KR200384219Y1 - Horizontal type cleaning device of printed circuit board using plasma - Google Patents

Horizontal type cleaning device of printed circuit board using plasma Download PDF

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KR200384219Y1
KR200384219Y1 KR20-2005-0003758U KR20050003758U KR200384219Y1 KR 200384219 Y1 KR200384219 Y1 KR 200384219Y1 KR 20050003758 U KR20050003758 U KR 20050003758U KR 200384219 Y1 KR200384219 Y1 KR 200384219Y1
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KR20-2005-0003758U
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백태일
이형윤
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주식회사제4기한국
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Abstract

본 고안은 플라즈마를 이용한 피씨비 수평세정장치에 관한 것으로, 진공 및 배기를 위한 펌핑포트를 갖는 플라즈마 처리용 챔버의 후벽면에 형성되고 외부 전원공급원과 연결된 전극 및 접지소켓과; 상기 챔버의 바닥면에 배설된 한쌍의 가이드레일과; 하단면에는 캐스터가 고정되어 이동가능한 사각틀형상의 대차와; 상기 대차의 상면에 상기 가이드레일과 대응됨과 동시에 접촉시 일직선을 이루도록 배설되는 또다른 가이드레일과; 상기 가이드레일들을 따라 슬라이딩되는 가이드롤을 구비한 판상의 베이스플레이트와; 상기 베이스플레이트의 상면에 수직입설되고 적소에는 상기 전극 및 접지소켓과 각각 접속되는 전극 및 접지블럭을 갖는 애노드전극 및 캐소드전극과; 절연부재를 통해 애노드전극 및 캐소드전극에 교차 적층되고 피처리물이 개재되는 애노드전극판 및 캐소드전극판을 포함하여 구성된다.The present invention relates to a horizontal plasma cleaning apparatus using a plasma, comprising: an electrode and a ground socket formed on a rear wall of a plasma processing chamber having a pumping port for vacuum and exhaust and connected to an external power supply; A pair of guide rails disposed on the bottom surface of the chamber; A square frame bogie, on which a caster is fixed and movable; Another guide rail disposed on the upper surface of the trolley so as to correspond to the guide rail and to form a straight line in contact with the guide rail; A plate-shaped base plate having a guide roll sliding along the guide rails; An anode electrode and a cathode electrode vertically placed on an upper surface of the base plate and having an electrode and a ground block connected to the electrode and the ground socket, respectively; And an anode electrode plate and a cathode electrode plate which are cross-laid on the anode electrode and the cathode electrode through the insulating member and are interposed with the workpiece.

본 고안에 따르면 플라즈마 발생용 전극 자체를 인출입시킬 수 있는 구조를 갖추고 있고 수평형의 전극체를 가지고 있어 연성PCB만을 전용으로 세정, 에칭하기에 적당하며, 매우 효율적이고, 작업이 간단 용이할 뿐만 아니라 이동성이 용이하여 대량생산이 가능하다.According to the present invention, it has a structure capable of drawing in and out of the plasma generating electrode itself, and has a horizontal electrode body, which is suitable for cleaning and etching only a flexible PCB, and is very efficient and easy to operate. It is easy to move and mass production is possible.

Description

플라즈마를 이용한 피씨비 수평세정장치{HORIZONTAL TYPE CLEANING DEVICE OF PRINTED CIRCUIT BOARD USING PLASMA}Horizontal cleaning device using plasma {HORIZONTAL TYPE CLEANING DEVICE OF PRINTED CIRCUIT BOARD USING PLASMA}

본 고안은 플라즈마를 이용한 피씨비 수평세정장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 인쇄회로기판중 연성인쇄회로기판의 초미세 패턴화에 따른 표면세정 및 개질, 스미어(SMEAR) 제거에 적당하도록 개선된 플라즈마를 이용한 피씨비 수평세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a horizontal PCB cleaning device using plasma, and more particularly, to an improved plasma suitable for surface cleaning, modification, and smear removal according to ultra-fine patterning of a flexible printed circuit board. It relates to a PC ratio horizontal cleaning device used.

최근 국내외에서 인쇄회로기판(PRINTED CIRCUIT BOARD)(이하 'PCB'라 함) 제조기술의 급진전에 힘입어 초고다층PCB 수요가 늘어나고 있고, 이에 따라 PCB 제조업체별로 생산품목이 빌드업, CSP(CHIP SIZE PACKAGING), 멀티칩모듈, 다층연성PCB 등으로 특화되어 가고 있다.Recently, the demand for ultra-high multilayer PCBs is increasing due to the rapid advancement of printed circuit board (hereinafter referred to as 'PCB') manufacturing technology at home and abroad. ), Multi-chip module, multilayer flexible PCB, etc.

