KR20020016073A - Liquid crystal display - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로서, 특히 박막트랜지스터와 데이터배선 부분의 유리기판을 다른 부분보다 낮게 형성시켜 박막트랜지스터 또는 데이터배선 부분이 갖는 단차높이를 감소시킬 수 있는 액정표시장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device capable of reducing the height of a step of a thin film transistor or a data wiring portion by forming a glass substrate of the thin film transistor and the data wiring portion lower than other portions.
액정표시장치는 시계, 계산기, 휴대용 단말기 등의 소형표시장치부터, 현재에는 컴퓨터용 모니터, TV 등의 대형표시장치까지 다양한 크기의 생산이 가능하며, 소비전력이 다른 디바이스에 비해 매우 작고, 휴대성이 양호한 장점으로 인해 표시장치 분야에서 중요한 위치를 차지하고 있다.Liquid crystal display devices can be produced in various sizes from small display devices such as watches, calculators and portable terminals to large display devices such as computer monitors and TVs, and are very small and portable compared to other devices. This good advantage occupies an important position in the display device field.
특히, CRT는 전자를 가속하여 스크린의 형광체와 충돌시켜 발광하는 빛을 이용하여 영상을 표시하는 장치로, 높은 소비전력과, 전자를 가속할 공간이 필요하여 그 크기가 커지는 반면, 액정표시장치는 낮은 소비전력과 작은 크기로 인해 현재 표시장치의 가장 많은 부분을 차지하는 CRT의 대체상품으로 큰 주목을 받고 있다.In particular, the CRT is an apparatus that displays an image by using light that accelerates electrons and collides with a phosphor of a screen to emit light. The CRT requires high power consumption and a space for accelerating electrons. Due to its low power consumption and small size, it is attracting much attention as an alternative to the CRT, which currently occupies the largest portion of the display device.
상기 액정표시장치는, 공통전극, 칼라필터, 유리기판이 순차적으로 적층 형성된 상판부와, 상기 상판부와 소정 간격 이격되어 마련되며 유리기판, 트랜지스터 및 픽셀(pixel)전극이 순차적으로 적층 형성된 하판부와, 상기 상판부와 하판부의 이격거리를 일정하게 유지시켜주기 위한 복수개의 패턴 스페이서로 구성되며, 상기 상판부와 하판부 사이의 공간에 액정이 채워진다.The liquid crystal display device may include an upper plate portion in which a common electrode, a color filter, and a glass substrate are sequentially stacked, a lower plate portion in which a glass substrate, a transistor, and a pixel electrode are sequentially stacked and spaced apart from the upper plate portion by a predetermined interval; It consists of a plurality of pattern spacers for maintaining a constant distance between the upper plate and the lower plate, the liquid crystal is filled in the space between the upper plate and the lower plate.
그리고, 상기 액정표시장치에 픽셀사이의 색을 구분하고 빛을 흡수하는 블랙매트릭스(black matrix)가 형성되는데, 상기 블랙매트릭스의 형성위치에 따라 conventional 박막트랜지스터 액정표시장치와 organic BM(Black Matrix) on array 박막트랜지스터 액정표시장치로 구분할 수 있다.In addition, a black matrix is formed on the liquid crystal display to distinguish colors between pixels and absorb light. According to the position of the black matrix, a conventional thin film transistor liquid crystal display and an organic BM (Black Matrix) on It can be classified into an array thin film transistor liquid crystal display device.
여기서, 상기의 conventional 박막트랜지스터 액정표시장치와 organic BM on array 박막트랜지스터 액정표시장치에 대해 첨부된 도면을 참조하여 간략히 설명한다.Here, the conventional thin film transistor liquid crystal display and the organic BM on array thin film transistor liquid crystal display will be briefly described with reference to the accompanying drawings.
도 1의 a 및 b는 종래의 conventional 박막트랜지스터 액정표시장치와 organic BM(Black Matrix) on array 박막트랜지스터 액정표시장치를 보여주는 도면이다.1A and 1B illustrate a conventional conventional thin film transistor liquid crystal display and an organic BM (black matrix) on array thin film transistor liquid crystal display.
