KR20030095525A - 반도체소자 제조설비의 정전척 보호장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체소자 제조설비의 각 구성을 세정 및 정비하는 작업에서 웨이퍼를 고정하는 정전척을 분리하지 않은 상태로 손상 또는 오염을 방지하며 진행되게 하는 반도체소자 제조설비의 정전척 보호장치에 관한 것으로서, 이에 대한 특징적인 구성은, 정전척의 상면에 대하여 소정 간격을 이루며 측면에 밀착되게 덮는 형상으로 상면 중심에서 그 하측으로 관통하는 주입부가 형성되고, 상기 정전척과 간격을 이루는 사이의 측벽을 따라 외측으로 관통하는 배출구가 복수개 형성된 덮개와; 일측 단부가 퍼지가스 공급부로부터 연결부재로 연통하게 연결되고, 상대측 단부가 상기 덮개 상측으로부터 주입부와 연통하여 연결되는 퍼지가스 공급라인으로 구성되어 이루어진다. 이러한 구성에 의하면, 제조설비의 세정 또는 정비 과정에서 정전척을 분해하지 않은 상태에서 세정액 또는 다른 구성에서 떨어진 각 종 이물질로부터 정전척의 오염을 방지함으로써 정전척의 분리에 따른 번거로움을 방지하고, 이에 따른 세정 및 정비 작업이 용이한 이점이 있다.

Description

반도체소자 제조설비의 정전척 보호장치{electro-static chuck protective device of semiconductor device manufacturing equipment}

본 발명은 반도체소자 제조설비의 정전척 보호장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체소자 제조설비의 각 구성을 세정 및 정비하는 작업에서 웨이퍼를 고정하는 정전척을 분리하지 않은 상태로 손상 또는 오염을 방지하며 진행되게 하는 반도체소자 제조설비의 정전척 보호장치에 관한 것이다.

일반적으로 반도체소자는 웨이퍼 상에 사진, 식각, 확산, 화학기상증착, 이온주입, 금속증착 등의 공정을 선택적이고도 반복적으로 수행하는 일련의 과정을 통해 만들어진다.

이들 반도체소자 제조공정 중 공정 수행을 목적으로 하는 일 매의 웨이퍼에 대하여 식각, 확산, 화학기상증착 및 금속증착 등의 공정을 수행하는 제조설비에는 정전기적인 힘으로 웨이퍼를 밀착되게 고정하며, 고주파 파워의 전극체로서 기능하는 정전척이 구비된다.

이러한 정전척이 오염 또는 손상될 경우 정전척에 고정되어 공정을 수행하는 웨이퍼 또한 오염되거나 손상되는 결과를 유발할 뿐 아니라 고주파 파워의 이상 방전을 유도하여 파티클 원인으로서 작용하게 된다.

따라서, 반도체소자 제조설비의 세정 또는 정비 과정에서 정전척은 다른 구성부와는 달리 오염과 손상의 방지에 대한 각별한 주위가 요구되며, 특히 정전척의 표면에 대한 수분이나 각종 화학약품 및 금속성분 등으로부터 격리시킬 것이 요구된다.

이러한 이유에 의해 반도체소자 제조설비의 세정 및 정비 과정에는 먼저 상술한 정전척을 다른 구성부로부터 분리시킨 후 작업을 진행하게 됨으로써 번거로움이 있고, 또 그 분리 과정에서의 정전척은 발생되는 이물질 즉, 폴리머, 대기중의 수분, 금속성 물질 및 파티클 등으로부터 무방비하게 노출된 상태로 있어 그 관리의 어려움이 있게 된다.

본 발명의 목적은, 상술한 종래 기술에 따른 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 제조설비의 세정 또는 정비 과정에서 분리 작업의 진행에서 그 조립까지 정전척이 외부 오염원으로부터 노출되지 않도록 하여 정전척의 오염 및 손상을 예방할 수 있도록 하는 반도체소자 제조설비의 정전척 보호장치를 제공함에 있다.

