 종속항, 상세한 설명 및 도면에 기술된다.

본 발명에 따른 전ㆍ후면을 갖는 기판, 특히 국부의 투명 기판 즉, 플라스틱 또는 유리로 만들어진 광학 요소에 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생성하기 위한 플라즈마-고양 스퍼터링 공정에 있어서, 제 일 면 즉, 전 면의 도포에 앞서 층의 시스템이 기판의 제 이 면, 즉 후 면에 적용되고 또는 존재하는 보호층을 갖는 기판이 사용된다. 층의 시스템이 제 일 면에 형성된 후, 필요하다면 기판은 제 이면에 증착되는 부가적 층의 시스템을 위해 돌려진다. 보호층은 제 일 면의 코팅 중 반응적인 분위기에 의해 유발되는 바람직하지 못한 변화로부터 기판을 보호한다. 제 이 면에 적용되는 단일 층 또는 부가적인 층의 시스템이 형성될 수 도 있다. 부가적 층의 적용 간에 부분적인 분해와 별도로 보호층은 기판에 영구적으로 남는다. 따라서, 공지의 보호필름과 달리 본 발명에 따른 보호층은 영구적이다. 보호층은 바람직하기로는 생성되는 층의 시스템의 기능으로 합체되기 때문에 예를 들어, 보호 필름의 제거단계가 필요 없다.

바람직하기로는 보호필름이 제 이 면 상에 스퍼트되어지는 것이다. 이 방법은 제 일 면 상에 층의 시스템을 생성하기 위해 사용된 장치 내에 위치된다면, 스퍼터링 챔버를 다시 비워야할 필요가 없어 두 면이 하나 후 바로 다른 것이 진행될 수 있어 특히 바람직하다. 보호층이 적층된 후 기판은, 바람직하기로는 자동적으로 스퍼터링에 의해 도포되는 전면에 대해 차례로 돌려진다.

보호층을 생성하는 동안에 사용된 공정 조건과 그 두께 및 물질은 전면의 코팅 중에 기판이 아니라 보호층이 달아지기 때문에 기판의 전면이 보호층의 생성에 나쁜 영향을 받지 않지만 충분한 보호작용이 형성되는 방식으로 선택된다. 바람직하기로는 보호층이 질소-함유 플라즈마에서 증착되고 예를 들어, 실리콘 질화물 Si_XN_Y로 구성된다면, 제일 조건은 만족된다. 적절하다면, 전면 상에 적층은 증착 시간을 짧게 유지함 및/또는 상승된 증착압력을 사용함에 의해 조절될 수 있기 때문에 산소 플라즈마를 사용하는 것 또한 가능하다. 대략 40㎛의 최대 두께가 바람직하다. 예를 들어 대략 10㎛의 최소 두께를 갖는 보호층에 의해 제 이 조건이 만족된다.

보호층은 예를 들어, 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 알루미늄 산화물 및/또는 알루미늄 질화물로 구성된다. 이들 물질은 층의 시스템의 높고 낮은 굴절율을 갖는 부가층과 보호층이 단일 실리콘-함유 또는 알루미늄-함유 타겟을 사용하여 생산될 수 있다는 이점을 갖는다. 만일 다른 타겟이 사용된다면, 후면에 적용되는 부가층의 시스템의 제 일 층은 예를 들어, 표준 고굴절 물질인 티타늄 산화물 TiO₂, 지르코늄 산화물 ZrO₂, 탄타륨 산화물 Ta₂O₅이 원래 보호층으로 적절하다.

기판의 양면이 도포될 때, 본 방법의 보다 유익한 한정에서는, 보호층이 후면에 적용되어지는 층의 시스템의 제 일 층으로 작용한다. 생산 조건은 보호층의 광학적 특성이 부가적 층의 시스템에 의해 만족되는 조건에 매치되는 방식으로 선택된다. 전면 도포에 의해 유발된 물질의 손실이 고려되어 진다. 특히, 항반사 도포의 경우에는 바닥층은 통상적으로 높은 광학적 굴절을 가지고, 즉 실리콘 질화물 Si₃N₄, 보호층의 기능을 수행할 수 있는 층을 포함한다.

상기 방법은 만일 보호층이 또한 최소한의 약간 바람직하기로는 층의 시스템의 전 층을 생성하는데 사용되는 동일한 타겟을 사용하여 생성된다면 특히 수행하기가 간단하다. 이 경우에 보호층을 포함하는 완전한 도포는 교환되는 타겟없이 스퍼터되어질 수 있다. 다른 굴절지수를 갖는 개개 층의 물질은 반응 가스를 교환함에 의해 달성될 수 있다. 예를 들어, 순수 실리콘 타겟 또는 실리콘-알루미늄 타겟이 번갈아 O₂및 N₂를 함유하는 플라즈마에서 사용된다.

