KR20030014870A - Gas supply system for manufacturing semiconductor devices - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 제조용 가스 공급 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는반도체 제조라인의 외부에서 트레일러 공급방식에 의해 대용량의 가스가 반도체 제조라인으로 공급되는 시스템을 구현한 반도체 제조용 가스 공급 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a gas supply system for semiconductor manufacturing, and more particularly, to a gas supply system for semiconductor manufacturing, which implements a system in which a large amount of gas is supplied to a semiconductor manufacturing line by a trailer supply method outside a semiconductor manufacturing line.
반도체 제조라인 설계시 다양한 가스나 액체를 공급하는 파이프가 청정실 내부 및 외부에 설치되며, 상기 파이프는 소모되는 가스의 양과 가스 공급압력이 감안되어서 일정한 규격을 갖는다. 상기 파이프에는 가스의 공급압력을 조절하기 위한 레귤레이터와, 가스에 포함된 불순물을 걸러내기 위한 필터 등이 설치되며, 일단에는 공정설비가 연결되고 타단에는 가스탱크가 연결된다.In the design of a semiconductor manufacturing line, pipes for supplying various gases or liquids are installed inside and outside the clean room, and the pipes have a constant size in consideration of the amount of gas consumed and the gas supply pressure. The pipe is provided with a regulator for controlling the supply pressure of the gas, a filter for filtering impurities contained in the gas, one end is connected to the process equipment, the other end is connected to the gas tank.
이와 같은 가스공급 시스템의 예가 도 1에 도시되어 있다.An example of such a gas supply system is shown in FIG. 1.
도 1은 종래의 가스 캐비넷을 이용하여 공정설비에 가스를 공급하는 가스 공급 시스템을 보여주는 도면으로서, 두 개의 가스탱크(12)가 가스 캐비넷(10)에 장착되어 있음을 볼 수 있다. 가스 캐비넷(10)은 밸브(14)를 통해 보호덕트(16) 내부에 설치되어 있는 가스공급라인(18)과 연결되어 있다. 상기 가스공급라인(18)에는 다수의 분기라인이 연결되어 있으며, 상기 분기라인은 밸브(20)를 통해 반도체 제조장비(22)에 연결되어 반도체 제조용 가스를 공급한다.1 is a view showing a gas supply system for supplying gas to a process facility using a conventional gas cabinet, it can be seen that two gas tanks 12 are mounted in the gas cabinet 10. The gas cabinet 10 is connected to the gas supply line 18 installed inside the protection duct 16 through the valve 14. A plurality of branch lines are connected to the gas supply line 18, and the branch lines are connected to the semiconductor manufacturing equipment 22 through a valve 20 to supply gas for semiconductor manufacturing.
이와 같이 구성된 종래의 가스 공급시스템은 적어도 둘 이상의 가스탱크(12)에 의해 다수의 반도체 제조장비(22)로 소망하는 반도체 제조용 가스를 공급한다. 상기 둘 이상의 가스탱크(12)는 가스탱크 중 어느 하나의 교환이나 추가장착 또는 점검시 가스가 중단되지 않고 지속적으로 공급되도록 하기 위한 것이다. 이때 사용되는 가스탱크(12) 각각의 용량은 47ℓ정도 되는 양이다.The conventional gas supply system configured as described above supplies a desired semiconductor manufacturing gas to the plurality of semiconductor manufacturing equipments 22 by at least two or more gas tanks 12. The two or more gas tanks 12 are to ensure that the gas is continuously supplied without interruption during the replacement or additional installation or inspection of any one of the gas tanks. At this time, the capacity of each of the gas tanks 12 used is about 47L.
통상, 가스 캐비넷(10) 1대에는 5 내지 20대 정도의 제조장비(22)가 가스공급라인(18)에 분기되어 있는 분기라인에 개별적으로 연결되어서 가스를 공급받는다. 상기 제조장비(22)로는 화학기상증착(CVD), 식각, 사진공정, 이온주입, 확산 등을 위한 장비를 들 수 있다.Typically, one to five gas cabinets (10) manufacturing equipment 22 is connected to the branch line branched to the gas supply line 18 is individually supplied with gas. The manufacturing equipment 22 may include equipment for chemical vapor deposition (CVD), etching, photolithography, ion implantation, diffusion, and the like.
