KR200291826Y1 - Light guide plate having 2-dimensional pattern - Google Patents

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KR200291826Y1 KR2020020019565U KR20020019565U KR200291826Y1 KR 200291826 Y1 KR200291826 Y1 KR 200291826Y1 KR 2020020019565 U KR2020020019565 U KR 2020020019565U KR 20020019565 U KR20020019565 U KR 20020019565U KR 200291826 Y1 KR200291826 Y1 KR 200291826Y1
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Abstract

본 고안은 정형화된 공식을 사용하여 도광판에 2차원의 광반사 구조체를 형성함으로써 균일한 휘도특성을 얻으면서 개발시간을 단축시킨 최적의 2차원 패턴의 도광판에 관한 것이다.The present invention relates to a light guide plate having an optimal two-dimensional pattern that reduces development time while obtaining uniform luminance characteristics by forming a two-dimensional light reflection structure on the light guide plate using a formula.

이를 위하여 본 고안은, 가로 및 세로 방향으로 등간격의 광반사 구조체를 형성하고, 광입사 방향과 수직으로 형성되어 있는 X축 광반사 구조체에 의한 광반사율(R)과 광반사 구조체에 의해 나누어진 n 번째 단위영역의 광반사율(Rn)과 n 번째 단위영역의 패턴간격(dn)을 공식으로 결정하여 광반사 구조체의 패턴을 형성한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판을 제공한다.To this end, the present invention forms a light reflecting structure at equal intervals in the horizontal and vertical directions, and is divided by the light reflectance (R) and the light reflecting structure by the X-axis light reflecting structure formed perpendicular to the light incidence direction. A light guide plate having a two-dimensional pattern is formed by determining a light reflectance (R n ) of an n th unit region and a pattern interval d n of an n th unit region by a formula.

따라서, 본 고안은 도광판 패턴의 개발기간을 최소화하면서 최상의 성능을 실현할 수 있는 최적의 조건을 찾을 수 있는 설계기술 이론을 정립하고, 이 결과를 토대로 새로운 모델의 도광판을 제조할 수 있는 효과가 있다.Therefore, the present invention establishes the theory of design technology to find the optimal conditions for realizing the best performance while minimizing the development period of the light guide plate pattern, and has the effect of manufacturing a light guide plate of a new model based on the result.

Description

2차원 패턴의 도광판{LIGHT GUIDE PLATE HAVING 2-DIMENSIONAL PATTERN}LIGHT GUIDE PLATE HAVING 2-DIMENSIONAL PATTERN}

본 고안은 정형화된 공식을 사용하여 도광판에 2차원의 광반사 구조체를 형성함으로써 균일한 휘도특성을 얻으면서 개발시간을 단축시킨 최적의 2차원 패턴의 도광판에 관한 것이다.The present invention relates to a light guide plate having an optimal two-dimensional pattern that reduces development time while obtaining uniform luminance characteristics by forming a two-dimensional light reflection structure on the light guide plate using a formula.

일반적으로 디스플레이 장치는 정보화 사회에 있어서 핵심적인 전자제품 중하나이다. 그 중에서 액정표시장치와 같은 영상표시 장치의 백라이트(Back Light)로 널리 쓰이는 도광판은 투명한 평행평판이나 단면 쐐기형 평판으로 이루어진 판체의 일측으로 광원으로부터 발생되는 빛을 전반사시켜 도광판의 전역이 골고루 조명되게 한 것으로, 음극선관(CRT)으로 대표되던 디스플레이 장치를 액정디스플레이(LCD)로 대체하고 있는 산파역을 담당하고 있다.In general, display devices are one of the key electronic products in the information society. Among them, a light guide plate widely used as a back light of an image display device such as a liquid crystal display device is one side of a plate made of a transparent parallel flat plate or a wedge-shaped flat plate to totally reflect the light generated from the light source so that the entire light guide plate is evenly illuminated. For example, it is in charge of the midwifery who is replacing the display device represented by cathode ray tube (CRT) with liquid crystal display (LCD).

백라이트의 성능이 제조업체 및 제품마다 차이가 나는 것은 바로 도광판에 의한 것이며, 백라이트의 개발에 있어서 도광판의 설계는 가장 중요한 일이다.It is the light guide plate that the backlight performance is different among manufacturers and products, and the design of the light guide plate is the most important task in the development of the backlight.

백라이트는 LCD 장치의 핵심적인 부분으로 자리할 만큼 중요한 부품임에도 불구하고 양적인 발전에만 치우쳐서, 질적 수준이라 할 수 있는 신기술 개발은 큰 진전이 이루어지지 못하고 있는 실정이다.Despite the fact that the backlight is an important component to be an essential part of the LCD device, the development of new technology, which is a qualitative level, is not making much progress because of the quantitative development.

백라이트에 관련된 기술 중에서 가장 핵심이 되는 것은 도광판 설계기술이다. 지금까지는 국내업체들이 외국업체의 기술에 의존하거나 자체적으로 축적한 경험에 의한 시행착오적인 방법을 사용하였다.The core of the technology related to the backlight is the light guide plate design technology. Until now, Korean companies have used trial and error methods based on their own experience or depend on foreign technology.

따라서, 신제품 개발에 많은 시간이 소요되어 신제품 출시에 대한 대응능력이 많이 떨어져 경쟁력 있는 제품개발을 실현하기 어려운 문제점이 있었다.Therefore, it takes a lot of time to develop a new product has a problem that it is difficult to realize a competitive product development because the ability to respond to the new product is released a lot.

그리고, 도광판에 형성되는 광반사 구조체에 대한 패턴설계를 정형화시킨 공식없이 경험에 의존하여 패턴을 개발하는 등의 문제점이 있었다.In addition, there is a problem such as developing a pattern based on experience without a formula for formulating a pattern design for a light reflection structure formed on the light guide plate.

본 고안은 이러한 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 본 고안은 정형화된 공식을 사용하여 도광판에 2차원의 광반사 구조체를 형성함으로써 균일한 휘도특성을 얻으면서 개발시간을 단축시킨 최적의 2차원 패턴의 도광판을 제공함에 그 목적이 있다.The present invention has been devised to solve these problems, and the present invention uses a formula to form a two-dimensional light reflection structure on a light guide plate to obtain a uniform luminance characteristic and to reduce development time. To provide a light guide plate of the purpose.

본 고안의 다른 목적은 광반사 상기 정형화된 공식을 사용하여 도광판에 2차원의 광반사 구조체를 형성시, 휘도가 불균일한 부분을 정형화된 보정공식을 사용하여 균일한 특성을 얻을 수 있는 2차원 패턴의 도광판을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to form a two-dimensional light reflection structure on the light guide plate by using the light reflection formula, the two-dimensional pattern that can obtain a uniform characteristic by using a standardized correction formula for the non-uniform brightness portion To provide a light guide plate.

