KR20030088030A - 표면 복구 및 유지용 조성물, 및 표면의 복구 방법 - Google Patents

표면 복구 및 유지용 조성물, 및 표면의 복구 방법 Download PDF

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KR20030088030A
KR20030088030A KR10-2003-7010867A KR20037010867A KR20030088030A KR 20030088030 A KR20030088030 A KR 20030088030A KR 20037010867 A KR20037010867 A KR 20037010867A KR 20030088030 A KR20030088030 A KR 20030088030A
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브라이언티. 홀란드
파블로엠. 헤르난데즈
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존슨디버세이, 인크.
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Abstract

본 발명은 유기 산, 산화금속 및 가소제를 포함하는 표면 복구용 조성물에 관한 것이다. 임의로는, 분산제, 증점제 및 물도 이 조성물에 포함될 수 있다. 본 발명의 조성물은 석재의 표면에 도포되어 버핑 건조됨으로써 원하는 수준의 광택을 달성한다.

Description

표면 복구 및 유지용 조성물, 및 표면의 복구 방법 {Surface Restoration and Maintenance Composition and Method of Restoring a Surface}
관련 출원에 대한 상호 참조: 본 출원은 2001년 2월 20일 출원된 미국 가출원 제60/270,044호를 우선권으로 주장한다.
연방 후원의 연구 또는 개발에 관한 진술: 없음
대리석은 비교적 연하기 때문에 긁힘 및 기타 표면 손상이 발생하는 천연 석재로서, 고도의 관리를 필요로 하는 석재이다. 또한, 대리석 및 기타 석재의 표면은 대체로 통상의 클리너 및 광택제에 존재하는 성분과 반응성을 나타낸다. 이러한 이유로, 우수한 외형의 표면을 유지하기 위해서는 세심한 관리를 해야한다. 테라조, 마그네사이트, 석회암, 화강암 및 석회화(石灰華)를 비롯한 다른 유형의 석재 바닥재도 긁힘을 감소시키거나 제거하기 위해 높은 수준으로 관리할 필요가 있다.
왁스 및 마감재가 광택을 증가시키고 표면의 외관을 유지하기 위해 석재 표면용 코팅재로서 사용되어 왔지만, 이들 유형의 제품은 석재 표면에 대한 접착성에 문제가 있어 오래동안 지속되지 못하며 결과의 외관이 더 플라스틱 같아 보여 바람직하지 못하다.
또한, 옥살산과 같은 유기 산이 석재 유형의 표면, 특히 마룻바닥을 "재결정화 (recrystallize)"시키기 위해 수년동안 사용되어 왔다. 그러한 공정을 이용하는데 있어, 도포 시간이 길고 그 이후에 귀찮게 정화시켜야 한다는 단점이 있다. 예를 들어, 옥살산 또는 옥살산계 제품의 통상적인 도포 시간은 20 내지 25 ft2(1.86 내지 2.32 m2) 당 약 5 내지 15분을 필요로 한다. 이러한 조성물은, 버핑 (buffing)하면서 분말 또는 슬러리로서 막대한 양의 물과 함께 도포될 수 있다. 이 조성물은 건조시 상당량의 원치않는 줄무늬가 생겨나기 때문에 건조시키지 않는다. 그 이후의 정화는 상기 제품을 마룻바닥의 다음 구역으로 옮기거나, 모든 잔류물을 닦아내는 것을 포함한다. 또한, 도포시 상기 조성물은, 달성된 광택 수준을 측정하기 위해 지속적으로 제거되어야 한다. 노동 집약적이고 도포 및 정화가 번거롭다는 것 뿐만 아니라 공정 제어성이 결여되었다는 것이 그러한 선행 기술의 조성물을 사용하는 경우에 나타나는 중요한 문제점이다.
또한, 그러한 조성물은 표면 자체의 광물을 이용하여 기능하도록 하기 때문에, 따라서 표면 자체의 일부분이 제거되게 된다. 그러한 옥살산 함유 조성물의 예는 미국 특허 제90,754호, 제133,095호, 제145,971호, 제181,790호, 제370,551호, 제542,524호, 제1,574,406호, 제3,481,879호 및 제4,297,148호에서 찾아볼 수 있다.
