KR20020071053A - 후막 형성방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 후막 형성방법에 관한 것으로, 종래에는 스크린 프린팅을 통해 후막으로 형성되는 유전층, 형광체, 전극층 또는 강유전층 등의 기공발생으로 인해 소자의 신뢰성을 저하시키는 문제점이 있었다. 따라서, 본 발명은 유전층, 형광체, 전극층 또는 강유전층에 적절한 조성의 페이스트를 기판위에 스크린 프린팅하는 공정과; 상기 페이스트가 스크린 프린팅된 기판을 진공상태에서 배기처리하는 공정과; 상기 결과물을 건조 및 소성시키는 공정으로 이루어지는 후막 형성방법을 제공하여 기공을 최소화함에 따라 계면 박리, 결함이나 파괴를 방지할 수 있게 되어 소자의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
Description
본 발명은 후막 형성방법에 관한 것으로, 특히 스크린 프린팅(screen printing)을 통해 후막으로 형성되는 유전층, 형광체, 전극층 또는 강유전층 등의 기공을 최소화할 수 있도록 한 후막 형성방법에 관한 것이다.
종래의 기술로 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel : PDP) 소자에서의 유전막 형성방법을 예를 들어 설명한다.
일반적으로, 플라즈마 디스플레이 패널 소자는 형광체를 이용하여 풀 컬러 메트릭스(full color matrix)를 구현할 수 있는 면방전형 소자로써, 향후 음극선관(cathode ray tube : CRT)을 대체할 수 있는 박형 표시소자로 주목받고 있다. 또한, 고화질 영상 분야로 용도를 확대시키기 위하여 고정세화와 대화면화가 추진되고 있다.
상기한 바와같이 박형의 대화면용 컬러표시 등에 이용되는 플라즈마 디스플레이 패널 소자는 미세한 방전 표시 셀을 격리시키는 격벽과, 그 격벽의 하면에 접합된 배면판과, 영상이 표시되는 전면판으로 둘러싸인 공간에 대향하는 전극을 설치하여 각 공간에 희(稀) 가스(rare gas) 등의 방전가능 가스를 봉입하여 기밀구조를 형성하며, 상기 대향하는 전극 사이의 공간에 방전을 통하여 플라즈마를 발생시킴으로써, 각 플라즈마에서 발생되는 진공 자외선이 형광체를 발광시켜 전면판에 영상이 표시되도록 하는 것이다. 그러나, 플라즈마 디스플레이 패널 소자는 기존의음극선관 표시장치에 비해 아직 발광효율이 낮고, 구조 및 제조공정이 최적화되지 않은 상황이며, 이를 개선하기 위하여 방전방식, 셀구조, 구동방식, 형광체나 보호막 재료 및 유전체 재료 등에 대한 다각적인 연구가 진행되고 있다. 이와같은 플라즈마 디스플레이 패널 소자를 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널 소자를 보인 단면도로서, 플라즈마 디스플레이 패널 소자의 하판은 하부 유리기판(1) 상의 전면에 증착되어 기판(1)에 포함된 알카리이온의 침투를 방지하는 차단막(2)과; 상기 차단막(2) 상에 스트라이프(stripe) 형태로 패터닝된 방전 셀의 어드레스 전극(3)과; 상기 어드레스 전극(3)을 포함한 차단막(2) 상의 전면에 형성된 하판유전체(4)와; 상기 하판유전체(4) 상에 형성되어 방전 셀을 격리시키는 격벽(5)과; 상기 격벽(5)에 의해 서로 격리되어 격벽(5)의 측면 및 하판유전체(4)의 상면이 덮여지도록 형성된 R,G,B 색상의 형광체(6)로 이루어진다.
한편, 플라즈마 디스플레이 패널 소자의 상판은 상부 유리기판(11) 상에 상기 어드레스 전극(3)과 수직 교차하는 스트라이프(stripe) 형태로 패터닝된 투명전극(12) 및 그 투명전극(12)의 저항값을 낯추는 버스전극(13)과; 상기 투명전극(12) 및 버스전극(13)을 포함한 상부 유리기판(11) 상에 순차적으로 형성된 하층유전체 및 상층유전체(14,15)와; 상기 상층유전체(15) 상부에 형성되어 플라즈마 방전에 따른 상층유전체(15)를 보호하는 보호막(16)으로 이루어지며, 이와같이 형성된 상판은 보호막(16)이 상기 하판과 마주보도록 합착된다.
상기한 바와같은 플라즈마 디스플레이 패널 소자는 외부 전원에 의해 인가된전압이 상판 하층 및 상층유전체(14,15)의 유전특성에 의해 유전체 표면에 벽 전하를 축적시키고, 하판 측에 가해진 전압에 의해 전계가 형성되면, 방전공간에 주입된 방전기체가 양이온과 전자로 전리되면서 방전이 시작된다. 이와같이 방전된 기체가 전리되어 다시 중성화되는 과정에서 진공 자외선이 발생한다.
이때, 유전체는 인가된 전압에 대하여 유전특성을 통해 표면에 보다 많은 벽 전하를 형성시키기 위해서 형성하며, 상판의 유전체는 유리 분말로만 이루어져 있고, 하판의 유전체나 격벽용 유전체는 충전제(filler)나 안료가 혼합된다.