그런데, 이와 같은 종래의 가스 공급 시스템은 다음과 같은 문제점들이 있다. 먼저, 가스탱크(12)의 용량이 47ℓ정도로 작다보니 가스탱크(12)를 자주 교체해야 한다. 이를 위해 셋 이상의 가스탱크를 하나의 캐비넷에 구현한 번들(Bundle) 형태의 공급시스템이 제안되었으나, 이러한 형태의 것도 단순히 종래의 가스 캐비넷(10)의 규모의 확장에 불과한 것이었다.However, such a conventional gas supply system has the following problems. First, since the gas tank 12 has a small capacity of about 47 L, the gas tank 12 should be replaced frequently. To this end, a bundle-type supply system in which three or more gas tanks are implemented in one cabinet has been proposed, but this type was merely an extension of the scale of the conventional gas cabinet 10.
가스탱크(12) 교체를 위해서는 교체기술을 가지고 있는 기술자에 의해 이루어지므로 작업에 대한 인건비가 발생되었다. 그와 함께 가스탱크(12)를 자주 교체하므로 가스 누출위험이 높았으며, 소모성 부품에 대한 비용 발생 및 교체작업 또한 번거러운 일이었다.Since the replacement of the gas tank 12 is made by a technician having replacement technology, labor costs for work are incurred. At the same time, the gas tank 12 was frequently replaced, so the risk of gas leakage was high, and the cost and replacement of consumable parts was also cumbersome.
통상적으로, 가스 캐비넷(10)은 반도체 제조라인 내부에 설치되는데 반도체 생산과 직접 관련되지 않은 공간을 차지하게 되므로 공간활용이 효율적이지 못하였다. 그리고, 가스탱크(12)는 내부의 잔류가스가 전체용량의 10% 정도 남은 상태에서 교체되므로 10%에 대한 비용손실이 발생되었다. 이러한 상기의 번들 형태의 공급시스템에서도 동일한 용량의 가스가 남게 되었다.Typically, the gas cabinet 10 is installed inside the semiconductor manufacturing line, but occupies a space not directly related to semiconductor production, and thus the space utilization is not efficient. In addition, since the gas tank 12 is replaced in a state in which residual gas inside is about 10% of the total capacity, a cost loss of 10% is generated. In such a bundle-type supply system, the same capacity of gas remains.
또한, 작은 용량의 가스탱크(12)는 충진된 가스의 순도가 변하지 않도록 보관된 상태에서 가스를 공급해야 하는데, 실질적으로 가스탱크(12) 자체의 성질에의해 순도를 저하시키는 내부 불순물이 발생되어서 순도가 저하된 가스가 제공되는 문제점이 있었다.In addition, the small-capacity gas tank 12 must supply gas in a state where the purity of the filled gas does not change, and an internal impurity is generated that substantially lowers the purity due to the properties of the gas tank 12 itself. There was a problem that the gas is provided with a lower purity.
전술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 고용량의 가스가 충진된 가스공급수단에 의해 가스가 반도체 제조라인으로 공급됨으로써 가스의 낭비를 막으며, 반도체 제조라인 외부로부터 가스공급이 이루어져서 반도체 제조라인의 공간활용도를 높이는 반도체 제조용 가스 공급 시스템을 제공하는 것이다.An object of the present invention for solving the above problems, the gas is supplied to the semiconductor manufacturing line by the gas supply means filled with a high capacity of gas to prevent the waste of gas, the gas supply from the outside of the semiconductor manufacturing line is made of semiconductor manufacturing It is to provide a gas supply system for semiconductor manufacturing that increases the space utilization of the line.
본 발명의 다른 목적은, 가스탱크에 충진된 가스가 오염되지 않고 순도의 변화없이 공급되도록 하는 반도체 제조용 가스 공급 시스템을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a gas supply system for semiconductor manufacturing, which allows the gas filled in the gas tank to be supplied without contamination and without change in purity.
도 1은 종래의 가스 캐비넷을 이용한 가스 공급 시스템을 보여주는 도면이다.1 is a view showing a gas supply system using a conventional gas cabinet.
도 2는 본 발명에 의한 반도체 제조용 가스 공급 시스템의 일 실시예를 개략적으로 보여주는 도면이다.2 is a view schematically showing an embodiment of a gas supply system for manufacturing a semiconductor according to the present invention.
도 3은 본 발명의 다른 실시예를 보여주는 도면이다.3 is a view showing another embodiment of the present invention.
