KR200341814Y1 - 스핀 컵 - Google Patents

스핀 컵 Download PDF

Info

Publication number
KR200341814Y1
KR200341814Y1 KR20-2003-0034264U KR20030034264U KR200341814Y1 KR 200341814 Y1 KR200341814 Y1 KR 200341814Y1 KR 20030034264 U KR20030034264 U KR 20030034264U KR 200341814 Y1 KR200341814 Y1 KR 200341814Y1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
cup
exhaust
lower cup
spin
Prior art date
Application number
KR20-2003-0034264U
Other languages
English (en)
Inventor
박두진
Original Assignee
(주)티에스티아이테크
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)티에스티아이테크 filed Critical (주)티에스티아이테크
Priority to KR20-2003-0034264U priority Critical patent/KR200341814Y1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR200341814Y1 publication Critical patent/KR200341814Y1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70916Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 고안은 기판을 제조하는 장치의 스핀 컵에 관한 것으로, 상기 스핀 컵은 기판에 도포되고 남은 약액을 공정챔버의 외부로 유출되도록 저면에 드레인홀들이 형성된 하부컵과, 상기 하부컵의 측면에 배기홀이 형성되고 이 배기홀과 연장되어 기판이 회전되는 반대방향으로 형성된 배기유도관을 갖는 배기부들과, 상기 하부컵 상부에 결합되며, 복수개의 유도편이 형성된 커버를 구비하며, 상기 유도편들은 일단에서 타단으로 갈수록 상기 커버의 중심에서 점점 커지며 이 복수개의 유도편 외측 끝단은 각각의 상기 배기부와 연통되도록 하는 것을 특징으로 한다.
본 고안의 특징에 의하면, 기판이 고속 회전되면서 도포액이 도포될 때, 챔버의 내측벽에 부딪친 후 기판 상면에 묻게되는 것을 방지하여 기판이 오염되는 것을 최소화 할 수 있다.

