KR20020009034A - Method for making of touch panels by using a mask - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A method for manufacturing a touch panel using a mask is provided to reduce the number of processes and the cost by simultaneously etching a transparent conductive film an a metal thin film, to be advantageous to mass production, and to maximize the effective area of a screen. CONSTITUTION: The transparent conductive thin film is formed using a first mask on a first substrate except a linear region(1) having a specific width. A thin film for a staple-shaped connecting electrode having a specific width is formed using a second mask on the transparent conductive thin film. The middle portion of the staple shape is placed on the linear region without transparent conductive thin film of the first substrate while a specific middle portion of the staple shape has cut shape(2,3). Thus, an upper substrate is prepared. Thereafter, a transparent conductive thin film is formed using another first mask on a second substrate except an L-shaped curved region(4) having a specific width. A thin film for a connecting electrode consisting of four parts and having a specific width is formed using another second mask on the transparent conductive thin film of the second substrate. The thin film for a connecting electrode consists of a first region(5) placed on one end of the transparent conductive thin film, a second region(6) connected with the first region and formed on the curved region without transparent conductive thin film, a third region(7) formed on a portion of the transparent conductive thin firm symmetric to the first region and a fourth region(8) connected to the third region and formed on the curved portion in an outwardly protruded shape.

Description

마스크를 이용한 터치패널 제조방법 {Method for making of touch panels by using a mask}Method for manufacturing touch panel using mask {Method for making of touch panels by using a mask}

본 발명은 터치패널의 제조방법에 관한 것으로서, 특히 터치패널 공정의 비용절감 및 공정의 단순화, 특성 향상을 위해 투명도전막과 배선전극용 박막을 마스크를 사용하여 증착 및 직접 패터닝하거나 또는 투명도전막과 배선전극용 박막을 마스크를 사용하여 형성한후 배선전극용 박막을 레이저 스크라이빙(laser- scribing) 방법을 통해 원하는 패턴으로 식각하거나 또는 투명도전막을 박막으로 형성한 후 배선전극을 후막인쇄법으로 형성하는 터치패널 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a touch panel, and in particular, in order to reduce costs, simplify process, and improve characteristics of a touch panel process, a thin film for transparent conductive film and wiring electrode is deposited and directly patterned using a mask, or a transparent conductive film and wiring After forming the electrode thin film using a mask, the wiring electrode thin film is etched in a desired pattern by laser scribing or the transparent conductive film is formed into a thin film, and then the wiring electrode is formed by thick film printing. It relates to a touch panel manufacturing method.

또한 본 발명은 터치패널의 특성을 향상시키기 위해 투명도전박막상에 배선전극용 박막을 형성할 때 배선전극용 재료 및 구조와, 마스크를 이용하여 배선전극을 형성하기 위한 방법 및 마스크 구조를 제시하였다.In addition, the present invention proposes a material and a structure for the wiring electrode when forming the thin film for the wiring electrode on the transparent conductive thin film, and a method and a mask structure for forming the wiring electrode using the mask to improve the characteristics of the touch panel.

터치패널은 크게 매트릭스 스위치(Matrix Switch) 방식과 아나로그 방식으로 구별된다. 매트릭스 스위치 방식으로는 광센서 매트릭스 방식과 도전 필름 방식과 용량변화 방식과 금속세선 매립 방식으로 나뉘우며, 아나로그 방식은 도전 필름 방식과 압력센서 방식과 표면파 반사 방식과 금속세선 매립 방식으로 나뉘어진다.The touch panel is largely divided into a matrix switch method and an analog method. Matrix switch method is divided into optical sensor matrix method, conductive film method, capacity change method and metal wire embedding method, and analog method is divided into conductive film method, pressure sensor method, surface wave reflection method and metal wire embedding method.

본 발명은 상기 언급한 모든 방식의 터치패널에 적용 가능하지만 편의를 위해 아나로그 방식중 도전필름 방식을 예로하여 설명하고자 한다.The present invention is applicable to all the above-described touch panel, but for the sake of convenience, it will be described by taking an example of the conductive film method of the analog method.

도 1 은 일반적인 도전필름 방식 터치패널의 구조도이다.1 is a structural diagram of a general conductive film type touch panel.

도 2 는 종래 도전필름 방식 터치패널의 제작 공정도를 나타낸 것으로서, 먼저 유리나 플라스틱 기판상에 투명 도전막을 형성한다. 상기 투명 도전막은 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 SnO2또는 이들을 포함한 화합물로서 이루어진다.2 is a manufacturing process chart of a conventional conductive film type touch panel, first forming a transparent conductive film on a glass or plastic substrate. The transparent conductive film is made of indium tin oxide (ITO) or SnO 2 or a compound containing them.

투명 도전막이 형성되면 전극 배선을 위해 필요 없는 부분의 투명 도전막을사진 식각 공정을 사용하여 제거한다. 상기 사진 식각 공정에 의한 제거 공정은 감광제 도포, 건조, 노광, 식각, 감광제 제거등 다수개의 과정을 거쳐 행하게 되는데 공정수 증가에 따른 비용증가 및 화학약품 사용에 의한 환경문제가 심각할 수 밖에 없었다. 상기 사진 식각 공정이 끝나면 후막 인쇄법으로 상기 투명도전막의 주위에 배선용 전극을 형성하는데 후막인쇄의 특성상 7 내지 10 ㎛ 정도의 높은 두께와 미세패턴 형성의 한계가 있고 또한 형성된 배선전극의 밀착력이 낮아 환경변화에 따른 특성열화 가능성이 높아지는등 여러 가지 문제를 안고 있다.When the transparent conductive film is formed, the portion of the transparent conductive film that is not necessary for the electrode wiring is removed using a photolithography process. The removal process by the photolithography process is performed through a number of processes, such as photosensitive agent coating, drying, exposure, etching, photosensitive agent removal, but the environmental problems due to the increase in the number of processes and the use of chemicals are inevitably serious. After the photolithography process is completed, a wiring electrode is formed around the transparent conductive film by a thick film printing method. Due to the characteristics of thick film printing, there is a high thickness of about 7 to 10 μm and a limitation of forming a fine pattern, and the adhesion of the formed wiring electrode is low. There are various problems such as the possibility of deterioration of characteristics due to change.

본 발명에서는 이와 같은 당업자의 희망사항을 해결할 수 있는 방법을 제시함으로서 터치패널 분야에 획기적인 발전을 가져올 수 있었다.In the present invention, by presenting a method that can solve the wishes of those skilled in the art it could bring a breakthrough in the touch panel field.

다음 공정으로 후막 인쇄법이나 포토 공정을 사용하여 도트 스페이서를 형성한다. 그 후 마지막으로 상판과의 물리적 결합을 위하여 배선용 전극의 외부 단자 접속부를 제외한 배선용 전극상에 양면 테이프를 부착함으로서 하판이 완성된다.Next, a dot spacer is formed using a thick film printing method or a photo process. After that, the bottom plate is completed by attaching a double-sided tape on the wiring electrode except for the external terminal connection portion of the wiring electrode for physical coupling with the upper plate.

상판은 PET 필름위에 투명 도전막을 형성한 후 그 위에 후막 인쇄법을 사용하여 전극을 형성함으로서 완성되며, 상기 완성된 상판과 하판을 상기 양면 테이프를 통해 서로 결합하여 저항막 방식 터치패널을 완성한다.The upper plate is completed by forming a transparent conductive film on the PET film and then forming an electrode thereon by using a thick film printing method. The upper and lower plates are bonded to each other through the double-sided tape to complete a resistive touch panel.

이때 상기 양면테이프를 관통하는 홀을 통해 하판의 배선전극중 일부와 상판의 전극간에 도전성 페이스트등을 이용하여 전기적 연결을 해준다.At this time, through the hole penetrating the double-sided tape to electrically connect between a portion of the wiring electrode of the lower plate and the electrode of the upper plate using a conductive paste.

이상에서 살펴본 바와 같이 종래 방식에 의한 터치패널 제조방법은 사진식각 공정이라는 습식공정을 사용함으로서 공정수 증가에 따른 비용증가 및 환경오염 문제를 야기할 수 밖에 없었다.As described above, the touch panel manufacturing method according to the related art uses a wet process called a photolithography process to cause cost increase and environmental pollution due to an increase in the number of processes.

또한 후막 인쇄방법에 의해 배선전극을 형성함으로서 패널의 특성이 불균일 할 수 밖에 없었고, 이를 해결하기 위해 배선전극 형성을 박막공정으로 하고자 하여도 공정수 증가에 따른 비용문제 때문에 박막화 할 수도 없는 기술적 한계에 도달한 상태이다.In addition, by forming the wiring electrode by the thick film printing method, the characteristics of the panel had to be uneven, and to solve this problem, even though the wiring electrode was formed as a thin film process, it was not possible to make the thin film due to the cost problem due to the increase in the number of processes. You have reached it.

따라서 본 발명에서는 상기와 같은 종래기술의 문제점을 근원적으로 해결할 수 있는 방법을 제시하였다.Therefore, the present invention has proposed a method that can fundamentally solve the problems of the prior art as described above.

좀 더 구체적으로는 터치패널 공정의 비용절감 및 공정의 단순화, 특성 향상을 위해 투명도전막과 배선전극용 박막을 마스크를 사용하여 증착 및 직접 패터닝하거나 또는 투명도전막과 배선전극용 박막을 마스크를 사용하여 형성한후 배선전극용 박막을 레이저 스크라이빙(laser- scribing) 방법을 통해 원하는 패턴으로 식각하거나 또는 투명도전막을 박막으로 형성한 후 배선전극을 후막인쇄법으로 형성하는 터치패널 제조방법을 제시하였다.More specifically, in order to reduce the cost, simplify the process, and improve characteristics of the touch panel process, a thin film for transparent conductive film and wiring electrode is deposited and patterned using a mask, or a thin film for transparent conductive film and wiring electrode is used for masking. After the formation, the wiring electrode thin film was etched in a desired pattern by laser scribing or a transparent conductive film was formed into a thin film, and then a touch panel manufacturing method for forming the wiring electrode by thick film printing was presented. .

또한 본 발명은 터치패널의 특성을 향상시키기 위해 투명도전막상에 배선전극용 박막을 형성할 때 배선전극용 재료 및 구조와, 마스크를 이용하여 배선전극을 형성하기 위한 방법 및 마스크 구조를 제시하였다.In addition, the present invention proposes a material and a structure for the wiring electrode when forming the thin film for the wiring electrode on the transparent conductive film, and a method and a mask structure for forming the wiring electrode using the mask to improve the characteristics of the touch panel.

도 1 은 일반적인 터치패널의 구조도.1 is a structural diagram of a typical touch panel.

도 2 는 종래기술에 의한 터치패널의 제작 공정도.Figure 2 is a manufacturing process of the touch panel according to the prior art.

도 3 은 본 발명에 의한 마스크 구조의 제1 실시예.3 is a first embodiment of a mask structure according to the present invention;

도 4 는 본 발명에 의한 마스크 구조의 제2 실시예.4 is a second embodiment of a mask structure according to the present invention;

도 5 는 본 발명에 의한 마스크 구조의 제3 실시예.5 is a third embodiment of a mask structure according to the present invention;

도 6 의 (a) 는 본 발명에 의한 마스크를 사용하여 단일 터치패널의 배선전극용 박막을 형성하기 위한 지그 장치.Figure 6 (a) is a jig device for forming a thin film for wiring electrodes of a single touch panel using a mask according to the present invention.

도 6 의 (b) 는 본 발명에 의한 마스크를 사용하여 다수의 터치패널의 배선전극용 박막을 형성하기 위한 지그 장치.6B is a jig apparatus for forming thin films for wiring electrodes of a plurality of touch panels using a mask according to the present invention.