도 4는 버퍼탱크 기능을 수행하는 파이프 연결구조를 보여주는 도면이다.4 is a view showing a pipe connection structure for performing a buffer tank function.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings
30, 32 : 가스탱크 트레일러34, 36 : 레귤레이터30, 32: gas tank trailer 34, 36: regulator
50, 64 : 정제기52, 66 : 유량계50, 64: refiner 52, 66: flow meter
54, 68, 94, 96 : 다이아프램 밸브100 ~ 600 : 가스공급라인54, 68, 94, 96: diaphragm valve 100 ~ 600: gas supply line
60, 74 : 제조장비92 : 버핑 튜브60, 74: Manufacturing equipment 92: Buffing tube
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 반도체 제조용 가스 공급 시스템은, 반도체 제조용 가스가 충진되어 있는 다수개의 가스 탱크들이 트레일러 단위의 공급원으로 결합되어 반도체 제조라인 외부에서 가스를 공급하는 튜브 트레일러와, 상기 튜브 트레일러로부터 공급되는 가스의 압력을 조절하는 레귤레이터와, 상기 레귤레이터로부터 공급되는 가스를 정제하는 정제기와, 공급되는 가스의 양을 측정하는 유량계 및 가스에 포함된 불순물을 거르는 필터가 구비되어 있는 제 1 가스공급라인, 그리고, 상기 제 1 가스공급라인으로부터 분기되어서 필터링된 가스가 공급되며, 별도의 라인 보호수단에 의해 보호되고, 최종적으로 반도체 제조장비에 연결되는 제 2 가스공급라인이 구비된 것을 특징으로 한다.The gas supply system for semiconductor manufacturing according to the present invention for achieving the above object is a tube trailer for supplying gas from the outside of the semiconductor manufacturing line is coupled to a plurality of gas tanks filled with a gas for semiconductor manufacturing as a trailer unit supply source, the A first regulator including a regulator for regulating the pressure of the gas supplied from the tube trailer, a purifier for purifying the gas supplied from the regulator, a flow meter for measuring the amount of gas supplied and a filter for filtering impurities contained in the gas A gas supply line and a second gas supply line branched from the first gas supply line and supplied with filtered gas, protected by a separate line protection means, and finally connected to the semiconductor manufacturing equipment. It is done.
상기 튜브 트레일러는 둘 이상이 병렬로 설치되어서 가스공급이 중단되지 않고 지속적으로 공급되도록 하는 것이 바람직하다.The tube trailer is preferably two or more installed in parallel so that the gas supply is continuously supplied without interruption.
그리고, 상기 제 1 가스공급라인 또는 제 2 가스공급라인에는 가스가 공급되는 라인 보다 직경이 더 큰 파이프로 연결된 버퍼탱크를 각각의 단부에 형성하는 것이 바람직하다.In addition, the first gas supply line or the second gas supply line is preferably formed at each end of the buffer tank connected to the pipe having a larger diameter than the gas supply line.
이하, 본 발명의 실시예에 대한 설명은 첨부된 도면을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명에 의한 반도체 제조용 가스 공급 시스템의 일 실시예를 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 2에 의하면, 가스공급원으로 튜브 트레일러(30, 32)가 설치되며, 여기에 레귤레이터(34, 36)가 연결되어서 각각의 튜브로부터 공급되는 가스의 압력이 일차로 조절된다. 그 후단에는 전,후단에 밸브(40, 42, 46, 48)가 설치되어 있는 레귤레이터(38, 44)가 병렬로 연결되어 있으며, 이차적인 압력조절이 이루어진다.2 is a view schematically showing an embodiment of a gas supply system for manufacturing a semiconductor according to the present invention. According to FIG. 2, tube trailers 30 and 32 are installed as gas supply sources, and regulators 34 and 36 are connected thereto so that the pressure of the gas supplied from each tube is adjusted first. At the rear end, regulators 38 and 44 having valves 40, 42, 46, and 48 installed at the front and rear ends thereof are connected in parallel, and secondary pressure control is performed.