Description

스핀 컵{Spin Cup}
본 고안은 기판 제조 장치에 사용되는 스핀 컵에 관한 것으로써, 더욱 상세하게는 기판 표면에 도포액을 분사할 때, 챔버의 내벽에 부딪쳐 기판의 표면으로 튀는 것을 방지할 수 있도록 한 스핀 컵에 관한 것이다.
기판의 상면에 도포액을 도포하기 위한 도포장치는 도 1에 도시된 바와 같이 기판(S)이 놓여지는 스핀척(3)의 상부에는 도포액을 분사하는 분사노즐(2)이 있으며, 분사노즐(2)의 하측으로 기판(S)이 안착되며, 고속으로 회전되는 스핀척(3)이 있다.
그리고, 스핀척(3)에 안착된 기판(S)의 후면 가장자리 일측에 세정액을 기판(S) 후면방향으로 분사하는 세정노즐(6)이 있다.
또한, 세정노즐(6)에서 분사된 세정액이 외부로 누출되는 것과 분사노즐(2)에서 분사된 도포액이 외부로 원심력에 의해 튕겨져 나가는 것을 방지하며, 분사된 세정액 및 도포액이 배출되는 배출구(7)를 갖는 스핀 컵(catch cup)(5)이 스핀척(3)의 외부를 둘러싸고 있다.
이러한 구성으로 이루어진 종래의 도포장치에서 기판 후면 가장자리 및 측면 세정은 다음과 같다.
먼저, 기판(S)이 스핀척(3)에 안착 고정되고, 스핀척(3)이 고속으로 회전하는 상태에서 도포액 분사노즐(2)로부터 기판(S) 전면에 도포액이 공급되면 원심력에 의해 도포액이 도포된다.
그리고, 도포액이 도포되면 기판(S) 측면 및 후면에 불필요하게 도포된 도포액을 세정하기 위해 기판이 회전되는 상태에서 세정노즐(6)로부터 기판(S)의 후면 가장자리로 세정액이 분사된다.
분사된 세정액은 기판(S)의 회전에 의해 기판 후면에 닿는 순간 원심력을 받아 기판의 가장자리로 밀려나고, 기판(S) 후면 및 측면에 잠시 머무르면서 도포된 불필요한 도포액을 제거한다.
그리고, 기판(S) 가장자리로 밀려난 세정액은 다시 원심력에 의해 떨어져 나와 스핀 컵(11)에 부딪히고, 스핀 컵의 벽면을 따라 흘러내려 배출구(7)로 배출된다.
그러나, 종래의 도포액 도포장치에서 도포액를 도포하는 공정은, 기판(S)이 스핀척(3)에 의해 고속으로 회전되어 도포액이 공급된다. 이때, 큰 원심력을 받게되므로 분사되는 도포액이 분사되는 과정에서 스핀 컵(5) 벽면에 부딪혀 다시 기판(S) 전면으로 튀는 경우가 발생되어 기판(S) 표면의 오염되는 문제점이 있다.
상기한 문제점들을 해결하기 위해 본 고안은, 도포액이 스핀 컵 내측벽에 부딪혀 기판 전면에 튀는 것을 방지할 수 있는 스핀 컵을 제공하는데 그 목적이 있다.
도 1은 종래 사용중인 도포장치에 관한 단면도;
도 2는 본 고안인 스핀 컵의 분리 사시도;
도 3은 본 고안에 따른 하부컵의 평면도;
도 4는 본 고안에 따른 커버의 저면도;
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 스핀컵 110 : 커버
112 : 격벽 114 : 드레인홀
116 : 배기부 116a : 배기홀
116b : 배기유도관 120 : 커버
122 : 유도편 S: 기판
전술한 목적을 달성하기 위해 본 고안은 기판을 제조하는 도포액 장치의 스핀 컵에 있어서, 상기 스핀 컵은 기판에 도포되고 남은 약액을 공정챔버의 외부로 유출되도록 저면에 드레인홀들이 형성된 하부컵, 상기 하부컵의 측면에 배기홀이 형성되고 이 배기홀과 연장되어 기판이 회전되는 반대방향으로 형성된 배기유도관을 갖는 배기부들, 상기 하부컵 상부에 결합되며 복수개의 유도편이 형성된 커버를구비하고, 상기 유도편들은 일단에서 타단으로 갈수록 상기 커버의 중심에서 점점 커지며 이 복수개의 유도편 외측 끝단은 각각의 상기 배기부와 연통되도록 하므로서, 본 고안의 목적을 달성할 수 있다.
본 고안의 바람직한 실시예에 따라 상기 하부컵의 내부에는 수직으로 원통 형상의 격벽이 형성되고, 이 격벽은 상기 하부컵의 외주면 높이보다 낮은 것이 특징이다.
본 고안의 바람직한 실시예에서 상기 배기부는 상기 하부컵의 중심에서 방사방향으로 등간격을 갖도록 복수개로 형성된다.
본 고안의 바람직한 실시예에 따른 상기 드레인홀은 상기 격벽을 사이에 두고 양측에 형성된 것이 특징이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 고안에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다. 또, 상기 도면들에서 동일한 기능을 수행하는 구성요소에 대해서는 동일한 참조번호를 부여한다.
