KR200338907Y1 - An electric discharge processing device - Google Patents
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Abstract
본 고안은 방전 가공장치에 관한 것으로, 방전을 발생하는 전극봉과 이 전극봉과 피가공물의 가공부위에 가공액을 분사하는 가공액 분사기가 구비되고 상기 가공액 분사기의 종단부에 투명한 재질의 액막이가 부착되어 있다.The present invention relates to an electric discharge machining apparatus, comprising an electrode rod for generating a discharge and a processing liquid injector for injecting a processing liquid onto the processing portion of the electrode and the workpiece, and a liquid film of a transparent material is attached to an end of the processing liquid injector. It is.
이와 같이 본 고안은, 가공액 공급기에 액막이가 설치되어 있음으로써, 가공액이 작업자에게 튀는 것을 방지하고 가공부위에 가공액을 집중시킬 수 있다.In this way, the present invention is provided with the liquid film in the processing liquid supply, thereby preventing the processing liquid from splashing to the worker and concentrating the processing liquid on the processing portion.
Description
본 고안은 방전 가공장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 가공액이 작업자에게 튀는 것을 방지하고 가공부위에 가공액을 집중시킬 수 있도록 가공액 공급기에 액막이가 설치되어 있는 방전 가공장치에 관한 것이다.The present invention relates to an electric discharge machining apparatus, and more particularly, to an electric discharge machining apparatus in which a liquid film is provided in the processing liquid supply to prevent the processing liquid from splashing to an operator and concentrate the processing liquid on the processing part.
일반적으로, 방전 가공장치는, 전기적인 방전 현상을 이용한 가공장치로, 전극봉과 피가공물 간에 고주파 펄스 파형의 전압을 가하여 방전을 행함으로써 피가공물 표면층을 가공한다.In general, the electric discharge machining apparatus is a processing apparatus using an electric discharge phenomenon, and processes the workpiece surface layer by performing discharge by applying a high frequency pulse waveform voltage between the electrode and the workpiece.
종래 방전 가공장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, 전극봉(1)과 피가공물(2)과 이 전극봉(1)과 피가공물(2) 간에 고주파 펄스 파형의 전압을 가하는 전압 인가부(도시되지 않음)를 포함하여 구성된다.In the conventional electric discharge machining apparatus, as shown in FIG. 1, a voltage applying unit (not shown) for applying a high frequency pulse waveform voltage between the electrode rod 1 and the workpiece 2 and the electrode rod 1 and the workpiece 2. Not included).
상기 전극봉(1)과 피가공물(2) 사이에 발생하는 방전에 의해 피가공물(2)의 표면을 가공하는 과정에서 칩과 열이 발생하므로 이러한 칩을 배출하고 열을 방출하도록 고압의 가공액을 사용하게 되는 바, 방전 가공장치에는 고압의 가공액을 전극봉(1)과 피가공물(2) 간의 가공부위에 분사하는 가공액 공급기(4, 5)가 구비된다.Since chips and heat are generated in the process of processing the surface of the workpiece 2 by the discharge generated between the electrode 1 and the workpiece 2, a high pressure processing liquid is discharged to discharge the chips and release the heat. As used, the electric discharge machining apparatus is provided with the processing liquid supplyers 4 and 5 which inject the processing liquid of high pressure to the process site | part between the electrode rod 1 and the to-be-processed object 2. As shown in FIG.
이러한 가공액 공급기(4, 5)는 플렉서블(Flexible)하게 굽힘 변형이 가능하게 되어 있는 파이프(4a, 5a)와 이 파이프(4a, 5a)의 종단에 구비되는 노즐(4b, 5b)로 이루어지는 것이 일반적이다.The processing liquid feeders 4 and 5 are constituted by pipes 4a and 5a which are capable of flexible bending deformation and nozzles 4b and 5b provided at the ends of the pipes 4a and 5a. It is common.