도 1은 본 발명에 따른 반도체소자 제조설비의 정전척 보호장치 구성과 그 설치 관계를 개략적으로 나타낸 단면도이다.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

10: 정전척 보호장치12: 정전척

14: 덮개 16: 주입부

18: 배출구 20: 주입홀

22: 완충부 24: 분기홀

26: 걸림턱 28: 연결부재

30: 퍼지가스 공급라인

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징적 구성은, 정전척의 상면에는 간격을 이루며 측면에는 밀착되게 덮는 형상으로 상면으로부터 그 하측으로 관통하는 주입부가 형성되고, 상기 정전척과 이루는 사이의 측벽을 따라 복수개의 배출구가 형성된 덮개와; 일측 단부가 퍼지가스 공급부로부터 연결부재로 연통하게 연결되고, 상대측 단부가 상기 덮개 상측의 주입부와 연통하게 연결되는 퍼지가스 공급라인을 포함한 구성으로 이루어진다.

또한, 상기 주입부는 상기 덮개의 상면 중심에서 상기 퍼지가스 공급라인과 연통 연결되는 주입홀과; 상기 덮개의 상부 내측이 확장 구획된 완충부와; 상기 완충부의 하측으로 상기 정전척 상면에 대향하는 복수의 분기홀을 갖는 구성으로 이루어질 수 있다.

그리고, 상기 덮개의 저면 부위에는 상기 정전척 상면에 대하여 간격을 유지토록 하는 복수의 걸림턱을 더 형성하고, 상기 각 걸림턱은 상기 정전척의 상면 가장자리에 대응하는 부위에 형성함이 바람직하다.

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체소자 제조설비의 정전척 보호장치에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.

도 1은 본 발명에 따른 반도체소자 제조설비의 정전척 보호장치 구성과 그 설치 관계를 개략적으로 나타낸 단면도로서, 종래와 동일한 부분에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.

본 발명에 따른 반도체소자 제조설비의 정전척 보호장치(10)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 공정실(도면의 단순화를 위하여 생략함) 상부의 개방에 따라 정전척(12)이 노출됨에 대응하여 정전척(12)의 상면에 소정의 간격을 이루고, 정전척(12)의 측면에 대하여 밀착되는 형상의 덮개(14)가 씌워져 설치된다.

이렇게 설치되는 덮개(14) 상에는 상면 중심으로부터 그 하측으로 관통하여 소정 간격으로 이격된 정전척(12) 상면에 대하여 퍼지가스의 공급이 있도록 하는 주입부(16)를 형성하고, 또 정전척(12) 상면과 이루는 간격 위치의 덮개(14) 측벽에는 상술한 주입부(16)를 통해 그 사이로 공급되는 퍼지가스의 배출을 유도하기 위한 배출구(18)를 측벽 둘레를 따라 복수개 형성한 구성을 이룬다.

또한, 상술한 주입부(16)는 덮개(14)의 상면 중심 즉, 그 하측의 정전척(12) 중심에 대응하는 부위로부터 소정 깊이로 퍼지가스의 유입이 있도록 하는주입홀(20)을 이루고, 이 주입홀(20)의 하측 단부에 해당하는 덮개(14)의 상부 내측 부위는 정전척(12) 상면과 나란한 방향으로 확장 구획되어 주입홀(20)을 통해 공급되는 퍼지가스를 넓은 영역으로 분포시키기 위한 완충부(22)를 이루며, 다시 완충부(22)의 각 부위에서 그 하측 방향으로 퍼지가스를 분배하여 정전척(12)의 상면으로 공급되게 하는 복수의 분기홀(24)이 형성되어 이루어진다.

그리고, 상술한 덮개(14)와 정전척(12) 상면과의 사이 간격은 정전척(12)의 상면에 대응하여 접촉 지지되게 덮개(14)의 저면에 복수개의 걸림턱(26)을 형성한 구성으로 이루어질 수 있고, 이러한 걸림턱(26)의 형성 위치는 정전척(12)의 상면 가장자리에 대응하는 덮개(14) 저면에 형성함이 바람직하다.

여기서, 상술한 바와 같이, 정전척(12) 상면과 덮개(14)의 저면 사이의 간격을 이루도록 하는 구성은, 정전척(12)의 측부 외측을 덮는 덮개(14)의 하측 단부가 정전척(12)의 측부 외측의 다른 구성 부위와 접촉 지지되게 연장된 구성으로 형성하여 이루어질 수 있다.