규불화물, 및 특히 규불화마그네슘도 대리석 및 기타 석재 바닥재의 표면을 "재결정화"시키기 위해 사용되어 왔으나, 그다지 성공적이지는 못했다. 그러한 조성물은 광택을 복구시키고 손상을 손질하는 데 있어서 옥살산을 함유하는 조성물보다 덜 효과적이다. 특히, 이들 조성물은 통상적으로 표면을 에칭시켜 상당한 손상을 유발한다. 그러한 조성물들의 예는 미국 특허 제5,830,536호, 제4,738,876호 및 제4,756,766호에서 찾아볼 수 있다.
또한, 종종 옥살산과 규불화물 둘 다가 석재 표면의 처리에 사용되며, 그 예로서 미국 특허 제5,490,883호에서는 옥살산과 규불화물을 함유하는 석재 바닥재 조성물에 대해 논의하고 있다. 그러나, 그러한 제품들은 표면의 에칭, 번잡하고 긴 도포시간, 및 제어성 결여가 주요 단점이라는 면에서, 규불화물계 조성물 및 옥살산계 조성물 그 자체와 동일한 결점을 지니고 있다.
추가로, 산화금속도 종종 연마제로서 첨가되어 그러한 조성물에 부가의 광택성을 부여하지만, 당업자들 대부분은 그러한 광택 효과가 거의 또는 전혀 중요하지 않다고 여기고 있다.
요컨대, 석재 표면 복구용 조성물 및 도포 방법에 관한 기술 분야에는 다수의 상당한 결함이 존재하고 있는 실정이다. 선행 기술의 옥살산 함유 조성물은 약간의 광택 및 복구성을 제공하지만, 그러한 조성물의 노동 집약적이고 시간 소모적인 도포 방법 및 정화로 인해, 그러한 조성물은 덜 바람직하고 비용이 많이 소요되며 시간이 많이 소모되는 조성물이 되었다. 또한, 달성되는 광택도 제어가 용이하지 않다. 추가로, 석재 표면을 왁스 및 마룻바닥 마감재로 코팅하면, 광택이 증가되고 마룻바닥의 외관이 유지되기는 하지만, 접착성을 장기간동안 지속적으로 유지하기 어렵고 플라스틱 같아 보이는 매혹적이지 못한 외관을 초래한다. 추가로, 많은 조성물이 표면을 에칭시켜 상당한 손상을 유발하는 경향이 있다. 또한, 그러한 조성물은 도포함에 있어 번잡하고 시간이 많이 소모된다.
따라서, 용이하게 도포할 수 있고, 작업자의 작업 시간 및 번잡함을 감소시키는 허용가능한 도포 방법을 유지하면서 석재 표면 상에 바람직한 고광택과 긁힘 및 홈의 복구성을 제공하며, 광택 달성에 대한 제어가 가능한 복구 및 유지용 조성물에 대한 연구가 진행중이다. 분명한 것은, 노동 집약적인 도포 방법을 줄이면서도 고광택을 제공하며 반복되는 높은 취급량 및 남용을 견딜 수 있는, 개선된 신규 석재 표면 복구 및 유지용 조성물에 대한 요구가 존재한다는 것이다. 특히, 선행 기술의 조성물이 나타내는 결점을 극복할 수 있는 개선된 복구용 조성물에 대한 요구가 존재하는 실정이다.
<발명의 목적>
본 발명의 목적은 선행 기술의 문제점 및 결점을 극복할 수 있는 표면 복구 및 유지용 조성물을 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 석재의 표면 상에 효율적인 방식으로 사용될 수 있는 복구용 조성물을 제공하는 것이다. 본 발명의 또다른 목적은 석재의 표면 상에 원하는 고광택을 생성시킬 뿐만 아니라 개선된 내구성을 나타내는 복구용 조성물을 제공하는 것이다. 본 발명의 또다른 목적은 적당히 제어된 방식으로 석재의 표면 상에 고광택의 내구성 마감을 제공하는 것이다. 이들 목적 및 다른 중요한 목적은 하기 설명 및 도면으로부터 분명해질 것이다.