그런데, 상기한 종래의 방전 가공장치는, 가공 작업을 시작할 때 가공액 공급기로부터 분사되는 가공액이 작업자에게 튀는 문제점이 있으며, 가공액을 가공부위에 효율적으로 집중시키지 못하는 문제점이 있었다.However, the above-described conventional electric discharge machining apparatus has a problem in that the processing liquid sprayed from the processing liquid supply machine splashes to the worker when the processing operation starts, and there is a problem in that the processing liquid cannot be efficiently concentrated on the processing site.
이에 본 고안은 상기한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해소하기 위해 안출한 것으로, 가공액 공급기로부터 분사되는 가공액이 작업자에게 튀지 않게 하고 가공액을 가공부위에 효율적으로 집중시킬 수 있는 방전 가공장치를 제공하는 데 그목적이 있다.The present invention is devised to solve the problems of the prior art as described above, an electric discharge machining apparatus that can prevent the processing liquid sprayed from the processing liquid supply to splash to the operator and efficiently concentrate the processing liquid on the processing site The purpose is to provide.
도 1은 종래의 방전 가공장치의 요부를 확대 도시한 개략도,1 is an enlarged schematic view showing main parts of a conventional electric discharge machining apparatus;
도 2는 본 고안에 따른 방전 가공장치의 요부를 확대 도시한 개략도,Figure 2 is a schematic diagram showing an enlarged main portion of the electric discharge machining apparatus according to the present invention,
도 3은 도 2에 도시된 가공액 공급기와 액막이의 분리 사시도.Figure 3 is an exploded perspective view of the processing liquid supply and liquid film shown in FIG.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
11: 전극봉 12: 피가공물11: electrode 12: workpiece
14, 15: 가공액 공급기 14a, 15a: 파이프14, 15: processing liquid feeder 14a, 15a: pipe
14b, 15b: 노즐 20: 액막이14b, 15b: nozzle 20: liquid film
21: 중공부21: hollow part
상기 목적을 달성하기 위한 본 고안에 따른 방전 가공장치는, 방전을 발생하는 전극봉과 이 전극봉과 피가공물의 가공부위에 가공액을 분사하는 가공액 분사기를 구비하고, 상기 가공액 분사기의 종단부에 투명한 재질의 액막이가 부착되어 있는 것을 특징으로 한다.Discharge machining apparatus according to the present invention for achieving the above object is provided with an electrode rod for generating a discharge and a processing liquid injector for injecting the processing liquid to the processing portion of the electrode and the workpiece, the end portion of the processing liquid injector It is characterized in that the liquid membrane is attached to a transparent material.
그리고, 본 발명은, 상기 액막이가, 투명 아크릴판으로 제작된 것임을 다른 특징으로 한다.In addition, the present invention is characterized in that the liquid film is made of a transparent acrylic plate.
이하, 본 고안의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 고안에 따른 방전 가공장치의 요부를 확대 도시한 개략도로서, 동도면을 참조하면 알 수 있듯이, 본 고안에 따른 방전 가공장치는, 전극봉(11)과 피가공물(12)과 이 전극봉(11)과 피가공물(12) 간에 고주파 펄스 파형의 전압을 가하는 전압 인가부(도시되지 않음)를 포함하여 구성된다.2 is an enlarged schematic view of the main portion of the electric discharge machining apparatus according to the present invention, as can be seen with reference to the same drawing, the electric discharge machining apparatus according to the present invention, the electrode 11 and the workpiece 12 and the electrode And a voltage applying unit (not shown) for applying a high frequency pulse waveform voltage between the 11 and the workpiece 12.
또, 전극봉(11)과 피가공물(12) 사이에 발생하는 방전에 의해 피가공물(12)의 표면을 가공하는 과정에서 발생하는 칩과 열을 제거하도록 고압의 가공액을 전극봉(11)과 피가공물(12) 간의 가공부위에 분사하는 가공액 공급기(14, 15)를 포함하여 구성된다.In addition, a high-pressure processing liquid is removed from the electrode rod 11 and the workpiece so as to remove chips and heat generated in the process of processing the surface of the workpiece 12 by the discharge generated between the electrode rod 11 and the workpiece 12. It is comprised including the processing liquid feeders 14 and 15 which inject in the process part between the workpieces 12. FIG.