상기한 바와같은 유전체의 제조방법은 도2의 순서도에 도시한 바와같이 유전체의 조성을 설계한 다음 배치(batch) 제조, 혼합, 용융, 분쇄하고, 첨가제 혼합 및 비히클(vehicle)을 제조하여 롤 밀링으로 페이스트(paste) 상태로 만든 다음 이와같은 페이스트를 기판 상에 스크린 프린팅을 통해 형성하고, 건조 및 소성시켜 유전체막으로 형성한다.
그러나, 상기한 바와같은 종래의 유전체 제조방법은 유전체 막에 존재하는 기공들에 의해 격벽의 박리, 결함 및 파괴가 발생하는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기한 바와같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 창안한 것으로, 본 발명의 목적은 스크린 프린팅을 통해 후막으로 형성되는 유전층, 형광체, 전극층 또는 강유전층 등의 기공을 최소화할 수 있는 후막 형성방법을 제공하는데 있다.
도1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널 소자를 보인 단면도.
도2는 종래의 유전체 후막 형성방법을 보인 순서도.
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 유전체 후막 형성방법을 보인 순서도.
도4a 및 도4b는 종래의 기술과 본 발명의 기술에 의해 형성된 유전체 후막의 기공 크기 및 분포를 보인 평면도 및 단면도.
상기한 바와같은 본 발명의 목적을 달성하기 위한 후막 형성방법은 유전층, 형광체, 전극층 또는 강유전층에 적절한 조성의 페이스트를 기판위에 스크린 프린팅하는 공정과; 상기 페이스트가 스크린 프린팅된 기판을 진공상태에서 배기처리하는 공정과; 상기 배기처리된 결과물을 건조 및 소성시키는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
상기한 바와같은 본 발명에 의한 후막 형성방법을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 유전체 후막 형성방법의 순서도로서, 이에 도시한 바와같이 유전체의 조성을 설계한 다음 배치 제조, 혼합, 용융, 분쇄하고, 첨가제 혼합 및 비히클을 제조하여 롤 밀링으로 페이스트 상태로 만든 다음 이와같은 페이스트를 기판 상에 스크린 프린팅을 통해 형성하고, 진공장비에서 진공상태로 수분 내지 수십분 정도 배기처리를 실시한 다음 건조 및 소성시켜 유전체막으로 형성한다. 이때, 진공장비에서의 배기처리는 200∼550℃ 정도의 온도조건에서 실시하는 것이 바람직하다.
상기한 바와같이 페이스트가 스크린 프린팅된 기판을 진공장비에서 배기처리하게 되면, 건조되지 않은 페이스트의 입자들이 배기방향으로 기동함에 따라 입자들이 조밀해져서 기공의 크기 및 분포를 줄일 수 있게 된다.
따라서, 도4a의 평면도 및 도4b의 단면도에 도시한 바와같이 종래 진공처리를 실시하지 않은 경우에 비해 진공처리를 실시하였을 경우에 기공들이 대폭 줄어드는 것을 알 수 있다.
상기한 바와같은 본 발명의 일 실시예에서는 유전체 후막의 형성을 한정하여 설명하였으나, 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 않는 범위에서 다양하게 변경 및 수정하여 실시할 수 있을 것이다.
예를 들면, 플라즈마 디스플레이 패널 소자에 적용되는 유전체 후막이나 전극층, 형광체, 강유전체 등에 적용할 수 있으며, 플라즈마 디스플레이 패널 소자 이외에도 일렉트로루미네센스(electroluminescence : EL), 전계방출소자(field emission display : FED), 음극선관 등의 후막 형성에도 적용할 수 있다.
상기한 바와같은 본 발명에 의한 후막 형성방법은 스크린 프린팅을 통해 후막으로 형성되는 유전층, 형광체, 전극층 또는 강유전층 등의 기공을 진공상태의 배기처리를 통해 최소화함에 따라 계면 박리, 결함이나 파괴를 방지할 수 있게 되어 소자의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
Claims (3)
- 유전층, 형광체, 전극층 또는 강유전층에 적절한 조성의 페이스트를 기판위에 스크린 프린팅하는 공정과; 상기 페이스트가 스크린 프린팅된 기판을 진공상태에서 배기처리하는 공정과; 상기 배기처리된 결과물을 건조 및 소성시키는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 후막 형성방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 배기처리는 200∼550℃ 정도의 온도조건에서 수분 내지 수십분 동안 실시하는 것을 특징으로 하는 후막 형성방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 페이스트는 플라즈마 디스플레이 패널 소자의 유전체 조성인 것을 특징으로 하는 후막 형성방법.
Priority Applications (1)
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| KR1020010010794A KR20020071053A (ko) | 2001-03-02 | 2001-03-02 | 후막 형성방법 |
Publications (1)
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| KR (1) | KR20020071053A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100826453B1 (ko) * | 2004-12-28 | 2008-04-29 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 이온 발생유닛 및 이온 발생장치 |
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2001
- 2001-03-02 KR KR1020010010794A patent/KR20020071053A/ko active Search and Examination
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