도 1을 참조하면, 종래의 conventional 액정표시장치는 지지대 역할을 하는 유리기판(101)과, 그 위에 박막트랜지스터(102), 절연막(103), 픽셀전극(104)이 순차적으로 형성되어 있다.Referring to FIG. 1, a conventional liquid crystal display device includes a glass substrate 101 serving as a support, and a thin film transistor 102, an insulating film 103, and a pixel electrode 104 formed thereon.
그리고, organic BM(Black Matrix) on array 박막트랜지스터 액정표시장치는 상기 박막트랜지스터(102) 위에 픽셀사이의 색을 구분하고 빛을 흡수하는 블랙매트릭스(105)가 형성되어 있다.In addition, the organic BM (black matrix) on array thin film transistor liquid crystal display has a black matrix 105 formed on the thin film transistor 102 to distinguish colors between pixels and absorb light.
한편, 액정표시장치의 공정은 상기 픽셀전극(104)위에 배향막(미도시)을 형성시키고, 액정의 배열을 유도하기 위해 상기 배향막을 일정방향으로 정렬되도록 하는 러빙과정을 수행하는데, 상기 러빙과정은 배향막을 특정방향으로 골이 생기게 하여 상기 배향막의 골과 동일한 방향으로 액정이 배열되도록 하는 과정으로서, 상기 배향막을 천등을 이용하여 일정한 방향으로 문지르게 되면, 그 방향으로 골이 생기게 된다.Meanwhile, a process of a liquid crystal display device forms an alignment film (not shown) on the pixel electrode 104, and performs a rubbing process to align the alignment film in a predetermined direction to induce an arrangement of liquid crystals. A process of forming an alignment film in a specific direction so that the liquid crystals are arranged in the same direction as the valley of the alignment film. When the alignment film is rubbed in a predetermined direction using a cloth, a goal is generated in that direction.
여기서, 상기 상판부와 하판부의 배향막의 골은 그 방향이 서로 교차하고, 액정은 상기 골과 동일한 방향으로 배열되며, 빛은 그 액정을 통해 전파하여, 전압을 인가하기 전에는 액정을 통과하여 빛을 투과시키고, 상기 액정에 전압을 인가하면 액정을 일방향으로 배열하여 액정을 통해 전파한 빛을 차단하여 액정표시장치의 동작을 제어하게 된다.Here, the valleys of the alignment film of the upper plate and the lower plate cross each other, the liquid crystals are arranged in the same direction as the valleys, and the light propagates through the liquid crystal and passes through the liquid crystal before applying a voltage to transmit the light. When the voltage is applied to the liquid crystal, the liquid crystal is arranged in one direction to block the light propagated through the liquid crystal to control the operation of the liquid crystal display.
따라서, 상기 배향막의 러빙이 잘 이루어지지 않으면 전압을 인가하여도 액정의 배열이 잘 이루어지지 않아 빛이 새는 현상이 발생한다.Therefore, if the rubbing of the alignment layer is not performed well, the alignment of the liquid crystals is poor even when a voltage is applied, causing light leakage.
그러나, 통상적으로 상기 러빙과정은 상기 박막트랜지스터(102)가 형성된 후에 수행되는데, 상기 박막트랜지스터(102)가 갖는 단차높이(a)로 인하여 러빙이 잘 이루어지지 않게 되고, 특히, organic BM on array 박막트랜지스터 액정표시장치는 블랙매트릭스(105)가 갖는 높이가 상기 박막트랜지스터(102)와 유리기판(101) 사이의 단차높이(a)에 포함되어, 상기 블랙매트릭스(105)와 유리기판(101) 사이의 단차높이(b)로 인하여, 더욱 러빙이 잘 이루어지지 않게 되어 상기 박막트랜지스터(102) 주변에서 빛이 새는 문제점이 발생하게 된다.However, the rubbing process is typically performed after the thin film transistor 102 is formed. Due to the step height a of the thin film transistor 102, rubbing is difficult to occur. In particular, the organic BM on array thin film In the transistor liquid crystal display device, the height of the black matrix 105 is included in the step height a between the thin film transistor 102 and the glass substrate 101, and thus, between the black matrix 105 and the glass substrate 101. Due to the step height (b) of the rubbing is not made more well, the light leaks around the thin film transistor 102 is a problem occurs.
