KR20020092394A - 적어도 하나의 고주파(hf) 피드스루를 구비한 반응실 - Google Patents
적어도 하나의 고주파(hf) 피드스루를 구비한 반응실 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (16)
- CVD 방법과 같은 기판 코팅방법을 수행하기 위한 반응실로서, 고주파(HF) 피드스루, 특히 무선 주파수(RF) 피드스루를 압력 및 진공밀폐 방식으로 삽입하기 위한 적어도 하나의 개구부가 적어도 하나의 외측벽내에 형성되는 반응실에 있어서,모든 개구부 속에 실링방식으로 삽입되고, 상기 반응실에 배치되는 영역에 제 1 밀봉부(8)가 설치되는 칼라를 각각 갖는 고주파(HF) 라인(5)을 위한 적어도 하나의 개구부를 구비하는 지지판(4) ; 및상기 지지판(4) 상의 제 2 밀봉부(9)와 상기 칼라 상의 제 1 밀봉부(8) 사이에 삽입되는 절연물질로 이루어진 제 1 디스크(10)를 포함하여 구성되고,상기 반응실의 외부에 배치되는 상기 각각의 고주파(HF) 라인의 영역에는, 상기 고주파(HF) 라인과 상기 지지판 사이에 전기 접촉 및 호락의 발생없이 상기 나사 요소(11)가 상기 제 1 밀봉부를 통해 상기 절연 디스크에 대해 실링방식으로 상기 고주파(HF) 라인의 칼라를 지지함은 물론, 상기 제 2 밀봉부를 통해 상기 지지판에 대해 상기 절연 디스크를지지하는 방식으로, 나사 요소(11)가 나사결합되도록 해주는 나사산이 형성되는 것을 특징으로 하는 반응실.
- 제 1 항에 있어서, 상기 나사 요소(11)는 금속으로 구성되고, 절연물질로 이루어진 제 2 디스크(12)가 상기 나사 요소(11)와 상기 지지판(4) 사이에 삽입되는 것을 특징으로 하는 반응실.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 디스크(10)와 상기 제 2 디스크(12) 또는 상기 나사 요소(11) 사이에는, 상기 고주파(HF) 라인(5)과 상기 지지판(4)에서의 전기 접촉 또는 호락의 발생을 방지하는 절연물질로 이루어진 슬리브(13)가 삽입되는 것을 특징으로 하는 반응실.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 나사 요소는 유니온 너트(11)인 것을 특징으로 하는 반응실.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 지지판은 물로 냉각되는 것을 특징으로 하는 반응실.
- 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 디스크(10,12)는 석영 또는 세라믹 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 반응실.
- 제 3 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 슬리브(13)는 절연 플라스틱, 특히 테프론으로 구성되는 것을 특징으로 하는 반응실.
- 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 칼라는 실링방식으로 상기 고주파(HF) 라인(5) 상에 장착되고 타단부에 나사가 형성되는 슬리브(7)의 구성 부품인 것을 특징으로 하는 반응실.
- 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고주파(HF) 라인(5)은 구리로 구성되는 것을 특징으로 하는 반응실.
- 제 9 항에 있어서, 상기 슬리브(7)의 칼라는 금속물질, 특히 스테인리스 스틸로 구성되고, 상기 고주파(HF) 라인 상에서 납땜되는 것을 특징으로 하는 반응실.
- 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 지지판(4)은 그 외주면 상에 외향하여 배치되는 밀봉부(16)를 구비하고 상기 밀봉부의 내부 영역에 있는 상기 반응실의 외측벽(1)에 나사 결합되는 것을 특징으로 하는 반응실.
- 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 밀봉부(8, 9, 16)는 O-링인 것을 특징으로 하는 반응실.
- 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 지지판(4)에는 적어도 두개의 고주파(HF) 라인(5', 5")이 배치되는 것을 특징으로 하는 반응실.
- 제 13 항에 있어서, 상기 두 개의 고주파(HF) 라인(5', 5")은 유도 히터의 코일(3)을 위한 도선인 것을 특징으로 하는 반응실.
- 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서, 상기 지지판(4)에는 물로 냉각하기 위해 물이 유동되는 채널(14)이 배치되는 것을 특징으로 하는 반응실.
- 제 15 항에 있어서, 상기 고주파(HF) 라인((5', 5")은 물이 유동되는 상기 채널(14)에 의해 에워 싸인 채로 배치되는 것을 특징으로 하는 반응실.
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