본 고안의 또 다른 목적은 단위영역별로 서로 다른 깊이의 2차원 광반사 구조체를 형성함으로써 균일한 휘도특성을 얻으면서 개발시간을 단축시킨 2차원 패턴의 도광판을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a light guide plate having a two-dimensional pattern in which two-dimensional light reflection structures having different depths are formed for each unit area, thereby achieving uniform luminance characteristics and shortening development time.

도 1은 본 고안에 따른 2차원 패턴의 도광판 설계방법의 일실시예를 도시한 순서도이고,1 is a flow chart showing an embodiment of a light guide plate design method of a two-dimensional pattern according to the present invention,

도 2는 본 고안에 따른 2차원 패턴의 도광판 설계방법의 다른 실시예를 도시한 순서도이고,2 is a flow chart showing another embodiment of a light guide plate design method of a two-dimensional pattern according to the present invention,

도 3은 등간격의 V 홈을 형성한 15인치 도광판의 측정값과 계산값을 도시한 그래프이다.3 is a graph showing measured and calculated values of a 15-inch light guide plate having equally spaced V grooves.

도 4는 X축 패턴간격(dn)에 따라 V 홈을 형성한 15인치 도광판의 측정값이다.FIG. 4 is a measured value of a 15-inch light guide plate in which V grooves are formed according to the X-axis pattern interval d n .

상기 목적을 달성하기 위하여 본 고안의 일 실시예에서는 가로 및 세로 방향으로 등간격의 광반사 구조체를 형성하고, 광입사 방향과 수직으로 형성되어 있는 X축 광반사 구조체에 의한 광반사율(R)과 상기 광반사 구조체에 의해 나누어진 n 번째 단위영역의 광반사율(Rn) 및 n 번째 단위영역의 X축 패턴간격(dn)을 공식으로 결정하여 상기 광반사 구조체의 패턴을 형성한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판을 제공한다.In order to achieve the above object in one embodiment of the present invention to form a light reflecting structure of equal intervals in the horizontal and vertical direction, the light reflectance (R) by the X-axis light reflecting structure is formed perpendicular to the light incident direction and The light reflectance (R n ) of the n-th unit region divided by the light reflecting structure and the X-axis pattern interval (d n ) of the n-th unit region is determined by a formula to form a pattern of the light reflecting structure A light guide plate having a two-dimensional pattern is provided.

또, 본 고안은, 동일한 패턴으로 광반사 구조체를 형성한 경우, 상기 광반사율(R)을In addition, the present invention, when the light reflecting structure is formed in the same pattern, the light reflectance (R)

In= Io(1-R)n-1R,I n = I o (1-R) n-1 R,

In: n번째 단위영역의 광량, Io: 총 입사광량I n : light quantity in n-th unit area, I o : total incident light quantity

을 이용하여 결정한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판으로서 상술한 과제를 해결한다.The problem mentioned above is solved by the light guide plate of the two-dimensional pattern characterized by using the above.

또, 본 고안은, 단위영역의 개수가 N이고 각각의 단위영역에서 방출되는 광량이 균일할 때, n번째 단위영역의 광반사율(Rn)을In addition, in the present invention, when the number of unit regions is N and the amount of light emitted from each unit region is uniform, the light reflectance R n of the n-th unit region is determined.

Rn= {1-N(1-r)n-1r} / {N-(n-1)}, r : Y축 광반사 구조체에 의한 광반사율R n = {1-N (1-r) n-1 r} / {N- (n-1)}, r: light reflectance by the Y-axis light reflecting structure

으로 결정한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판으로서 상술한 과제를 해결한다.The problem mentioned above is solved as a light guide plate of the two-dimensional pattern characterized by the above-mentioned.

또, 본 고안은, n번째 단위영역의 X축 패턴간격(dn)을In addition, the present invention provides the X-axis pattern spacing d n of the n-th unit region.

dn= {N-(n-1)}R/{1-N(1-r)n-1r} ㆍ L/N, L : 도광판의 길이d n = {N- (n-1)} R / {1-N (1-r) n-1 r} ㆍ L / N, L: length of light guide plate

으로 결정한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판으로서 상술한 과제를 해결한다.The problem mentioned above is solved as a light guide plate of the two-dimensional pattern characterized by the above-mentioned.

또, 본 고안은, 휘도 불균일 단위영역에 대한 X축 보정 패턴간격(fn)을The present invention also provides an X-axis correction pattern interval f n for the luminance nonuniformity unit region.

fn= R/[2{1-N(1-r)n-1r}/{N-(n-1)}-{(1/N)+( ΔIn/Io)}]ㆍL/N,f n = R / [2 {1-N (1-r) n-1 r} / {N- (n-1)}-{(1 / N) + (ΔI n / I o )}] L / N,

ΔIn= n 번째 단위영역에서 증가된 광량ΔI n = increased amount of light in the nth unit area

으로 결정하여 상기 광반사 구조체의 패턴을 형성한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판으로서 상술한 과제를 해결한다.The above-mentioned problem is solved by the light-guide plate of the two-dimensional pattern which determined and formed the pattern of the said light reflection structure.

또, 본 고안은, 상기 광반사 구조체가 광산란 인쇄방식, V 홈 방식, U 홈 방식, 정형시보 방식, 무정형 시보방식, OPI 방식 중 하나를 이용하여 상기 도광판의 후면에 형성된 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판으로서 상술한 과제를 해결한다.In addition, the present invention, the light reflection structure is a two-dimensional, characterized in that formed on the back of the light guide plate using one of light scattering printing method, V groove method, U groove method, orthogonal time signal method, amorphous time signal method, OPI method The above-mentioned problem is solved as a light guide plate of a pattern.