또한, 상기와 같이 빛이 새는 문제점을 해결하기 위해서는, 상기 러빙이 잘 이루어지지 않는 영역까지 블랙매트릭스를 형성시키거나, 추가적인 차광막을 형성시켜 빛이 새는 영역이 발생하지 않도록 할 수 있는데, 그러면, 상기 블랙매트릭스, 또는 차광막이 픽셀전극(104)의 일부분까지 형성되어, 액정표시소자의 전체 화면 면적에서 정보표시가 가능한 면적의 비를 나타내는 개구율이 감소하게 되어 밝기와, 콘트라스트가 감소하게 되는 문제점이 있다.In addition, in order to solve the problem of light leakage as described above, by forming a black matrix to the area where the rubbing is not good, or by forming an additional light shielding film to prevent the light leakage area, then, Since a black matrix or a light shielding film is formed up to a part of the pixel electrode 104, the aperture ratio indicating the ratio of the information display area to the entire screen area of the liquid crystal display device is reduced, resulting in a decrease in brightness and contrast. .
또한, 도 2는 종래의 고개구율 박막트랜지스터 액정표시장치를 보여주는 도면으로서, 이에 도시된 바와 같이, 종래의 고개구율 박막트랜지스터 액정표시장치는 유리기판(101), 박막트랜지스터(102), 절연막(103), 픽셀전극(104)이 순차적으로 형성되어 있는데, 특히 이 때의 절연막(103)은 유기절연막을 사용하여, 상기 박막트랜지스터(102)의 위부분의 절연막(103)은 평탄하게 형성된다(도 2a 참조).In addition, FIG. 2 is a diagram illustrating a conventional high-aperture thin film transistor liquid crystal display device, and as shown in the drawing, a conventional high-aperture thin film transistor liquid crystal display device includes a glass substrate 101, a thin film transistor 102, and an insulating film 103. The pixel electrode 104 is formed sequentially. In particular, the insulating film 103 at this time uses an organic insulating film, and the insulating film 103 on the upper portion of the thin film transistor 102 is formed flat (Fig. 2a).
그리고, 박막트랜지스터(102)의 데이터배선(201) 부분에도, 상기 데이터배선(201) 위에 유기 절연막(103)이 형성되고, 그 위에 픽셀전극(104)이 형성된다(도 2b 참조).The organic insulating film 103 is formed on the data wiring 201 of the thin film transistor 102 and the pixel electrode 104 is formed thereon (see FIG. 2B).
이 때, 상기 유리기판(101) 위의 박막트랜지스터(102) 및 데이터배선(201)이 있는 부분에서, 상기 유리기판(101)에 대해 상기 박막트랜지스터(102) 및 데이터배선(201)이 단차높이(c)를 갖게 되어, 상기 박막트랜지스터(102) 및 데이터배선(201)이 있는 부분에서의 절연막(103)의 두께가 픽셀전극(104)이 있는 부분보다 상대적으로 얇아지게 되고, 그에 따라 상기 박막트랜지스터(102) 및 데이터배선(201)이 있는 부분의 절연막(103)은 높은 커패시턴스(capacitance) 값을 가지게 되어 픽셀간의 신호간섭현상(crosstalk)이 발생하여, 선택되어 있지 않는 화소에서도 표시신호가 왜곡되어 표시 대비비를 저하시키는 문제점이 있다.At this time, in the portion where the thin film transistor 102 and the data wiring 201 on the glass substrate 101 are located, the thin film transistor 102 and the data wiring 201 with respect to the glass substrate 101 are stepped. (c), the thickness of the insulating film 103 at the portion where the thin film transistor 102 and the data wiring 201 are located becomes relatively thinner than the portion where the pixel electrode 104 is located, and thus the thin film The insulating film 103 of the portion where the transistor 102 and the data wiring 201 are located has a high capacitance value, causing crosstalk between pixels, and the display signal is distorted even in unselected pixels. There is a problem of lowering the display contrast ratio.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 액정표시장치의 박막트랜지스터와 게이트 또는 데이터배선 부분이 갖는 단차높이를 감소시킴으로써, 러빙이 잘 이루어지도록 하여 빛이 새는 영역을 발생시키는 것을 방지하고, 상대적으로 절연막의 두께를 증가시켜 화소간의 신호간섭을 방지할 수 있는 액정표시장치를 제공하는 데에 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, and by reducing the height difference between the thin film transistor and the gate or data wiring portion of the liquid crystal display device, rubbing is performed well to prevent generation of light leaking areas. In addition, the object of the present invention is to provide a liquid crystal display device which can prevent signal interference between pixels by relatively increasing the thickness of the insulating film.