본 발명은 터치 패널의 제조 방법에 관한 것으로서, 기판의 일면상에 소정의 패턴을 갖는 제1 마스크를 이용하여 투명도전박막을 형성하는 단계;와The present invention relates to a method for manufacturing a touch panel, comprising: forming a transparent conductive thin film using a first mask having a predetermined pattern on one surface of a substrate; and

상기 형성된 투명도전박막상에 소정의 패턴을 갖는 배선전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진다.And forming a wiring electrode having a predetermined pattern on the formed transparent conductive thin film.

상기 터치패널 제조방법은, 터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제1 기판상의 일측 가장자리에 소정 폭을 갖는 직선 부위를 제외한 모든 부분에 상기 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성하는 단계;와The method of manufacturing the touch panel may include forming a transparent conductive thin film using the first mask on all portions of the two substrates constituting the touch panel except a straight portion having a predetermined width at one edge of the first substrate; and

상기 투명도전박막상에 소정 폭을 가진 "ㄷ"자형의 배선전극을 형성하되, 상기 "ㄷ"자형의 가운데 부분이 상기 제1 기판상의 투명도전박막이 형성되지 않은 직선부위에 놓이고, 상기 "ㄷ"자형의 가운데 부분중 일부분이 절단된 형태를 갖도록 배선전극을 형성하는 단계;A “c” shaped wiring electrode having a predetermined width is formed on the transparent conductive thin film, and the center portion of the “c” shaped is placed on a straight portion where the transparent conductive thin film on the first substrate is not formed. Forming a wiring electrode such that a portion of the center portion of the shape is cut off;

터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제2 기판상에 또 다른 제1 마스크를 이용하여 소정 폭을 갖는 "ㄱ"자 형태의 굴곡부위를 제외한 나머지 부위에 투명도전박막을 형성하는 단계;Forming a transparent conductive thin film on remaining portions of the two substrates constituting the touch panel except for the “a” shaped curved portion having a predetermined width using another first mask on the second substrate;

상기 투명도전박막상에 소정 폭을 가지며 4 부분으로 이루어지는 배선전극을 형성하되, 상기 배선전극은 전기적 접촉을 위해 상기 투명도전박막상의 일측 가장자리에 놓이는 제1 부분과, 상기 제1 부분과 연결되며 외부 리드선과의 접촉을 위해 투명도전박막이 형성되지 않은 상기 굴곡부위에 형성되는 제2 부분과, 상기 제1 부분과 대칭되는 투명도전박막상의 일측상에 형성되는 제3 부분과, 상기 제3 부분과 연결되며 기판의 외부 방향으로 돌출된 형태로 투명도전박막이 형성되지 않은 상기 굴곡부위에 형성된 제4 부분으로 이루어지도록 배선전극을 형성하는 단계를포함하는 터치패널 제조방법이다.A wiring electrode having a predetermined width and a four-part wiring electrode is formed on the transparent conductive thin film, wherein the wiring electrode is connected to the first portion and a first portion placed at one edge of the transparent conductive thin film for electrical contact. A second portion formed on the curved portion where the transparent conductive thin film is not formed for contact with the third portion, a third portion formed on one side of the transparent conductive thin film that is symmetrical with the first portion, and connected to the third portion And forming a wiring electrode to form a fourth portion formed on the bent portion in which the transparent conductive thin film is not formed in the form of protruding in the outward direction of the substrate.

이때 상기 제1 기판상에 형성된 두 개의 배선전극용 박막 각각을 외부의 FPC(Flexible Printed Circuit)의 일면에 형성된 배선과 연결시키는 단계;와At this time, connecting each of the two wiring electrode thin film formed on the first substrate with the wiring formed on one surface of an external flexible printed circuit (FPC); And

상기 제2 기판상에 형성된 배선전극용 박막중 제2 및 제4 부분을 상기 제1 기판의 배선전극용 박막에 연결된 FPC의 반대면상에 형성된 배선과 연결시키는 단계를 포함할 수 있다.And connecting the second and fourth portions of the wiring electrode thin film formed on the second substrate with the wiring formed on the opposite surface of the FPC connected to the wiring electrode thin film of the first substrate.

또한 본 발명에 의한 터치패널 제조방법은,In addition, the touch panel manufacturing method according to the present invention,

터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제1 기판상의 일측 가장자리에 소정 폭을 갖는 직선 부위를 제외한 모든 부분에 상기 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성하는 단계;와Forming a transparent conductive thin film by using the first mask on all portions of the two substrates constituting the touch panel except a straight portion having a predetermined width at one edge of the first substrate; and

상기 투명도전박막상에 소정 폭을 가진 "ㄷ"자형의 배선전극을 형성하되, 상기 "ㄷ"자형의 가운데 부분이 상기 제1 기판상의 투명도전박막이 형성되지 않은 직선부위에 놓이고, 상기 "ㄷ"자형의 가운데 부분중 일부분이 절단된 형태를 갖도록 배선전극을 형성하는 단계;A “c” shaped wiring electrode having a predetermined width is formed on the transparent conductive thin film, and the center portion of the “c” shaped is placed on a straight portion where the transparent conductive thin film on the first substrate is not formed. Forming a wiring electrode such that a portion of the center portion of the shape is cut off;

터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제2 기판상의 일측 가장자리에 소정 폭을 갖는 직선 부위를 제외한 모든 부분에 또 다른 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성하되, 상기 제2 기판상의 직선부위와 상기 제1기판상의 직선부위가 서로 수직방향을 갖도록 투명도전박막을 형성하는 단계;A transparent conductive thin film is formed on another portion of the two substrates constituting the touch panel except for the linear portion having a predetermined width at one edge on the second substrate by using another first mask, wherein the linear portion on the second substrate and the Forming a transparent conductive thin film such that the linear portions on the first substrate have perpendicular directions to each other;

상기 투명도전박막상에 소정 폭을 가지며 3 부분으로 이루어지는 배선전극을 형성하되, 상기 배선전극은 상기 투명도전박막상의 일측 가장자리에 놓이는 제1 부분과, 상기 제1 부분과 연결되며 투명도전박막이 형성되지 않은 상기 직선부위상에 직선형태로 형성되는 제2 부분과, 상기 제1 부분과 대칭되는 투명도전박막상의 일측상에 직선형태로 형성되는 제3 부분으로 이루어지도록 배선전극용 박막을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진다.A wiring electrode having a predetermined width and a three-part wiring electrode is formed on the transparent conductive thin film, wherein the wiring electrode is connected to the first portion and is formed at one edge of the transparent conductive thin film, and the transparent conductive thin film is not formed. Forming a thin film for a wiring electrode such that the second portion is formed in a straight shape on the straight portion and the third portion is formed in a straight shape on one side of the transparent conductive thin film which is symmetrical with the first portion. It is made to include.

이때 상기 제1 기판상에 형성된 두 개의 배선전극용 박막 각각을 외부의 FPC(Flexible Printed Circuit)의 일면에 형성된 배선과 연결시키는 단계;와At this time, connecting each of the two wiring electrode thin film formed on the first substrate with the wiring formed on one surface of an external flexible printed circuit (FPC); And

상기 제2 기판상에 형성된 배선전극용 박막중 제2 및 제3 부분을 상기 제1 기판의 배선전극용 박막에 연결된 FPC의 반대면상에 형성된 배선과 연결시키는 단계를 포함할 수 있다.And connecting the second and third portions of the wiring electrode thin film formed on the second substrate with the wiring formed on an opposite surface of the FPC connected to the wiring electrode thin film of the first substrate.

또한 본 발명에 의한 다른 터치패널 제조방법은,In addition, another touch panel manufacturing method according to the present invention,

터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제1 기판상에 소정 폭을 가지며 "ㄷ"자 형태를 갖는 가장자리 부분을 제외한 모든 부분에 상기 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성하는 단계;와Forming a transparent conductive thin film by using the first mask on all portions of the two substrates constituting the touch panel except the edge portion having a predetermined width and having a “c” shape on the first substrate; and

상기 투명도전박막상에 소정 폭을 가진 배선전극을 형성하되, 상기 "ㄷ"자형의 투명도전박막이 형성되지 않은 부분을 따라 "ㄷ"자 형을 갖는 제1 부분과, 상기 "ㄷ"자형의 가장자리 부분의 가운데에 해당되는 투명도전박막의 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제2 부분과, 상기 제2 부분과 대칭되는 구조로서 상기 "ㄷ"자형의 가장자리 부분의 가운데에 해당되는 투명도전박막의 또 다른 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제3 부분과, 상기 제2 부분과 제3 부분 사이의 투명도전박막이 형성되지 않은 부위에 직선형태로 형성되며 이에 수직 방향으로 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제4 부분으로 이루어지는 배선전극을 형성하는 단계;A first electrode having a “c” shape and a “c” shaped edge along a portion where a wiring electrode having a predetermined width is formed on the transparent conductive thin film, but where the “c” shaped transparent conductive thin film is not formed. A second portion formed on one side of the transparent conductive thin film corresponding to the center of the portion and connected to an end portion of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed, and a structure symmetrical with the second portion; A third portion formed on another side of the transparent conductive thin film corresponding to the center of the edge portion of the “c” shape and connected to an end portion of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed; It is formed in a straight line on a portion where the transparent conductive thin film between the second portion and the third portion is not formed, and is connected to the end of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed in the vertical direction. Forming a wiring electrode composed of the fourth sub-layer;

터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제2 기판상에 투명도전박막을 전면 형성하는 단계;Forming a transparent conductive thin film on the second substrate of the two substrates forming the touch panel;

상기 투명도전박막상에 소정 폭을 가지는 배선전극을 형성하되, 투명도전박막의 양측 가장자리에 직선 형태로 형성하는 단계를 포함하여 이루어진다.Forming a wiring electrode having a predetermined width on the transparent conductive thin film, it comprises a step of forming in a straight form on both edges of the transparent conductive thin film.

이때 상기 터치패널 제조방법은,At this time, the touch panel manufacturing method,

상기 제1 기판상의 배선전극중 제1 부분과 상기 제2 기판상의 한쪽 가장자리에 형성된 배선전극을 전기적으로 연결시키는 단계;와Electrically connecting a first portion of a wiring electrode on the first substrate and a wiring electrode formed at one edge on the second substrate; and

상기 제1 기판상의 배선전극중 제4 부분과 상기 제2 기판상의 다른쪽 가장자리에 형성된 배선전극을 전기적으로 연결시키는 단계를 포함한다. 이때 상기 제1 기판상에 형성된 각각의 배선전극용 박막을 외부의 FPC(Flexible Printed Circuit)의 일면에 형성된 배선과 연결시키는 단계;와Electrically connecting a fourth portion of the wiring electrodes on the first substrate with the wiring electrodes formed on the other edge of the second substrate. At this time, connecting each wiring electrode thin film formed on the first substrate with a wiring formed on one surface of an external flexible printed circuit (FPC); And

상기 제2 기판상에 형성된 두 배선전극용 박막 각각을 외부의 또 다른 FPC의 일면상에 형성된 배선과 연결시키는 단계를 포함할 수 있다.And connecting each of the two wiring electrode thin films formed on the second substrate with the wiring formed on one surface of another external FPC.

이상과 같은 본 발명에 의한 터치패널 제조방법에 있어 상기 배선전극은 소정의 패턴을 갖는 마스크를 사용하여 박막으로 형성하거나 후막인쇄 방법으로 형성하는 것이 바람직하다.In the touch panel manufacturing method according to the present invention as described above, the wiring electrode is preferably formed by a thin film or a thick film printing method using a mask having a predetermined pattern.