또, 본 고안은, 상기 도광판이 금형제작 방식, 인쇄방식, V 커팅방식, U 커팅방식 중 하나를 이용하여 제작된 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판으로서 상술한 과제를 해결한다.The present invention also solves the above-described problems as a light guide plate having a two-dimensional pattern, wherein the light guide plate is manufactured using one of a mold manufacturing method, a printing method, a V cutting method, and a U cutting method.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 고안의 다른 실시예에서는 동일한 간격을 유지하면서 서로 다른 깊이의 광반사 구조체를 가로 및 세로 방향으로 형성하여 광입사 방향과 수직으로 형성되어 있는 X축 광반사 구조체에 의한 광반사율(R)을 측정하고, n 번째 단위영역의 광반사율(Rn)을 결정한 후, 상기 광반사율(Rn)에 해당하는 n번째 단위영역의 X축 패턴깊이(hn)를 상기 광반사율(R)로부터 결정하여 상기 광반사 구조체의 패턴을 형성한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판을 제공한다.In order to achieve the above object, in another embodiment of the present invention, a light reflection structure having different depths is formed in the horizontal and vertical directions while maintaining the same spacing, and is formed by the X-axis light reflection structure formed perpendicular to the light incidence direction. After measuring the light reflectance (R) and determining the light reflectance (R n ) of the n-th unit region, the X-axis pattern depth (h n ) of the n-th unit region corresponding to the light reflectance (R n ) is determined. A light guide plate having a two-dimensional pattern is formed by determining the pattern of the light reflection structure by determining from the reflectance (R).

또, 본 고안은, 단위영역의 개수가 N이고 각각의 단위영역에서 방출되는 광량이 균일할 때, 상기 n번째 단위영역의 광반사율(Rn)을In addition, the present invention, when the number of the unit region is N and the amount of light emitted from each unit region is uniform, the light reflectance (R n ) of the n-th unit region is

Rn= {1-N(1-r)n-1r} / {N-(n-1)}R n = {1-N (1-r) n-1 r} / {N- (n-1)}

r : Y축 광반사 구조체에 의한 광반사율r: light reflectance by the Y-axis light reflecting structure

으로 결정한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판으로서 상술한 과제를해결한다.The problem mentioned above is solved as a light guide plate of the two-dimensional pattern characterized by the above-mentioned.

또, 본 고안은, 휘도 불균일 단위영역에 대한 X축 보정 패턴깊이(jn)를 상기 광반사율(R)로부터 결정하여 상기 광반사 구조체의 패턴을 형성한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판으로서 상술한 과제를 해결한다.In addition, the present invention is a light guide plate of a two-dimensional pattern, characterized in that the pattern of the light reflection structure is formed by determining the X-axis correction pattern depth (j n ) for the luminance nonuniformity unit region from the light reflectivity (R). The above problem is solved.

또, 본 고안은, 상기 휘도 불균일 단위영역에 대한 광반사율(Rs)을The present invention also provides a light reflectance (R s ) for the luminance nonuniformity unit region.

In= Io(1-Rs)n-1Rs,I n = I o (1-R s ) n-1 R s ,

In: n번째 단위영역의 광량, Io: 총 입사광량I n : light quantity in n-th unit area, I o : total incident light quantity

을 이용하여 결정한 후, n 번째 단위영역의 광반사율(Rn)과 휘도 불균일 단위영역에 대한 광반사율(Rs)의 차이에 해당하는 휘도 불균일 단위영역에 대한 X축 보정 패턴깊이(jn)를 상기 X축 광반사 구조체에 의한 광반사율(R)로부터 결정한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판으로서 상술한 과제를 해결한다.After determining by using, the X-axis correction pattern depth (j n ) for the luminance nonuniformity unit area corresponding to the difference between the light reflectance (R n ) of the nth unit region and the light reflectance (R s ) for the luminance nonuniformity unit region The problem described above is solved by the light guide plate of the two-dimensional pattern which was determined from the light reflectivity R by the said X-axis light reflection structure.

또, 본 고안은, 상기 광반사 구조체가 V 홈 방식 또는 U 홈 방식을 이용하여 상기 도광판의 후면에 형성된 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판으로서 상술한 과제를 해결한다.In addition, the present invention solves the above-described problems as a light guide plate having a two-dimensional pattern, wherein the light reflection structure is formed on the rear surface of the light guide plate using a V groove method or a U groove method.

또, 본 고안은, 상기 도광판이 금형제작 방식, 인쇄방식, V 커팅방식, U 커팅방식 중 하나를 이용하여 제작된 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판으로서 상술한 과제를 해결한다.The present invention also solves the above-described problems as a light guide plate having a two-dimensional pattern, wherein the light guide plate is manufactured using one of a mold manufacturing method, a printing method, a V cutting method, and a U cutting method.

본 고안의 목적과 특징 및 장점은 첨부 도면 및 다음의 상세한 설명을 참조함으로서 더욱 쉽게 이해될 수 있을 것이다.The objects, features and advantages of the present invention will be more readily understood by reference to the accompanying drawings and the following detailed description.

본 고안은 정형화된 공식을 사용하여 도광판에 2차원의 광반사 구조체를 형성함으로써 균일한 휘도특성을 얻으면서 개발시간을 단축시킨 최적의 2차원 패턴의 도광판을 바람직한 실시예로 제안한다.The present invention proposes a light guide plate having an optimal two-dimensional pattern which achieves uniform luminance characteristics and shortens development time by forming a two-dimensional light reflection structure on the light guide plate using a formulated formula as a preferred embodiment.

균일한 휘도 특성을 가지는 2차원의 도광판 패턴을 신속하게 얻기 위한 설계방법을 도 1 내지 도 3을 참조하여 살펴보면 다음과 같다.A design method for quickly obtaining a two-dimensional light guide plate pattern having uniform luminance characteristics will be described with reference to FIGS. 1 to 3.

도 1은 본 고안에 따른 2차원 패턴의 도광판 설계방법의 일실시예를 도시한 순서도이다.1 is a flowchart illustrating an embodiment of a method of designing a light guide plate having a two-dimensional pattern according to the present invention.

먼저, 제작하고자 하는 도광판의 규격을 선정한다. 본 고안을 이용하여 도광판 패턴을 설계하는 데는 도광판의 규격 즉, 가로나 세로 길이의 크기에 제한없이 적용이 가능하다.First, the standard of the light guide plate to be manufactured is selected. The design of the light guide plate pattern using the present invention can be applied without limitation to the size of the light guide plate, that is, the size of the width or length.

도광판의 규격이 선정되면 도광판의 4 모서리 중에서 광원이 설치될 위치를 선정한다. 위치가 선정된 광원으로부터 입사된 광은 도광판 내부로 전반사 되어 진행하면서, 도광판 후면의 광반사 구조체에 의해 반사되어 백라이트용 도광판으로서의 기능을 가지게 된다.When the size of the light guide plate is selected, the position where the light source is to be installed is selected from four corners of the light guide plate. The light incident from the selected light source is totally reflected into the light guide plate and is reflected by the light reflection structure on the rear surface of the light guide plate to have a function as a light guide plate for a backlight.