먼저, 도포액을 도포하는 장치는 종래에 도시된 바와 같이, 크게 스핀척과 분사노즐, 스핀 컵과, 세정액을 분사하는 분사부로 구성되며, 상기 스핀 컵에는 분사된 세정액을 배출하는 드레인홀이 포함된다.
상기 스핀척은 기판이 안착되어 고속으로 회전함과 동시에 기판의 상부에 배치되는 분사노즐에서 도포액을 분사한다.
이때, 분사노즐에서 분사된 도포액이 기판의 가장자리에서 원심력에 의해 외부로 튕겨져 나가는 것을 방지하기 위해 스핀 컵이 스핀척의 외부를 둘러싸고 있다.
도시된 도 2내지 도4에서 보는 바와 같이, 상기 스핀 컵(100)은 하부컵(110)과 커버(120)로 구성된다. 상기 하부컵(110)은 원통 형상으로 상부와 하부가 개방되어 있다. 그리고, 하부컵(110)의 내부에는 수직으로 격벽(112)이 형성된다. 이 격벽(112)은 상기 하부컵(110)의 중심에서 동일한 반경을 갖고, 하부컵(110)의 외주면 높이보다 낮도록 형성된다.
상기 하부컵(110)의 저면부에는 상기 드레인홀(114)이 형성되어 기판(S)에 도포되고 남은 약액을 공정챔버의 외부로 유출되도록 한다. 이 드레인홀(114)은 상기 격벽(112)을 사이에 두고 양측으로 형성되며, 상기 드레인홀(114)은 등간격을 갖으며 복수개로 형성된다.
또한, 상기 하부컵(110)의 측면에는 배기부(116)들이 형성된다. 이 배기부(116)들은 상기 하부컵(110)의 중심에서 방사방향으로 등간격을 갖도록 복수개로 형성된다. 이 배기부(116)들은 각각 배기홀(116a)과 배기유도관(116b)을 갖는다.
상기 배기유도관(116b)은 상기 배기홀(116a)과 연장되어 기판(S)이 회전되는 반대방향으로 형성되며, 이들 배기유도관(116b)은 동일한 방향으로 형성된다. 이 배기유도관(116b)은 진공흡착되는 진공모터(도시하지 않음)와 연결된다.
한편, 상기 커버(120)는 상기 하부컵(110)의 상부에 결합되는 것으로, 상부와 하부가 각각 개방되어 있다. 그러나, 상부개방부는 하부개방부보다 작은 직경을 갖도록 구성된다. 그리고, 이 커버(120)의 저면부에는 복수개의 유도편(122)이 형성된다.
상기 유도편(122)들은 일단에서 타단으로 갈수록 상기 커버(120)의 중심에서 점점 커지는 회오리 형상을 갖는다. 이 유도편(122)은 하나의 유도편(122)이 동일한 등각을 갖도록 배치되며 상기 하부컵(110)에 형성된 배기부(116)와 연통된다.
이상과 같이 구성된 본 고안인 도포액 도포장치의 스핀 컵(100)은 기판(S) 전면에 도포액를 도포하고, 측면과 후면 가장자리에 잔존하는 도포액을 세정액으로 제거할 때, 기판(S)이 스핀척에 안착된 상태에서 구동부에 의해 상기 스핀척이 회전하게 된다.
기판(S) 전면에 도포액이 도포될 때, 상기 스핀척의 고속회전으로 인해 원심력이 발생되어 상기 스핀 컵(100)의 내측벽에 유도되는 도포액이 상기 유도편(122)에 내부로 유입되고, 이 유도편(122)을 통과하는 도포액은 진공모터와 연결된 배기유도관(116b)을 통해 외부로 유출된다.
그러므로, 도포액이 기판(S)에 도포되고 세정액이 분사될 때, 스핀 컵(100)의 내측벽에 부딪히고 상기 기판(S)의 전면에 묻게되는 것을 방지할 수 있다.
이상에서, 본 고안에 따른 스핀 컵의 구성 및 작용은 상기한 설명 및 도면에 의거하여 도시하였지만, 이는 어디까지나 예를 들어 설명한 것에 불과하므로, 본 고안의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.
이상과 같이 도포액 장치에 사용되는 본 고안의 스핀 컵으로 인해 다음과 같은 효과가 있다.
첫째, 커버에 복수개의 유도편이 형성되고, 이 유도편을 통해 외부에서 진공흡입되는 배기부들로 도포액이 유도되어 외부로 유출되도록 하였다. 따라서, 기판이 고속 회전되면서 도포액이 도포될 때, 챔버의 내측벽에 부딪친 후 기판 상면에 묻게되는 것을 방지하여 기판이 오염되는 것을 최소화 할 수 있다.
둘째, 하부컵 내부에 수직으로 원통 형상의 격벽이 형성되고, 이 격벽을 사이에 두고 양측에 드레인홀을 형성하므로서, 일부는 배기유도관을 통해 외부로 유출되고, 일부는 이 드레인홀을 통해 외부로 유출된다.
셋째, 기판이 회전되는 반대방향을 배기부들과 유도편들을 회오리 형상으로 구성하였다. 그러므로, 기판이 회전되는 원심력으로 인해 도포액이 기판 가장자리에서 이탈될 때, 보다 원활하게 외부로 유출되도록 하였다.