<발명의 개요>
본 발명은 유기 산, 산화금속 및 가소제를 포함하는 표면 복구용 조성물에 관한 것이다. 이 조성물은 분산제를 더 포함할 수 있다. 또한, 증점제도 이 조성물에 포함될 수 있다. 이 조성물은 임의로 물을 포함할 수도 있다. 통상적인 조성물은 약 1 내지 50 중량％의 유기 산, 약 1 내지 50 중량％의 산화금속, 및 약 0 내지 5％의 가소제를 포함한다.
유기 산은 옥살산, 글리옥실산, 말레산, 살리실산, 타르타르산, 아세트산 및 이들의 블렌드일 수 있다. 바람직하게는, 유기 산이 옥살산이다. 본 발명에서 유용한 것으로 밝혀진 산화금속으로는 산화알루미늄, 산화티탄, 산화아연, 산화주석, 이산화규소, 산화지르코늄, 산화망간 및 산화마그네슘, 및 이들의 조합물이 있다. 통상적으로, 산화금속은 미립자 형태이며, 그 입도가 약 1 nm 내지 약 100,000 nm이고, 바람직한 실시양태에서는 입도가 약 10 nm 내지 약 100 nm인 산화금속을 사용한다.
또한, 본 발명의 조성물은 가소제도 포함한다. 유용한 가소제로는 1차 및 2차 알콜, 1차 (포화 및 불포화), 2차, 3차 및 방향족 카르복실산, 벤조에이트 유도체, 포스페이트 유도체, 및 이들의 블렌드가 있다.
그러한 조성물은, 연마 이외의 방식을 이용하여 석재의 표면을 고광택 마감이 되도록 복구 및 유지시키는 데 유용한 것으로 밝혀졌다.
본 발명의 조성물은, 이 조성물을 붓기 (pouring), 분무, 살포, 롤링 등에 의해 표면에 도포하고, 이 조성물을 건조될 때까지 버핑함으로써, 복구 또는 유지될 표면에 사용된다.
본 발명은 전반적으로 표면, 특히 석재의 표면을 복구시키기 위한 조성물에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 석재 표면의 층을 제거할 필요성과 고광택 마감재를 제조할 필요성을 감소시킨 그러한 조성물에 관한 것이다.
도 1은 손상된 석재 표면을 나타내는 횡단면도이다.
도 2는 석재 표면에 대한 손상을 복구시킨 본 발명의 조성물을 나타내는 횡단면도이다.
본 발명은 석재 표면 처리용 조성물, 즉 석재 표면의 복구 및 유지용 조성물에서의 개선, 및 이러한 석재 표면의 복구 방법에 관한 것이다. 본 발명의 표면 복구용 조성물은 하기 더욱 상세히 설명한 바와 같이 유기 산, 산화금속 및 가소제를 포함한다.
유기 산, 예를 들어 옥살산, 글리옥실산, 말레산, 살리실산, 타르타르산, 아세트산, 및 상기와 다른 유형의 산들과의 블렌드가 본 발명에 특히 유용한 것으로 밝혀졌다. 특히, 옥살산이 본 발명의 조성물에 사용될 때 만족스러운 결과를 생성한다는 것이 밝혀졌다. 본 발명의 조성물은 통상적으로 약 1 내지 85 중량％의 유기 산을 포함한다. 바람직한 실시양태는 약 5 내지 60 중량％의 유기 산을 포함한다.
본 발명의 산화금속은 손상된 표면에 대한 충전재, 네트워크 안정화제 또는 결합제 및 광택 증진제로서 작용한다. 산화알루미늄, 산화티탄, 산화아연, 산화주석, 이산화규소, 산화지르코늄, 산화망간 및 산화마그네슘, 및 이들의 조합물을 비롯한 유형의 산화금속이 본 발명의 조성물에 사용될 수 있다. 바람직하게는, 본 발명의 배합물은 약 1 내지 50 중량％의 산화금속을 포함한다. 바람직한 실시양태는 약 1 내지 25 중량％의 산화금속을 포함한다.
미립자 형태의 산화금속을 사용하는 것이 특히 유용하다. 이러한 산화금속 입자의 크기는 약 1 nm 내지 약 100,000 nm이어야 하며, 바람직한 실시양태에서는 크기가 10 내지 10,000 nm인 입자를 사용한다. 매우 바람직한 실시양태에서는 약 10 내지 100 nm 범위의 산화금속 입자를 사용한다.