그 다음, 도광판에 가로 및 세로 방향으로 등간격의 광반사 구조체를 형성한다(S100). 이 때, 광반사 구조체에 의해 나누어진 영역을 단위영역으로 정의하며, 광반사 구조체는 단위영역별로 동일한 패턴인 것이 바람직하다. 각 단위영역의 폭은 가로와 세로 방향으로 각각 일정하게 하며, 단위영역의 폭은 최소 반사율을 갖는 광반사 구조체를 적어도 한 개는 형성할 수 있는 값으로 하는 것이 바람직하다.Next, a light reflection structure having equal intervals in the horizontal and vertical directions on the light guide plate (S100). In this case, the area divided by the light reflection structure is defined as a unit area, and the light reflection structure is preferably the same pattern for each unit area. The width of each unit region is constant in the horizontal and vertical directions, respectively, and the width of the unit region is preferably a value capable of forming at least one light reflection structure having a minimum reflectance.

광반사 구조체는 광산란 인쇄방식, V 홈 방식, U 홈 방식, 정형시보 방식, 무정형 시보방식, OPI 방식 중 하나를 이용하여 도광판의 후면에 형성한다.The light reflection structure is formed on the rear surface of the light guide plate using one of light scattering printing method, V groove method, U groove method, orthopedic signal method, amorphous time signal method, and OPI method.

광산란 인쇄방식은 광반사 효율이 높은 물질을 인쇄방식으로 도광판에 구성하는 것이고, 홈 방식은 V, U, 사각형 또는 원형 홈을 도광판에 직접 새기거나 금형에 의해 형성시키는 것이다.The light scattering printing method is to form a material having high light reflection efficiency on the light guide plate by printing method, and the groove method is to engrave V, U, square or circular grooves directly on the light guide plate or to form the mold.

따라서, 광산란 인쇄방식의 경우는 동일한 면적을 가지는 인쇄물질을 형성하는 것이고, V 홈 방식, U 홈 방식, 정형시보 방식, 무정형 시보방식, OPI 방식은 동일한 깊이로 형성하는 것이다.Therefore, in the light scattering printing method, the printing material having the same area is formed, and the V groove method, the U groove method, the standard time signal method, the amorphous time signal method, and the OPI method are formed with the same depth.

도광판에 형성한 광반사 구조체가 N+1개이면, 광원이 입사될 한쪽 단면에서부터 도광판의 반대편 단면까지는 N개의 단위영역이 균일하게 형성된다.When there are N + 1 light reflecting structures formed on the light guide plate, N unit regions are uniformly formed from one end face to which the light source is incident to the other end face of the light guide plate.

S100 단계에서 광반사 구조체를 형성한 다음에는, 백라이트 상태로 조립하여 n번째 단위영역의 광량(In)을 측정한다(S110). 그리고, 광입사 방향과 수직으로 형성되어 있는 X축 광반사 구조체에 의한 광반사율(R)과 n번째 단위영역의 광반사율(Rn)을 결정한다(S120).After the light reflection structure is formed in step S100, the light reflection structure is assembled in a backlight state to measure the light amount I n of the n-th unit region (S110). And determines the optical reflectivity (R n) of the light reflection factor (R) and n-th unit areas according to the light incidence direction and the X-axis the reflecting structure is formed perpendicularly (S120).

S110 단계에서 측정한 광량(In)을 수학식 1에 적용하여 연립방정식으로 풀면, 광반사 구조체에 의한 광반사율(R)을 결정할 수 있다.When the amount of light I n measured at step S110 is applied to Equation 1 to solve the system of simultaneous equations, the light reflectance R due to the light reflection structure may be determined.

, ,

Io: 총 입사광량I o : Total incident light

예를 들어, 광산란 인쇄방식을 이용한 광반사 구조체를 도광판에 형성하는 경우, 수학식 1은 인쇄된 광반사체 면적의 크기에 따른 광반사율을 결정할 수 있게 된다.For example, when the light reflecting structure using the light scattering printing method is formed on the light guide plate, Equation 1 may determine the light reflectance according to the size of the printed light reflector area.

그리고, V 홈이나 다른 형태의 광반사체를 가공하여 직접 도광판에 형성하거나 금형에 광반사체를 새겨서 도광판에 형성하는 경우, 광반사체의 가공정도에 따른 광반사율을 결정할 수 있게 된다.In addition, when the V groove or another type of light reflector is processed and formed directly on the light guide plate, or the light reflector is engraved on the mold to be formed on the light guide plate, the light reflectance according to the processing degree of the light reflector can be determined.

총 입사광량의 측정값이 정확하면 S110 단계에서 측정한 광량(In)을 수학식 1에 적용하여 광반사 구조체에 의한 광반사율(R)을 결정할 수도 있다.If the measured value of the total incident light is accurate, the light reflectance R by the light reflection structure may be determined by applying the light amount I n measured in step S110 to Equation 1.

표 1은 등간격의 V 홈을 형성한 15인치 도광판의 광량 측정값과 계산값이다.Table 1 shows the light quantity measured values and calculated values of a 15-inch light guide plate having equally spaced V grooves.

단위영역(N)(단위 : mm)Unit area (N) (Unit: mm) 측정값(In)(단위 : cd/m2)Measured value (I n ) (unit: cd / m 2 ) 계산값(In)(단위 : cd/m2)Calculated Value (I n ) (Unit: cd / m 2 ) 측정조건Measuring conditions 1010 681681 828828 도광판 두께 4.5mm인가전압 9.1V관전류 244mm측정거리 70cmLight guide plate thickness 4.5mm Applied voltage 9.1V Tube current 244mm Measuring distance 70cm 2020 692692 742742 3030 654654 665665 4040 605605 595595 5050 533533 533533 6060 494494 477477 7070 433433 428428 8080 391391 383383 9090 342342 343343 100100 294294 307307 110110 269269 275275 120120 242242 246246 130130 219219 221221 140140 195195 198198 150150 180180 177177 160160 158158 158158 170170 145145 142142 180180 132132 127127 190190 124124 114114 200200 118118 102102

표 1에서 15인치 도광판에서의 R 값은 0.0109668 이고, 총 입사광량은 83428.5354(cd/m2)이며, 흰색 반사필름과 확산필름을 부착하여 실험한 값이다.In Table 1, the R value of the 15-inch light guide plate was 0.0109668, and the total incident light amount was 83428.5354 (cd / m 2 ), which was measured by attaching a white reflective film and a diffusion film.