이러한 PCB(연성PCB, 강성PCB, 하이브리드PCB 등도 포함) 제조기술의 발달과 동시에 PCB홀인 마이크로 비아홀(MICRO VIA HOLE)을 요구하는 PCB의 수요가 급증하고 있는데, 상기 홀을 제조할 때에 그 홀 내부의 유기불순물, 잔존수분 및 잔사(SMEAR:스미어) 등을 홀 도금전에 처리하기 위한 기술은 PCB의 최종 품질에 큰 영향을 미치는데도 불구하고 현재 매우 낙후되어 있는 실정이다.With the development of PCB (including flexible PCB, rigid PCB, hybrid PCB, etc.) development technology, the demand of PCB requiring micro via hole (MICRO VIA HOLE) is increasing rapidly. The technology for processing organic impurities, residual moisture and residues before hole plating is very poor at present even though it has a great influence on the final quality of the PCB.

PCB의 홀 세정을 위한 전통적인 방식으로 화학약품을 사용하는 습식설비가 있으나 이는 장비가 거대하고 습식 사용에 따른 경제적 환경적 문제점이 있음은 물론 테프론 재질을 사용하는 PCB에는 처리효과가 없고, 공정진행을 위한 정확한 제어 및 초미세 가공이 불가능하다는 단점이 있다.There is a wet equipment that uses chemicals in the traditional way for hole cleaning of PCB, but the equipment is huge and there are economical and environmental problems due to wet use, and there is no treatment effect on PCBs using Teflon material, and the process progresses. The disadvantage is that precise control and ultra-fine processing are not possible.

최근에는 환경친화적이면서 경제적이고 스미어(잔사) 제거 능력이 우수하고 PCB 홀의 미세화로 경박단소화를 거듭하고 있는 실정에 적합한 플라즈마를 이용한 PCB 홀 세정기술이 활성화되고 있다.Recently, PCB hole cleaning technology using plasma, which is environmentally friendly, economical, has excellent smear (residue) removal ability, and is thin and short due to miniaturization of PCB holes, has been activated.

도 1의 (a),(b)는 그러한 세정설비를 개략적으로 예시한 것으로, 플라즈마 처리가 가능한 챔버(12)를 갖는 본체(10)가 마련되고, 이 챔버(12) 내부에는 다수의 전극(14)이 마련되어 처리대상물, 즉 PCB(20)를 상기 전극(14) 사이에 위치시킨 후 이 전극(14)에 전압을 인가하여 챔버(12) 내부의 반응가스를 이용하여 플라즈마를 발생시키고 발생된 플라즈마를 이용하여 PCB 홀을 세정하도록 된 것이다.1 (a) and 1 (b) schematically illustrate such a cleaning apparatus, a main body 10 having a chamber 12 capable of plasma processing is provided, and a plurality of electrodes ( 14 is provided to position the object to be processed, that is, the PCB 20 between the electrodes 14 and then apply a voltage to the electrode 14 to generate a plasma using the reaction gas inside the chamber 12 The plasma was used to clean the PCB holes.

그런데, 이러한 세정설비에 사용되는 대부분의 전극(14)은 수직방향(수직형)으로 배설되어 있기 때문에 PCB(20)중 연성(FLEXCIBLE) PCB의 경우에는 수직형태로 장착이 불가능할 뿐만 아니라 경우에 따라 장착한다고 하더라도 플라즈마 처리중 고온의 영향을 받아 연성PCB가 휘어져 버리기 때문에 전극(14)의 접촉에 의한 처리불량을 유발시키게 된다.However, since most of the electrodes 14 used in the cleaning equipment are disposed in the vertical direction (vertical type), in the case of the flexible PCB among the PCBs 20, not only the mounting in the vertical form is possible, but also in some cases. Even if it is attached, the flexible PCB is bent under the influence of the high temperature during the plasma treatment, causing a poor processing due to the contact of the electrode (14).

따라서, 연성PCB만을 전용으로 플라즈마 처리할 수 있는 세정설비가 요구된다.Therefore, there is a need for a cleaning facility capable of plasma processing exclusively for flexible PCBs.

하지만, 종래에는 이를 전적으로 처리할만한 전용 세정설비가 마련되어 있지 않기 때문에 연성PCB를 플라즈마 처리하는 작업은 매우 까다롭고 어려울 뿐만 아니라 생산성이 떨어져 실수율이 낮다는 단점이 있어 왔다.However, in the related art, since there is no dedicated cleaning facility for totally treating the plasma, the process of plasma treatment of the flexible PCB is very difficult and difficult, and the productivity is low.

본 고안은 상술한 바와 같은 종래 기술이 갖는 제반 문제점을 감안하여 이를 해결하고자 창출한 것으로, 연성PCB가 갖는 특성을 충분히 감안하여 이를 전용으로 플라즈마 처리할 수 있는 설비를 갖추어 작업의 원활성과 효율성을 확보하고, 생산성 향상을 도모함은 물론 그 표면 처리품위도 높일 수 있도록 한 플라즈마를 이용한 피씨비 수평세정장치를 제공함에 그 주된 목적이 있다.The present invention was created to solve this problem in consideration of all the problems of the prior art as described above, and it is equipped with a facility capable of plasma treatment exclusively in consideration of the characteristics of the flexible PCB to ensure the smoothness and efficiency of work In addition, the main object of the present invention is to provide a plasma-type horizontal cleaning apparatus using a plasma that can improve productivity and improve its surface treatment quality.