압력조절된 가스는 제 1 가스공급라인(100, 300)으로 공급되며, 제 1 가스공급라인(100, 300)에는 레귤레이터들(38, 44)과, 정제기(Purifier ; 50, 64)와, 유량계(52, 66)가 설치되어 있다. 병렬로 연결되어 있는 레귤레이터들(38, 44)의 후단에는 정제기(50, 64)가 연결되어 있으며, 정제기(50, 64)의 후단에 유량계(52, 66)가 연결되어 있다. 이렇게 압력이 조절되고 정제된 가스는 다이아프램 밸브(54, 68)를 통해 제 2 가스공급라인(200, 400)으로 공급된다.Pressure-controlled gas is supplied to the first gas supply line (100, 300), the first gas supply line (100, 300), regulators 38, 44, Purifier (50, 64), flow meter 52 and 66 are provided. Purifiers 50 and 64 are connected to the rear ends of the regulators 38 and 44 connected in parallel, and flow meters 52 and 66 are connected to the rear ends of the purifiers 50 and 64. The pressure-controlled and purified gas is supplied to the second gas supply lines 200 and 400 through the diaphragm valves 54 and 68.
각 제 2 가스공급라인(200, 400)은 보호덕트(56, 70) 내부에 설치되어서 외부의 충격이나 자극에 의해 보호되며, 결국 제 2 가스공급라인(200, 400)에서 분기된 라인의 다이아프램 밸브(58, 72)를 통해 제조장비(60, 74)로 가스가 공급된다.Each of the second gas supply lines 200 and 400 is installed inside the protection ducts 56 and 70 to be protected by an external shock or stimulus, and thus, a diamond of a line branched from the second gas supply lines 200 and 400. Gas is supplied to the manufacturing equipment 60, 74 through the pram valves 58, 72.
이와 같이 구성된 본 발명의 제 1 실시예는, 다량의 가스를 저장하고 있는 튜브 트레일러(30, 32)로부터 복수개의 제 2 가스공급라인(200, 400)으로 가스가 공급되고, 결국 제 2 가스공급라인(200, 400)에 각각 연결되어 있는 다수의 제조장비(60, 74)에서 필요로 하는 가스가 공급된다.In the first embodiment of the present invention configured as described above, the gas is supplied from the tube trailers 30 and 32, which store a large amount of gas, to the plurality of second gas supply lines 200 and 400. The gas required by the plurality of manufacturing equipments 60 and 74 connected to the lines 200 and 400, respectively, is supplied.
본 발명의 실시예는 헬륨(He) 가스를 비롯하여 반도체 제조라인에서 사용되는 가스공급에 관한 것이며, 수소, 질소, 산소 등의 가스공급 방식에 모두 적용될 수 있음은 당연하다.Embodiment of the present invention relates to the gas supply used in the semiconductor manufacturing line, including helium (He) gas, it can be applied to all of the gas supply method such as hydrogen, nitrogen, oxygen.
실시예의 튜브 트레일러(30, 32)는 튜브 하나의 용량이 약 930ℓ이며, 이러한 튜브가 23개 적재된다. 그리고, 이들 튜브들은 하나의 공급수단에 의해 결합되어 가스가 공급됨으로써 대용량의 가스를 중단되지 않고 지속적으로 공급하게 된다.The tube trailers 30 and 32 of the embodiment have a capacity of about 930 liters of one tube, and 23 such tubes are loaded. And, these tubes are combined by a single supply means to supply gas to continuously supply a large amount of gas without interruption.
레귤레이터(34, 36)는 튜브 트레일러(30, 32)로부터 공급되는 가스의 압력을 조절하여 후단으로 가스를 공급한다. 일차적으로 압력이 조절된 상기 가스는 다시 밸브(40)와 밸브(42) 사이에 설치되어 있는 레귤레이터(38)를 통해 다시 2차로 압력이 조절된 후 라인 내부로 공급된다. 그리고, 병렬로 연결되어 있는 레귤레이터(44)에서도 이와 같이 동일하게 압력조절 및 가스공급이 수행된다.The regulators 34 and 36 adjust the pressure of the gas supplied from the tube trailers 30 and 32 to supply gas to the rear end. The gas, which is primarily pressure controlled, is supplied again into the line after the pressure is secondarily regulated again through a regulator 38 installed between the valve 40 and the valve 42. In the regulator 44 connected in parallel, the pressure regulation and the gas supply are performed in the same manner.
