KR20020030288A - 하전 입자 비임 시스템용 자기 차폐부를 구비한 침지 렌즈 - Google Patents

하전 입자 비임 시스템용 자기 차폐부를 구비한 침지 렌즈 Download PDF

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KR20020030288A
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리 에이치. 베네클라센
윌리엄 제이. 데보레
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조셉 제이. 스위니
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Abstract

하전 입자 비임 리소그래피 시스템용 침지 렌즈는 편향 자기장이 차폐부로부터 하류부에 있는 시스템의 전도 부품에 와류 전류를 발생시키는 것을 제한하는 자기 부동 차폐부를 포함한다. 차폐부의 표면은 포커싱 자기장의 자기 등위면에 평행하거나 거의 평행하게 배치되어 차폐부가 포커싱 자기장으로 영향을 받지 않도록 한다. 차폐부는 예를 들면 하전 입자 비임의 통로용 중앙 보어를 형성하는 페라이트 디스크 또는 중공형 페라이트 콘이다.

Description

하전 입자 비임 시스템용 자기 차폐부를 구비한 침지 렌즈{IMMERSION LENS WITH MAGNETIC SHIELD FOR CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM}
리소그래피는 반도체 장치 및 집적 회로를 제작하기 위하여 사용되는 기술이다. 리소그래피에서는, 타깃 기판[통상적으로 마스크 블랭크(mask blank) 또는 반도체 웨이퍼]은 포토레지스트 재료(레지스트)로 된 하나 이상의 층으로 코팅된다. 레지스트(resist)는 자외선, x-레이, 전자, 및 이온과 같은 방사선의 형태에 노출된다. 그때 레지스트는 레지스트의 부분을 제거하도록 전개된다. 레지스트의 나머지 부분은 타깃의 하부 영역을 보호한다. 레지스트가 제거되는 부분은 타깃 표면으로 패턴을 이송하는 다양한 첨가 공정[예를 들면, 리프트-오프(lift-off)] 또는 감소(예를 들면, 에칭) 공정 처리된다.
전자 비임 또는 이온 비임 리소그래피 시스템(110)(도 2에 도시됨)은 최종 자기 렌즈(112)에 도달하기 전에 관통구멍 플레이트(118), 블랭킹 편향기(121), 및 포커싱 렌즈(forcusing lens; 120)을 통하여 향하는 하전 입자 비임(116)을 발생시키는 하전 입자(전자 또는 이온) 공급원(184)을 포함한다. 렌즈(112)는 타깃 지지부(122)(또한 스테이지로서 공지됨)상에 고정된 타깃(159)상으로 비임(116)을 추가적으로 향하게 한다. 이러한 렌즈는 광학적(light optic)이 아닌 전차폐부 또는 정전기적 구조이다. 하전 입자 공급원(184)은 전자 또는 이온 비임을 발생시킨다. 제어 컴퓨터(123)는 리소그래피 시스템(110)의 작동을 제어한다.
이 같은 하나의 타입의 리소그래피 시스템은 가변 축선 침지 렌즈 전자 비임 시스템인데, 예를 들면 본 명세서에 완전한 내용이 참고문헌으로 첨부된 랑그너(Langner) 등(본명세서에서는 앞으로 "랑그너 등"이라 함)에게 부여된 미국 특허 제 4,544,846호이다. 랑그너 등의 도 2 및 도 4a는 본 공개물의 도 1a 및 도 1b로서 각각 재 발행되어 있다.