본 고안은 상기한 기술적 과제를 달성하기 위하여, 진공 및 배기를 위한 펌핑포트를 갖는 플라즈마 처리용 챔버의 후벽면에 형성되고 외부 전원공급원과 연결된 전극 및 접지소켓과; 상기 챔버의 바닥면에 배설된 한쌍의 가이드레일과; 하단면에는 캐스터가 고정되어 이동가능한 사각틀형상의 대차와; 상기 대차의 상면에 상기 가이드레일과 대응됨과 동시에 접촉시 일직선을 이루도록 배설되는 또다른 가이드레일과; 상기 가이드레일들을 따라 슬라이딩되는 가이드롤을 구비한 판상의 베이스플레이트와; 상기 베이스플레이트의 상면에 수직입설되고 적소에는 상기 전극 및 접지소켓과 각각 접속되는 전극 및 접지블럭을 갖는 애노드전극 및 캐소드전극과; 절연부재를 통해 애노드전극 및 캐소드전극에 교차 적층되고 피처리물이 개재되는 애노드전극판 및 캐소드전극판을 포함하여 구성되는 플라즈마를 이용한 피씨비 수평세정장치를 제공함에 그 특징이 있다.The present invention is an electrode and a ground socket formed on the rear wall surface of the plasma processing chamber having a pumping port for vacuum and exhaust and connected to an external power supply in order to achieve the above technical problem; A pair of guide rails disposed on the bottom surface of the chamber; A square frame bogie, on which a caster is fixed and movable; Another guide rail disposed on the upper surface of the trolley so as to correspond to the guide rail and to form a straight line in contact with the guide rail; A plate-shaped base plate having a guide roll sliding along the guide rails; An anode electrode and a cathode electrode vertically placed on an upper surface of the base plate and having an electrode and a ground block connected to the electrode and the ground socket, respectively; It is characterized by providing a horizontal plasma cleaning apparatus using a plasma comprising an anode electrode plate and a cathode electrode plate cross-laminated on the anode electrode and the cathode electrode through the insulating member and the workpiece is interposed.

이하에서는, 첨부도면을 참고하여 본 고안에 따른 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment according to the present invention.

도 2 및 도 3은 본 고안에 따른 수평세정장치의 설치상태 및 작동상태를 보인 도면이다.2 and 3 is a view showing an installation state and an operating state of the horizontal cleaning device according to the present invention.

도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 세정설비 본체(100)의 적소에는 플라즈마 처리실인 챔버(110)가 구비되고, 상기 챔버(110)의 후벽면 적소에는 챔버(110) 내부를 진공처리하거나 혹은 배기시키기 위한 펌핑포트(120)가 설치되며, 또한 동일면상에는 외부의 전원공급원과 연결된 소켓(130,132)이 설치된다.As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the chamber 110, which is a plasma processing chamber, is provided at an appropriate location of the cleaning facility main body 100, and the interior of the chamber 110 is vacuumed at an appropriate location of the rear wall of the chamber 110. Alternatively, a pumping port 120 for exhausting is installed, and sockets 130 and 132 connected to an external power supply are installed on the same surface.

상기 소켓(130,132)은 전원공급원의 음극(캐소드)에 연결되는 전극소켓(130)과 양극(애노드)에 연결되는 접지소켓(132)으로 나누어진다.The sockets 130 and 132 are divided into an electrode socket 130 connected to a negative electrode (cathode) of a power supply and a ground socket 132 connected to a positive electrode (anode).

또한, 상기 챔버(110)의 바닥면에는 한쌍의 가이드레일(140)이 배설되며, 상기 가이드레일(140)의 단부, 즉 상기 챔버(110)의 후벽면 인접측 단부에는 스토퍼(150)가 설치된다.In addition, a pair of guide rails 140 are disposed on the bottom surface of the chamber 110, and a stopper 150 is installed at an end portion of the guide rail 140, that is, at an end portion adjacent to the rear wall surface of the chamber 110. do.

상기 가이드레일(140)의 선단은 상기 챔버(110)의 선단 인접측까지 연장되며, 도어(미도시)의 개폐에 영향을 주지 않을 정도로 연장형성된다.The tip of the guide rail 140 extends to the side adjacent to the tip of the chamber 110 and extends to the extent that it does not affect the opening and closing of a door (not shown).

그리고, 상기 챔버(110)의 전방에는 대차(200)에 의해 이동가능한 수평전극체(300)가 구비된다.In addition, the front of the chamber 110 is provided with a horizontal electrode body 300 which is movable by the trolley 200.