도 3에 표 1에 대한 그래프가 도시되어 있다. 각 단위영역에서 도출된 광량은 단위면적당 도출되는 광량이므로, 이를 도광판 표면에서의 휘도라고 할 수 있다. 따라서, 측정값은 휘도값으로 나타내고, 단위는 cd/m2을 사용한다.The graph for Table 1 is shown in FIG. 3. Since the amount of light derived from each unit region is the amount of light derived per unit area, this may be referred to as luminance at the light guide plate surface. Therefore, the measured value is represented by the luminance value and the unit uses cd / m 2 .

표 1을 도 3과 비교해 보면, 도광판의 입사단에서 단위영역별 광량이 높고, 도광판 입사단에서 멀어질수록 광량이 감소하는 특성을 보인다. 이것은 각 단위영역별로 형성된 광반사 구조체가 모두 동일한 구조이고, 광반사 구조체에 의한 광반사율(R)이 일정하기 때문이다.Comparing Table 1 with FIG. 3, the amount of light for each unit region is high at the incidence end of the light guide plate, and the light quantity decreases as the light is moved away from the incidence end of the light guide plate. This is because the light reflection structures formed in each unit region are all the same structure, and the light reflectance R due to the light reflection structure is constant.

도광판은 N 개의 단위영역으로 나누어지므로, 도광판 표면에서 균일한 광특성을 얻으려면 각 단위영역에서 방출되는 광량이 균일하여야 한다. 각각의 단위영역에서 방출되는 광량이 균일할 때, n번째 단위영역의 광반사율(Rn)은 수학식 2로 결정한다.Since the LGP is divided into N unit areas, the amount of light emitted from each unit area must be uniform to obtain uniform optical characteristics on the surface of the LGP. When the amount of light emitted from each unit region is uniform, the light reflectance R n of the nth unit region is determined by Equation 2 below.

, ,

r : Y축 광반사 구조체에 의한 광반사율r: light reflectance by the Y-axis light reflecting structure

각각의 단위영역에서 방출되는 광량이 Io/N을 만족하면 가장 이상적인 형태의 도광판을 제작할 수 있다.When the amount of light emitted from each unit region satisfies I o / N, a light guide plate having an ideal shape can be manufactured.

도광판의 광반사 구조체가 광산란 인쇄방식인 경우, 각 단위영역에서 광반사율(Rn)에 해당하는 만큼 인쇄면적을 결정한다. 이 때, 인쇄되는 패턴은 광이 입사되는 쪽의 인쇄면적이 광이 진행해 나가는 도광판 끝단부에 비해 적은 면적의 인쇄패턴이 될 것이다.When the light reflection structure of the light guide plate is a light scattering printing method, the printing area is determined as much as the light reflectance R n in each unit region. In this case, the printed pattern may be a printed pattern having a smaller area than the end portion of the light guide plate through which the printing area of the light incident side is directed.

도광판의 광반사 구조체가 일정한 깊이를 가진 V 홈인 경우, V 홈의 간격을 조절하여 각 단위영역의 광반사율(Rn)을 다르게 결정한다.When the light reflection structure of the light guide plate is a V groove having a constant depth, the light reflectance R n of each unit region is determined differently by adjusting the interval of the V groove.

S120 단계에서 결정한 X축 광반사 구조체에 의한 광반사율(R)과 n번째 단위영역의 광반사율(Rn)을 이용하여 n번째 단위영역의 X축 패턴간격(dn)을 결정한다(S130). 도광판의 길이가 L일 때, n번째 단위영역의 X축 패턴간격(dn)은 수학식 3으로 결정한다.The X-axis pattern interval d n of the n-th unit region is determined using the light reflectance R by the X-axis light reflecting structure determined in step S120 and the light reflectance R n of the n-th unit region (S130). . When the length of the light guide plate is L, the X-axis pattern interval d n of the n-th unit region is determined by Equation 3 below.

S130 단계에서 결정된 X축 패턴간격(dn)에 따라 도광판에 광반사 구조체를 형성(S135)함으로써 도광판 시제품을 제작한다. 이 때, 도광판 시제품은 금형제작 방식, 인쇄방식, V 커팅방식, U 커팅방식 중 하나를 이용하여 제작한다.The light guide plate prototype is manufactured by forming a light reflection structure on the light guide plate according to the X-axis pattern interval d n determined in step S130 (S135). At this time, the light guide plate prototype is manufactured using one of a mold manufacturing method, a printing method, a V cutting method, and a U cutting method.

표 2는 X축 패턴간격(dn)에 따라 V 홈을 형성한 15인치 도광판의 측정값이며, 도 4에 표 2에 대한 그래프가 도시되어 있다. 표 2는 4mm의 도광판 위에 3장의 확산필름을 부착하고 실험한 값이다.Table 2 shows measured values of the 15-inch light guide plate having V grooves according to the X-axis pattern interval d n , and a graph of Table 2 is shown in FIG. 4. Table 2 shows the values obtained by attaching three diffusion films on a light guide plate of 4 mm.

단위영역(N)(단위 : mm)Unit area (N) (Unit: mm) 측정값(In)(단위 : cd/m2)Measured value (I n ) (unit: cd / m 2 ) 단위영역(N)(단위 : mm)Unit area (N) (Unit: mm) 측정값(In)(단위 : cd/m2)Measured value (I n ) (unit: cd / m 2 ) 1010 681681 110110 681681 2020 692692 120120 692692 3030 654654 130130 654654 4040 605605 140140 605605 5050 533533 150150 533533 6060 494494 160160 494494 7070 433433 170170 433433 8080 391391 180180 391391 9090 342342 190190 342342 100100 294294 200200 294294 휘도균일도Luminance uniformity 99%99%

도광판 시제품의 측정결과를 보면 광원이 입사하는 도광판의 입단부와 끝단부에서 오차가 있게 된다. 이것은 광을 입사면과 수직하게 입사되는 일차원의 벡터로만 가정한 것이 오차의 원인이 되고 있다.The measurement results of the light guide plate prototype show an error in the inlet and the end of the light guide plate to which the light source is incident. This causes the error by assuming that light is only a one-dimensional vector incident perpendicularly to the incident surface.

입사광은 타원형태에 가까운 분광 분포특성을 갖는다. 따라서 입사광은 방사형으로 진행하게 되고, 특히 입단부에서는 전반사각도 이내로 방사되어 도광판 내부로 전반사되지 못하고 바로 도광판 표면으로 도출되게 된다. 이렇게 방출된 광이 그래프의 왼쪽 부분에서 높게 관측된다.Incident light has a spectral distribution characteristic close to an elliptic state. Therefore, the incident light proceeds radially, and in particular, it is radiated within the total reflection angle at the incidence portion and is not totally reflected inside the light guide plate, but is directly directed to the light guide plate surface. The emitted light is observed high in the left part of the graph.