도 1의 a 및 b는 종래의 conventional 박막트랜지스터 액정표시장치와 organic BM(Black Matrix) on array 액정표시장치를 보여주는 도면.1 and 2 are views illustrating a conventional conventional thin film transistor liquid crystal display and an organic BM (black matrix) on array liquid crystal display.
도 2의 a 및 b는 종래의 고개구율 박막트랜지스터 액정표시장치를 보여주는 도면.2 and 2 are views showing a conventional high aperture thin film transistor liquid crystal display device.
도 3의 a 및 b는 본 발명에 따른 액정표시장치의 박막트랜지스터 부분의 단면도.3A and 3B are cross-sectional views of a thin film transistor portion of a liquid crystal display according to the present invention.
도 4는 본 발명에 따른 액정표시장치의 박막트랜지스터의 데이터배선 부분의 단면도.4 is a cross-sectional view of a data wiring portion of a thin film transistor of a liquid crystal display according to the present invention.
도 5는 본 발명의 다른 실시예를 보여주는 도면.5 shows another embodiment of the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
101, 301...유리기판 102, 302...박막트랜지스터101, 301 ... glass substrate 102, 302 ... thin film transistor
103, 303...절연막 104, 304...픽셀전극103, 303 insulating film 104, 304 pixel electrode
105, 305...블랙매트릭스 401...데이터배선105, 305 Black Matrix 401 Data Wiring
상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 액정표시장치는 지지대 역할을 하는 유리기판 위에 박막트랜지스터, 절연막 그리고 픽셀전극이 순차적으로 형성되는 액정표시장치에 있어서, 상기 박막트랜지스터가 형성되는 부분의 유리기판은 다른 부분보다 상대적으로 낮게 형성되어 박막트랜지스터와 유리기판이 사이의 단차높이를 감소시켜주는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the liquid crystal display according to the present invention is a liquid crystal display device in which a thin film transistor, an insulating film and a pixel electrode are sequentially formed on a glass substrate serving as a support, the glass of the portion where the thin film transistor is formed The substrate is formed to be relatively lower than the other portion is characterized in that the height difference between the thin film transistor and the glass substrate is reduced.
여기서, 상기 상대적으로 낮게 형성되는 유리기판은, 상기 박막트랜지스터의 게이트 또는 데이터배선 부분에도 형성시키는 것이 바람직하다.Here, the relatively low glass substrate is preferably formed on the gate or data wiring portion of the thin film transistor.
또한, 상기 상대적으로 낮게 형성되는 유리기판은, 습식식각에 의해 형성시키는 것이 바람직하다.In addition, the relatively low glass substrate is preferably formed by wet etching.
이와 같은 본 발명은, 액정표시장치의 박막트랜지스터 또는 데이터배선 부분이 갖는 단차높이를 감소시킴으로써, 러빙이 잘 이루어지도록 하여 빛이 새는 영역을 발생시키는 것을 방지하고, 상대적으로 절연막의 두께를 증가시켜 화소간의 신호간섭을 방지할 수 있는 장점이 있다.As described above, the present invention reduces the step height of the thin film transistor or the data wiring portion of the liquid crystal display device, so that rubbing is performed well, thereby preventing light leakage and increasing the thickness of the insulating film. There is an advantage to prevent signal interference between.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail an embodiment of the present invention.
도 3의 a 및 b는 본 발명에 따른 액정표시장치의 박막트랜지스터 부분의 단면도이다.3A and 3B are cross-sectional views of a thin film transistor portion of a liquid crystal display according to the present invention.