Claims (4)

  1. 기판 제조장치의 스핀 컵에 있어서;
    상기 스핀 컵은;
    기판에 도포되고 남은 약액을 공정챔버의 외부로 유출되도록 저면에 드레인홀들이 형성된 하부컵과;
    상기 하부컵의 측면에 배기홀이 형성되고, 이 배기홀과 연장되어 기판이 회전되는 반대방향으로 형성된 배기유도관을 갖는 배기부들과;
    상기 하부컵 상부에 결합되며, 복수개의 유도편이 형성된 커버를 구비하되;
    상기 유도편들은 일단에서 타단으로 갈수록 상기 커버의 중심에서 점점 커지며, 이 복수개의 유도편 외측 끝단은 각각의 상기 배기부와 연통되도록 하는 것을 특징으로 하는 스핀 컵.
  2. 제 1항에 있어서;
    상기 하부컵의 내부에는 수직으로 원통 형상의 격벽이 형성되고, 이 격벽은 상기 하부컵의 외주면 높이보다 낮은 것을 특징으로 하는 스핀 컵.
  3. 제 1항에 있어서;
    상기 배기부는 상기 하부컵의 중심에서 방사방향으로 등간격을 갖도록 복수개로 형성된 것을 특징으로 하는 스핀 컵
  4. 제 1항에 있어서;
    상기 드레인홀은 상기 격벽을 사이에 두고 양측에 형성된 것을 특징으로 하는 스핀 컵.
KR20-2003-0034264U 2003-11-01 2003-11-01 스핀 컵 KR200341814Y1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20-2003-0034264U KR200341814Y1 (ko) 2003-11-01 2003-11-01 스핀 컵

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20-2003-0034264U KR200341814Y1 (ko) 2003-11-01 2003-11-01 스핀 컵

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030077994A Division KR100550602B1 (ko) 2003-11-05 2003-11-05 스핀 컵

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR200341814Y1 true KR200341814Y1 (ko) 2004-02-14

Family

ID=49343288

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20-2003-0034264U KR200341814Y1 (ko) 2003-11-01 2003-11-01 스핀 컵

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR200341814Y1 (ko)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0444216Y2 (ko)
US7247209B2 (en) Dual outlet nozzle for the combined edge bead removal and backside wash of spin coated wafers
TWI585842B (zh) Substrate processing device
US20130186439A1 (en) Semiconductor development apparatus and method using same
KR100895032B1 (ko) 스핀 헤드
JPH07115060A (ja) 処理装置及び処理方法
JPH0929189A (ja) 洗浄装置
KR101335219B1 (ko) 슬릿 노즐의 비접촉식 세정기구 및 이를 이용한 세정 방법
KR100550602B1 (ko) 스핀 컵
KR200341814Y1 (ko) 스핀 컵
KR20200027161A (ko) 스핀 코터의 보울 세척용 지그 및 이를 포함하는 스핀 코터의 보울 세척 장치
JP3511106B2 (ja) スリットノズルの洗浄装置
JP4976781B2 (ja) ウェハのウェット処理方法及びウェハのエッチング装置
JP2005317852A (ja) スピンコータ及び基板裏面の洗浄方法
JPS61296724A (ja) 高圧ジエツトスクラバ洗浄装置
KR100558479B1 (ko) 린스 드레인유닛을 구비한 반도체 제조용 스핀 코터
JP2005217138A (ja) スピン処理装置及びスピン処理方法
JP3126878B2 (ja) 基板裏面洗浄装置
JP2005311150A (ja) スピンコータ及び基板裏面の洗浄方法
JP2893151B2 (ja) 処理装置及びその洗浄方法
JPH05226242A (ja) 現像装置及び現像方法
JP2724870B2 (ja) 処理装置
JP4371337B2 (ja) 塗布ノズルの洗浄装置
TWI822988B (zh) 液處理裝置及液處理方法
KR200210564Y1 (ko) 포토 레지스트 스핀 코팅장치

Legal Events

Date Code Title Description
REGI Registration of establishment
T201 Request for technology evaluation of utility model
T701 Written decision to grant on technology evaluation
G701 Publication of correction
EXTG Extinguishment