가변 축선 침지 렌즈 전자 비임 시스템은 비임을 타깃(59)의 원하는 위치로 향하게 하기 위해 전자 비임을 편향(전자 비임의 축선을 변위)시키는 편향 코일(43 및 45)(이러한 구조물을 단면으로 도시한 도 1a 참조)을 포함한다. 침지 렌즈(12)는 전류(또한 포커싱 자기장이라 지칭됨)를 전도할 때 자기장을 발생시키는 하나 이상의 여자 코일(41 및 53)을 포함한다. 포커싱 자기장은 폴 피스(13)로부터 폴 피스(14)(도 1b)로 연장되는 자기장 라인을 갖는다. 따라서 포커싱 자기장은 자기장 강도가 폴 피스(14)의 표면 근처에서 최대가 되는 거의 균일한 자기장에 타깃(59)이 침지된다(따라서 명칭이 침지 렌즈임).
편향 코일(11)은 전자 비임의 변경된 축선과 일치하도록 침지 렌즈(12)의 자기 축선을 변경(따라서 가변 축선이라 지칭됨)시키는 자기장(또한 편향 자기장이라 지칭됨)을 발생시킨다. 편향 코일(11, 43, 45)은 전자 비임의 축선이 리소그래피공정동안 타깃(59)을 스캔하도록 변경되는 시간에 대해 편향 자기장을 변경시킨다.
변경되는 편향 자기장은 편향 코일(11)로부터 타깃(웨이퍼 또는 마스크 블랭크) 홀더(16), 홀더 핸들러(20), 및 폴 피스(14)와 같은 (전자 비임의 전파 방향에 대해) 하류부에 있는 전도 시스템 부품에서 와류 전류를 발생시킨다. 부가적으로, 변경되는 편향 자기장은 타깃(59), 즉 예를 들면 반도체 웨이퍼에 와류 전류를 발생시킬 수 있다. 상술된 부품에 있는 와류 전류는 전자 비임을 편향시키는 대향 편향 필드(opposing deflection field)를 발생시켜, 전자 비임의 배치 에러(placement error)를 발생시킨다.
따라서, 가변 축선 침지 렌즈의 단점은 편향 자기장에 의해 발생된 와류 전류에 의하여 발생된 배치 에러이다. 선택적으로, 편향 자기장에 처리되는 시스템 부품은 비전도 재료일 수 있다. 그러나, 시스템의 비용은 이 같은 재료의 사용과 함께 증가된다. 따라서, 포커싱 자기장에 역효과를 주지 않고 편향 코일로부터 하류부에 있는 시스템의 전도 부품으로 편향 자기장이 방사되는 것을 방지하는 방법 및 장치가 요구된다.
본 발명은 하전 입자 비임 리소그래피(lithography)에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 이같은 리소그래피용 침지 렌즈(immersion lens)에 관한 것이다.
도 1a에는 종래 기술의 가변 축선 침지 렌즈가 도시된다.
도 1b에는 도 1a의 종래 기술의 가변 축선 침지 렌즈에 의하여 발생된 포커싱 자기장이 도시된다.
도 2에는 일 실시예에 따른 가변 축선 침지 렌즈 리소그래피 시스템이 도시된다.
도 3a에는 일 실시예에 따른 차폐 디스크를 구비한 침지 렌즈가 도시된다.
도 3b에는 도 3a의 디스크가 도시된다.
도 3c에는 도 3a의 침지 렌즈에 의해 발생된 자기장이 도시된다.
도 3d에는 도 3a의 편향 코일에 의해 발생된 자기장이 도시된다.
도 4a에는 일 실시예에 따른 차폐 콘을 구비한 침지 렌즈가 도시된다.
도 4b에는 도 3a의 콘이 도시된다.
도 4c에는 도 4a의 침지 렌즈에 의해 발생된 자기장이 도시된다.
도 4d에는 도 4a의 편향 코일에 의해 발생된 자기장이 도시된다.