도 3의 a 및 b를 참조하면, 본 발명에 따른 액정표시장치는 지지대 역할을 하는 유리기판(301) 위에 박막트랜지스터(302), 절연막(303) 그리고 픽셀전극(304)이 순차적으로 형성되는 액정표시장치에 있어서, 상기 박막트랜지스터가 형성되는부분의 유리기판(301)은 다른 부분보다 상대적으로 낮게 형성되어 상기 박막트랜지스터(302)와 유리기판(301) 사이의 단차높이(a)를 감소시켜주는 것을 특징으로 한다.Referring to FIGS. 3A and 3B, a liquid crystal display according to the present invention includes a liquid crystal in which a thin film transistor 302, an insulating film 303, and a pixel electrode 304 are sequentially formed on a glass substrate 301 serving as a support. In the display device, the glass substrate 301 of the portion where the thin film transistor is formed is formed relatively lower than other portions to reduce the step height a between the thin film transistor 302 and the glass substrate 301. It is characterized by.
이 때, 상기와 같은 본 발명에 따른 액정표시장치는 블랙매트릭스가 상판부에 형성되어 박막트랜지스터(302)의 위에 블랙매트릭스가 형성되지 않는 conventional 박막트랜지스터 액정표시장치(도 3a 참조)와, 블랙매트릭스를 박막트랜지스터(302)의 위에 형성시키는 organic BM on array 박막트랜지스터 액정표시장치(도 3b 참조)에 동시에 적용할 수 있다.In this case, the liquid crystal display device according to the present invention as described above is a conventional thin film transistor liquid crystal display device (see FIG. 3A) and a black matrix in which a black matrix is formed on the upper plate and the black matrix is not formed on the thin film transistor 302. The organic BM on array thin film transistor formed on the thin film transistor 302 may be simultaneously applied to a liquid crystal display (see FIG. 3B).
상기와 같은 본 발명에 따른 액정표시장치는 상기 박막트랜지스터(302)가 있는 부분의 유리기판(301)은, 상기 박막트랜지스터(302)의 주변 부분, 즉, 픽셀전극(304)이 있는 부분의 유리기판(301)보다 상대적으로 낮게 형성되어 상기 유리기판(301)과 박막트랜지스터(302)의 단차높이(a)를 현저하게 감소시킬 수 있다.In the liquid crystal display device according to the present invention as described above, the glass substrate 301 of the portion where the thin film transistor 302 is located is a peripheral portion of the thin film transistor 302, that is, the glass of the portion where the pixel electrode 304 is located. It is formed lower than the substrate 301 can significantly reduce the step height (a) of the glass substrate 301 and the thin film transistor 302.
따라서, 상기와 같은 액정표시장치는, 그 제조공정에서의 러빙과정에서 상기 박막트랜지스터(302)와 유리기판(301) 사이의 단차높이(a)의 감소로 인하여 러빙이 잘 이루어지도록 할 수 있다.Therefore, in the liquid crystal display device as described above, rubbing can be performed well due to the reduction in the step height a between the thin film transistor 302 and the glass substrate 301 during the rubbing process in the manufacturing process.
또한, 본 발명을 organic BM on array 박막트랜지스터 액정표시장치에 적용하면(도 3b 참조), 블랙매트릭스(305)의 높이까지 감안한다 하더라도 상기 유리기판(301)과 박막트랜지스터(302)의 단차높이가 감소되어 블랙매트릭스(305)와 유리기판(301) 사이의 단차높이(b)를 감소시켜, 역시 제조공정에서의 러빙이 잘 이루어지도록 할 수 있다.In addition, when the present invention is applied to the organic BM on array thin film transistor liquid crystal display device (see FIG. 3B), even if the height of the black matrix 305 is taken into consideration, the height difference between the glass substrate 301 and the thin film transistor 302 is increased. It can be reduced to reduce the step height (b) between the black matrix 305 and the glass substrate 301, so that rubbing in the manufacturing process can be made well.
이 때, 상기 블랙매트릭스(305)가 형성되는 부분은, 유리기판(301)의 구조 및, 박막트랜지스터(302)의 구조에 따라 단차(s)가 형성되는데, 그에 따라 블랙매트릭스(305)를 더욱 두껍게 형성시킬 수 있게 되어 빛을 차단하는 블랙매트릭스(305)의 광학적 특성을 더욱 향상시킬 수 있으며, 콘트라스트의 향상에도 기여할 수 있다.At this time, the portion where the black matrix 305 is formed, the step (s) is formed according to the structure of the glass substrate 301 and the structure of the thin film transistor 302, thereby further forming the black matrix 305. It can be formed thicker can further improve the optical properties of the black matrix 305 to block the light, it can also contribute to the improvement of the contrast.