또한 본 발명에 의한 또 다른 터치패널 제조방법은,In addition, another touch panel manufacturing method according to the present invention,

기판의 일면상에 소정의 패턴을 갖는 제1 마스크를 이용하여 투명도전박막을 형성하는 단계;와Forming a transparent conductive thin film using a first mask having a predetermined pattern on one surface of the substrate; and

상기 형성된 투명도전박막상에 소정의 패턴을 갖는 제2 마스크를 이용하여 배선전극용 박막을 형성하는 단계;Forming a thin film for a wiring electrode using a second mask having a predetermined pattern on the formed transparent conductive thin film;

상기 형성된 배선전극용 박막상에 레이저를 주사하여 소정의 패턴을 갖도록 식각하는 레이저 스크라이빙 단계를 포함하여 이루어진다.It comprises a laser scribing step of etching a laser having a predetermined pattern by scanning a laser on the formed wiring electrode thin film.

이때 상기 터치패널 제조방법은, 터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제1 기판상에 소정 폭을 가지며 "ㄷ"자 형태를 갖는 가장자리 부분을 제외한 모든 부분에 상기 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성하는 단계;와In this case, the method for manufacturing a touch panel uses a transparent conductive thin film by using the first mask on all portions of the two substrates constituting the touch panel except for an edge portion having a predetermined width on the first substrate and having a “c” shape. Forming; and

상기 투명도전박막상에 상기 "ㄷ"자형의 투명도전박막이 형성되지 않은 부분을 따라 "ㄷ"자 형을 갖는 배선전극용 박막을 형성하되, 상기 "ㄷ"자형의 가운데 부분과 접하는 투명도전박막상의 가장자리와 상기 가장자리와 대칭되는 가장자리에는 형성하고자 하는 배선전극용 박막의 폭을 갖도록 배선전극용 박막을 형성하는 단계;On the transparent conductive thin film, a thin film for wiring electrode having a “c” shape is formed along a portion where the “c” shaped transparent conductive thin film is not formed, and the transparent conductive thin film is in contact with the center portion of the “c” shape. Forming a thin film for the wiring electrode to have a width of the thin film for the wiring electrode to be formed at an edge and an edge symmetric with the edge;

상기 형성된 배선전극용 박막에 레이저를 주사하여 식각하되, 상기 "ㄷ"자형의 투명도전박막이 형성되지 않은 부분을 따라 "ㄷ"자 형을 갖는 제1 부분과, 상기 "ㄷ"자형의 투명도전박막중 가운데 부분의 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제2 부분과, 상기 제2 부분과 대칭되는 구조로서 상기 "ㄷ"자형의 투명도전박막중 가운데 부분의 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제3 부분과, 상기 제2 부분과 제3 부분 사이의 투명도전박막이 형성되지 않은 부위에 직선형태로 형성되며 이에 수직 방향으로 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제4 부분의 형태를 갖도록 배선전극용 박막을 식각하여 형성하는 단계;A laser beam is etched by the laser on the formed wiring electrode thin film to form a first portion having a "c" shape along a portion where the "c" shaped transparent conductive thin film is not formed, and the "c" shaped transparent conductive film. A second portion formed on one side of the center portion of the thin film and connected to the end portion of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed, and a structure symmetrical with the second portion. A third portion formed on one side of the center portion of the transparent conductive thin film and connected to an end portion of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed, and the transparent conductive thin film between the second portion and the third portion The foil for the wiring electrode is formed in a straight shape on the portion where it is not formed, and has a fourth portion which is connected to the end of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed in the vertical direction. Forming by etching;

터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제2 기판상에 투명도전박막을 전면 형성하는 단계;Forming a transparent conductive thin film on the second substrate of the two substrates forming the touch panel;

상기 투명도전박막상에 또 다른 제2 마스크를 이용하여 소정 폭을 가지는 배선전극용 박막을 형성하되, 투명도전박막의 양측 가장자리에 직선 형태로 형성하는 단계를 포함한다.Forming a thin film for a wiring electrode having a predetermined width on the transparent conductive thin film by using another second mask, and forming the thin film for a wiring electrode in a straight shape at both edges of the transparent conductive thin film.

이때 상기 터치패널 제조방법은,At this time, the touch panel manufacturing method,

상기 제1 기판상의 배선전극용 박막중 제1 부분과 상기 제2 기판상의 한쪽 가장자리에 형성된 배선전극용 박막을 전기적으로 연결시키는 단계;와Electrically connecting a first portion of the thin film for wiring electrodes on the first substrate and a thin film for wiring electrode formed on one edge of the second substrate; and

상기 제1 기판상의 배선전극용 박막중 제4 부분과 상기 제2 기판상의 다른쪽 가장자리에 형성된 배선전극용 박막을 전기적으로 연결시키는 단계를 포함하며,Electrically connecting a fourth portion of the thin film for wiring electrodes on the first substrate and the thin film for wiring electrodes formed on the other edge of the second substrate,

상기 제1 기판상에 형성된 각각의 배선전극용 박막을 외부의 FPC(Flexible Printed Circuit)의 일면에 형성된 배선과 연결시키는 단계;와Connecting each thin film for wiring electrode formed on the first substrate with the wiring formed on one surface of an external flexible printed circuit (FPC); and

상기 제2 기판상에 형성된 두 배선전극용 박막 각각을 외부의 또 다른 FPC의 일면상에 형성된 배선과 연결시키는 단계를 포함한다.Connecting each of the two wiring electrode thin films formed on the second substrate with the wiring formed on one surface of another external FPC.

또 다른 본 발명에 의한 터치패널의 제조방법은,Another method of manufacturing a touch panel according to the present invention,

기판의 일면상에 소정의 패턴을 갖는 제1 마스크를 이용하여 투명도전박막을형성하는 단계;와Forming a transparent conductive thin film using a first mask having a predetermined pattern on one surface of the substrate; and

상기 형성된 투명도전박막상에 후막 인쇄방법으로 소정의 패턴을 갖는 배선전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진다.And forming a wiring electrode having a predetermined pattern on the formed transparent conductive thin film by a thick film printing method.

상기 터치패널 제조방법은,The touch panel manufacturing method,

터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제1 기판상에 소정 폭을 가지며 "ㄷ"자 형태를 갖는 가장자리 부분을 제외한 모든 부분에 상기 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성하는 단계;와Forming a transparent conductive thin film by using the first mask on all portions of the two substrates constituting the touch panel except the edge portion having a predetermined width and having a “c” shape on the first substrate; and

상기 "ㄷ"자형의 투명도전박막이 형성되지 않은 부분을 따라 "ㄷ"자 형을 갖는 제1 부분과, 상기 "ㄷ"자형의 투명도전박막중 가운데 부분의 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제2 부분과, 상기 제2 부분과 대칭되는 구조로서 상기 "ㄷ"자형의 투명도전박막중 가운데 부분의 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제3 부분과, 상기 제2 부분과 제3 부분 사이의 투명도전박막이 형성되지 않은 부위에 직선형태로 형성되며 이에 수직 방향으로 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제4 부분의 형태를 갖도록 배선전극을 후막 인쇄하여 형성하는 단계;A first portion having a “c” shape along a portion where the “c” shaped transparent conductive thin film is not formed, and formed on one side of a center portion of the “c” shaped transparent conductive thin film and connected thereto to be transparent. A second portion formed to be connected to an end portion of the first substrate on which the conductive thin film is not formed, and a structure symmetrical with the second portion, being formed on one side of the center portion of the “C” -shaped transparent conductive thin film and connected thereto And a third portion formed to be connected to an end of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed, and a portion formed in a straight line on a portion where the transparent conductive thin film between the second portion and the third portion is not formed. Forming a wiring electrode by thick-film printing so as to have a form of a fourth portion which is connected to an end portion of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed;

터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제2 기판상에 투명도전박막을 전면 형성하는 단계;Forming a transparent conductive thin film on the second substrate of the two substrates forming the touch panel;

상기 투명도전박막상의 양측 가장자리에 직선 형태로 배선전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진다.And forming a wiring electrode in a straight line at both edges of the transparent conductive thin film.

이때 상기 제1 기판상의 배선전극중 제1 부분과 상기 제2 기판상의 한쪽 가장자리에 형성된 배선전극용 박막을 전기적으로 연결시키는 단계;와At this time, electrically connecting the first portion of the wiring electrode on the first substrate and the thin film for wiring electrode formed at one edge on the second substrate; and

상기 제1 기판상의 배선전극중 제4 부분과 상기 제2 기판상의 다른쪽 가장자리에 형성된 배선전극용 박막을 전기적으로 연결시키는 단계를 포함하며, 상기 제1 기판상에 형성된 각각의 배선전극을 외부의 FPC(Flexible Printed Circuit)의 일면에 형성된 배선과 연결시키는 단계;와Electrically connecting a fourth portion of the wiring electrodes on the first substrate and a thin film for wiring electrodes formed on the other edge of the second substrate, wherein each wiring electrode formed on the first substrate Connecting to a wire formed on one surface of a flexible printed circuit (FPC); and

상기 제2 기판상에 형성된 두 배선전극용 박막 각각을 외부의 또 다른 FPC의 일면상에 형성된 배선과 연결시키는 단계를 포함할 수 있다.And connecting each of the two wiring electrode thin films formed on the second substrate with the wiring formed on one surface of another external FPC.

이상과 같이 이루어지는 본 발명에 의한 터치패널 제조방법은,The touch panel manufacturing method according to the present invention made as described above,

소정 패턴을 갖는 마스크를 기판상에 밀착하여 마스크 지지용 지그내에 결합시키는 단계와;Contacting a mask having a predetermined pattern on a substrate and bonding the mask to a mask supporting jig;

상기 마스크면을 통해 투명도전박막 또는 배선전극용 박막을 증착하는 단계를 추가로 포함하는 것이 바람직하다.The method may further include depositing a transparent conductive thin film or a thin film for a wiring electrode through the mask surface.

이때 상기 마스크는 5 mm 이하의 얇은 두께를 갖는 것을 바람직하며, 보다 바람직하게는 상기 마스크는 밀착성이 좋도록 유연성을 가지며, 그 0.1 내지 2 mm 이하의 두께를 갖는 것이 좋다.In this case, the mask preferably has a thin thickness of 5 mm or less, and more preferably the mask has flexibility to have good adhesion, and preferably has a thickness of 0.1 to 2 mm or less.

또한 보다 바람직하게는 상기 마스크는 자석에 붙는 재료로 이루어지는 것이 좋다.More preferably, the mask is made of a material that adheres to the magnet.

또한 본 발명에 의한 터치패널 제조방법의 상기 배선전극용 물질은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 은(Ag), 금(Au)으로 구성되는 그룹중 하나의 물질을 선택하여 이루어지는 단층물질 이거나 또는 상기 그룹을 포함한 적어도 2개 이상의 물질이 선택되어 적층으로 이루어지는 복층물질 이거나 또는 상기 그룹을 포함한 적어도 2개 이상의 물질로 이루어진 합금물질인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 상기 배선전극용 물질은 기판 상에 크롬 박막이 형성되고 그 위에 알루미늄이 형성되며 그 알루미늄 상에 니켈이 형성된 3층 구조를 갖거나, 또는 알루미늄과 은의 합금이거나, 또는 구리와 은의 합금이거나, 또는 니켈 단층인 것이 좋다.In addition, the wiring electrode material of the touch panel manufacturing method according to the present invention is in the group consisting of aluminum (Al), copper (Cu), nickel (Ni), chromium (Cr), silver (Ag), gold (Au). It is preferable that it is a single layer material which selects one material, or it is a multilayer material which consists of lamination | stacking at least 2 or more materials containing the said group, or an alloy material which consists of at least 2 or more materials containing the said group, More preferably Preferably, the wiring electrode material has a three-layer structure in which a chromium thin film is formed on a substrate, aluminum is formed thereon, and nickel is formed on the aluminum, or an alloy of aluminum and silver, or an alloy of copper and silver, Or nickel monolayer.