여기에서, 상기 대차(200)는 대략 사각틀형상의 프레임조립체로 이루어지며, 그 하단면 네모서리에는 캐스터(210)가 설치되어 상기 대차(200)를 용이하게 이동시킬 수 있도록 구성된다.Here, the trolley 200 is composed of a frame assembly of a substantially rectangular frame shape, the lower surface of the four corners is provided with a caster 210 is configured to easily move the trolley 200.

아울러, 상기 대차(200)의 상단면에도 상기 가이드레일(140)과 대응되는 가이드레일(240)이 설치되는데 상기 가이드레일(240)은 상기 대차(200)가 작업위치로 배치되었을 때 상호 일치되어 일직선을 이루도록 적합한 높이를 갖고 배설된다.In addition, a guide rail 240 corresponding to the guide rail 140 is installed on the upper surface of the trolley 200. The guide rails 240 are coincided with each other when the trolley 200 is disposed at a work position. Exposed at a suitable height to form a straight line.

뿐만 아니라, 상기 대차(200)의 전면, 즉 작업위치에 배치되었을 때 챔버(110)와 근접되게 배치되는 면 쪽 가이드레일(240)은 그 대향측보다 길게 연장형성되게 배설된다.In addition, the surface side guide rail 240 disposed close to the chamber 110 when disposed at the front surface of the truck 200, that is, the working position is extended to be formed longer than the opposite side.

이는, 상기 챔버(110)에 배설된 가이드레일(140)이 도어 때문에 끝까지 배설되지 못하므로 수평전극체(300)의 장입시 장입불량을 막기 위한 것이며, 상기 대차(200)를 작업위치로 배치시키게 되면 상기 가이드레일(240)의 연장부가 상기 챔버(110)로 일부 유입되면서 상기 가이드레일(140)의 단부와 접촉되게 배치됨으로써 가이드레일(140)의 끊김이 없어지고 서로 연결되는 형태를 유지하게 된다.This is because the guide rail 140 disposed in the chamber 110 is not disposed to the end because of the door, so as to prevent charging failure when the horizontal electrode body 300 is charged, to place the bogie 200 in a working position. When the extension of the guide rail 240 is partially introduced into the chamber 110 to be in contact with the end of the guide rail 140, the breakage of the guide rail 140 is eliminated to maintain the form connected to each other. .

그리고, 상기 연장부가 형성된 가이드레일(240)의 대향단에는 상기 수평전극체(300)의 이탈을 방지하기 위한 스토퍼(250)가 상기한 스토퍼(150)와 대응되는 형태로 형성된다.In addition, a stopper 250 for preventing separation of the horizontal electrode body 300 is formed in a shape corresponding to the stopper 150 at the opposite end of the guide rail 240 in which the extension is formed.

또한, 상기 가이드레일(140,240)의 서로 연결 접촉되는 단부에는 돌기(142)와 요입홈(242)이 형성된다.In addition, the protrusions 142 and the recessed grooves 242 are formed at ends of the guide rails 140 and 240 that are in contact with each other.

그리하여, 돌기(142)가 요입홈(242)에 삽입됨으로써 양자간을 용이하게 연결고정하게 되며, 그와 반대로 요입홈(242) 부위에 돌기가 형성되고, 돌기(142) 부위에 요입홈(242)이 형성되는 구조를 가질 수 있음은 당연하다.Thus, the protrusion 142 is inserted into the recessed groove 242 to easily connect the two to each other, on the contrary, a protrusion is formed in the recessed groove 242 portion, and the recessed groove 242 in the protrusion 142 region. Naturally, it may have a structure in which) is formed.

한편, 상기 수평전극체(300)는 사각틀 혹은 사각판형상의 베이스플레이트(310)가 구비되고, 상기 베이스플레이트(310)의 상면에는 일정간격을 두고 쌍을 이루면서 입설되는 애노드전극(320)과 캐소드전극(330)이 설치된다.On the other hand, the horizontal electrode body 300 is provided with a base plate 310 of a rectangular frame or square plate, the upper surface of the base plate 310, the anode electrode 320 and the cathode electrode is formed in a pair at a predetermined interval 330 is installed.

이때, 상기 애노드전극(320)과 캐소드전극(330)은 적절히 절연된 상태로 베이스플레이트(310)의 후측에 고정된 전극블럭(350) 및 접지블럭(352)과 연결된다.In this case, the anode electrode 320 and the cathode electrode 330 are connected to the electrode block 350 and the ground block 352 fixed to the rear side of the base plate 310 in a properly insulated state.

상기 전극 및 접지블럭(350,352)은 상술한 챔버(110)내 전극소켓(130) 및 접지소켓(132)과 접속가능한 부재이며, 이들간의 접속을 통해 외부 전원공급원으로부터 공급된 전원이 상기 애노드전극(320) 및 캐소드전극(330)으로 인가되게 된다.The electrode and the ground blocks 350 and 352 are members connectable to the electrode socket 130 and the ground socket 132 in the chamber 110 described above. 320 and the cathode electrode 330.