상기 방법을 수행하기 위한 본 발명에 따른 장치는 소거가능한 스퍼터링 챔버와 회전가능한 기판 수용부를 갖는 기판 홀더를 포함하고, 이 수단에 의해 기판이 기판 표면에 실질적으로 평행하게 향한 전환축과 기판 표면에 실질적으로 직각으로 향한 회전축에 대해 양쪽으로 회전될 수 있다. 환형의 오목 또는 볼록 기판의 경우에 있어서, 회전축은 예를 들어, 정점을 통해 지나는 정상 면이고 전환축은 이 정상면에 수직한 선이다. 만일 타겟이 고정상이라면, 본 발명에 따른 장치는 기판의 전면 또는 후면은 스퍼터링 챔버가 개구됨이 없이 전환되어진 기판에 의해 스퍼터링으로 도포되어지게 된다. 회전 운동은 균일하고 일정한 층 두께 분포를 생성하기 위해 사용된다. 양 운동에 동일한 구동을 사용하여 실현하는 것이 특히 바람직하다.

단일 설비에서 기판의 양 면의 완전한 도포에 부가하여, 본 발명은 또한 고객이 원하는 도포의 적용을 통한 안경상에 의해 반가공된 또는 완성된 렌즈의 최종산물에 적절하다. 이 경우에 본 발명에 따르면, 또한 기판상에 존재하는 코팅은 보호층으로 기능한다.

반가공 렌즈로 알려진 것에서는, 공장에서 배달된 전면은 이미 원하는 광학 특성을 갖는 특정 형상으로 되고, 반면 후면은 안경상에 의해 렌즈가 개개의 경우에 있어 예를 들어 굴절력 및/또는 실린더에 관해 조건을 만족하도록 그라인딩에 의해 개개적으로 제작된다. 이런 형태의 렌즈에서는 코팅이 안경상에 의해 적용되기 쉽다. 본 발명에 따르면, 이런 형태의 렌즈에 있어 무엇보다 먼저 완전한 항반사 층 시스템이, 이 경우에 청구항 1에 기술된 것으로 "제 이"면인 전면에 적용되어 보호층으로 기능한다. 이런 항반사 층 시스템의 생성 동안에 일어나는 후면 적층은 후면의 연속하는 기계화에 의해 제거된다. 그리고 나서, 항반사 층 시스템은, 이 경우에 청구항 1에 기술된 것으로 "제 일"면인 후면 상에 스퍼터된다. 그리고 나서 전면은 이미 적용된 완전한 항반사 코팅에 의해 보호된다. 전면 상에 스퍼트되는 보호층으로 작용하는 층의 시스템이 바람직하다. 그러나, 전면 코팅은 또한 별도의 대규모 스케일의 설비, 즉 박스 코터(box coater)로 알려진 것으로 제조상에 의해 수행될 수 도 있다. 이 경우에, 층의 시스템은 또한 일렉트론 빔 증착 수단에 의해 생성될 수 있다.

상기에서 기술된 결과에 대한 대안으로서 후면("제일"면)은 전면("제이"면)이 보호층으로 작용하는 층의 시스템으로 도포되기 전에 완전하게 기계제작될 수 있다. 보호층이 적용된 후, 긁힘 저항성을 개선하기 위하여 적층될 수 있는 하드 코팅이 후면에 적용될 수 있다. 이 하드 코팅은 적층되어질 수 있는 표면에의 결합에 아무런 문제점을 갖지 않으나, 연속적으로 스퍼터되어지는 층의 시스템 상에 대해 적층-유리 신규면을 형성한다. 이 방법은 또한 완성된 것으로 알려진 것, 즉 후면에 하드 코팅을 하지 않은 연속하는 기계화 제작없이 제작자에 의해 소정된 광학을 갖는 렌즈에 도포하기 위해 사용될 수 있다.

층의 시스템의 두께 및 재질 또는 상술한 바와 같이 이미 보호층으로 작용하는 그 최상층은 광학특성이 악영향을 받지 않는 방식으로 선택되고 또는 다른 면에 실질적인 층의 시스템을 적용하는 동안 생성된 적층에 의해 조절되는 방식으로 변경된다.