일 실시예에서, 하전 입자 비임 시스템의 침지 렌즈는 비임 포커싱을 위해 사용되는 정적 자기장을 교란시키지 않으면서 편향 코일에 의하여 발생된 자기장을 변경시키는 시간으로부터 시스템의 비자기이지만 전도 부품을 차폐시키는 자기 부동 페라이트 디스크(floating ferrite disk)를 포함한다.[여기서 부동(floating)은 자기 회로의 일부분을 형성하지 않는 것을 의미한다.] 디스크는 편향 코일로부터(하전 입자 비임의 전파의 방향에 대해) 하류부에 장착되어 디스크의 표면이 침지 렌즈에 의해 발생된 자기장(또한 포커싱 자기장이라 지칭됨)의 자기 등위면에 거의 평행하다. 디스크는 편향 자기장이 디스크로부터 하류부에 있는 전도 시스템 부품으로 방사되는 것을 제한한다.
또 다른 실시예에서, 하전 입자 비임 시스템에 대한 침지 렌즈는 편향 자기장으로부터 전도 부품을 차폐시키는 다수의 유사한 자기 부동 페라이트 콘을 포함한다. 콘은 편향 코일로부터 하류부에 유사하게 장착되어 콘의 표면은 포커싱 자기장의 자기 등위면에 평행하거나 거의 평행하다. 콘은 편향 자기장이 콘으로부터 하류부에 있는 전도 시스템 부품으로 방사되는 것을 제한한다.
다양한 실시예는 첨부된 도면과 함께 후술되는 상세한 설명에 의해 더욱 완전히 이해될 것이다.
상이한 도면에서의 동일한 도면 부호의 이용은 동일하거나 또는 유사한 부품을 나타낸다.
일 실시예에서, 다른 종래의 하전 입자 비임 리소그래피 시스템(110)(도 2에 측면도로 도시됨)은 자기 "부동" 디스크(160)(도 3b에 사시도로 도시됨) 또는 자기 부동 콘(162)(도 4b에 사시도로 도시됨)과 같은 자기장 차폐부(magnetic field shield)를 포함한다. 자기장 차폐부는 편향 코일(111)에 의하여 발생된 자기장(172)(도 3d 및 도 4d)이 자기장 차폐부로부터 하류부에 방사되는 것을 제한한다. 자기장 차폐부는 여자 코일(141)에 의해 발생된 자기장(170)(도 3c 및 도 4c)에 영향을 미치지 않으며, 이는 자기장 차폐부의 상부면이 자기장 차폐부가 설치되어 자기장(170)의 자기 등위면(161)에 평행(또는 거의 평행)하기 때문이다.
일 실시예에서, 리소그래피 시스템(110)은 하전 입자(예를 들면, 전자) 공급원(184), 관통구멍 플레이트(118), 블랭킹 편향기(121), 포커싱 렌즈(120), 침지 렌즈(112), 스테이지(122) 및 제어 컴퓨터(123)를 포함한다. 이 모두는 보편적인 것이다. 기계적 지지부, 설치 하드웨어, 냉각, 전기, 및 진공 부품(덮개를 포함)과 같은 부가적인 보편적인 구조물이 명료성을 위해 도시되지 않지만 리소그래피 시스템(110)의 기술분야의 일반적인 기술자에게 이해될 것이다.
일 실시예에서, 침지 렌즈(112)(이러한 구조물을 단면으로 상세하게 설명하는 도 3a 참조)는 폴 피스(134)로부터 폴 피스(114)(도 3c)로 연장되는 자기장 라인에 의하여 표시되는 자기장(170)(또한 포커싱 자기장이라 지칭됨)을 발생시키는 여자 코일(141)을 포함한다. 폴 피스(114)는 통상적으로 페라이트인 내측 폴 피스(134), 외측의 통상적인 철로 된 폴 피스(150) 그리고 외측의 통상적인 철로 된 복귀 요크(140)를 포함하는 자기 렌즈 회로의 부분이다. 폴 피스(114), 복귀 요크(140), 및 폴 피스(150)는 총체적으로 "철로 된 폴 피스"로서 지칭되지만 철일 필요는 없다.