그리고, 상기 애노드전극(320)과 캐소드전극(330)에는 애노드전극판(360)과 캐소드전극판(370)이 상호 적절히 절연되면서 애노드전극판(360)은 애노드전극(320)에만 연결되도록 하고, 캐소드전극판(370)은 캐소드전극(330)에만 연결되도록 하는 형태로 상호 간격을 두고 교차 적층되는 형태로 배설된다.In addition, the anode electrode plate 360 and the cathode electrode 330 are properly insulated from each other by the anode electrode plate 360 and the cathode electrode plate 370, so that the anode electrode plate 360 is connected only to the anode electrode 320. The cathode electrode plate 370 is disposed so as to be connected to only the cathode electrode 330 in a cross stacked manner at a mutual interval.

여기에서, 상기 애노드전극판(360) 및 캐소드전극판(370)은 반드시 판형상의 도전성 부재로 국한되는 것은 아니고 피처리물을 충분히 안착지지할 수 있을 정도의 부재이면 프레임(틀)형상이나 바(막대)형상이어도 무방하다.Here, the anode electrode plate 360 and the cathode electrode plate 370 are not necessarily limited to a plate-shaped conductive member, but a member having a frame (frame) shape or a bar (so long as the member can sufficiently support the workpiece). Bar) shape may be sufficient.

또한, 상기 베이스플레이트(310)의 하단면에는 상기 가이드레일(140,240)을 따라 이동가능한 가이드롤(380)이 설치된다.In addition, a guide roll 380 that is movable along the guide rails 140 and 240 is installed on the bottom surface of the base plate 310.

상기 가이드롤(380)은 단순한 회전가능한 바퀴여도 무방하며, 바람직하기로는 슬라이딩이 원활히 될 수 있으면서 가이드레일(140,240)을 쉽게 이탈하지 않는 형상, 즉 새들형상의 롤(롤러)이 바람직하다.The guide roll 380 may be a simple rotatable wheel, and preferably, a roll (roller) having a shape that does not easily detach from the guide rails 140 and 240 while being able to slide smoothly.

마지막으로, 상기 베이스플레이트(310)의 선단에는 이를 밀고 당기기에 용이토록 손잡이(390)가 설치된다.Finally, a handle 390 is installed at the tip of the base plate 310 to facilitate pushing and pulling it.

특히, 도 4에서와 같이, 상기 애노드전극판(360) 및 캐소드전극판(370)중 어느 하나, 바람직하기로는 수평전극체(300)의 최상단과 최하단의 전극판의 선단에는 완충부재(S)가 고정되는데, 상기 완충부재(S)는 상기 전극판(360,370)에 각각 고정되는 원통형상의 몸체(S1)과, 상기 몸체(S1)에 끼워지고 돌출부를 갖는 로드(S2)와, 상기 몸체(S1) 내부에 설치되고 상기 로드(S2)를 탄성적으로 밀도록 설치된 스프링(S3)으로 구성된다.In particular, as shown in FIG. 4, at least one of the anode electrode plate 360 and the cathode electrode plate 370, preferably at the front end of the top and bottom electrode plates of the horizontal electrode body 300, the shock absorbing member S. Is fixed, the buffer member (S) is a cylindrical body (S1) fixed to the electrode plate (360,370), respectively, a rod (S2) fitted to the body (S1) having a protrusion and the body (S1) It is composed of a spring (S3) is installed inside and installed to elastically push the rod (S2).

그리하여, 상기 전극판(360,370)의 후단에 각각 고정된 전극블럭(350) 및 접지블럭(352)이 각각 전극소켓(130)과 접지소켓(132)에 접속된 후 챔버(12)의 도어를 밀폐하게 되면 상기 완충부재(S)의 로드(S2)가 도어의 내면과 접촉되면서 스프링(S3)을 탄압하게 되고, 그 탄성력에 의해 상기 소켓(130,132)과 블럭(350,352)들 간에는 긴밀한 접속관계가 지속적으로 유지될 수 있게 되어 원활한 전원공급이 가능하게 된다.Thus, the electrode block 350 and the ground block 352 fixed to the rear ends of the electrode plates 360 and 370 are connected to the electrode socket 130 and the ground socket 132, respectively, and then the door of the chamber 12 is sealed. When the rod (S2) of the buffer member (S) is in contact with the inner surface of the door to suppress the spring (S3), the close connection between the socket 130, 132 and the blocks (350, 352) by the elastic force is continued It can be maintained as a smooth power supply is possible.

뿐만 아니라, 도 5에서와 같이 전극판(360,370)으로 전원을 공급하는 형태를 변화시킬 수 있는데 이를테면 평행하게 배설된 한쌍의 가이드레일(240)중 어느 하나에는 양극이 통전되도록 배설하여 접지소켓(A)을 만들고, 다른 하나에는 음극이 통전되도록 배설하여 전극소켓(B)을 만든 다음 접지소켓(A)과 구름접촉하는 가이드롤(380)은 접지블럭으로 사용되고, 그 대향측 전극소켓(B)과 구름접촉하는 가이드롤(380)은 전극블럭으로 사용함으로써 상술한 바와 동일한 작용을 유도할 수 있을 것이다.In addition, as shown in FIG. 5, the shape of supplying power to the electrode plates 360 and 370 may be changed. For example, any one of the pair of guide rails 240 arranged in parallel may be disposed so that the anode is energized and the ground socket A ), And the other is arranged so that the cathode is energized to make the electrode socket (B), and then the guide roll 380 rolling contact with the ground socket (A) is used as a ground block, and the opposite electrode socket (B) and Rolling contact guide roll 380 may induce the same operation as described above by using the electrode block.