이하 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하고자 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3 은 본 발명에 의한 마스크 구조의 제1 실시예이며, 도 4 는 본 발명에 의한 마스크 구조의 제2 실시예, 도 5 는 본 발명에 의한 마스크 구조의 제3 실시예이다.3 is a first embodiment of the mask structure according to the present invention, FIG. 4 is a second embodiment of the mask structure according to the present invention, and FIG. 5 is a third embodiment of the mask structure according to the present invention.

도 6 의 (a) 는 본 발명에 의한 마스크를 사용하여 단일 터치패널의 배선전극용 박막을 형성하기 위한 지그 장치이며, 도 6 의 (b) 는 본 발명에 의한 마스크를 사용하여 다수의 터치패널의 배선전극용 박막을 형성하기 위한 지그 장치이다.6A is a jig apparatus for forming a thin film for wiring electrodes of a single touch panel using a mask according to the present invention, and FIG. 6B is a plurality of touch panels using the mask according to the present invention. It is a jig device for forming the thin film for wiring electrodes.

먼저 도 3 을 통해 본 발명에 의한 터치패널 제조방법의 제1 실시예를 설명하면 다음과 같다.First, a first embodiment of a method of manufacturing a touch panel according to the present invention will be described with reference to FIG. 3.

터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제1 기판(예를 들어 상판)상의 일측 가장자리에 소정 폭을 갖는 직선 부위(1)를 제외한 모든 부분에 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성한다.A transparent conductive thin film is formed by using a first mask on all portions of the two substrates constituting the touch panel except for the linear portion 1 having a predetermined width at one edge on the first substrate (for example, the upper plate).

그 후 상기 투명 도전박막상에 소정 폭을 가진 "ㄷ"자형의 배선전극용 박막을 형성하되, 상기 "ㄷ"자형의 가운데 부분이 상기 제1 기판상의 투명도전박막이 형성되지 않은 직선부위에 놓이고, 상기 "ㄷ"자형의 가운데 부분중 일부분이 절단된 형태(2, 3)를 갖도록 제2 마스크를 사용하여 배선전극용 박막을 형성하여 상판을 제작완료한다.Thereafter, a thin film of a "c" shaped wiring electrode having a predetermined width is formed on the transparent conductive thin film, and the center portion of the "c" shaped is placed on a straight portion where the transparent conductive thin film on the first substrate is not formed. Then, the thin film for the wiring electrode is formed using the second mask so that a part of the center portion of the "c" shape is cut out (2, 3), thereby manufacturing the top plate.

다음으로 터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제2 기판(예를 들어 하판)상에 또 다른 제1 마스크를 이용하여 소정 폭을 갖는 "ㄱ"자 형태의 굴곡부위(4)를 제외한 나머지 부위에 투명도전박막을 형성한다.Next, the second substrate (for example, the lower plate) of the two substrates forming the touch panel is transparent to the remaining portions except for the “a” shaped curved portion 4 having a predetermined width using another first mask. A conductive thin film is formed.

그 후 상기 투명도전박막상에 또 다른 제2 마스크를 이용하여 소정 폭을 가지며 4 부분으로 이루어지는 배선전극용 박막을 상기 형성하되, 상기 배선전극용 박막은 상기 투명도전박막상의 일측 가장자리에 놓이는 제1 부분(5)과, 상기 제1 부분과 연결되며 "ㄱ"자 형태를 가지되 투명도전박막이 형성되지 않은 상기 굴곡부위에 형성되는 제2 부분(6)과, 상기 제1 부분과 대칭되는 투명도전박막상의 일측상에 형성되는 제3 부분(7)과, 상기 제3 부분과 연결되며 기판의 외부 방향으로 돌출된 형태로 투명도전박막이 형성되지 않은 상기 굴곡부위에 형성된 제4 부분(8)으로 이루어지도록 배선전극용 박막을 형성하여 하판을 형성한다.Thereafter, the thin film for wiring electrode having a predetermined width and having four portions is formed on the transparent conductive thin film by using another second mask, wherein the thin film for wiring electrode is placed on one side edge of the transparent conductive thin film. (5), a second portion 6 connected to the first portion and having a “a” shape but formed on the bent portion where the transparent conductive thin film is not formed, and a transparent conductive symmetry with the first portion. A third portion 7 formed on one side of the thin film, and a fourth portion 8 formed on the bent portion, which is connected to the third portion and protrudes in an outward direction of the substrate, in which the transparent conductive thin film is not formed. The lower plate is formed by forming a thin film for the wiring electrode to be made.

이때 상기 제1 기판상에 형성된 두 개의 배선전극용 박막 각각을 외부의 FPC(Flexible Printed Circuit)의 일면에 형성된 배선과 연결시키고, 상기 제2 기판상에 형성된 배선전극용 박막중 제2 및 제4 부분을 상기 제1 기판의 배선전극용 박막에 연결된 FPC의 반대면상에 형성된 배선과 연결시킨다. 즉, 양면 FPC를 통해 상판 및 하판의 배선전극을 외부 리드선과 연결시킨다.At this time, each of the two wiring electrode thin films formed on the first substrate is connected to the wiring formed on one surface of an external flexible printed circuit (FPC), and the second and fourth of the wiring electrode thin films formed on the second substrate The portion is connected to the wiring formed on the opposite surface of the FPC connected to the thin film for wiring electrode of the first substrate. That is, the wiring electrodes of the upper and lower plates are connected to the external lead wires through the double-sided FPC.

도 4 는 본 발명에 의한 터치패널 제조방법의 또 다른 실시예로서,4 is another embodiment of a method for manufacturing a touch panel according to the present invention;

터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제1 기판(예를 들어 상판)상의 일측 가장자리에 소정 폭을 갖는 직선 부위(11)를 제외한 모든 부분에 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성한다.A transparent conductive thin film is formed by using a first mask on all portions of the two substrates constituting the touch panel except for the straight portion 11 having a predetermined width at one edge on the first substrate (eg, the upper plate).

그 후 상기 투명도전박막상에 소정 폭을 가진 "ㄷ"자형의 배선전극용 박막을 형성하되, 상기 "ㄷ"자형의 가운데 부분이 상기 제1 기판상의 투명도전박막이 형성되지 않은 직선부위에 놓이고, 상기 "ㄷ"자형의 가운데 부분중 일부분이 절단된 형태(12, 13)를 갖도록 제2 마스크를 사용하여 배선전극용 박막을 형성하여 상판제작을 완료한다.Thereafter, a thin film of a "c" shaped wiring electrode having a predetermined width is formed on the transparent conductive thin film, and the center portion of the "c" shaped is placed on a straight portion where the transparent conductive thin film on the first substrate is not formed. The thin film for the wiring electrode is formed by using the second mask so that a part of the center portion of the “c” shape is cut (12, 13) to complete the top plate manufacturing.

다음으로 터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제2 기판(예를 들어 하판)상의 일측 가장자리에 소정 폭을 갖는 직선 부위(14)를 제외한 모든 부분에 또 다른 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성하되, 상기 제2 기판상의 직선부위(14)와 상기 제1기판상의 직선부위(11)가 서로 수직방향을 갖도록 투명도전박막을 형성한다.Next, a transparent conductive thin film is formed by using another first mask on all portions of the two substrates constituting the touch panel except for the straight portion 14 having a predetermined width at one edge on the second substrate (for example, the lower plate). However, a transparent conductive thin film is formed such that the straight portion 14 on the second substrate and the straight portion 11 on the first substrate have a perpendicular direction to each other.

그 후 상기 투명도전박막상에 또 다른 제2 마스크를 이용하여 소정 폭을 가지며 3 부분으로 이루어지는 배선전극용 박막을 형성하되, 상기 배선전극용 박막은 상기 투명도전박막상의 일측 가장자리에 놓이는 제1 부분(15)과, 상기 제1 부분과 연결되며 투명도전박막이 형성되지 않은 상기 직선부위상에 직선형태로 형성되는 제2 부분(16)과, 상기 제1 부분과 대칭되는 투명도전박막상의 일측상에 직선형태로 형성되는 제3 부분(17)으로 이루어지도록 배선전극용 박막을 형성하여 하판제조를완료한다.Thereafter, a thin film for wiring electrode having a predetermined width and having three widths is formed on the transparent conductive thin film by using another second mask, wherein the thin film for wiring electrode is disposed on the one side edge of the transparent conductive thin film. 15) and a second portion 16 formed in a straight line shape on the straight portion connected to the first portion and on which the transparent conductive thin film is not formed, and on one side of the transparent conductive thin film symmetrical with the first portion. A thin film for wiring electrodes is formed to form a third portion 17 formed in a straight line to complete the lower plate manufacturing.

이때 상기 제1 기판상에 형성된 두 개의 배선전극용 박막 각각을 외부의 FPC(Flexible Printed Circuit)의 일면에 형성된 배선과 연결시키고, 상기 제2 기판상에 형성된 배선전극용 박막중 제2 및 제3 부분(16, 17)을 상기 제1 기판의 배선전극용 박막에 연결된 FPC의 반대면상에 형성된 배선과 연결시킨다. 즉, 양면 FPC를 통해 상판 및 하판의 배선전극을 외부 리드선과 연결시킨다.At this time, each of the two wiring electrode thin films formed on the first substrate is connected to the wiring formed on one surface of an external flexible printed circuit (FPC), and the second and third of the wiring electrode thin films formed on the second substrate Portions 16 and 17 are connected with wiring formed on the opposite side of the FPC connected to the wiring electrode thin film of the first substrate. That is, the wiring electrodes of the upper and lower plates are connected to the external lead wires through the double-sided FPC.

도 5 는 본 발명에 의한 터치패널 제조방법의 또 다른 실시예이며, 투명도전박막을 마스크를 사용하여 박막으로 형성한 후, 상기 투명도전박막상에 또 다른 마스크를 사용하여 배선전극용 박막을 증착 및 직접 패터닝하여 형성하거나 또는 배선전극용 박막을 형성한후 레이저 스크라이빙 방법을 통해 원하는 형태의 배선전극을 식각하여 패터닝 하거나 또는 후막인쇄법으로 원하는 배선전극의 형태를 형성하는 것을 특징으로 한다.5 is another embodiment of a method for manufacturing a touch panel according to the present invention, after forming a transparent conductive thin film using a mask as a thin film, and depositing a thin film for wiring electrode using another mask on the transparent conductive thin film. Forming by directly patterning or forming a thin film for the wiring electrode, and by etching the patterning wiring electrode of the desired form through a laser scribing method, or to form the desired wiring electrode by the thick film printing method.

먼저 투명도전박막을 마스크를 사용하여 박막으로 형성한 후, 상기 투명도전박막상에 또 다른 마스크를 사용하여 배선전극용 박막을 증착 및 직접 패터닝하여 형성하는 방법에 대해 설명한다.First, a method of forming a transparent conductive thin film using a mask and then forming a thin film for wiring electrode using another mask on the transparent conductive thin film will be described.

터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제1 기판(예를 들어 하판)상에 소정 폭을 가지며 "ㄷ"자 형태를 갖는 가장자리 부분(21)을 제외한 모든 부분에 상기 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성한다.The transparent conductive thin film is formed by using the first mask on all portions of the two substrates constituting the touch panel except for the edge portion 21 having a predetermined width on the first substrate (for example, a lower plate) and having a “c” shape. To form.