본 발명의 더 이상의 예시적인 실시형태는 개략적으로 도시된 첨부도면을 참고로 보다 자세히 설명된다.

다음 설명은 도 1A-E를 참고로 전면 1a("제일"면)와 후면 1b("제이"면) 상에 항반사층3, 4를 특정 안경 렌즈에 국부적으로 투명한 기판1을 코팅하는데 사용된 방법의 일 예를 기술한다. 도면에 도시된 차원은 순전히 개략적인 것이고; 또한 있을 수도 있는 기판1의 곡선은 도시하지 않았다.

전형적인 가스 유동비는 예를 들어, 2 내지 50sccm(표준 입방 센티미터)의 범위이지만 특정 적용과 사용된 펌프에 의존하여 높거나 낮을 수도 또한 있다. 코팅 챔버에서 얻어지는 압력은 5ㆍ10^-2내지 8ㆍ10^-4mbar의 범위로 된다. 플라즈마 전원은 예를 들어 대략 1.0 - 2.5 KW이다.

사용된 스퍼터링 방법은 플러스드 DC 스퍼터링이다. 이 경우에 있어, 플라즈마는 설정 주파수에서 스위치가 온 오프되는 전자 직류에 의해 발생된다. 일 기간 동안 플라즈마는 특정 시간 동안 각 경우에 스윗치 오프된다(플러스 휴지기PPT).

층 시스템3, 4의 개개의 층은 각 경우에 있어 다음 플랜에 따라 증착된다:

먼저, 가스 흐름이 설정된다. 잠깐, 즉 10s 휴지기 후, 플라즈마가 점화된다. 플라즈마를 안정화하는데 필요한 추가적인 휴지기, 즉 10s 후 소정의 코팅 시간 동안 타겟과 기판1 사이의 셔터가 열리고 나서 닫힌다.

무엇보다 먼저, 오목면1b가 본 발명에 따른 Si_XN_Y의 보호층2로 스퍼터-코팅된다. 이렇게 하기 위해, 실시예에 의해 다음의 공정 변수가 선택된다:

10 sccm의 Ar₂, 30 sccm의 N₂, 전원 : 1750W, 주파수 : 90 kHz, 플러스 리버스 타임(PPT) : 5㎲. 22s의 코팅 시간은 15nm 두께의 Si_XN_Y층2의 증착을 이끈다(도 1A).

그리고 나서, 기판1은 돌려져(도 1B) 볼록면1a가 항반사 코팅 시스템3으로 도포되어, 이 경우 공지된 방법으로 네개 층을 포함한다(도 1C). 전형적인 층의 시스템은 내측에서 외측으로, 예를 들어 35nm의 Si_XN_Y, 20nm의 SiO₂, 61nm의 Si_XN_Y, 92nm의 SiO₂를 포함한다.

Si_XN_Y층에 대해, 코팅 시간을 제외한 공정 변수는, 예를 들어 보호층을 생성하는데 사용된 변수에 매치되도록 선택된다.

실시예에 의하여, 다음의 변수가 SiO₂층에 대해 선택된다: 10 sccm의 Ar₂, 25 sccm의 O₂; 1750W, 90 kHz, 5㎲ PPT.

층에 대한 코팅 시간("오픈" 위치에 있는 셔터)은 내측에서 외측으로, 예를 들어 1.41s, 2.25s, 3.72s, 4.115s이다.

완전한 층 시스템이 볼록면 상에 증착되어진 후, 기판이 다시 돌려져(도 1D) 오목면 1b가 볼록면 1a 상의 층 시스템3과 동일한 잔여 항반사 층 시스템4(도 1E)로 도포된다. 플라즈마의 후면 적층은 약 5nm가 보호층으로 부터 제거되도록 하여, 10nm의 Si_XN_Y가 여전히 남는다(두께 손실은 기술되지 않음). 따라서, 증착된 제 일층은 25nm의 Si_XN_Y이고 상술한 바와 같이 잔여 세개의 층이 따른다. 이는 도 1에서 보호층2가 결합된 층은 층의 시스템3의 대응하는 내측 층보다 두께가 얇다는 사실에 의해 도식적으로 나타난다. 렌즈의 오목면과 타겟 사이의 보다 큰 거리에 기하여 코팅율은 대략 10% 낮다.

내측으로부터 외측으로 층에 대한 코팅 시간은 예를 들어: 1.32s, 2.27s, 3.79s, 4.126s이다.