본 발명의 가소제는, 모세관 압력을 감소시켜 본 발명의 조성물이 표면 상에서 건조될 때의 균열의 양을 제한하고, 가공성을 증가시킴으로써 전체적인 광택에서 줄무늬를 감소시키고 균일성을 개선하기 위해 사용된다. 다양한 가소제가 사용될 수 있으며, 여기에는 1차 및 2차 알콜 (예를 들어, 프로판올 및 글리세롤), 1차 (포화 및 불포화), 2차, 3차 및 방향족 카르복실산 (예를 들어, 카프르산, 올레산, 2-메틸헥산산, 네오 데칸산 및 벤조산), 벤조에이트 유도체 (예를 들어, 이소데실 벤조에이트), 포스페이트 유도체 (예를 들어, 트리부톡시에틸 포스페이트) 및 이들의 블렌드가 포함된다. 본 발명의 조성물은 바람직하게는 약 0 내지 10 중량％의 가소제를 포함한다. 바람직한 실시양태는 약 0.25 중량％ 내지 약 2.0 중량％의 가소제를 포함한다.
본 발명의 조성물은 또한, 임의로는 분산제를 포함할 수 있다. 분산제는 어떤 물질의 또다른 물질 중에서의 형성 및 안정화를 촉진하는 물질이다. 분산제는옥살산칼슘이 100 Å 보다 큰 결정을 형성하는 것을 최소화하기 위해 본 발명에 포함될 수 있다. 분산제는 높은 하전/부피 비율을 중화시킴으로써 보다 작은 결정을 안정화시켜, 대형 결정의 형성을 방지하는 작용을 한다고 믿어진다.
대리석은 다른 산화금속 및(또는) 금속 염 불순물과 함께 탄산 칼슘이 주성분인 반면, 화강암은 주로 이산화규소로 구성된다. 본 발명의 조성물을 석재 표면에 도포하여 표면에 섞여들게 하는 경우, 산이 탄산칼슘과 반응하여 옥살산칼슘을 형성하고, 이것이 탄산칼슘 결정의 보다 큰 입자들간의 간극을 옥살산칼슘의 유리질 (무정형, 유리-형) 층으로 충전시킨다고 믿어진다. 대형 결정은 광 산란을 증가시키고 광택 저하 및 움푹 들어가 보이는 효과를 가져온다. 분산제가 첨가된다면, 양으로 하전된 종들이 상호작용하여 대형 입자 형성의 기회를 줄이기 때문에 표면이 안정화된다. 본 발명의 조성물에 유용한 분산제는 당업계 통상의 기술자들에게 널리 공지되어 있으며, 폴리아크릴산 및 폴리포스포네이트를 포함할 수 있다. 이러한 분산제인 아큐솔 (ACUSOL) 425N은 롬 앤드 하스 (Rhom and Haas)로부터 입수가능한 폴리아크릴산이다. 본 발명의 조성물은 약 0.10 중량％ 내지 약 10 중량％의 분산제를 포함할 수 있다. 매우 바람직한 실시양태는 약 0.25 중량％ 내지 약 2.0 중량％의 분산제를 포함한다.
추가로, 산화금속 입자를 현탁시키기 위해 크산텀 (xanthum) 고무와 같은 증점제가 본 발명의 조성물에 첨가될 수 있다. 바람직한 증점제는 켈코 (Kelco)로부터 켈잔 (KELZAN)이란 상품명으로 입수가능하다. 증점제의 통상적인 범위는 조성물의 약 0.25 중량％ 내지 약 2.0 중량％이다. 또한, 조성물은 물을 포함할 수도있다.
도 1은 손상된 석재 표면 (1)을 예시하고 있다. 표면 (1)에는 홈 또는 스크래치 (2)가 있다. 도 2에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 조성물 (3)을 표면 (1)에 도포할 때, 조성물 (3)이 결정 입자를 스크래치 (2) 내로 침착시킴으로써, 유리질의 고광택 표면이 생겨난다.