상기 투명도전박막상에 소정 폭을 가진 배선전극용 박막을 형성하되, 상기 "ㄷ"자형의 투명도전박막이 형성되지 않은 부분을 따라 "ㄷ"자 형을 갖는 제1부분(22)과, 상기 "ㄷ"자형의 가장자리 부분(21)에 해당되는 투명도전박막의 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제2 부분(23)과, 상기 가장자리 부분(21)에 해당되는 투명도전박막중 제2 부분(23)과 대칭되는 상기 투명도전박막중 가운데 부분의 또 다른 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제3 부분(24)과, 상기 제2 부분(23)과 제3 부분(24) 사이의 투명도전박막이 형성되지 않은 부위에 직선형태로 형성되며 이에 수직 방향으로 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제4 부분(25)으로 이루어지는 배선전극용 박막을 제2 마스크를 사용하여 형성한다.Forming a thin film for a wiring electrode having a predetermined width on the transparent conductive thin film, the first portion 22 having a “c” shape along a portion where the “c” shaped transparent conductive thin film is not formed, and the “ A second portion 23 formed on one side of the transparent conductive thin film corresponding to the edge portion 21 of the '-' shape and connected to an end portion of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed; The first substrate is formed on another side of the center portion of the transparent conductive thin film that is symmetrical to the second portion 23 of the transparent conductive thin film corresponding to the edge portion 21 and is not connected to the transparent substrate. The third portion 24 formed to be connected to the end portion and the transparent conductive thin film formed between the second portion 23 and the third portion 24 are not formed in a straight line shape, so that the transparent conductive in the vertical direction First substrate without thin film A thin-film for a wiring electrode made of a fourth portion 25 formed is connected to the end of forming, using a second mask.

다음으로 터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제2 기판(예를 들어 상판)상에 투명도전박막(26)을 전면 형성한 후, 상기 투명도전박막상에 또 다른 제2 마스크를 이용하여 소정 폭을 가지는 배선전극용 박막을 형성하되, 투명도전박막의 양측 가장자리에 직선 형태(27, 28)로 형성한다.Next, after the transparent conductive thin film 26 is entirely formed on the second substrate (for example, the upper plate) of the two substrates forming the touch panel, the transparent conductive thin film has a predetermined width using another second mask. The thin film for the wiring electrode is formed, but is formed in a straight line (27, 28) on both edges of the transparent conductive thin film.

이때 상기 제1 기판상의 배선전극용 박막중 제1 부분(22)과 상기 제2 기판상의 한쪽 가장자리에 형성된 배선전극용 박막(27)을 전기적으로 연결시키고, 상기 제1 기판상의 배선전극용 박막중 제4 부분(25)과 상기 제2 기판상의 다른쪽 가장자리에 형성된 배선전극용 박막(28)을 전기적으로 연결시킴으로서 터치패널을 완성한다.At this time, the first portion 22 of the wiring electrode thin film on the first substrate and the wiring electrode thin film 27 formed at one edge on the second substrate are electrically connected to each other. The touch panel is completed by electrically connecting the fourth portion 25 and the thin film for wiring electrode 28 formed on the other edge of the second substrate.

또한 상기 제1 기판상에 형성된 각각의 배선전극용 박막을 외부의 FPC(Flexible Printed Circuit)의 일면에 형성된 배선과 연결시키고, 상기 제2 기판상에 형성된 두 배선전극용 박막 각각을 외부의 또 다른 FPC의 일면상에 형성된 배선과 연결시킨다.In addition, each of the wiring electrode thin films formed on the first substrate is connected to a wiring formed on one surface of an external flexible printed circuit (FPC), and each of the two wiring electrode thin films formed on the second substrate is further connected to an external device. It is connected to the wiring formed on one surface of the FPC.

다음으로 배선전극을 레이저 스크라이빙 방법을 통해 식각하여 패터닝하는 본 발명에 의한 터치패널 제조방법의 또 다른 실시예에 대해 설명한다.Next, another embodiment of the method of manufacturing a touch panel according to the present invention for etching and patterning a wiring electrode through a laser scribing method will be described.

본 실시예는 기판의 일면상에 소정의 패턴을 갖는 제1 마스크를 이용하여 투명도전박막을 형성하는 단계;와The present embodiment comprises the steps of forming a transparent conductive thin film using a first mask having a predetermined pattern on one surface of the substrate; and

상기 형성된 투명도전박막상에 소정의 패턴을 갖는 제2 마스크를 이용하여 배선전극용 박막을 형성하는 단계;Forming a thin film for a wiring electrode using a second mask having a predetermined pattern on the formed transparent conductive thin film;

상기 형성된 배선전극용 박막상에 레이저를 주사하여 소정의 패턴을 갖도록 식각하는 레이저 스크라이빙 단계를 포함하여 이루어진다.It comprises a laser scribing step of etching a laser having a predetermined pattern by scanning a laser on the formed wiring electrode thin film.

본 실시예에 의한 터치패널 제조방법을 도 5를 참조하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a touch panel manufacturing method according to the present embodiment will be described in detail with reference to FIG. 5.

터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제1 기판상(예를 들어 하판)에 소정 폭을 가지며 "ㄷ"자 형태를 갖는 가장자리 부분(21)을 제외한 모든 부분에 상기 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성한다.The transparent conductive thin film is formed by using the first mask on all portions of the two substrates constituting the touch panel except for the edge portion 21 having a predetermined width on the first substrate (for example, a lower plate) and having a “c” shape. To form.

그 후 상기 투명도전박막상에 상기 "ㄷ"자형의 투명도전박막이 형성되지 않은 부분을 따라 "ㄷ"자 형을 갖는 배선전극용 박막을 형성하되, 상기 "ㄷ"자형의 가운데 부분과 접하는 투명도전박막상의 가장자리(23중 투명도전박막과 접하는 부분)와 상기 가장자리와 대칭되는 가장자리(24중 투명도전박막과 접하는 부분)에는 최종적으로 형성하고자 하는 배선전극의 폭을 갖도록 마스크를 사용하여 배선전극용 박막을 형성한다.Thereafter, a thin film for wiring electrode having a "c" shape is formed along the portion where the "c" shaped transparent conductive thin film is not formed on the transparent conductive thin film, and the transparent conductive material is in contact with the center portion of the "c" shaped. Thin film for wiring electrode using a mask to have the width of the wiring electrode to be finally formed at the edge of the thin film on the edge (in contact with the transparent conductive thin film of the 23) and the edge (symmetrical in contact with the transparent conductive thin film of the 24). To form.

그 후 상기 형성된 배선전극용 박막에 레이저를 주사하여 식각하되, 상기 "ㄷ"자형의 투명도전박막이 형성되지 않은 부분을 따라 "ㄷ"자 형을 갖는 제1 부분(22)과, 상기 "ㄷ"자형의 가장자리 부분(22)의 가운데에 해당되는 투명도전박막의 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제2 부분(23)과, 상기 제2 부분과 대칭되는 구조로서 상기 "ㄷ"자형의 가장자리 부분의 가운데에 해당되는 투명도전박막의 또 다른 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제3 부분(24)과, 상기 제2 부분(23)과 제3 부분(24) 사이의 투명도전박막이 형성되지 않은 부위에 직선형태로 형성되며 이에 수직 방향으로 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제4 부분(25)의 형태를 갖도록 배선전극용 박막을 식각하여 배선전극을 형성한다.After that, the laser is etched by etching a thin film for the wiring electrode, wherein the first portion 22 having a “c” shape along the portion where the “c” shaped transparent conductive thin film is not formed, and the “c” is formed. A second portion 23 formed on one side of the transparent conductive thin film corresponding to the center of the edge portion 22 of the shape and connected to an end portion of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed, The structure is symmetrical with the second portion and is formed on another side of the transparent conductive thin film corresponding to the center of the edge portion of the “c” shape to be connected to the end of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed. The third portion 24 connected to the second portion 23 and the transparent conductive thin film formed between the second portion 23 and the third portion 24 are not formed in a straight line shape and a transparent conductive thin film is formed in the vertical direction. Not the first period And the first to have the form of a four-part (25) is formed connected to the end of etching a thin film for the wiring electrode to form a wiring electrode.

다음으로 터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제2 기판(상판)상에 투명도전박막을 전면 형성한 후, 상기 투명도전박막상에 또 다른 제2 마스크를 이용하여 소정 폭을 가지는 배선전극용 박막을 형성하되, 투명도전박막의 양측 가장자리에 직선 형태로 형성한다.Next, after the transparent conductive thin film is entirely formed on the second substrate (top plate) of the two substrates forming the touch panel, a thin film for wiring electrode having a predetermined width is formed on the transparent conductive thin film by using another second mask. However, it is formed in a straight line on both edges of the transparent conductive thin film.

이때 상기 터치패널 제조방법은, 상기 제1 기판상의 배선전극용 박막중 제1 부분(22)과 상기 제2 기판상의 한쪽 가장자리에 형성된 배선전극용 박막(27)을 전기적으로 연결시키고, 상기 제1 기판상의 배선전극용 박막중 제4 부분(25)과 상기 제2 기판상의 다른쪽 가장자리에 형성된 배선전극용 박막(28)을 전기적으로 연결시킴으로서 터치패널을 완성한다.At this time, the touch panel manufacturing method, the first portion 22 of the wiring electrode thin film on the first substrate and the wiring electrode thin film 27 formed on one edge on the second substrate electrically connected, the first The touch panel is completed by electrically connecting the fourth portion 25 of the wiring electrode thin film on the substrate with the wiring electrode thin film 28 formed on the other edge of the second substrate.

이때 상기 제1 기판상에 형성된 각각의 배선전극용 박막을 외부의 FPC(Flexible Printed Circuit)의 일면에 형성된 배선과 연결시키고, 상기 제2 기판상에 형성된 두 배선전극용 박막 각각을 외부의 또 다른 FPC의 일면상에 형성된 배선과 연결시킨다.At this time, each of the wiring electrode thin films formed on the first substrate is connected to a wiring formed on one surface of an external flexible printed circuit (FPC), and each of the two wiring electrode thin films formed on the second substrate is connected to another external It is connected to the wiring formed on one surface of the FPC.

다음으로 투명도전박막을 마스크를 사용하여 형성한 후 배선전극을 후막인쇄 방법으로 형성하는 본 발명에 의한 또 다른 실시예를 설명하면 다음과 같다.Next, another embodiment of the present invention for forming a transparent conductive thin film using a mask and then forming a wiring electrode by a thick film printing method will be described.

본 실시예는 기판의 일면상에 소정의 패턴을 갖는 제1 마스크를 이용하여 투명도전박막을 형성하는 단계;와The present embodiment comprises the steps of forming a transparent conductive thin film using a first mask having a predetermined pattern on one surface of the substrate; and

상기 형성된 투명 도전박막상에 후막 인쇄방법으로 소정의 패턴을 갖는 배선전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진다.And forming a wiring electrode having a predetermined pattern on the formed transparent conductive thin film by a thick film printing method.

본 실시예에 의한 터치패널 제조방법을 도 5를 참조하여 좀 더 구체적으로 설명하면 다음과 같다.The touch panel manufacturing method according to the present embodiment will be described in more detail with reference to FIG. 5 as follows.