여기서, 상기와 같은 액정표시장치에 있어서, 유리기판(301)의 상대적으로 낮게 형성된 부분은, 습식식각(wet etch)에 의해서 형성시키는 것이 바람직하다.Here, in the liquid crystal display device as described above, the relatively low portion of the glass substrate 301 is preferably formed by wet etching.
이 때, 상기 습식식각의 식각액으로는 HF를 사용하거나, 상기 HF에 식각속도를 조절하기 위한 NH4F를 용해시킨 BOE 용액을 사용하는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable to use HF as the etchant for the wet etching, or to use a BOE solution in which NH 4 F is dissolved in HF to control the etching rate.
한편, 상기 액정표시장치에 있어서, 상기 상대적으로 낮게 형성되는 유리기판은, 박막트랜지스터(302) 부분뿐 아니라, 박막트랜지스터(302)의 게이트 또는 데이터배선 부분에도 형성시키는 것이 바람직하다.On the other hand, in the liquid crystal display device, the relatively low glass substrate is preferably formed not only in the thin film transistor 302 but also in the gate or data wiring part of the thin film transistor 302.
도 4는 본 발명에 따른 액정표시장치의 박막트랜지스터의 데이터배선 부분의 단면도로서, 이에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 액정표시장치는 박막트랜지스터(302)의 데이터배선(401)부분의 유리기판(301)이 다른 부분, 즉 픽셀전극(304)이 있는 부분의 유리기판(301)보다 상대적으로 낮게 형성된다.4 is a cross-sectional view of the data wiring portion of the thin film transistor of the liquid crystal display according to the present invention. As shown in the drawing, the glass substrate of the data wiring 401 portion of the thin film transistor 302 according to the present invention is shown. 301 is formed to be relatively lower than the glass substrate 301 of the other part, that is, the part where the pixel electrode 304 is present.
따라서, 상기 박막트랜지스터(302)의 데이터배선(401)과 유리기판(301) 사이의 높이차가 감소되어, 상기 데이터배선(401)과 픽셀전극(304) 사이에 형성되는 절연막(303)을 더 두껍게(d) 형성시킬 수 있고, 그에 따라 상기 데이터배선(401) 부분에서의 절연막(303)의 낮은 커패시턴스값을 확보하여 픽셀전극(303) 사이의 신호간섭현상을 방지할 수 있게 된다.Therefore, the height difference between the data wiring 401 and the glass substrate 301 of the thin film transistor 302 is reduced, so that the insulating film 303 formed between the data wiring 401 and the pixel electrode 304 is made thicker. (d) can be formed, thereby securing a low capacitance value of the insulating film 303 in the data line 401, thereby preventing signal interference between the pixel electrodes 303. FIG.
또한, 도 5는 본 발명의 다른 실시예를 보여주는 도면으로서, 고개구율 박막트랜지스터 액정표시장치에 본 발명을 적용한 것을 보여준다.5 is a view showing another embodiment of the present invention, and shows that the present invention is applied to a high-aperture thin film transistor liquid crystal display device.
상기 고개구율 박막트랜지스터 액정표시장치는, 지지대 역할을 하는 유리기판(301), 박막트랜지스터(302), 절연막(303), 픽셀전극(304)이 순차적으로 형성되고, 상기 절연막(303)은 유기절연막을 사용하여 박막트랜지스터(302)의 위부분의 절연막(303)이 평탄하게 형성되어 있다.In the high-aperture-rate thin film transistor liquid crystal display, a glass substrate 301, a thin film transistor 302, an insulating film 303, and a pixel electrode 304 are sequentially formed, and the insulating film 303 is an organic insulating film. The insulating film 303 on the upper portion of the thin film transistor 302 is formed to be flat.