본 발명의 조성물을 석재 표면에 도포하는 신규한 방법을 이용하는 것이 유용한 것으로 밝혀졌다. 종래의 도포 방법과는 달리, 본 발명의 조성물은 추가의 물을 도입하지 않고 석재 표면에 도포된다. 본 발명의 조성물이 건조 형태로 도포될 경우에만 물의 첨가가 필요하다. 이어서, 조성물이 표면 상에 살포되어 버핑 건조된다. 필요한 경우, 이러한 공정을 반복하여 목적하는 수준의 광택을 달성할 수 있다. 본 발명의 조성물은 붓기, 분무, 살포, 롤링 등의 다양한 방법으로 표면에 도포될 수 있다.
실시예 1은 본 발명의 조성물을 나타낸다.
실시예 1
성분 중량％
물 76.75
아큐솔 425N 0.25
옥살산 16.00
산화알루미늄 7.00
고속으로 혼합하면서 아큐솔 425N을 물에 첨가함으로써 실시예 1의 조성물을제조하였다. 이어서, 옥살산을 첨가하고 고속으로 교반하여 균일한 유백색 물질을 형성하였다. 산화알루미늄을 첨가하고 분산될 때까지 고속으로 교반하였다.
표 1은 죤슨 왁스 프로페셔날 플로어 피니시 스트리퍼 프리덤 (Johnson Wax Professional floor finish stripper FREEDOM)을 1 대 4의 희석비로 사용하여 모든 마룻바닥 마감재를 먼저 벗겨낸 대리석 마룻바닥 표면에서의 결과 및 비교 실험을 나타낸다. 상기 표면을 이어서 400 그릿 다이아몬드 폴리싱 스톤으로 호닝 (honing)하여 가능한 균일하게 만들어, 다양한 조성물로 시험하였다. 실시예 1의 조성물을 사용한 작업 1 및 작업 2에 2종의 상이한 도포 방식을 이용하였다.
작업 1은 산업상 통상적인 도포 기술을 이용하였다. 약 2 온스 (56.70 g)의 조성물을 추가의 물과 함께 마룻바닥에 도포한 후, 1회용 카페트 커버를 사용하여 5분 동안 마룻바닥에 섞여들게 하였다. 그 후, 조성물을 자루걸레 및 양동이를 사용하여 제거하였다.
작업 2는 신규한 도포 기술을 이용하였다. 추가의 물을 첨가하지 않고 조성물을 마룻바닥 표면에 도포하고, 1회용 카페트 커버로 버핑 건조시켰다. 버핑 건조는 약 3분이 걸렸다.
작업 3의 "EC 마블 폴리싱 파우더 (EC Marble Polishing Powder)"는 싱가포르 소재의 이스트켐, 피티이, 엘티디. (EastChem, Pte, Ltd)로부터 입수가능하며, 옥살산 및 산화주석을 포함한다. 라벨에 지시된 바와 같이, 1 온스 (28.35 g)의 분말을 4 온스 (113.40 g)의 물과 함께 도포하였다. 상기 재료들을 5분 동안 버핑한 후, 자루걸레 및 양동이를 사용하여 제거하였다.
20 °및 60 °에서의 반사율을 측정하는 광택 계기를 이용하여 초기 광택 및 최종 광택을 측정하였으며, 여기서 숫자가 클수록 더욱 양호한 광택을 나타낸다. 전체적인 외관을 처리된 표면의 균일성, 광택 및 투명성을 기준으로 평가하였다.
작업번호 실시예 초기 광택20 °/60 ° 최종 광택20 °/60 ° 마룻바닥면적 버핑 시간 전체적인 외관(1 = 최상)
1 표 I로부터 2/11 36/69 24 ft2(2.23 m2) 5분 4
2 표 I로부터 2/12 41/71 24 ft2(2.23 m2) 3분 1
3 EC 마블 폴리싱 파우더 2/11 54/68 24 ft2(2.23 m2) 10분 4
표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 모든 조성물이 만족스러운 수준의 광택을 제공하지만 전체적인 가시적 외관은 매우 달랐다. 신규한 도포 기술로 본 발명의 조성물을 도포한 작업 2가 모든 다른 조성물 및 도포 방법보다 성능이 좋았다. 또한, 도포 시간이 상당히 감소되었다. 또한, 작업 2에서는 버핑 건조에 따른 본 발명 조성물의 정화가 매우 간단하였다.