터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제1 기판(예를 들어 하판)상에 소정 폭을 가지며 "ㄷ"자 형태를 갖는 가장자리 부분을 제외한 모든 부분에 상기 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성한 후, 상기 "ㄷ"자형의 투명도전박막이 형성되지 않은 부분을 따라 "ㄷ"자 형을 갖는 제1 부분(22)과, 상기 "ㄷ"자형의 가장자리 부분의 가운데에 해당되는 투명도전박막의 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제2 부분(23)과, 상기 제2 부분과 대칭되는 구조로서 상기 "ㄷ"자형의 가장자리 부분의 가운데에 해당되는 투명도전박막의 또 다른 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제3 부분(24)과, 상기 제2 부분(23)과 제3 부분(24) 사이의 투명도전박막이 형성되지 않은 부위에 직선형태로 형성되며 이에 수직 방향으로 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제4 부분(25)의 형태를 갖도록 배선전극을 후막 인쇄하여 형성한다.The transparent conductive thin film is formed by using the first mask on all portions of the two substrates constituting the touch panel except for the edge portion having a predetermined width on the first substrate (for example, the lower plate) and having a “c” shape. Thereafter, the first portion 22 having a "c" shape along the portion where the "c" shaped transparent conductive thin film is not formed, and the transparent conductive thin film corresponding to the center of the edge portion of the "c" shaped, A second portion 23 formed on one side and connected to an end portion of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed, and an edge portion of the “c” shape as a structure symmetrical with the second portion; A third portion 24 formed on one side of the transparent conductive thin film corresponding to the center of the second substrate 24 and connected to an end of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed, and the second portion 23. ) And the third part (24) The wiring electrode is formed in a straight line on a portion where the transparent conductive thin film is not formed, and the wiring electrode is formed to have a shape of a fourth portion 25 connected to the end of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed in the vertical direction. Print and form.

다음으로 터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제2 기판(예를 들어 상판)상에 투명도전박막을 전면 형성하고, 상기 투명도전박막상에 제2 마스크를 이용하여 소정 폭을 가지는 배선전극용 박막을 형성하되, 투명도전박막의 양측 가장자리에 직선 형태(27, 28)로 형성한다.Next, a transparent conductive thin film is entirely formed on a second substrate (for example, a top plate) of two substrates forming a touch panel, and a thin film for wiring electrode having a predetermined width is formed on the transparent conductive thin film by using a second mask. However, it is formed in a straight form (27, 28) on both edges of the transparent conductive thin film.

이때에도 상기 제1 기판상의 배선전극중 제1 부분(22)과 상기 제2 기판상의 한쪽 가장자리에 형성된 배선전극용 박막(27)을 전기적으로 연결시키고, 상기 제1 기판상의 배선전극중 제4 부분(25)과 상기 제2 기판상의 다른쪽 가장자리에 형성된 배선전극용 박막(28)을 전기적으로 연결시킴으로서 본 발명에 의한 터치패널을 완성한다.At this time, the first portion 22 of the wiring electrodes on the first substrate and the thin film 27 for wiring electrodes formed on one edge of the second substrate are electrically connected to each other, and the fourth portion of the wiring electrodes on the first substrate is electrically connected. The touch panel according to the present invention is completed by electrically connecting the thin film 28 for wiring electrode formed at the other edge on the second substrate.

이때 상기 제1 기판상에 형성된 각각의 배선전극을 외부의 FPC(Flexible Printed Circuit)의 일면에 형성된 배선과 연결시키고, 상기 제2 기판상에 형성된 두 배선전극용 박막 각각을 외부의 또 다른 FPC의 일면상에 형성된 배선과 연결시킨다.At this time, each wiring electrode formed on the first substrate is connected to a wiring formed on one surface of an external flexible printed circuit (FPC), and each of the two wiring electrode thin films formed on the second substrate is connected to another external FPC. It is connected to the wiring formed on one surface.

본 발명에 의한 마스크의 구조는 배선전극의 형태에 따라 가변될 수 있으며,중요한 것은 자석에 붙는 재료로 이루어진 것을 특징으로 한다.The structure of the mask according to the present invention may vary depending on the shape of the wiring electrode, the main thing is characterized in that made of a material that is attached to the magnet.

또한 상기 마스크는 기판과의 밀착성을 좋게 하기위해 마스크 자체가 유연성을 갖도록 두께가 얇은 것이 좋다. 좀 더 구체적으로는 5 mm 이하의 두께를 갖는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 0.1 내지 2 mm 의 두께를 갖는 것이 바람직하다.In addition, the mask is preferably thin so that the mask itself has flexibility to improve adhesion to the substrate. More specifically, it is preferable to have a thickness of 5 mm or less, and more preferably 0.1 to 2 mm.

본 발명에 의한 마스크는 단위 터치패널의 투명 도전박막의 중앙 부위(표시부)를 가리기 위한 중앙 마스크와, 상기 중앙 마스크의 외부 가장자리를 따라 배선용 전극 박막이 형성되는 폭 만큼 상기 중앙 마스크와 이격되며 마스크 지지용 지그상에 올려놓아 지지될 수 있을 정도의 폭을 가진 지그 결합부와, 상기 중앙 마스크와 상기 지그 결합부를 소정 폭을 가지고 연결하는 적어도 하나 이상의 마스크 얼라인 및 고정용 브리지를 포함하여 구성된다.The mask according to the present invention is spaced apart from the central mask by a center mask for covering a central portion (display portion) of the transparent conductive thin film of the unit touch panel and a width in which an electrode thin film for wiring is formed along an outer edge of the central mask. It comprises a jig coupling portion having a width enough to be supported on the jig, and at least one mask alignment and fixing bridge for connecting the central mask and the jig coupling portion with a predetermined width.

마스크의 구조는 상기 언급한 한 개의 마스크 지그와 한 개의 중앙 마스크와 한 개 이상의 마스크 얼라인 및 고정용 브리지로 구성되는 것과 터치패널용 배선막을 동시에 여러장 제조하기 위해 한 개의 마스크 지그 내에 여러개의 중앙 마스크가 배선막 형성 부위만큼 이격되며 배치되도록 한 개 이상의 마스크 얼라인 및 고정용 브리지로 구성될 수 있다.The structure of the mask consists of one mask jig, one center mask, one or more mask alignment and fixing bridges mentioned above, and several centers in one mask jig for simultaneously manufacturing several sheets of touch panel wiring film. The mask may be composed of one or more mask alignment and fixing bridges so as to be spaced apart by the wiring film forming portion.

상기와 같이 구성되는 마스크를 이용하여 스텝 커버리지가 우수한 상태로 배선점극박막을 형성하기 위해서는 본 발명에 의한 마스크 지지용 지그가 필수적이다.The mask supporting jig according to the present invention is essential in order to form the wiring point thin film in a state in which the step coverage is excellent by using the mask configured as described above.

도 6 에 본 발명에 의한 마스크 지지용 지그 장치를 개시하였다. 특히 도6(a) 는 본 발명에 의한 마스크를 사용하여 단일 터치패널의 배선전극용 박막을 형성하기 위한 지그 장치를 나타내었고, 도 6(b) 는 본 발명에 의한 마스크를 사용하여 다수의 터치패널의 배선전극용 박막을 형성하기 위한 지그 장치를 나타내었다.The mask supporting jig apparatus by this invention was disclosed in FIG. In particular, Fig. 6 (a) shows a jig apparatus for forming a thin film for wiring electrodes of a single touch panel using a mask according to the present invention, and Fig. 6 (b) shows a plurality of touches using a mask according to the present invention. The jig apparatus for forming the thin film for wiring electrodes of a panel was shown.

도 6(a) 에서는 한 개의 마스크 지그와 한 개의 중앙 마스크와 한 개 이상의 마스크 얼라인 및 고정용 브리지로 구성되는 지그장치를 나타내었고, 도 6(b) 에서는 터치패널용 배선막을 동시에 여러장 제조하기 위해 한 개의 마스크 지그 내에 여러 개의 중앙 마스크가 배선막 형성 부위만큼 이격되며 배치되도록 한 개 이상의 마스크 얼라인 및 고정용 브리지로 구성된 지그장치를 개시하였다.FIG. 6 (a) shows a jig device composed of one mask jig, one center mask, one or more mask alignments and fixing bridges, and FIG. 6 (b) shows several touch panel wiring films simultaneously manufactured. To this end, a jig device including one or more mask alignment and fixing bridges is disclosed so that a plurality of central masks are spaced apart by a wiring film forming portion in one mask jig.

본 발명에 의한 마스크 지지용 지그는 투명도전박막이 형성된 기판과 상기 기판상에 상기 마스크가 접합되도록 장착한 후 상기 마스크의 지그 결합부가 지그의 지지용 턱에 의해 지지될 수 있도록 장착되는 구조를 가지고 있다.The mask supporting jig according to the present invention has a structure in which a jig coupling portion of the mask is mounted to be supported by a supporting jaw of the jig after mounting the mask to be bonded to the substrate on which the transparent conductive thin film is formed. have.

또한 상기 기판중 투명도전박막이 형성된 면의 반대 대칭면상에 자석이 장착된 구조를 갖는다. 상기 자석은 마스크의 중앙 부위가 들뜨는 것을 방지하는 역할을 함으로서 증착시 스텝 커버리지를 향상 시키게 된다.In addition, the substrate has a structure in which a magnet is mounted on a symmetrical surface opposite to the surface on which the transparent conductive thin film is formed. The magnet serves to prevent the center portion of the mask from lifting, thereby improving step coverage during deposition.

상기와 같이 지그내에 투명도전박막과 마스크가 배치된 기판을 장착한 후 도면에 나타낸 것과 같은 방향으로 배선전극용 금속을 증착하여 배선전극용 박막을 형성한다.After mounting the substrate on which the transparent conductive thin film and the mask are disposed in the jig as described above, the wiring electrode metal is deposited in the direction as shown in the drawing to form the wiring electrode thin film.

상기와 같은 방법은 상판 제작시에도 그대로 적용된다.The same method as described above is applied to the top plate production as it is.

상기와 같은 일련의 공정을 통해 배선전극을 형성한 후 도트 스페이서(dot spacer)를 표시부에 형성한 다음, 외부 단자 접속부를 제외한 배선전극상에 양면테이프를 부착한다.After forming a wiring electrode through the above-described process, a dot spacer is formed on the display unit, and then a double-sided tape is attached to the wiring electrode except for the external terminal connection unit.

최종적으로 상판 및 하판을 물리적으로 연결하는 양면테이프를 관통하는 다수개의 구멍을 구비한후 상기 관통 구멍내에 도전성 페이스트를 채워넣어 하판 배선전극중 일부와 상판 배선전극간을 전기적으로 연결한다.Finally, after having a plurality of holes penetrating the double-sided tape for physically connecting the upper plate and the lower plate, a conductive paste is filled in the through holes to electrically connect some of the lower plate wiring electrodes to the upper plate wiring electrodes.

이상 본 발명에 의한 터치패널의 제작 방법에 대해 기술하였다. 또한 본 발명에서는 여러 실험을 거듭한 결과 본 발명에 적합한 배선전극용 물질을 얻을 수 있었다. 상기 배선전극용 물질의 기본 요건은 다음과 같다.The manufacturing method of the touch panel according to the present invention has been described above. In addition, according to the present invention, as a result of several experiments, a material for wiring electrodes suitable for the present invention was obtained. Basic requirements of the material for the wiring electrode are as follows.

첫째, 투명 도전박막과의 밀착력이 우수해야 하며,First, the adhesion to the transparent conductive thin film must be excellent,

둘째, 터치패널의 선형왜곡이 없을 정도의 전기전도성이 우수해야 하며,Second, the electrical conductivity must be excellent enough that there is no linear distortion of the touch panel,

셋째, 리드선과의 접착력이 우수해야 하며, 환경에 대한 저항성, 특히 내부식성이 우수해야 한다.Third, the adhesion to the lead wire should be excellent, and the resistance to the environment, especially corrosion resistance should be excellent.

본 발명에서는 상기 기본요건을 만족하는 배선전극용 물질의 실시예로서 다음과 같은 재료를 통해 실험한 결과 좋은 결과를 얻을 수 있었다.In the present invention, as an embodiment of the material for the wiring electrode that satisfies the above basic requirements, the results were tested through the following material was able to obtain good results.