상기 가공액 공급기(14, 15)는 플렉서블(Flexible)하게 굽힘 변형이 가능하게 되어 있는 파이프(14a, 15a)와 이 파이프(14a, 15a)의 종단에 구비되는 노즐(14b, 15b)로 이루어진다.The processing liquid feeders 14 and 15 are composed of pipes 14a and 15a which are capable of flexible bending deformation and nozzles 14b and 15b provided at the ends of the pipes 14a and 15a.
그리고, 상기 가공액 공급기(14, 15) 중 하나의 가공액 공급기(15)의 종단부에는, 도 3에 도시된 바와 같이, 투명한 아크릴재질의 판재를 가공하여 제작한 투명한 재질의 액막이(20)가 부착되어 있다.In addition, as shown in FIG. 3, a liquid film 20 of a transparent material manufactured by processing a plate of a transparent acrylic material is formed at an end of one of the processing liquid supplies 15 of the processing liquid supplies 14 and 15. Is attached.
상기 액막이(20)에는 중공부(21)가 형성되어 있음으로써, 가공액 공급기(15)의 종단부 즉, 노즐(15b) 부위를 삽입하여 결합한다.Since the hollow part 21 is formed in the liquid film 20, the terminal part of the processing liquid supplier 15, that is, the nozzle 15b, is inserted into and coupled to the liquid film 20.
일예로, 액막이(20)의 중공부(21)에 접착물질을 도포함으로써, 가공액 공급기(15)의 종단부에 고정되도록 할 수도 있고, 억지끼움에 의해 고정되도록 할 수도 있다.For example, by applying an adhesive substance to the hollow portion 21 of the liquid film 20, it may be fixed to the end of the processing liquid supply 15, or may be fixed by interference fit.
상기한 액막이(20)에 의해 방전 가공시 가공액이 작업자에게 튀지 않게 되며, 가공액이 가공부위에 집중될 수 있다.By the liquid film 20, the processing liquid does not splash to the worker during the electrical discharge machining, the processing liquid may be concentrated on the processing site.
상기에서 본 고안은 특정 실시예를 예시하여 설명하지만 본 고안이 상기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 당업자는 본 고안에 대한 다양한 변형, 수정을 용이하게 만들 수 있으며, 이러한 변형 또는 수정이 본 고안의 특징을 이용하는 한 본 고안의 범위에 포함된다는 것을 명심해야 한다.The present invention is described by illustrating a specific embodiment, but the present invention is not limited to the above embodiment. Those skilled in the art can easily make various changes and modifications to the present invention, and it should be noted that such variations or modifications are included in the scope of the present invention as long as they use the features of the present invention.
상술한 바와 같이 본 고안은, 가공액 공급기에 액막이가 설치되어 있음으로써, 가공액이 작업자에게 튀는 것을 방지하고 가공부위에 가공액을 집중시킬 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention has the effect of preventing the processing liquid from splashing to the worker by concentrating the processing liquid at the processing site by providing the liquid film in the processing liquid supplying machine.
Claims (3)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR20-2003-0032183U KR200338907Y1 (en) | 2003-10-14 | 2003-10-14 | An electric discharge processing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR20-2003-0032183U KR200338907Y1 (en) | 2003-10-14 | 2003-10-14 | An electric discharge processing device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR200338907Y1 true KR200338907Y1 (en) | 2004-01-16 |
Family
ID=49422820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR20-2003-0032183U KR200338907Y1 (en) | 2003-10-14 | 2003-10-14 | An electric discharge processing device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR200338907Y1 (en) |
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2003
- 2003-10-14 KR KR20-2003-0032183U patent/KR200338907Y1/en not_active IP Right Cessation
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