실시예 2는 본 발명의 또다른 조성물을 제공한다.
실시예 2
성분 중량％
물 76.25
트리부톡시에틸포스페이트 0.50
아큐솔 425N 0.25
옥살산 16.00
산화알루미늄 7.00
고속으로 혼합하면서 아큐솔 425N 및 트리부톡시에틸 포스페이트를 물에 첨가함으로써 실시예 2의 조성물을 제조하였다. 이어서, 옥살산을 첨가하고 고속으로 교반하여 균일한 유백색 물질을 형성하였다. 그 후, 산화알루미늄을 첨가하고 분산될 때까지 고속으로 교반하였다.
표 2는 시험 전에 400 그릿 폴리싱 스톤으로 호닝된 25 ft2(2.32 m2)의 베이지색 대리석 마룻바닥 표면 및 25 ft2(2.32 m2)의 백색 대리석 마룻바닥 표면 상에서 수행된 시험으로부터의 결과를 나타낸다. 2 온스 (56.70 g)의 실시예 2의 조성물을 표면에 부은 후, 버핑 건조시킴으로써 작업 1 및 3을 수행하였다. 약 0.5 온스 (14.17 g)의 실시예 2의 조성물을 분무한 후, 버핑 건조시킴으로써 작업 2 및 4를 수행하였다.
작업번호 실시예 초기 광택20 °/60 ° 최종 광택20 °/60 ° 마룻바닥면적 버핑 시간
1(베이지색 타일) 표 II로부터(2 온스(56.70 g)의생성물) 5/26 65/92 25 ft2(2.32 m2) 3분
2(베이지색 타일) 표 II로부터(0.5 온스(14.17 g)의생성물) 65/92 84/98 25 ft2(2.32 m2) 1.5분
3(백색 타일) 표 II로부터(2 온스(56.70 g)의생성물) 4/16 72/92 25 ft2(2.32 m2) 3분
4(백색 타일) 표 II로부터(0.5 온스(14.17 g)의생성물) 72/92 77/97 25 ft2(2.32 m2) 1.5분
실시예 2의 조성물은 실시예 1의 조성물보다 유의하게 증가된 광택 기록을 나타낸다. 상기 조성물은 도포시 버핑 건조시켰으므로 매우 간단한 정화를 필요로하였다. 목적하는 광택을 달성하기 위해서는 추가의 조성물의 도포이 필요한지의 여부도 또한, 조성물을 버핑 건조시키기 때문에 아래에 있는 표면 및 광택 수준을 보기 위해서 슬러리의 제거를 필요로 하는 종래 방법보다 용이하게 알 수 있다.
실시예 3은 본 발명은 또다른 조성물을 제공한다.
실시예 3
성분 중량％
물 76.75
켈잔 T 0.5
트리부톡시에틸포스페이트 0.50
아큐솔 425N 0.25
옥살산 16.00
산화알루미늄 7.00
켈잔 T를 물에 첨가하고 분산될 때까지 고속으로 혼합함으로써 실시예 3의 조성물을 제조하였다. 나머지 성분들을 실시예 2와 같이 첨가하였다.
실시예 4는 본 발명의 또다른 조성물을 제공한다.
실시예 4
성분 중량％
물 61.5
옥살산 30.5
Al2O3 7.00
켈잔 ASX 0.5
KP.140 0.5
100
켈잔 ASX를 물에 첨가하고 분산될 때까지 고속으로 혼합함으로써 실시예 4의 조성물을 제조하였다. 나머지 성분들을 실시예 2와 같이 첨가하였다.
표 3은 시험 전에 400 그릿 폴리싱 스톤으로 호닝된 20 ft2(1.86 m2)의 베이지색 대리석 마룻바닥 표면 상에서 수행된 시험으로부터의 결과를 나타낸다. 본발명의 조성물을 종래 기술의 조성물과 비교하였다. 실시예 4의 조성물을 표면에 부은 후, 버핑 건조시킴으로써 작업을 수행하였다.