즉, 배선전극용 물질은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 은(Ag), 금(Au)으로 구성되는 그룹을 포함하는 하나의 물질을 선택하여 이루어지는 단층물질 이거나 또는 상기 그룹을 포함하는 적어도 2개 이상의 물질이 선택되어 적층으로 이루어지는 복층물질 이거나 또는 상기 그룹중 적어도 2개 이상의 물질로 이루어진 합금물질이 가능하다. 특히 우수한 배선전극용 물질로는 기판 상에 크롬 박막이 형성되고 그 위에 알루미늄이 형성되며 상기 알루미늄상에 니켈이 형성된 3층 구조를 갖거나, 또는 알루미늄과 은의 합금이거나, 또는 구리와 은의 합금이거나, 또는 니켈 단층이다.That is, the material for the wiring electrode is formed by selecting one material including a group consisting of aluminum (Al), copper (Cu), nickel (Ni), chromium (Cr), silver (Ag), and gold (Au). A single layer material or at least two or more materials including the group may be selected to form a multilayer material or an alloy material composed of at least two or more materials from the group. Particularly excellent wiring electrode material has a three-layer structure in which a chromium thin film is formed on a substrate, aluminum is formed thereon, and nickel is formed on the aluminum, or an alloy of aluminum and silver, or an alloy of copper and silver, Or nickel monolayer.

상기 언급한 바와 같이 본 발명은 당업자가 해결할 수 없던 기술적 한계를 극복한 발명으로서, 터치패널의 고품질화, 저가격화에 획기적인 개선을 달성하였다.As mentioned above, the present invention overcomes technical limitations that could not be solved by those skilled in the art, and has achieved remarkable improvements in high quality and low price of the touch panel.

상기 본 발명만의 효과를 보다 상세히 기술하면 다음과 같다.When describing the effects of the present invention only in detail as follows.

첫째, 종래 기술로는 투명도전막을 형성한후 전극을 형성하기 위해서는 소정부위의 투명 도전막을 식각한 후 전극을 형성해야 했다. 그러나 본 발명은 투명 도전막과 금속 박막을 적층 형성한 후 레이저를 사용하여 동시에 상기 두 박막을 식각하므로 공정 수를 대폭적으로 줄일 수 있다. 무엇보다도 본 발명을 사용하는 경우 투명 도전막과 금속 박막을 동시에 식각할 수 있다는 것이 가장 큰 장점이며, 공정수 감소에 따른 비용 절감효과가 매우 크다.First, in order to form an electrode after forming a transparent conductive film in the prior art, an electrode has to be formed after etching a transparent conductive film of a predetermined portion. However, the present invention can significantly reduce the number of processes since the transparent conductive film and the metal thin film are laminated and etched simultaneously using the laser. Above all, in the case of using the present invention, the biggest advantage is that the transparent conductive film and the metal thin film can be simultaneously etched, and the cost reduction effect due to the reduction of the number of processes is very large.

둘째, 본 발명에서는 투명 도전막과 금속 전극막을 모두 박막 형성 하고 별도의 패터닝 공정이 필요없는등 많은 공정수를 줄임으로서 제조 비용의 큰 절감을 기대할 수 있다. 이와 같은 박막형성은 단순히 비용 절감 효과만 있는 것이 아니라 소자의 품질 자체가 향상되는 가장 중요한 효과가 있다.Second, in the present invention, it is possible to expect a significant reduction in the manufacturing cost by reducing the number of processes, such as forming both the transparent conductive film and the metal electrode film and do not require a separate patterning process. Such thin film formation is not only a cost saving effect, but also the most important effect of improving the quality of the device itself.

셋째, 공정 자체가 종래기술에 비해 매우 간단하여 양산시 매우 유리하다.Third, the process itself is very simple compared to the prior art, which is very advantageous in mass production.

넷째, 박막 공정을 통해 전극이 형성되고, 미세 패턴이 가능한 laser 스크라이빙을 통해 좁은 면적에도 배선 전극을 형성할 수 있어 동일한 크기의 화면 크기에서 유효 사용면적을 최대화할 수 있다.Fourth, an electrode is formed through a thin film process, and a wiring electrode can be formed even in a small area through laser scribing capable of fine patterns, thereby maximizing an effective use area at the screen size of the same size.

다섯째, 배선전극을 박막화하여 패널 소자의 수명이 길어진다.Fifth, the wiring electrode is thinned, resulting in a long life of the panel element.

여섯째, 화학약품을 사용하는 공정이 없어 투명도전막의 내구성을 향상시킴으로서 소자 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 또한 화학약품을 사용하지 않음으로서 환경친화성이 높다.Sixth, since there is no process using chemicals, the reliability of the device can be improved by improving the durability of the transparent conductive film. In addition, it is environmentally friendly by not using chemicals.

일곱째, 박막공정과 후막공정을 병행한 기존의 방법으로 제작한 패널에 비해 낮은 단차를 가지고 제작할 수 있어 필기감이 뛰어나고 외관품질이 우수하다.Seventh, it can be manufactured with a low step compared to the panel manufactured by the conventional method that combines the thin film process and the thick film process, it has excellent writing feeling and excellent appearance quality.

Claims (17)