폴 피스(134)는 비 자기성 스페이서(154)(도 3a 및 도 4a에 도시됨)에 의하여 외측 폴 피스(150)로부터 분리된다. 스페이서(154)는 미국의 델라웨어주(Delaware), 윌밍턴(Wilmington)의 두퐁(DuPont)의 베스펠(Vespel)(R)과 같은 재료로 제작된다. 선택적으로, 폴 피스(134)는 에어 갭(156)(도 3c, 3d, 4c 및 4d에 도시됨)에 의하여 외측 폴 피스(150)로부터 분리된다. 한 쌍의 편향기 코일(143 및 145)은 하전 입자 비임을 편향시켜(하전 입자 비임의 축선을 변경시켜) 타깃(159)을 스캔한다. 편향기 코일(111)은 자기장(172)(또한 편향 자기장이라 지칭됨)을 발생시켜 자기장(170)의 자기 축선과 하전 입자 비임의 변경 축선을 일치시킨다.
일 실시예에서, 상대적으로 얇은 자기 부동 디스크(160)(예를 들면 페라이트의)는 편향기 코일(111)로부터 하류부에 설치된다. 디스크(160)는 디스크의 상부면(163)(도 3c)이 포커싱 자기장(170)의 자기 등위면(161)에 거의 평행하도록, 예를 들면 자기장 라인이 표면(163)에 거의 수직하도록 설치된다. 이와 같이 설치되면, 디스크(160)는 포커싱 자기장(170)에 거의 영향을 주지 않으며 이는 디스크(160)가 얇고 포커싱 자기장(170)의 자기 등위면(161)을 따른 필드 라인에 수직하게 배향되고 예를 들면 폴 피스(134), 폴 피스(150), 외측 복귀 요크(140), 및 폴 피스(114)를 포함하는 자기 회로에 자기적으로 결합되지 않고 자기적으로 부동하기 때문이다. 일 실시예에서, 디스크(160)는 비자기적이고 비전도적인 설치부(164)(명료성을 위해 도 3a에만 도시됨)에 의하여 폴 피스(134)에 설치되어 자기적으로 부동된다. 설치부(164)는 상대적으로 높은 저항도를 가진 코팅된 세라믹과 같은 재료로 제작되는데, 이와 같은 방식에서 디스크의 표면은 와류 전류가 작용하지 않고 전기적으로 접지된다. 설치부(164)는 예를 들면 전도성 에폭시를 사용하여 양 단부에서 접착되어 폴 피스(134)상에 디스크(160)를 설치한다.
이러한 실시예에서, 디스크(160)는 편향 자기장(172)이 디스크(160)(도 3d)로부터 하류부에 방사되는 것을 방지한다. 편향 자기장(172)은 루프에서 편향 코일(111)의 대향 측부로 복귀되는 자기장 라인을 구비한 쌍극자를 형성하는 보편적인 측방향 및 방위적 성분을 가진다. 디스크(160)는 재료내의 편향 자기장(172)의 측방향 및 방위적 성분에 분로를 형성하여 디스크(160)상의 자기장 라인의 루프를 폐쇄한다. 디스크(160)에 수직한 렌즈 플럭스 라인은 디스크를 통하여 직접 통과한다. 따라서, 디스크(160)는 편향 자기장(172)이 포커싱 필드에 거의 영향을 미치지 않고 디스크(160)로부터 하류부에 방사되는 것을 제한한다.
이러한 실시예에서, 전통적인 시스템 부품은 디스크(160)의 하류부에 배치되어, 후방산란 전자 감지기(168), 기판(157), 스테이지(122), 및 스테이지 드라이브(124)가 비자기적일 수 있지만 이들의 비용을 감소시키도록 전도성 재료(다양한 금속과 같은)일 수 있다. 감지기(168), 스테이지(122), 및 스테이지 핸들러(124)를 포함하는 디스크(160)로부터 하류부의 영역은 본 명세서에서 앞으로 스테이지 영역으로서 지칭된다.