조성물 마룻바닥 면적 초기 광택20 °/60 ° 최종 광택20 °/60 °
0.5 온스 (14.17 g)의본 발명의 조성물 28 ft2(2.60 m2) 7.2/21.0 41/74
파스타 블랑카 (Pasta Blanca) 3.5 온스 (99.22 g) 20 ft2(1.86 m2) 7.7/20.2 21/55
테라노바 (Terranova) 20 ft2(1.86 m2) 12.4/29.1 17/46
이러한 실시예들은 본 발명의 조성물의 몇몇 가능한 배합물을 나타낸다. 본 발명의 주제를 상세한 실시양태와 관련하여 설명하였지만, 이러한 설명은 단지 예시를 위한 것이며 본 발명의 범위를 제한하기 위한 것이 아님을 명백하게 이해하여야 한다.

Claims (20)

  1. - 유기 산,
    - 산화금속, 및
    - 가소제
    를 포함하는 표면 복구용 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 분산제를 더 포함하는 표면 복구용 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 증점제를 더 포함하는 표면 복구용 조성물.
  4. 제1항에 있어서,
    - 약 1 내지 50 중량％의 유기 산,
    - 약 1 내지 50 중량％의 산화금속, 및
    - 약 0 내지 5％의 가소제
    를 포함하는 표면 복구용 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 물을 더 포함하는 표면 복구용 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 유기 산이 옥살산, 글리옥실산, 말레산, 살리실산, 타르타르산, 아세트산 및 이들의 블렌드로 이루어진 군으로부터 선택된 것인 표면 복구용 조성물.
  7. 제6항에 있어서, 유기 산이 옥살산인 표면 복구용 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 산화금속이 산화알루미늄, 산화티탄, 산화아연, 산화주석, 이산화규소, 산화지르코늄, 산화망간 및 산화마그네슘, 및 이들의 조합물로 이루어진 군으로부터 선택된 것인 표면 복구용 조성물.
  9. 제8항에 있어서, 산화금속이 미립자 형태이며, 그 입도가 약 1 nm 내지 약 100,000 nm인 표면 복구용 조성물.
  10. 제9항에 있어서, 산화금속이 미립자 형태이며, 그 입도가 약 10 nm 내지 약 100 nm인 표면 복구용 조성물.
  11. 제1항에 있어서, 가소제가 1차 및 2차 알콜, 1차 (포화 및 불포화), 2차, 3차 및 방향족 카르복실산, 벤조에이트 유도체, 포스페이트 유도체, 및 이들의 블렌드인 표면 복구용 조성물.
  12. 약 1 내지 50 중량％의 유기 산, 약 1 내지 50 중량％의 무기 산화금속, 및0 내지 5 중량％의 가소제를 포함하는 표면 복구용 조성물.
  13. 제12항에 있어서, 분산제를 더 포함하는 표면 복구용 조성물.
  14. 제12항에 있어서, 증점제를 더 포함하는 표면 복구용 조성물.
  15. 제12항에 있어서, 물을 더 포함하는 표면 복구용 조성물.
  16. 유기 산, 무기 산화금속 입자, 및 가소제를 포함하며, 석재의 표면을 연마 이외의 방식으로 고광택 마감이 되도록 복구시키는 표면 복구용 조성물.
  17. 제16항에 있어서, 약 1 내지 50 중량％의 유기 산, 약 1 내지 50 중량％의 무기 산화금속, 및 0 내지 5 중량％의 가소제를 포함하는 표면 복구용 조성물.
  18. 조성물을 석재의 표면에 도포하고, 상기 조성물을 건조될 때까지 버핑 (buffing)함으로써, 석재의 표면 상에 원하는 수준의 광택을 달성하는 것을 포함하는 석재 표면의 복구 방법.
  19. 제18항에 있어서, 상기 조성물이 유기 산, 산화금속 및 가소제를 포함하는 것인 석재 표면의 복구 방법.
  20. 제19항에 있어서, 상기 조성물이 약 1 내지 50 중량％의 유기 산, 약 1 내지 50 중량％의 무기 산화금속, 및 0 내지 5 중량％의 가소제를 포함하는 것인 석재 표면의 복구 방법.
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