또한, 도 6에서와 같이, 전극판(360,370)을 인출입 가능한 구조로 형성하고, 그 선단면에는 상술한 완충부재 및 손잡이(P)가 설치되며, 그 후단에는 전극블럭(350) 혹은 접지블럭(352)이 설치되고, 바닥면에는 다수의 구멍이 천공된 형태를 가질 수 있다.In addition, as shown in Figure 6, the electrode plate (360,370) is formed in a drawable structure, the front end surface is provided with the above-mentioned buffer member and the handle (P), the rear end of the electrode block 350 or ground block 352 may be installed, and a plurality of holes may be formed in the bottom surface thereof.

이러한 전극판(360,370)은 도 6 (b)에서와 같이, 절연부재 사이로 그 양단이 삽입되어 인출입 가능하게 설치되고, 그 상면에 피처리물이 안착되도록 할 수 있다.As shown in FIG. 6B, the electrode plates 360 and 370 may be installed to be pulled in and out between the insulating members, and the workpiece may be seated on the upper surface thereof.

나아가, 도시하지는 않았지만, 도 6의 (a),(b)와 같은 구조의 거치대(피처리물을 수납하는 부재)를 마련하여, 상기 피처리물이 절연부재에 의해 두개의 전극판(360,370) 사이에 들뜬 상태로 개재될 수 있수도 있을 것이다.Furthermore, although not shown, a cradle (member for receiving a workpiece) having a structure as shown in FIGS. 6A and 6B is provided so that the workpiece is formed by two insulating plates 360 and 370. It may be intermittent in between.

이는 피처리물의 처리특성에 따라 전극판(360,370)의 표면에 접촉되게 배치시켜 처리할 수도 있고, 또한 전극판(360,370)들 사이에 들뜬 상태로 유지시켜 처리할 수도 있을 것이다.This may be disposed to be in contact with the surfaces of the electrode plates 360 and 370 according to the processing characteristics of the object to be treated, or may be treated by being held in an excited state between the electrode plates 360 and 370.

이러한 구성으로 이루어진 본 고안의 작동관계는 다음과 같다.The working relationship of the present invention made of such a configuration is as follows.

먼저, 피처리물(PCB, BGA, CSP, 전자기판, 표면세정이 필요한 부분품 등), 특히 연성PCB는 연성이 강하므로 수직으로 세워 배치하기에는 적당하지 않으므로 도시와 같은 애노드전극판(320)과 캐소드전극판(330) 사이에 장입하여 배치시킨다.First, the object to be processed (PCB, BGA, CSP, electromagnetic plate, parts requiring surface cleaning, etc.), in particular, the flexible PCB is not suitable for vertically arranged because of the ductility is strong, the anode electrode plate 320 and the cathode as shown in the figure Charged and disposed between the electrode plates 330.

이때, 상기 연성PCB는 캐소드전극판(370)에 면접촉되게 배설됨이 바람직하며, 경우에 따라서는 캐소드전극판(360)으로부터 일정높이를 갖고 이격설치될 수 있는데 이때에는 테프론과 같은 절연부재를 이용하여 이격시킬 수 있다.In this case, the flexible PCB is preferably disposed in surface contact with the cathode electrode plate 370, and in some cases, may be spaced apart from the cathode electrode plate 360 with a predetermined height. Can be spaced apart.

상기 테프론과 같은 절연부재는 상술한 애노드전극(320)으로부터 캐소드전극판(370)을 절연시키거나 혹은 캐소드전극(330)으로부터 애노드전극판(360)을 절연시킬 때에도 사용될 수 있다.The insulating member such as Teflon may also be used to insulate the cathode electrode plate 370 from the anode electrode 320 or the anode electrode plate 360 from the cathode electrode 330.

이와 같은 과정을 거쳐 처리대상물이 적정위치로 적층되어 배치되면 사용자는 대차(200)를 작업위치로 이동시킨다.When the object to be processed is stacked and disposed through the above process, the user moves the cart 200 to the working position.

작업위치는 챔버(110)의 전방 인접측으로서 가이드레일(140)과 가이드레일(240)이 서로 일직선상에 접촉 배열된 상태의 위치를 말한다.The working position refers to a position where the guide rail 140 and the guide rail 240 are in contact with each other in a straight line as the front adjacent side of the chamber 110.