이 때, 상기 박막트랜지스터(302)가 형성되는 부분의 유리기판(301)은 다른 부분, 즉, 픽셀전극(304)이 있는 부분보다 상대적으로 낮게 형성되어 박막트랜지스터(302)와 유리기판(301) 사이의 단차높이를 감소시키고, 상기 박막트랜지스터(302) 위에 형성되는 절연막(303)은 상기 유리기판(301)의 구조 및, 박막트랜지스터(302)의 구조에 따라 단차(s)가 형성되는 부분에 의해, 절연막(303)의 두께(e)를 증가시켜준다.At this time, the glass substrate 301 of the portion where the thin film transistor 302 is formed is formed relatively lower than other portions, that is, the portion where the pixel electrode 304 is present, so that the thin film transistor 302 and the glass substrate 301 are formed. The step height between the layers is reduced, and the insulating film 303 formed on the thin film transistor 302 is formed at a portion where the step s is formed according to the structure of the glass substrate 301 and the structure of the thin film transistor 302. This increases the thickness e of the insulating film 303.
따라서, 상기와 같이 두껍게 형성된 박막트랜지스터(302) 부분의 절연막(303)에서의 낮은 커패시턴스값을 확보하여 픽셀전극(303) 사이의 신호간섭현상을 방지할 수 있게 된다.Accordingly, a low capacitance value in the insulating layer 303 of the thin film transistor 302 formed as described above can be secured to prevent signal interference between the pixel electrodes 303.
또한, 상기의 고개구율 박막트랜지스터 액정표시장치의 데이터배선(401) 부분에도 상술한 바와 같이, 박막트랜지스터(302)의 데이터배선(401)부분의유리기판(301)이 다른 부분, 즉 픽셀전극(304)이 있는 부분의 유리기판(301)보다 상대적으로 낮게 형성시켜, 상기 박막트랜지스터(302)의 데이터배선(401)과 유리기판(301) 사이의 높이차가 감소되어, 상기 데이터배선(401)과 픽셀전극(304) 사이에 형성되는 절연막(303)을 더 두껍게(d) 형성시킬 수 있고, 그에 따라 상기 데이터배선(401) 부분에서의 절연막(303)의 낮은 커패시턴스값을 확보하여 픽셀전극(303) 사이의 신호간섭현상을 방지할 수 있게 된다.In addition, as described above, the glass substrate 301 of the data wiring 401 of the thin film transistor 302 is different from the data wiring 401 of the thin film transistor liquid crystal display. The height difference between the data wiring 401 and the glass substrate 301 of the thin film transistor 302 is reduced by forming the lower portion than the glass substrate 301 of the portion where 304 is, and thus the data wiring 401 The insulating film 303 formed between the pixel electrodes 304 can be formed to be thicker (d), thereby securing a low capacitance value of the insulating film 303 in the data wiring 401 portion, thereby securing the pixel electrode 303. It is possible to prevent signal interference between
이상의 설명에서와 같이, 본 발명에 따른 액정표시장치는, 액정표시장치의 박막트랜지스터 또는 게이트 또는 데이터배선 부분의 유리기판을 다른 부분보다 낮게 형성시켜 박막트랜지스터 또는 게이트 또는 데이터배선 부분이 갖는 단차높이를 감소시킴으로써, 러빙이 잘 이루어지도록 하여 빛이 새는 영역을 발생시키는 것을 방지하고, 또한 상대적으로 절연막의 두께를 증가시켜 화소간의 신호간섭을 방지할 수 있는 장점이 있다.As described above, the liquid crystal display according to the present invention forms the glass substrate of the thin film transistor or the gate or data wiring portion of the liquid crystal display device lower than other portions, thereby increasing the step height of the thin film transistor or the gate or data wiring portion. By reducing it, rubbing is performed well, thereby preventing generation of light leaking areas, and there is an advantage of preventing signal interference between pixels by relatively increasing the thickness of the insulating film.
또한, 상기 낮게 형성된 유리기판 구조 및, 박막트랜지스터의 구조에 따라 형성된 단차에 의해 블랙매트릭스를 더욱 두껍게 형성시킬 수 있게 되어 블랙매트릭스의 광학적 특성을 더욱 향상시킬 수 있으며, 콘트라스트의 향상에도 기여할 수 있다.In addition, it is possible to form a thicker black matrix by the step formed according to the lower structure of the glass substrate and the structure of the thin film transistor can further improve the optical properties of the black matrix, it can also contribute to the enhancement of the contrast.
Claims (4)
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