도광판의 끝단 부분은 도광판 내부로 진행된 광이 도광판의 끝단에서 반사되어 도광판 내부로 다시 역진행하고, 역진행한 광이 표면으로 방출되므로 광량이 높게 관측된다.In the end portion of the light guide plate, since the light propagated into the light guide plate is reflected at the end of the light guide plate, the light proceeds back to the inside of the light guide plate.

도광판의 끝단부에서 광이 반사되어 되돌아오는 것은 밀한 매질에서 소한 매질로 광이 진행할 때 굴절율의 차이로 인해 광이 반사되어 들어오기 때문이다.The light is reflected back at the end of the light guide plate because light is reflected due to a difference in refractive index when light travels from the dense medium to the medium.

양끝단에서 휘도가 증가하는 부분을 보정하기 위해서, 본 고안은 n번째 단위영역에서 증가된 광량(ΔIn)을 측정(S140)하고, 휘도 불균일 단위영역에 대한 X축 보정 패턴간격(fn)을 결정한다(S145).In order to correct the portion where the luminance increases at both ends, the present invention measures the amount of light ΔI n increased in the nth unit region (S140), and the X-axis correction pattern interval f n for the luminance nonuniformity unit region. Determine (S145).

n번째 단위영역의 보정 패턴간격(fn)은 수학식 4로 결정한다.The correction pattern interval f n of the n-th unit region is determined by Equation 4.

그리고, S100 단계에서 설정한 간격과 S130 단계에서 결정한 X축 패턴간격(dn) 및 수학식 4를 이용하여 결정한 X축 보정 패턴간격(fn)에 따라 도광판을 제작한다(S150).The light guide plate is manufactured according to the interval set in step S100 and the X-axis pattern interval d n determined in step S130 and the X-axis correction pattern interval f n determined using Equation 4 (S150).

이 때에도 S135 단계에서와 같이 금형제작 방식, 인쇄방식, V 커팅방식, U 커팅방식 중 하나를 이용하여 도광판을 제작한다.In this case, as in step S135, a light guide plate is manufactured using one of a mold manufacturing method, a printing method, a V cutting method, and a U cutting method.

본 고안에서 제공하는 도광판 패턴 설계식을 이용하여 반사율을 구하는 것은단순하게 수작업으로 구해도 가능하지만, 본 고안의 또 다른 목적은 패턴설계에 최소한의 시간을 사용하도록 하는 것이다. 따라서, 각 단위영역별 반사율을 구하는 등의 작업은 위에서 제시한 설계식을 도광판 패턴설계 프로그램으로 구현하여 사용하는 것이 바람직하다.Although the reflectance can be obtained manually by using the light guide plate pattern design formula provided by the present invention, another object of the present invention is to use a minimum time for pattern design. Therefore, it is preferable to implement and use the above-described design formula as a light guide plate pattern design program for calculating the reflectance for each unit region.

도 2는 본 고안에 따른 2차원 패턴의 도광판 설계방법의 다른 실시예를 도시한 순서도이다. 도 2의 실시예에서는 도광판에 동일한 간격을 유지하면서 광반사 구조체를 가로 및 세로 방향으로 형성하되, 그 깊이를 단위영역마다 서로 다르게 하였다.2 is a flowchart illustrating another embodiment of a light guide plate design method of a two-dimensional pattern according to the present invention. In the embodiment of FIG. 2, the light reflection structure is formed in the horizontal and vertical directions while maintaining the same spacing on the light guide plate, but its depth is different for each unit region.

먼저, 위에서 설명한 것처럼 제작하고자 하는 도광판의 규격과 도광판의 4 모서리 중에서 광원이 설치될 위치를 선정한다.First, as described above, the position of the light source is selected from the standard of the light guide plate to be manufactured and the four corners of the light guide plate.

그리고, 도광판에 동일한 간격을 유지하면서 서로 다른 깊이의 광반사 구조체를 가로 및 세로 방향으로 형성한다(S200). 이 때, 광반사 구조체는 V 홈 방식 또는 U 홈 방식을 이용하여 도광판의 후면에 형성하고, 동일한 패턴인 것이 바람직하다.Then, while maintaining the same distance to the light guide plate to form a light reflection structure of different depths in the horizontal and vertical directions (S200). At this time, the light reflection structure is formed on the rear surface of the light guide plate by using the V groove method or the U groove method, and preferably have the same pattern.

각 단위영역의 폭은 가로와 세로 방향으로 각각 일정하게 하며, 단위영역의 폭은 최소 반사율을 갖는 광반사 구조체를 적어도 한 개는 형성할 수 있는 값으로 하는 것이 바람직하다.The width of each unit region is constant in the horizontal and vertical directions, respectively, and the width of the unit region is preferably a value capable of forming at least one light reflection structure having a minimum reflectance.

도광판에 형성한 광반사 구조체가 N+1개이면, 광원이 입사될 한쪽 단면에서부터 도광판의 반대편 단면까지는 N개의 단위영역이 균일하게 형성된다.When there are N + 1 light reflecting structures formed on the light guide plate, N unit regions are uniformly formed from one end face to which the light source is incident to the other end face of the light guide plate.

그 다음, 광입사 방향과 수직으로 형성되어 있는 X축 광반사 구조체의 깊이에 따른 광반사율(R)을 측정(S210)하고, 광반사 구조체에 의해 나누어진 n번째 단위영역의 광반사율(Rn)을 결정한다(S220).Next, the light reflectance R according to the depth of the X-axis light reflecting structure formed perpendicular to the light incidence direction is measured (S210), and the light reflectance R n of the nth unit area divided by the light reflecting structure is determined. Determine (S220).

단위영역의 개수가 N이고 각각의 단위영역에서 방출되는 광량이 균일할 때, n번째 단위영역의 광반사율(Rn)은 수학식 2로 결정된다.When the number of unit regions is N and the amount of light emitted from each unit region is uniform, the light reflectance R n of the n-th unit region is determined by Equation 2 below.

그 다음, 광반사율(Rn)에 해당하는 n번째 단위영역의 X축 패턴깊이(hn)를 S210 단계에서 측정한 광반사율(R)로부터 결정(S230)하고, X축 패턴깊이(hn)에 따라 도광판에 광반사 구조체를 형성(S235)하여 도광판 시제품을 제작한다.Next, the X-axis pattern depth h n of the n-th unit region corresponding to the light reflectance R n is determined from the light reflectance R measured in step S210 (S230), and the X-axis pattern depth h n The light reflection structure is formed on the light guide plate (S235) to manufacture a light guide plate prototype.