대차(200)가 작업위치에 위치되게 되면 작업자는 손잡이(390)를 잡고 힘을 가하여 베이스플레이트(310)를 밀게 되고, 그 힘에 의해 상기 베이스플레이트(310)는 그 하다면에 고정된 가이드롤(380)이 가이드레일(240)을 따라 슬라이딩되면서 이동하게 된다.When the trolley 200 is positioned at the working position, the operator grasps the handle 390 and exerts a force to push the base plate 310, and by the force, the base plate 310 is fixed to the guide roll (if any). 380 is moved while sliding along the guide rail 240.

베이스플레이트(310)를 최대한 밀어 상기 가이드롤(380)이 챔버(110) 내부의 스토퍼(150)에 걸리게 되면 장입작업을 마치고 챔버(110)의 도어를 밀폐하게 된다.When the guide plate 380 is pushed to the base plate 310 as much as possible to the stopper 150 inside the chamber 110, the charging operation is completed and the door of the chamber 110 is sealed.

이와 같은 상태는 플러그(350)가 소켓(130)에 완전히 접속된 상태이다.In this state, the plug 350 is completely connected to the socket 130.

이어, 필요한 진공도 및 반응가스 공급을 마친 후 전원을 인가하게 되면 각 전극(320,330)으로 인가된 전원이 각 전극판(360,370)으로 인가되고, 그 사이에서 방전이 일어나 플라즈마를 발생시키고 발생된 플라즈마에 의해 이들 전극판(360,370) 사이에 개재되어 있는 연성PCB가 세정, 에칭되게 된다.Subsequently, when the required vacuum degree and the reaction gas are supplied and power is applied, power applied to each electrode 320 and 330 is applied to each electrode plate 360 and 370, and discharge is generated therebetween to generate plasma and to generate the plasma. As a result, the flexible PCB interposed between the electrode plates 360 and 370 is cleaned and etched.

플라즈마 처리가 완료되면 해당 수평전극체(300)를 챔버(110)로부터 분리한 후 후속하여 대기중인 또다른 수평전극체를 동일한 방식으로 장입함으로써 신속하고 간단하면서도 용이한 연성PCB의 플라즈마 처리가 가능하게 된다.After the plasma processing is completed, the horizontal electrode body 300 is separated from the chamber 110, and then another horizontal electrode body in the air is loaded in the same manner, thereby enabling a quick, simple and easy plasma treatment of the flexible PCB. do.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 고안에 따르면 플라즈마 발생용 전극 자체를 인출입시킬 수 있는 구조를 갖추고 있고 수평형의 전극체를 가지고 있어 연성PCB만을 전용으로 세정, 에칭하기에 적당하며, 매우 효율적이고, 작업이 간단 용이할 뿐만 아니라 이동성이 용이하여 대량생산이 가능하다.As described in detail above, according to the present invention, it has a structure capable of drawing in and out of the plasma generating electrode itself, and has a horizontal electrode body, which is suitable for cleaning and etching only flexible PCBs, and is very efficient. It is not only easy to work but also easy to move, so mass production is possible.

도 1은 일반적인 플라즈마 세정장치를 보인 예시도,1 is an exemplary view showing a general plasma cleaning apparatus,

도 2 및 도 3은 본 고안에 따른 수평세정장치의 설치상태 및 작동상태를 보인 도면,2 and 3 is a view showing the installation and operating state of the horizontal cleaning device according to the present invention,

도 4는 본 고안에 따른 수평세정장치의 요부 상세도,4 is a detailed view of the main portion of the horizontal cleaning device according to the present invention,

도 5는 본 고안에 따른 수평세정장치의 전원연결관계를 보인 예시도,5 is an exemplary view showing a power connection relationship of the horizontal cleaning device according to the present invention,

도 6은 본 고안에 따른 수평세정장치의 전극판을 보인 예시도.6 is an exemplary view showing an electrode plate of a horizontal cleaning device according to the present invention.

♧ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ♧♧ description of the symbols for the main parts of the drawing ♧

100....본체 110....챔버100 .... body 110 .... chamber

120....펌핑포트 130....소켓120 ... pumping port 130 ... socket

140,240....가이드레일 150,250....스토퍼140,240 .... Guide rail 150,250 .... Stopper

200....대차 210....캐스터200 .... balance 210 .... caster

300....수평전극체 310....베이스플레이트300 .... horizontal electrode 310 .... base plate

320....애노드전극 330....캐소드전극320 .... anode electrode 330 .... cathode electrode

350....전극블럭 360....애노드전극판350..electrode block 360 .... anode electrode plate

370....캐소드전극판 380....가이드롤370 .... cathode electrode 380 .... guide roll

390....손잡이390 ... handle

Claims (7)