이렇게 감압된 가스는 불순물 제거를 위해 서로 다른 정제기(50, 64)를 통하게 된다. 상기 정제기(50, 64)는 각각 서로 다른 시설물이나 공급라인으로 연결되는 시작점일 수 있다. 정제된 가스는 유량계(52, 66)와 다이아프램 밸브(54, 68)를통해 제 2 가스공급라인(200, 400)으로 공급된다. 이때 제 2 가스공급라인(200, 400)은 실질적으로 반도체 제조장비(60, 74)들이 설치되어 있는 청정실 내부의 공정라인을 말한다. 결국 제 2 가스공급라인(200, 400)의 분기된 라인에 설치된 밸브(58, 72)를 통해 반도체 제조용 가스가 제조장비(60, 74)로 공급된다.The gas thus decompressed is passed through different purifiers 50 and 64 to remove impurities. The refiners 50 and 64 may be starting points connected to different facilities or supply lines, respectively. The purified gas is supplied to the second gas supply lines 200 and 400 through the flow meters 52 and 66 and the diaphragm valves 54 and 68. In this case, the second gas supply lines 200 and 400 substantially refer to process lines inside the clean room in which the semiconductor manufacturing equipment 60 and 74 are installed. As a result, the semiconductor manufacturing gas is supplied to the manufacturing equipment 60 and 74 through the valves 58 and 72 installed in the branched lines of the second gas supply lines 200 and 400.
이와 같이 본 발명의 제 1 실시예는 대용량의 가스가 충진되어 있는 튜브 트레일러(30, 32)로부터 제조장비(60, 74)로 직접 가스가 공급된다.Thus, the first embodiment of the present invention is directly supplied gas to the manufacturing equipment (60, 74) from the tube trailer (30, 32) filled with a large amount of gas.
다음으로, 본 발명의 제 2 실시예가 도 3에 도시되어 있으며, 제 1 실시예에 기재된 구성요소와 같은 구성요소는 동일한 부호로 기재하고, 추가적인 설명은 생략한다.Next, a second embodiment of the present invention is shown in Fig. 3, and the same components as those described in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and further description thereof will be omitted.
도 3에 의하면, 레귤레이터(38, 44)의 후단에는 제 3 가스공급라인(500)이 형성되어 있으며, 제 3 가스공급라인(500)에는 정제기(50, 64)와 유량계(52)가 설치되어 있다. 그리고, 유량계(52)의 후단에는 필터(78, 80)들이 설치되어 있으며, 필터(78, 80) 후단에는 서로의 라인이 연통되는 연결라인(82, 84)이 설치되어 있다. 이들 연결라인(82, 84)은 가스공급이 이루어지고 있는 어느 하나의 가스공급라인에서 갑작스럽게 가스 소모량이 증가할 때 다른 가스공급라인에서 가스가 보충될 수 있도록 하는 것이다.3, the third gas supply line 500 is formed at the rear end of the regulators 38 and 44, and the refiner 50 and 64 and the flow meter 52 are installed in the third gas supply line 500. have. The rear end of the flow meter 52 is provided with filters 78 and 80, and the rear end of the filter 78 and 80 is provided with connection lines 82 and 84 that communicate with each other. These connection lines 82 and 84 allow gas to be replenished in another gas supply line when the gas consumption increases suddenly in one gas supply line in which the gas supply is made.
연결라인(82)의 후단에는 다수의 밸브(54, 68)들을 통해 제 4 가스공급라인(600)이 분기되어 있다. 제 4 가스공급라인(600)은 보호덕트(70) 내부에 설치되어 있으며, 그 라인상에는 다수의 반도체 제조장비(76)들이 밸브(75)들을 통해 연결되어 있다.The fourth gas supply line 600 is branched through the plurality of valves 54 and 68 at the rear end of the connection line 82. The fourth gas supply line 600 is installed in the protection duct 70, and a plurality of semiconductor manufacturing equipments 76 are connected through the valves 75 on the line.
상기한 본 발명의 제 1 실시예 및 제 2 실시예에서 언급된 제 2 및 제 4 가스공급라인(200, 400 및 600)까지 연결되는 라인들은 스테인레스 스틸 재질의 1/2 인치(inch) 파이프로 이루어진다. 상기 라인을 통해 제조장비(60, 74, 76)가 연결되며 제 2 및 제 4 가스공급라인(200, 400 및 600)의 후단부에는 버퍼탱크(Buffer Tank)를 형성하는 것이 바람직하다. 상기 버퍼탱크는 다수의 제조장비(60, 74)에서 동시에 많은 양의 가스가 사용될 경우 일시적인 가스공급 불량이 발생될 수 있으므로 미리 가스를 보충해 두기 위함이다.The lines connected to the second and fourth gas supply lines 200, 400, and 600 mentioned in the first and second embodiments of the present invention described above are made of 1/2 inch pipe made of stainless steel. Is done. The manufacturing equipment 60, 74, 76 is connected through the line, it is preferable to form a buffer tank (Buffer Tank) at the rear end of the second and fourth gas supply line (200, 400 and 600). The buffer tank is intended to supplement the gas in advance because a temporary gas supply failure may occur when a large amount of gas is used simultaneously in a plurality of manufacturing equipment (60, 74).