일 실시예에서, 디스크(160)는 반경(r)의 중앙 개구(보어)를 형성하고 디스크(160)의 하부면(165)이 타깃(159)의 상부면(157)상으로 약 거리 2r이 되도록 설치된다. 반경(r)은 보어 직경이 전자 비임이 편향될 수 있는 침지 렌즈(112)의 스캐닝 영역을 초과하도록 선택된다. 디스크(160)는 R의 전체 직경을 가진다. 하나의 변형예에서, 디스크(160)의 전체 직경(R)은 폴 피스(134)의 외측 반경(R)과 유사하다. 디스크(160)는 두께(t)를 가지는데, 하나의 변형예에서 t는 약 3mm이다. 얇은 두께에도 불구하고, 디스크(160)는 편향 자기장(172)에 침지되지 않으며 이는 편향 자기장(172)이 약하기 때문이다.
일 실시예에서, 디스크(160) 대신, 자기 부동의 중공형 콘(162)(도 4a 및 도 4b)은 자기장 차폐부와 같이 편향기 코일(111) 아래 설치된다. 콘(162)(통상적으로 또한 페라이트의)은 디스크(160)와 유사한 기능을 한다. 콘(162)은 콘의 상부면(167)이 포커싱 자기장(170)의 자기 등위면(161)(도 4c)에 평행하거나 거의 평행하도록 배치된다. 콘(162)의 형상은 등위면(161)에 순응하는 콘의 상부면(167)이 디스크(160)의 표면(163)이 순응하는 것보다 더 잘 순응하도록 한다. 디스크(160)와 유사하게, 콘(162)은 편향 자기장(172)이 비자기적이지만 콘(162)(도 4d)으로부터 하류부에 있는 전도 시스템 부품에 와류 전류를 형성하는 것을 방지한다. 일 실시예에서, 콘(162)은 설치부(164)(명료성을 위해 도 4a에만 도시됨)에 의해 폴 피스(134)에 설치되어 자기적으로 부동된다.
일 실시예에서, 콘(162)은 반경(r)의 보어를 형성하고 절두체의 하부면(174)이 타깃(159)의 표면(157)상에 약 거리 2r에 있도록 설치된다. 반경(r)은 보어 직경이 전자 비임이 편향될 수 있는 침지 렌즈(112)의 스캐닝 영역을 초과하도록 선택된다. 콘(162)은 R의 전체 반경 및 H의 높이를 가진다. 하나의 변형예에서, 콘(162)의 전체 반경(R)은 폴 피스(134)의 외측 반경(R)에 유사하도록 선택된다.
일 실시예에서, 높이(H)는 콘(162)의 상부면(167)이 포커싱 자기장(170)의 자기 등위면(161)에 평행하거나 거의 평행하다. 자기 등위면(161)은 미국 플로리다주의 올란도(Orlando)의 FW 벨(Bell) & Co.에 의하여 제작된 홀 이펙트 가우스미터(Hall effect gaussmeter)와 같은 자기 프로브로 결정될 수 있다. 선택적으로, 영국의 런던의 멥스(Mebs) Ltd.에 의한 "옵틱스(Optics)"와 같은 컴퓨터 프로그램을 이용한 컴퓨터 모델링이 자기 등위면(161)을 결정하기 위하여 사용될 수 있다. 자기 등위면(161)이 결정된 후, 높이(H)는 전체 반경(R)에 따라 선택되어 그 결과 콘(162)의 상부면(167)이 포커싱 자기장(170)상에 최소 효과를 가진다.
콘(162)은 두께 t를 가지며 하나의 변형예에서 t는 약 3mm이다. 두께가 얇음에도 불구하고, 콘(162)은 편향 자기장(172)에 의하여 침지되지 않으며 이는 편향 자기장(172)이 약하기 때문이다.