진공 및 배기를 위한 펌핑포트를 갖는 플라즈마 처리용 챔버의 후벽면에 형성되고 외부 전원공급원과 연결된 전극 및 접지소켓과;An electrode and a ground socket formed on the rear wall of the plasma processing chamber having a pumping port for vacuum and exhaust and connected to an external power supply; 상기 챔버의 바닥면에 배설된 한쌍의 가이드레일과;A pair of guide rails disposed on the bottom surface of the chamber; 하단면에는 캐스터가 고정되어 이동가능한 사각틀형상의 대차와;A square frame bogie, on which a caster is fixed and movable; 상기 대차의 상면에 상기 가이드레일과 대응됨과 동시에 접촉시 일직선을 이루도록 배설되는 또다른 가이드레일과;Another guide rail disposed on the upper surface of the trolley so as to correspond to the guide rail and to form a straight line in contact with the guide rail; 상기 가이드레일들을 따라 슬라이딩되는 가이드롤을 구비한 판상의 베이스플레이트와;A plate-shaped base plate having a guide roll sliding along the guide rails; 상기 베이스플레이트의 상면에 수직입설되고 적소에는 상기 전극 및 접지소켓과 각각 접속되는 전극 및 접지블럭을 갖는 애노드전극 및 캐소드전극과;An anode electrode and a cathode electrode vertically placed on an upper surface of the base plate and having an electrode and a ground block connected to the electrode and the ground socket, respectively; 절연부재를 통해 애노드전극 및 캐소드전극에 교차 적층되고 피처리물이 개재되는 애노드전극판 및 캐소드전극판을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 피씨비 수평세정장치.A horizontal plasma cleaning apparatus using a plasma, characterized in that it comprises an anode electrode plate and a cathode electrode plate cross-laminated on the anode electrode and the cathode electrode through an insulating member interposed with the workpiece. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 가이드레일은 그 선단 또는 후단에 스토퍼가 부설된 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 피씨비 수평세정장치.And said guide rail has a stopper attached to its front end or rear end thereof. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 가이드레일들은 서로 맞대어지는 단부에 상호 조립되는 요입홈 및 돌기가 형성되어 긴밀히 연결조립되는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 피씨비 수평세정장치.The guide rails are horizontal plasma cleaning device using a plasma, characterized in that the grooves and protrusions are assembled to each other at the opposite ends to be closely connected and assembled. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 애노드전극판 및 캐소드전극판은 판상의 도전성 플레이트 혹은 틀형상의 도전성 프레임인 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 피씨비 수평세정장치.And the anode electrode plate and the cathode electrode plate are plate-shaped conductive plates or frame-shaped conductive frames. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 애노드전극판 및 캐소드전극판의 선단에는 챔버의 도어와 밀착되는 로드, 상기 로드가 수납되는 원통형상의 몸체, 상기 몸체에 내장되고 상기 로드를 탄압하는 스프링으로 이루어진 완충부재가 구비된 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 피씨비 수평세정장치.At the front end of the anode electrode plate and the cathode electrode plate is provided with a cushioning member consisting of a rod in close contact with the door of the chamber, a cylindrical body in which the rod is accommodated, a spring embedded in the body and suppressing the rod Plasma horizontal cleaning device using plasma. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 피처리물은 상기 애노드전극판과 캐소드전극판 사이에 절연부재에 의해 양측단이 지지되면서 들뜬상태로 배치되거나 혹은 상기 캐소드전극판 상에 맞닿은 상태로 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 피씨비 수평세정장치.The workpiece is disposed between the anode electrode and the cathode electrode plate in an excited state while both ends thereof are supported by an insulating member or placed in contact with the cathode electrode plate. Cleaning device. 플라즈마 처리용 챔버의 바닥면에 배설되고 전원공급원의 양극 및 음극과 각각 연결된 한쌍의 가이드레일과;A pair of guide rails disposed on the bottom surface of the plasma processing chamber and connected to the anode and the cathode of the power supply source, respectively; 하단면에는 캐스터가 고정되어 이동가능한 사각틀형상의 대차와;A square frame bogie, on which a caster is fixed and movable; 상기 대차의 상면에 상기 가이드레일과 대응됨과 동시에 접촉시 일직선을 이루도록 배설되는 또다른 가이드레일과;Another guide rail disposed on the upper surface of the trolley so as to correspond to the guide rail and to form a straight line in contact with the guide rail; 상기 가이드레일들을 따라 슬라이딩되면서 통전되게 설치되는 한쌍의 가이드롤을 구비한 판상의 베이스플레이트와;A plate-shaped base plate provided with a pair of guide rolls installed to be energized while sliding along the guide rails; 상기 베이스플레이트의 상면에 수직입설되고 상기 가이드롤들과 전기적으로 연결된 전극 및 접지블럭을 갖는 애노드전극 및 캐소드전극과;An anode electrode and a cathode electrode vertically placed on an upper surface of the base plate and having an electrode and a ground block electrically connected to the guide rolls; 절연부재를 통해 애노드전극 및 캐소드전극에 교차 적층되어 연결되고 피처리물이 개재되는 애노드전극판 및 캐소드전극판을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 피씨비 수평세정장치.A horizontal plasma cleaning apparatus using a plasma, characterized in that it comprises an anode electrode and a cathode electrode plate is cross-laminated and connected to the anode electrode and the cathode electrode through an insulating member.
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