한편, 상술한 덮개(14) 상부의 주입부(16) 즉, 주입홀(20)의 상측 단부에는 일측 단부가 퍼지가스 공급부(도면의 단순화를 위하여 생략함)로부터 연결부재(28)로 연통하게 연결되어 연장된 퍼지가스 공급라인(30)의 상대측 단부가 연통하여 연결된다.

이러한 구성에 의하면, 작업자는 제조설비의 세정 및 정비를 수행함에 앞서, 상술한 퍼지가스 공급라인(30)의 연결부재(28)를 통해 퍼지가스 공급부와 연결하고, 이 퍼지가스 공급라인(30)의 상대측 단부를 덮개(14) 상부의 주입부(16) 즉,주입홀(20)에 끼우는 등의 통상의 방법으로 연결하게 된다.

이후 작업자에 의해 공정실의 상부가 개방되면, 노출되는 정전척(12)의 상측으로부터 퍼지가스 공급라인(30)과 연결된 덮개(14)를 덮어씌우는 형상으로 설치하고, 퍼지가스 공급부로부터 공급되는 퍼지가스는 퍼지가스 공급라인(30)과 연결된 주입홀(20)로 유입되고, 이렇게 공급된 퍼지가스는 다시 확장부(22)에서 넓은 영역으로 붙포되어 그 하측의 분기홀(24)을 통해 덮개(14)와 정전척(12) 상면 사이로 공급되며, 이후 그 사이 공간에 충진된 퍼지가스는 덮개(14)의 측벽에 형성된 배출구(18) 및 다른 틈새를 통해 배출됨으로써 외부의 각종 이물질의 유입을 차단하게 된다.

이러한 상태에서 작업자는 정전척(12)을 포함한 제조설비의 각 구성부를 분해하거나 간단한 정비 작업을 수행하게 되고, 이 과정에서 정전척(12)은 다른 각 구성부의 재조립까지 각종 이물질로부터 안전하게 보호된다.

따라서, 본 발명에 의하면, 제조설비의 세정 또는 정비 과정에서 정전척을 분해하지 않은 상태에서 세정액 또는 다른 구성에서 떨어진 각 종 이물질로부터 정전척의 오염을 방지함으로써 정전척의 분리에 따른 번거로움을 방지하고, 이에 따른 세정 및 정비 작업이 용이한 이점이 있다.

본 발명은 구체적인 실시예에 대해서만 상세히 설명하였지만 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 변형이나 변경할 수 있음은 본 발명이 속하는 분야의 당업자에게는 명백한 것이며, 그러한 변형이나 변경은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 할 것이다.

Claims (4)

1. 정전척의 상면에는 간격을 이루며 측면에는 밀착되게 덮는 형상으로 상면으로부터 그 하측으로 관통하는 주입부가 형성되고, 상기 정전척과 이루는 사이의 측벽을 따라 복수개의 배출구가 형성된 덮개와;

   일측 단부가 퍼지가스 공급부로부터 연결부재로 연통하게 연결되고, 상대측 단부가 상기 덮개 상측의 주입부와 연통하게 연결되는 퍼지가스 공급라인을 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 반도체소자 제조설비의 정전척 보호장치.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 주입부는 상기 덮개의 상면 중심에서 상기 퍼지가스 공급라인과 연통 연결되는 주입홀과;

   상기 덮개의 상부 내측이 확장 구획된 완충부와;

   상기 완충부의 하측으로 상기 정전척 상면에 대향하는 복수의 분기홀을 갖는 구성으로 이루어짐을 특징으로 하는 상기 반도체소자 제조설비의 정전척 보호장치.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 덮개의 저면 부위에는 상기 정전척 상면에 대하여 간격을 유지토록 하는 복수의 걸림턱이 더 형성되어 이루어짐을 특징으로 하는 상기 반도체소자 제조설비의 정전척 보호장치.
4. 제 3 항에 있어서,

   상기 각 걸림턱은 상기 정전척의 상면 가장자리에 대응하는 부위에 형성됨을 특징으로 하는 상기 반도체소자 제조설비의 정전척 보호장치.