비록 본 발명의 실시예가 소정의 변형예에 대해 상세하게 고려되어 설명되었지만, 다른 변형예가 가능하다. 예를 들면, 설치부(164)는 폴 피스(134) 대신 폴 피스(162)에 대한 결합 디스크(160) 또는 콘(162)일 수 있다. 선택적으로, 디스크(160) 및 콘(162)은 리소그래피 시스템(110)에 있는 다른 편리한 지지 구조물에 설치된다. 따라서, 첨부된 청구범위의 사상 및 범주는 도면에 설명된 변형예의 상세한 설명에 제한 되지 않는다.

Claims (29)

  1. 타깃에 노출시키기 위한 하전 입자 비임 리소그래피 시스템으로서,
    하전 입자 비임의 공급원과,
    상기 타깃으로 상기 비임을 향하게 하기 위해 상기 공급원으로부터 상기 비임의 전파 방향에 대해 하류부 및 동축선으로 배치되는 제 1 렌즈와,
    상기 제 1 렌즈로부터 하류부에 그리고 상기 비임과 동축선으로 배치되는 침지 렌즈와, 그리고
    상기 침지 렌즈로부터 하류부에 있는 타깃용 지지부를 포함하며,
    상기 침지 렌즈는 상기 비임에 동축선으로 배치되는 편향 코일, 및
    상기 편향 코일로부터 하류부에 그리고 상기 비임에 동축선으로 배치되는 자기장 차폐부를 포함하며,
    상기 자기장 차폐부는 상기 지지부와 상기 편향 코일 중간에 배치되어, 상기 자기장 차폐부로부터 하류부에 있는 상기 편향 코일에 의해 발생된 자기장을 제한하는 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 침지 렌즈는 상기 제 1 렌즈로 상기 비임을 동축선 및 하류부에 배치되는 제 1 폴 피스를 더 포함하며, 상기 제 1 폴 피스는 상기 편향 코일 주위로 적어도 부분적으로 연장되는 시스템.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 자기장 차폐부를 상기 제 1 폴 피스에 결합하는 비자기성 설치부를 더 포함하는 시스템.
  4. 제 2 항에 있어서, 상기 침지 렌즈는 상기 제 1 폴 피스에 동축선으로 배치되는 여자 코일을 더 포함하는 시스템.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 침지 렌즈는 상기 여자 코일에 동축선으로 배치되는 제 2 폴 피스를 더 포함하는 시스템.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 비임에 동축선으로 배치되는 비자기성 스페이서를 더 포함하며, 상기 스페이서는 상기 제 1 폴 피스와 상기 제 2 폴 피스 중간에 비치되어 있는 시스템.
  7. 제 5 항에 있어서, 상기 제 1 폴 피스와 상기 제 2 폴 피스가 이격되어 있는 시스템.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 자기장 차폐부의 상부면이 상기 침지 렌즈내의 포커싱 자기장의 전위 등위면에 적어도 거의 평행하도록 상기 자기장 차폐부가 배치되는 시스템.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 자기장 차폐부는 페라이트인 시스템.
  10. 제 1 항에 있어서, 상기 자기장 차폐부는 상기 비임의 통로용 중앙 보어를 형성하는 디스크인 시스템.
  11. 제 10 항에 있어서, 상기 중앙 보어는 반경r을 가지며 타깃의 상부면위로 약 거리 2r에 배치되는 시스템.
  12. 제 1 항에 있어서, 상기 자기장 차폐부는 상기 비임의 통로용 중앙 보어를 형성하는 콘인 시스템.
  13. 제 12 항에 있어서, 상기 중앙 보어는 반경r을 가지며 상기 콘의 중앙 보어는 타깃의 상부면으로부터 약 거리 2r에 배치되는 시스템.
  14. 제 12 항에 있어서, 상기 콘의 상부면이 상기 침지 렌즈내의 포커싱 자기장의 자기 등위면에 적어도 거의 평행하도록 상기 콘이 외측 반경 R과 높이 H를 가지는 시스템.