이 때, 도광판 시제품은 금형제작 방식, 인쇄방식, V 커팅방식, U 커팅방식 중 하나를 이용하여 제작한다.At this time, the light guide plate prototype is manufactured using one of a mold manufacturing method, a printing method, a V cutting method, and a U cutting method.

도광판 시제품의 입단부와 끝단부에서 위에서 설명한 바와 같이 휘도가 증가하므로, 이 부분을 보정해 주어야 한다.Since the brightness increases as described above at the inlet and end of the light guide plate prototype, this part should be corrected.

이를 위해서 n번째 단위영역의 광량(In)을 측정(S240)하고, 수학식 5를 이용하여 도광판의 휘도 불균일 단위영역에 대한 광반사율(Rs)을 결정한다(S245). 수학식 5를 연립방정식으로 풀면, 휘도 불균일 단위영역에 대한 광반사율(Rs)을 결정할 수 있다.To this end, the light amount I n of the n th unit region is measured (S240), and the light reflectance R s of the luminance nonuniformity unit region of the light guide plate is determined using Equation 5 (S245). Solving Equation 5 by the simultaneous equation, it is possible to determine the light reflectance (R s ) for the luminance nonuniformity unit region.

, ,

Io: 총 입사광량I o : Total incident light

S245 단계에서 광반사율(Rs)을 결정하면, S220 단계에서 결정한 광반사율(Rn)과의 차이를 구할 수 있다.When the light reflectance (R s ) is determined in step S245, a difference from the light reflectance (R n ) determined in step S220 may be obtained.

따라서, n 번째 단위영역의 광반사율(Rn)과 휘도 불균일 단위영역에 대한 광반사율(Rs)의 차이에 해당하는 휘도 불균일 단위영역에 대한 X축 보정 패턴깊이(jn)를 광반사율(R)로부터 결정(S250)한다. 그리고, S200 단계에서 설정한 간격과 S230 단계에서 결정한 X축 패턴깊이(hn) 및 S250 단계에서 결정한 X축 보정 패턴깊이(jn)에 따라 도광판을 제작한다(S260).Therefore, the X-axis correction pattern depth j n for the luminance nonuniformity unit area corresponding to the difference between the light reflectivity R n of the nth unit area and the light reflectance Rs s for the luminance nonuniformity unit area is determined by the light reflectance ( It determines from R) (S250). The light guide plate is manufactured according to the interval set in step S200, the X-axis pattern depth h n determined in step S230, and the X-axis correction pattern depth j n determined in step S250 (S260).

이 때에도 S235 단계에서와 마찬가지로 금형제작 방식, 인쇄방식, V 커팅방식, U 커팅방식 중 하나를 이용하여 도광판을 제작한다.In this case, as in step S235, a light guide plate is manufactured using one of a mold manufacturing method, a printing method, a V cutting method, and a U cutting method.

이상의 본 고안은 상기에 기술된 실시예들에 의해 한정되지 않고, 당업자들에 의해 다양한 변형 및 변경을 가져올 수 있으며, 이는 첨부된 청구항에서 정의되는 본 고안의 취지와 범위에 포함된다.The present invention is not limited to the embodiments described above, and various modifications and changes can be made by those skilled in the art, which are included in the spirit and scope of the present invention defined in the appended claims.

이상에서 살펴본 바와 같이 본 고안은, 백라이트의 성능을 크게 좌우하는 도광판을 경험에 의존하지 않고, 정형화된 공식을 사용하여 효율적이면서도 정밀하고 빠르게, 균일한 휘도특성을 가진 최적의 2차원 패턴으로 설계할 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention can design a light guide plate that greatly influences the performance of a backlight without using experience, and design an optimal two-dimensional pattern with uniform luminance characteristics efficiently, precisely and quickly by using a formula. It can be effective.

본 고안의 공식을 사용하여 설계한 15인치 도광판의 경우, 99%의 휘도 균일도 특성을 갖는 백라이트로 제작할 수 있었다.In the case of a 15-inch light guide plate designed using the formula of the present invention, it was possible to manufacture a backlight having a luminance uniformity characteristic of 99%.

또, 휘도가 불균일한 부분을 정형화된 보정공식을 사용하여 균일한 특성을 가진 도광판을 제작할 수 있다.In addition, a light guide plate having uniform characteristics can be manufactured by using a standardized correction formula for a portion having uneven luminance.

또, 본 고안에 정립된 이론을 이용하여 단위영역별로 서로 다른 깊이의 2차원 광반사 구조체를 가지는 도광판을 제작할 경우, 균일한 휘도특성을 가지는 도광판을 이전보다 단축된 시간으로 개발할 수 있다.In addition, when manufacturing a light guide plate having a two-dimensional light reflection structure having a different depth for each unit region by using the theory established in the present invention, it is possible to develop a light guide plate having a uniform luminance characteristics in a shorter time than before.

그리고, 새로운 모델의 도광판을 개발할 경우 효율적으로 수행할 수 있으며, 최적조건의 설계치를 얻어낼 수 있는 등의 효과가 있다.In addition, when the light guide plate of the new model is developed, it can be efficiently performed, and the design value of the optimum condition can be obtained.

Claims (13)