도 2 - 5는 본 발명에 따른 장치의 주요 요소로 기판 홀더5를 도시한다. 본 발명에 따른 코팅 방법에 부가하여 기판이 진공하에서 회전되고 뒤집혀지는 모든 도포 조작에 또한 사용될 수 있다.

기판 홀더5는 네 개의 환상 수용부재6을 포함하고, 여기에 기판은 예를 들어, 안경 렌즈는 그의 주면 또는 전면 및 후면이 접근할 수 있는 방식으로 삽입될 수 있다. 수용부재6은 내부 링6a 및 외부 링6b를 포함하여, 상호에 대하여 회전할 수 있다. 내부 링6a는 캠16을 가져 이 수단에 의해 외부 링에 대해 회전으로 설정될 수 있다. 이런 상황에서, 외부 링6b는 두 개의 핀23a, 23b를 가져 이 수단에 의해 기판 홀더5의 커버21에 장착된다. 핀23a, 23b는 전환 축을 한정한다. 하나의 핀23a에는 커플링 요소22, 즉 기어가 제공되어, 전환 드라이브9(아래 참고)와 상호작용한다.

작업위치(도 2 및 4)에서, 수용부재6은 수용 디쉬8 상에 있다. 유성연동장치의 기어 메카니즘7 부분이 있고 이들은 드라이브10의 회전운동으로 설정된다. 이운동은 내부 링6a 상의 캠16과 수용 디쉬8 상의 캠15에 의해 수용부재6의 내부 링6a에 전달된다. 유성연동장치의 기어 메카니즘7은 샤프트14에 의해 구동되어, 드라이브10에 의해 회전하는 수용 셀(shell)8에 연결된다. 수용 디쉬8은 그의 세로 축에 대해 회전할 수 있고, 샤프트가 회전하는 동안, 또한 회전하지 않는 외부 유성연동장치의 기어19를 따라 구르는 수용 디쉬8 상에 치차 링18의 결과로 회전된다. 외부 유성 기어19는 기판 홀더5의 하부5b에 회전가능하게 고정된 방식으로 배열된 스윗칭 핀11과 상호 작용하는 하방으로 돌출된 슬롯트 가이드13에 적어도 간접적으로 연결되어짐에 의해 제 위치에 고정 유지된다. 기판 홀더5의 상부5a는 리프팅 실린더20의 수단에 의해 하부5b에 대해 배치될 수 있다.

작업위치에서, 거리는 비록 스윗칭 핀11이 슬롯트 가이드13과 상호 작용하도록 되어 유성연동장치의 기어 메카니즘이 움직이는 위치로 설정되더라도, 스윗칭 핀11은 외부 유성 휠19의 영역 안까지는 돌출하지 않도록 된다. 따라서, 작업위치에서, 상술한 바와 같이 수용 부재6은 그 중심점을 관통해 지나는 회전의 축에 대해 회전된다.

수용부재를 뒤집기 위해서는, 상부 및 하부5a, 5b 사이의 거리는 감소된다. 그런 다음 스윗칭 핀11은 상부5a에 계합하고 수용 부재6이 그 안에 장착된 그 커버21을 위쪽으로 누른다. 수용부재6은 이런 방법으로 수용 디쉬8의 밖으로 들려지고 더이상 회전을 하지 않는다. 이런 위치에서, 수용부재6의 커플링 요소22는 각 케이스에서 하나의 전환 드라이브9와 계합된다. 이것은 각 케이스에서 하나의 인덱싱 플레이트12에 연결된다. 샤프트의 회전과 그에 따른 샤프트에 대한 전환 드라이브9의 세로 축 회전간에, 주기적으로 인덱싱 플레이트12 또는 그들 상에 배열된 캠과 접촉을 일으키는, 전환 위치(부분 5a 및 5b 사이의 짧은 거리)에 있는, 스윗칭 핀11의 결과로, 전환 드라이브는 그 자체의 세로 축에 대해 회전동작으로 설정된다. 이 회전 운동은 커플링 부재22에 의해 수용 부재6의 전환 동작으로 전환된다.

이런 특정 적용에서, 실질적으로 단지 상부5a 및 스윗칭 핀11이 스퍼터링 챔버 내에 위치된다. 공통 드라이브10은 다른 하나에 대해 이동할 수 있는 성분에 대한 단지 일 통로, 이 경우에 있어서 샤프트14 및 진공 챔버의 외부에서 이를 둘러 싼 슬리브가 생성되고 밀봉됨을 의미한다.