  15. 제 1 항에 있어서, 상기 타깃용 지지부와 상기 자기장 차폐부 중간에 배치되는 감지기를 더 포함하는 시스템.
  16. 제 1 항에 있어서, 상기 지지부는 비자기성이고 적어도 부분적인 절연 재료인 시스템.
  17. 하전 입자 비임을 이용하기 위한 침지 렌즈 조립체로서,
    상기 비임에 동축선으로 배치되는 편향 코일과,
    상기 편향 코일에 동축선으로 배치되는 여자 코일과,
    상기 여자 코일에 동축선으로 배치되고 상기 여자 코일 주위로 적어도 부분적으로 연장되는 제 1 폴 피스와,
    상기 편향 코일로부터 상기 비임의 전파에 대하여 하류부에 그리고 동축선으로 배치되는 자기장 차폐부와,
    상기 하전 입자 비임의 타킷용 그리고 상기 페라이트 차폐부로부터 상기 비임의 전파에 대하여 하류부에 있는 지지부를 포함하며,
    상기 자기장 차폐부는 상기 편향 코일과 상기 지지부 중간에 배치되어 상기 편향 코일에 의하여 발생된 자기장을 상기 자기장 차폐부로부터 하류부로 방사하는 것을 제한하는 침지 렌즈 조립체.
  18. 제 17 항에 있어서, 상기 제 1 폴 피스가 철인 침지 렌즈 조립체.
  19. 제 17 항에 있어서, 상기 편향 코일에 동축으로 배치되는 제 2 폴 피스를 더포함하며, 상기 제 2 폴 피스는 상기 편향 코일 주위로 적어도 부분적으로 연장되는 침지 렌즈 조립체.
  20. 제 19 항에 있어서, 상기 제 2 폴 피스는 페라이트로 제작되는 침지 렌즈 조립체.
  21. 제 17 항에 있어서, 상기 자기장 차폐부의 상부면이 상기 여자 코일에 의하여 발생된 자기장의 자기 등위면에 적어도 거의 평행하도록 상기 자기장 차폐부가 배치되는 침지 렌즈 조립체.
  22. 제 17 항에 있어서, 상기 자기장 차폐부는 페라이트로 제작되는 침지 렌즈 조립체.
  23. 제 17 항에 있어서, 상기 타깃용 지지부와 상기 자기장 차폐부 중간에 배치되는 감지기를 더 포함하는 침지 렌즈 조립체.
  24. 제 17 항에 있어서, 상기 타깃의 지지부가 비자성이고 전도 재료인 침지 렌즈 조립체.
  25. 타깃에 노출시키는 방법으로서,
    하전 입자 비임을 발생시키는 단계와,
    상기 타깃을 향하여 상기 하전 입자 비임을 향하게 하는 단계와,
    거의 균일한 자기장에 상기 타깃을 침지하기 위한 제 1 자기장을 발생시키는 단계와,
    상기 제 1 자기장의 자기 축선을 편향하기 위한 제 2 자기장을 발생시키는 단계와, 그리고
    상기 타깃을 포함하는 영역으로부터 상기 제 2 자기장을 적어도 부분적으로 차폐하는 단계를 포함하는 방법.
  26. 제 25 항에 있어서, 상기 제 2 자기장의 자기 등위면을 배치하는 단계를 더 포함하며,
    상기 차폐 단계는 상부면이 상기 자기 등위면에 적어도 거의 평행하도록 자기장 차폐부를 설치하는 단계를 포함하는 방법.
  27. 제 26 항에 있어서, 상기 차폐부는 페라이트로 제작되는 방법.
  28. 제 25 항에 있어서, 상기 차폐 단계는 평형 제한부를 한정하는 단계를 포함하는 방법.
  29. 제 25 항에 있어서, 상기 차폐 단계는 원뿔형 제한부를 한정하는 단계를 포함하는 방법.
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