가로 및 세로 방향으로 등간격의 광반사 구조체를 형성하고, 광입사 방향과 수직으로 형성되어 있는 X축 광반사 구조체에 의한 광반사율(R)과 상기 광반사 구조체에 의해 나누어진 n 번째 단위영역의 광반사율(Rn) 및 n 번째 단위영역의 X축 패턴간격(dn)을 공식으로 결정하여 상기 광반사 구조체의 패턴을 형성한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판.The light reflectance (R) of the X-axis light reflecting structure which is formed at equal intervals in the horizontal and vertical directions, and is formed perpendicular to the light incidence direction, and the nth unit region divided by the light reflecting structure. A light guide plate having a two-dimensional pattern, wherein the light reflectance (R n ) and the X-axis pattern interval (d n ) of the n-th unit region are determined by a formula to form a pattern of the light reflection structure. 제 1항에 있어서, 상기 광반사율(R)은The method of claim 1, wherein the light reflectance (R) is 동일한 패턴으로 광반사 구조체를 형성한 경우,When the light reflection structure is formed in the same pattern, In= Io(1-R)n-1R,I n = I o (1-R) n-1 R, In: n번째 단위영역의 광량, Io: 총 입사광량I n : light quantity in n-th unit area, I o : total incident light quantity 을 이용하여 결정한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판.The light guide plate of the 2D pattern characterized by the above-mentioned. 제 2항에 있어서, 단위영역의 개수가 N이고 각각의 단위영역에서 방출되는 광량이 균일할 때, n번째 단위영역의 광반사율(Rn)은The light reflectance (R n ) of the n-th unit area is equal to the number of unit areas and the amount of light emitted from each unit area is uniform. Rn= {1-N(1-r)n-1r} / {N-(n-1)},R n = {1-N (1-r) n-1 r} / {N- (n-1)}, r : Y축 광반사 구조체에 의한 광반사율r: light reflectance by the Y-axis light reflecting structure 으로 결정한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판.The light guide plate of the 2D pattern characterized by the above-mentioned. 제 3항에 있어서, n번째 단위영역의 X축 패턴간격(dn)은The method of claim 3, wherein the X-axis pattern interval d n of the n-th unit area is dn= {N-(n-1)}R/{1-N(1-r)n-1r} ㆍ L/N,d n = {N- (n-1)} R / {1-N (1-r) n-1 r} ㆍ L / N, L : 도광판의 길이L: length of light guide plate 으로 결정한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판.The light guide plate of the 2D pattern characterized by the above-mentioned. 제 1항에 있어서, 휘도 불균일 단위영역에 대한 X축 보정 패턴간격(fn)은The method of claim 1, wherein the X-axis correction pattern interval f n for the luminance nonuniformity unit area is fn= R/[2{1-N(1-r)n-1r}/{N-(n-1)}-{(1/N)+( ΔIn/Io)}]ㆍL/N,f n = R / [2 {1-N (1-r) n-1 r} / {N- (n-1)}-{(1 / N) + (ΔI n / I o )}] L / N, ΔIn= n 번째 단위영역에서 증가된 광량ΔI n = increased amount of light in the nth unit area 으로 결정하여 상기 광반사 구조체의 패턴을 형성한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판.A light guide plate having a two-dimensional pattern, characterized in that the pattern of the light reflection structure is formed by the determination. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광반사 구조체는The light reflecting structure of any one of claims 1 to 5, wherein 광산란 인쇄방식, V 홈 방식, U 홈 방식, 정형시보 방식, 무정형 시보방식, OPI 방식 중 하나를 이용하여 상기 도광판의 후면에 형성된 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판.A light guide plate of a two-dimensional pattern, characterized in that formed on the back of the light guide plate using one of light scattering printing method, V groove method, U groove method, orthogonal time signal method, amorphous time signal method, OPI method. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 도광판은The light guide plate according to any one of claims 1 to 5, wherein the light guide plate 금형제작 방식, 인쇄방식, V 커팅방식, U 커팅방식 중 하나를 이용하여 제작된 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판.A light guide plate having a two-dimensional pattern, which is manufactured using one of a mold manufacturing method, a printing method, a V cutting method, and a U cutting method. 동일한 간격을 유지하면서 서로 다른 깊이의 광반사 구조체를 가로 및 세로 방향으로 형성하여 광입사 방향과 수직으로 형성되어 있는 X축 광반사 구조체에 의한 광반사율(R)을 측정하고, n 번째 단위영역의 광반사율(Rn)을 결정한 후, 상기 광반사율(Rn)에 해당하는 n번째 단위영역의 X축 패턴깊이(hn)를 상기 광반사율(R)로부터 결정하여 상기 광반사 구조체의 패턴을 형성한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판.While maintaining the same distance, the light reflecting structures having different depths are formed in the horizontal and vertical directions to measure the light reflectance (R) by the X-axis light reflecting structures formed perpendicular to the light incidence direction, and the after determining the optical reflectivity (R n), and determining from the optical reflectivity (R) a pattern of the light reflecting structure the X axis the pattern depth (h n) of the n-th unit areas corresponding to the light reflection factor (R n) A light guide plate having a two-dimensional pattern, which is formed. 제 8항에 있어서, 단위영역의 개수가 N이고 각각의 단위영역에서 방출되는 광량이 균일할 때, 상기 n번째 단위영역의 광반사율(Rn)은The method of claim 8, wherein when the number of unit regions is N and the amount of light emitted from each unit region is uniform, the light reflectance (R n ) of the n-th unit region is Rn= {1-N(1-r)n-1r} / {N-(n-1)}R n = {1-N (1-r) n-1 r} / {N- (n-1)} r : Y축 광반사 구조체에 의한 광반사율r: light reflectance by the Y-axis light reflecting structure 으로 결정한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판.The light guide plate of the 2D pattern characterized by the above-mentioned. 제 8항에 있어서, 휘도 불균일 단위영역에 대한 X축 보정 패턴깊이(jn)를 상기 광반사율(R)로부터 결정하여 상기 광반사 구조체의 패턴을 형성한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판.The light guide plate according to claim 8, wherein the light reflection structure pattern is formed by determining the X-axis correction pattern depth (j n ) for the luminance nonuniformity unit region from the light reflectivity (R). 제 10항에 있어서, 상기 휘도 불균일 단위영역에 대한 광반사율(Rs)을The method of claim 10, wherein the light reflectance (R s ) for the luminance nonuniformity unit area In= Io(1-Rs)n-1Rs,I n = I o (1-R s ) n-1 R s , In: n번째 단위영역의 광량, Io: 총 입사광량I n : light quantity in n-th unit area, I o : total incident light quantity 을 이용하여 결정한 후, n 번째 단위영역의 광반사율(Rn)과 휘도 불균일 단위영역에 대한 광반사율(Rs)의 차이에 해당하는 휘도 불균일 단위영역에 대한 X축 보정 패턴깊이(jn)를 상기 X축 광반사 구조체에 의한 광반사율(R)로부터 결정한 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판.After determining by using, the X-axis correction pattern depth (j n ) for the luminance nonuniformity unit area corresponding to the difference between the light reflectance (R n ) of the nth unit region and the light reflectance (R s ) for the luminance nonuniformity unit region The light guide plate of the two-dimensional pattern characterized by determining from the light reflectivity (R) by the said X-axis light reflection structure. 제 8항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광반사 구조체는The light reflecting structure of any one of claims 8 to 11, wherein V 홈 방식 또는 U 홈 방식을 이용하여 상기 도광판의 후면에 형성된 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판.A light guide plate having a two-dimensional pattern, characterized in that formed on the back of the light guide plate using a V groove method or a U groove method. 제 8항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 도광판은The light guide plate of claim 8, wherein the light guide plate is 금형제작 방식, 인쇄방식, V 커팅방식, U 커팅방식 중 하나를 이용하여 제작된 것을 특징으로 하는 2차원 패턴의 도광판.A light guide plate having a two-dimensional pattern, which is manufactured using one of a mold manufacturing method, a printing method, a V cutting method, and a U cutting method.
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