상기 버퍼탱크 구성의 예가 도 4에 도시되어 있다. 버퍼탱크는 제 2 및 제 4 가스공급라인(200, 400 및 600)을 이루는 스테인레스 스틸 재질의 1/2 인치 파이프(90)에 그 보다 직경이 더 큰 1 인치 파이프(92)를 결합한 것이다. 상기 1 인치 파이프(92)에는 제조장비를 연결하기 위한 밸브들(94)이 설치되는데, 그 크기는 1 인치 보다 작은 1/2 인치 직경을 갖도록 하며, 다이아프램 밸브를 적용한다. 이로써 소모량이 급증할 때 발생되는 일시적인 가스공급 중단현상이 상기 버퍼탱크에 의해 해소된다. 그리고, 제 2 실시예에서는 연결라인(82, 84)에 의해서도 상기 가스공급 중단현상과 같은 오류가 방지된다.An example of the buffer tank configuration is shown in FIG. 4. The buffer tank combines a 1 inch pipe 92 having a larger diameter to the 1/2 inch pipe 90 made of stainless steel forming the second and fourth gas supply lines 200, 400, and 600. The one-inch pipe 92 is provided with valves 94 for connecting manufacturing equipment, the size of which has a diameter of 1/2 inch less than 1 inch, and applies a diaphragm valve. As a result, the temporary stop of gas supply caused when the consumption increases rapidly is eliminated by the buffer tank. In the second embodiment, the connection lines 82 and 84 also prevent errors such as the gas supply interruption.
이와 같이 본 발명에 의한 실시예에 의하면, 특히 가스가 튜브 트레일러(30, 32)를 통해 공급되므로 그에 따르는 경제적인 효과가 큼을 알 수 있다. 예를 들면, 가스 충진량이 많아서 튜브 트레일러를 자주 교체하지 않으므로 튜브 트레일러의 교체비용 및 인건비가 절감된다. 뿐만 아니라, 본 발명의 실시예는 반도체 제조라인 내부에 가스공급을 위한 별도의 공간이 필요치 않으므로 남는 공간은 유휴공간으로 활용하거나 제조라인의 설계시 크기를 작게 설계할 수 있는 이점이 있다.Thus, according to the embodiment according to the present invention, in particular, since the gas is supplied through the tube trailers (30, 32) it can be seen that the economic effect is large accordingly. For example, because of the high amount of gas filling, the tube trailer is not frequently replaced, thereby reducing the replacement cost and labor of the tube trailer. In addition, since the embodiment of the present invention does not require a separate space for supplying gas inside the semiconductor manufacturing line, the remaining space has an advantage of being used as an idle space or designing a small size when designing the manufacturing line.
본 발명에 의하면, 고용량의 가스가 충진된 튜브 트레일러를 통해 가스를 공급함으로써 가스 낭비를 방지하여 반도체 제조원가가 절감되며, 반도체 제조라인 외부로부터 가스공급라인을 통해 가스가 공급되어서 제조라인의 공간활용도가 높아지는 효과가 있다.According to the present invention, by supplying the gas through a gas trailer-filled tube trailer to prevent gas waste, semiconductor manufacturing cost is reduced, gas is supplied through the gas supply line from the outside of the semiconductor manufacturing line space utilization of the manufacturing line There is a rising effect.
튜브 트레일러에 충진된 오염되지 않은 고순도의 가스가 직접 제조장비에 공급됨으로써 가스에 의한 오염방지는 물론 수율향상에 기여하는 효과가 있다.The uncontaminated, high-purity gas filled in the tube trailer is directly supplied to the manufacturing equipment, thereby preventing pollution and contributing to yield improvement.
그리고, 두 대의 튜브 트레일러를 사용하여 무중단 가스공급이 실현되며, 가스공급라인에 버퍼탱크를 설치함으로써 급격한 가스공급량의 증가시에도 유연하게 대처할 수 있는 효과가 있다.In addition, non-stop gas supply is realized by using two tube trailers, and by installing a buffer tank in the gas supply line, it is possible to flexibly cope with a sudden increase in gas supply.
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2001
- 2001-08-13 KR KR1020010048756A patent/KR100562536B1/en not_active IP Right Cessation
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