상술된 기판 홀더5로 인해, 본 발명에 따른 방법은 어떠한 가스 배출의 방해없이 재빠르게 수행될 수 있다. 복수의 기판이 동시에 도포되고 뒤집어질 수 있기 때문에, 높은 생산성을 달성할 수 있다.

Claims (14)

1. 고체 타겟의 플라즈마-고양 오토마이제이션(스퍼터링)에 의한 제 일 면(1a) 및 제 이 면(1b)을 갖는 기판(1) 상에 광학적으로 유효한 시스템의 층(3)을 생성하기 위한 방법에 있어서, 보호층(2)이 기판(1)의 제 이 면(1b) 또는 보호층(2)이 이미 적용된 기판(1)의 제 이 면(1b)에 적용되고, 층의 시스템(3)은 기판의 제 일 면(1a) 상에 스퍼터됨을 특징으로 하는 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생산하는 방법.
2. 제 1항에 있어서, 상기 보호층(2)은 제 이 면 상에 적용된 단일층으로 형성되던가 또는 부가적인 층의 시스템으로 형성됨을 특징으로 하는 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생산하는 방법.
3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 층의 시스템(3)이 제 일 면(1a) 상에 생성되고 난 후, 부가적인 층의 시스템(4)이 제 이 면(1b) 상에, 바람직하기로는 층의 시스템(3)을 생성하기 위해 사용된 장치 내측에서 스퍼터됨을 특징으로 하는 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생산하는 방법.
4. 제 3항에 있어서, 상기 보호층(2)은 그의 광학적 특성이 부가적인 층의 시스템(4)에 만족되도록 하는 조건에 부합되는 방식으로 선택되거나 또는 생성됨을 특징으로 하는 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생산하는 방법.
5. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 보호층(2)은 제 이 면(1b) 상에, 바람직하기로는 층의 시스템(3)을 생성하기 위해 사용된 장치 내측에서 스퍼터됨을 특징으로 하는 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생산하는 방법.
6. 제 5항에 있어서, 상기 보호층(2)은 실질적으로 산소-유리 플라즈마를 사용하여 스퍼터됨을 특징으로 하는 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생산하는 방법.
7. 제 5항 또는 제 6항에 있어서, 상기 보호층(2)은 층의 시스템(3, 4)의 최소한 몇 층을 생성하기 위해 또한 사용된 동일한 타겟을 사용하여 생성됨을 특징으로 하는 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생산하는 방법.
8. 제 7항에 있어서, 상기 동일한 타겟은 보호층(2) 및 층의 시스템(3, 4)을 생성하기 위해 사용되고, 플라즈마를 생성하기 위한 공정 가스는 생성되어지는 층의 기능에 따라 변함을 특징으로 하는 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생산하는 방법.
9. 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 보호층(2)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 알루미늄 산화물 및/또는 알루미늄 질화물로 구성됨을 특징으로 하는 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생산하는 방법.
10. 제 1항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 보호층(2)은 10 내지 40nm의 두께로 적층됨을 특징으로 하는 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생산하는 방법.
11. 제 1항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서, 전면(1a)에 층의 시스템(3)을 적용하는 동안 공정 변수의 기능으로 상기 보호층(2)의 재질 및 그 두께는 이 층의 시스템(3)이 적용된 후 소정 두께를 갖는 보호층(2)이 적용되도록 되는 방식으로 선택됨을 특징으로 하는 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생산하는 방법.
12. 제 1항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서, 보호층(2)으로 작용하는 층의 시스템이 제 이 면(1b)에 적용되고 또는 이런 타입의 층의 시스템을 갖는 기판이 사용되고, 제 일 면(1a)은 먼저 소정의 광학 특성을 갖도록 기계제작되고 나서 층의 시스템(3)이 상기 제 일 면(1a) 상에 적용됨을 특징으로 하는 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생산하는 방법.
13. 청구항 1 내지 12 중 어느 하나를 실행하기 위한 장치에 있어서, 소거가능한 스퍼터링 챔버와 기판(1)을 수용하는 부분(6)을 갖는 기판 홀더(5)를 포함하고, 이 수단에 의해 기판(1)이 기판 표면에 실질적으로 평행하게 향한 전환축과 기판 표면에 실질적으로 직각으로 향한 회전축에 대해 양쪽으로 회전될 수 있음을 특징으로 하는 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생산하는 장치.
14. 제 13항에 있어서, 회전 운동과 전환 운동을 위한 공통 드라이브(10)를 갖음을 특징으로 하는 광학적으로 유효한 시스템의 층을 생산하는 장치.