터치패널의 제조방법에 있어서,In the manufacturing method of the touch panel, 기판의 일면상에 소정의 패턴을 갖는 제1 마스크를 이용하여 투명도전박막을 형성하는 단계;와Forming a transparent conductive thin film using a first mask having a predetermined pattern on one surface of the substrate; and 상기 형성된 투명도전박막상에 소정의 패턴을 갖는 배선전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 터치패널 제조방법.And forming a wiring electrode having a predetermined pattern on the formed transparent conductive thin film. 제 1 항에 있어서, 상기 배선전극은 소정의 패턴을 갖는 마스크를 이용하여 박막으로 형성하거나 또는 후막인쇄방법으로 형성하는 것을 특징으로 하는 터치패널 제조방법.The method of claim 1, wherein the wiring electrode is formed of a thin film using a mask having a predetermined pattern or is formed by a thick film printing method. 제 2 항에 있어서, 터치패널 제조방법은,The method of claim 2, wherein the touch panel manufacturing method comprises 터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제1 기판상의 일측 가장자리에 소정 폭을 갖는 직선 부위를 제외한 모든 부분에 상기 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성하는 단계;와Forming a transparent conductive thin film by using the first mask on all portions of the two substrates constituting the touch panel except a straight portion having a predetermined width at one edge of the first substrate; and 상기 투명도전박막상에 소정 폭을 가진 "ㄷ"자형의 배선전극을 형성하되, 상기 "ㄷ"자형의 가운데 부분이 상기 제1 기판상의 투명도전박막이 형성되지 않은 직선부위에 놓이고, 상기 "ㄷ"자형의 가운데 부분중 일부분이 절단된 형태를 갖도록 배선전극을 형성하는 단계;A “c” shaped wiring electrode having a predetermined width is formed on the transparent conductive thin film, and the center portion of the “c” shaped is placed on a straight portion where the transparent conductive thin film on the first substrate is not formed. Forming a wiring electrode such that a portion of the center portion of the shape is cut off; 터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제2 기판상에 또 다른 제1 마스크를 이용하여 소정 폭을 갖는 "ㄱ"자 형태의 굴곡부위를 제외한 나머지 부위에 투명도전박막을 형성하는 단계;Forming a transparent conductive thin film on remaining portions of the two substrates constituting the touch panel except for the “a” shaped curved portion having a predetermined width using another first mask on the second substrate; 상기 투명도전박막상에 소정 폭을 가지며 4 부분으로 이루어지는 배선전극을 형성하되, 상기 배선전극은 전기적 접촉을 위해 상기 투명도전박막상의 일측 가장자리에 놓이는 제1 부분과, 상기 제1 부분과 연결되며 외부 리드선과의 접촉을 위해 투명도전박막이 형성되지 않은 상기 굴곡부위에 형성되는 제2 부분과, 상기 제1 부분과 대칭되는 투명도전박막상의 일측상에 형성되는 제3 부분과, 상기 제3 부분과 연결되며 기판의 외부 방향으로 돌출된 형태로 투명도전박막이 형성되지 않은 상기 굴곡부위에 형성된 제4 부분으로 이루어지도록 배선전극을 형성하는 단계를 포함하는 터치패널 제조방법.A wiring electrode having a predetermined width and a four-part wiring electrode is formed on the transparent conductive thin film, wherein the wiring electrode is connected to the first portion and a first portion placed at one edge of the transparent conductive thin film for electrical contact. A second portion formed on the curved portion where the transparent conductive thin film is not formed for contact with the third portion, a third portion formed on one side of the transparent conductive thin film that is symmetrical with the first portion, and connected to the third portion And forming a wiring electrode to form a fourth portion formed in the curved portion in which the transparent conductive thin film is not formed in a form protruding outwardly of the substrate. 제 2 항에 있어서, 터치패널 제조방법은,The method of claim 2, wherein the touch panel manufacturing method comprises 터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제1 기판상의 일측 가장자리에 소정 폭을 갖는 직선 부위를 제외한 모든 부분에 상기 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성하는 단계;와Forming a transparent conductive thin film by using the first mask on all portions of the two substrates constituting the touch panel except a straight portion having a predetermined width at one edge of the first substrate; and 상기 투명도전박막상에 소정 폭을 가진 "ㄷ"자형의 배선전극을 형성하되, 상기 "ㄷ"자형의 가운데 부분이 상기 제1 기판상의 투명도전박막이 형성되지 않은 직선부위에 놓이고, 상기 "ㄷ"자형의 가운데 부분중 일부분이 절단된 형태를 갖도록 배선전극을 형성하는 단계;A “c” shaped wiring electrode having a predetermined width is formed on the transparent conductive thin film, and the center portion of the “c” shaped is placed on a straight portion where the transparent conductive thin film on the first substrate is not formed. Forming a wiring electrode such that a portion of the center portion of the shape is cut off; 터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제2 기판상의 일측 가장자리에 소정 폭을 갖는 직선 부위를 제외한 모든 부분에 또 다른 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성하되, 상기 제2 기판상의 직선부위와 상기 제1기판상의 직선부위가 서로 수직방향을 갖도록 투명도전박막을 형성하는 단계;A transparent conductive thin film is formed on another portion of the two substrates constituting the touch panel except for the linear portion having a predetermined width at one edge on the second substrate by using another first mask, wherein the linear portion on the second substrate and the Forming a transparent conductive thin film such that the linear portions on the first substrate have perpendicular directions to each other; 상기 투명도전박막상에 소정 폭을 가지며 3 부분으로 이루어지는 배선전극을 형성하되, 상기 배선전극은 상기 투명도전박막상의 일측 가장자리에 놓이는 제1 부분과, 상기 제1 부분과 연결되며 투명도전박막이 형성되지 않은 상기 직선부위상에 직선형태로 형성되는 제2 부분과, 상기 제1 부분과 대칭되는 투명도전박막상의 일측상에 직선형태로 형성되는 제3 부분으로 이루어지도록 배선전극을 형성하는 단계를 포함하는 터치패널 제조방법.A wiring electrode having a predetermined width and a three-part wiring electrode is formed on the transparent conductive thin film, wherein the wiring electrode is connected to the first portion and is formed at one edge of the transparent conductive thin film, and the transparent conductive thin film is not formed. Forming a wiring electrode to include a second portion formed in a straight line shape on the non-linear portion and a third portion formed in a straight line shape on one side of the transparent conductive thin film which is symmetrical with the first portion. Touch panel manufacturing method. 제 2 항에 있어서, 상기 터치패널 제조방법은,The method of claim 2, wherein the touch panel manufacturing method is 터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제1 기판상에 소정 폭을 가지며 "ㄷ"자 형태를 갖는 가장자리 부분을 제외한 모든 부분에 상기 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성하는 단계;와Forming a transparent conductive thin film by using the first mask on all portions of the two substrates constituting the touch panel except the edge portion having a predetermined width and having a “c” shape on the first substrate; and 상기 투명도전박막상에 소정 폭을 가진 배선전극을 형성하되, 상기 "ㄷ"자형의 투명도전박막이 형성되지 않은 부분을 따라 "ㄷ"자 형을 갖는 제1 부분과, 상기 "ㄷ"자형의 가장자리 부분의 가운데에 해당되는 투명도전박막의 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제2 부분과, 상기 제2 부분과 대칭되는 구조로서 상기 "ㄷ"자형의 가장자리부분에 해당되는 투명도전박막의 또 다른 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제3 부분과, 상기 제2 부분과 제3 부분 사이의 투명도전박막이 형성되지 않은 부위에 직선형태로 형성되며 이에 수직 방향으로 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제4 부분으로 이루어지는 배선전극을 형성하는 단계;A first electrode having a “c” shape and a “c” shaped edge along a portion where a wiring electrode having a predetermined width is formed on the transparent conductive thin film, but where the “c” shaped transparent conductive thin film is not formed. A second portion formed on one side of the transparent conductive thin film corresponding to the center of the portion and connected to an end portion of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed, and a structure symmetrical with the second portion; A third portion formed on another side of the transparent conductive thin film corresponding to an edge portion of the “c” shape and connected to an end portion of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed, and the second portion Formed in a straight line on a portion where the transparent conductive thin film is not formed between the third portion and the third portion, and is connected to an end portion of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed in a vertical direction. Forming a wiring electrode composed of four parts; 터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제2 기판상에 투명도전박막을 전면 형성하는 단계;Forming a transparent conductive thin film on the second substrate of the two substrates forming the touch panel; 상기 투명도전박막상에 소정 폭을 가지는 배선전극을 형성하되, 투명도전박막의 양측 가장자리에 직선 형태로 형성하는 단계를 포함하는 터치패널 제조방법.Forming a wiring electrode having a predetermined width on the transparent conductive thin film, the method comprising the step of forming a straight line on both edges of the transparent conductive thin film. 제 3 항에 있어서, 상기 터치패널 제조방법은,According to claim 3, The touch panel manufacturing method, 상기 제1 기판상의 배선전극중 제1 부분과 상기 제2 기판상의 한쪽 가장자리에 형성된 배선전극을 전기적으로 연결시키는 단계;와Electrically connecting a first portion of a wiring electrode on the first substrate and a wiring electrode formed at one edge on the second substrate; and 상기 제1 기판상의 배선전극중 제4 부분과 상기 제2 기판상의 다른쪽 가장자리에 형성된 배선전극을 전기적으로 연결시키는 단계를 포함하는 터치패널 제조방법.And electrically connecting a fourth portion of the wiring electrodes on the first substrate and the wiring electrodes formed on the other edge of the second substrate. 터치패널의 제조방법에 있어서,In the manufacturing method of the touch panel, 기판의 일면상에 소정의 패턴을 갖는 제1 마스크를 이용하여 투명도전박막을 형성하는 단계;와Forming a transparent conductive thin film using a first mask having a predetermined pattern on one surface of the substrate; and 상기 형성된 투명도전박막상에 소정의 패턴을 갖는 제2 마스크를 이용하여 배선전극용 박막을 형성하는 단계;Forming a thin film for a wiring electrode using a second mask having a predetermined pattern on the formed transparent conductive thin film; 상기 형성된 배선전극용 박막상에 레이저를 주사하여 소정의 패턴을 갖도록 식각하는 레이저 스크라이빙 단계를 포함하여 이루어지는 터치패널 제조방법.And a laser scribing step of etching a laser beam on the formed wiring electrode thin film to have a predetermined pattern. 제 7 항에 있어서, 상기 터치패널 제조방법은,The method of claim 7, wherein the touch panel manufacturing method, 터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제1 기판상에 소정 폭을 가지며 "ㄷ"자 형태를 갖는 가장자리 부분을 제외한 모든 부분에 상기 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성하는 단계;와Forming a transparent conductive thin film by using the first mask on all portions of the two substrates constituting the touch panel except the edge portion having a predetermined width and having a “c” shape on the first substrate; and 상기 투명도전박막상에 상기 "ㄷ"자형의 투명도전박막이 형성되지 않은 부분을 따라 "ㄷ"자 형을 갖는 배선전극용 박막을 형성하되, 상기 "ㄷ"자형의 가운데 부분과 접하는 투명도전박막상의 일측 가장자리와 상기 가장자리와 대칭되는 투명도전박막의 또 다른 가장자리에는 형성하고자 하는 배선전극용 박막의 폭을 갖도록 배선전극용 박막을 형성하는 단계;On the transparent conductive thin film, a thin film for wiring electrode having a “c” shape is formed along a portion where the “c” shaped transparent conductive thin film is not formed, and the transparent conductive thin film is in contact with the center portion of the “c” shape. Forming a thin film for the wiring electrode to have a width of the thin film for the wiring electrode to be formed at one edge and another edge of the transparent conductive thin film which is symmetrical with the edge; 상기 형성된 배선전극용 박막에 레이저를 주사하여 식각하되, 상기 "ㄷ"자형의 투명도전박막이 형성되지 않은 부분을 따라 "ㄷ"자 형을 갖는 제1 부분과, 상기 "ㄷ"자형의 가장자리 부분의 가운데에 해당되는 투명도전박막의 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제2 부분과, 상기 제2 부분과 대칭되는 구조로서 상기 "ㄷ"자형의 가장자리 부분의 가운데에 해당되는 투명도전박막의 도 다른 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제3 부분과, 상기 제2 부분과 제3 부분 사이의 투명도전박막이 형성되지 않은 부위에 직선형태로 형성되며 이에 수직 방향으로 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제4 부분의 형태를 갖도록 배선전극용 박막을 식각하여 형성하는 단계;A laser beam is etched by the laser on the formed wiring electrode thin film, and includes a first portion having a “c” shape along a portion where the “c” shaped transparent conductive thin film is not formed, and an edge portion of the “c” shaped shape. A second portion formed on one side of the transparent conductive thin film corresponding to the center of the transparent conductive film and connected to an end of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed, and symmetrical with the second portion. A third portion formed on the other side of the transparent conductive thin film corresponding to the center of the edge portion of the shape of the "-" and connected to an end of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed, and the second portion; The transparent conductive thin film is not formed between the portion and the third portion in a straight line shape, and is connected to the end of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed in the vertical direction. Have the form of a fourth portion formed by etching to form the thin film for the wiring electrode; 터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제2 기판상에 투명도전박막을 전면 형성하는 단계;Forming a transparent conductive thin film on the second substrate of the two substrates forming the touch panel; 상기 투명도전박막상에 또 다른 제2 마스크를 이용하여 소정 폭을 가지는 배선전극용 박막을 형성하되, 투명도전박막의 양측 가장자리에 직선 형태로 형성하는 단계를 포함하는 터치패널 제조방법.Forming a thin film for a wiring electrode having a predetermined width on the transparent conductive thin film using another second mask, Forming a straight line on both edges of the transparent conductive thin film. 제 8 항에 있어서, 상기 터치패널 제조방법은,The method of claim 8, wherein the touch panel manufacturing method comprises 상기 제1 기판상의 배선전극용 박막중 제1 부분과 상기 제2 기판상의 한쪽 가장자리에 형성된 배선전극용 박막을 전기적으로 연결시키는 단계;와Electrically connecting a first portion of the thin film for wiring electrodes on the first substrate and a thin film for wiring electrode formed on one edge of the second substrate; and 상기 제1 기판상의 배선전극용 박막중 제4 부분과 상기 제2 기판상의 다른쪽 가장자리에 형성된 배선전극용 박막을 전기적으로 연결시키는 단계를 포함하는 터치패널 제조방법.And electrically connecting a fourth portion of the thin film for wiring electrodes on the first substrate and the thin film for wiring electrodes formed on the other edge of the second substrate. 터치패널의 제조방법에 있어서,In the manufacturing method of the touch panel, 기판의 일면상에 소정의 패턴을 갖는 제1 마스크를 이용하여 투명도전박막을형성하는 단계;와Forming a transparent conductive thin film using a first mask having a predetermined pattern on one surface of the substrate; and 상기 형성된 투명도전박막상에 후막 인쇄방법으로 소정의 패턴을 갖는 배선전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 터치패널 제조방법.And forming a wiring electrode having a predetermined pattern on the formed transparent conductive thin film by a thick film printing method. 제 10 항에 있어서, 상기 터치패널 제조방법은,The method of claim 10, wherein the touch panel manufacturing method 터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제1 기판상에 소정 폭을 가지며 "ㄷ"자 형태를 갖는 가장자리 부분을 제외한 모든 부분에 상기 제1 마스크를 사용하여 투명도전박막을 형성하는 단계;와Forming a transparent conductive thin film by using the first mask on all portions of the two substrates constituting the touch panel except the edge portion having a predetermined width and having a “c” shape on the first substrate; and 상기 "ㄷ"자형의 투명도전박막이 형성되지 않은 부분을 따라 "ㄷ"자 형을 갖는 제1 부분과, 상기 "ㄷ"자형의 가장자리 부분의 가운데에 해당되는 투명도전박막의 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제2 부분과, 상기 제2 부분과 대칭되는 구조로서 상기 "ㄷ"자형의 가장자리 부분의 가운데에 해당되는 투명도전박막의 또 다른 일측상에 형성되고 이에 연결되어 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제3 부분과, 상기 제2 부분과 제3 부분 사이의 투명도전박막이 형성되지 않은 부위에 직선형태로 형성되며 이에 수직 방향으로 투명도전박막이 형성되지 않은 제1 기판의 끝부분까지 연결되어 형성된 제4 부분의 형태를 갖도록 배선전극을 후막 인쇄하여 형성하는 단계;It is formed on one side of the first portion having a "c" shape along the portion where the "c" shaped transparent conductive thin film is not formed, and the transparent conductive thin film corresponding to the center of the edge portion of the "c" shaped, The second portion formed to be connected to the end of the first substrate that is not connected to the transparent conductive thin film, and the transparent conductive thin film corresponding to the center of the edge portion of the "c" shape as a structure symmetrical with the second portion. A third portion formed on another side of the first substrate and connected to an end portion of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed, and the transparent conductive thin film between the second portion and the third portion is not formed The wiring electrode is thick-film printed so as to have a shape of a fourth portion formed in a straight line shape and connected to an end portion of the first substrate on which the transparent conductive thin film is not formed in the vertical direction. Forming; 터치패널을 이루는 두 개의 기판중 제2 기판상에 투명도전박막을 전면 형성하는 단계;Forming a transparent conductive thin film on the second substrate of the two substrates forming the touch panel; 상기 투명도전박막상의 양측 가장자리에 직선 형태로 배선전극을 형성하는 단계를 포함하는 터치패널 제조방법.And forming wiring electrodes in a straight line at both edges of the transparent conductive thin film. 제 11 항에 있어서, 상기 터치패널 제조방법은,The method of claim 11, wherein the touch panel manufacturing method 상기 제1 기판상의 배선전극중 제1 부분과 상기 제2 기판상의 한쪽 가장자리에 형성된 배선전극용 박막을 전기적으로 연결시키는 단계;와Electrically connecting a first portion of a wiring electrode on the first substrate and a thin film for wiring electrode formed at one edge on the second substrate; and 상기 제1 기판상의 배선전극중 제4 부분과 상기 제2 기판상의 다른쪽 가장자리에 형성된 배선전극용 박막을 전기적으로 연결시키는 단계를 포함하는 터치패널 제조방법.And electrically connecting a fourth portion of the wiring electrodes on the first substrate and the thin film for wiring electrodes formed on the other edge of the second substrate. 제 1 항 내지 제 12 항에 있어서, 상기 터치패널 제조방법은,The method of claim 1, wherein the touch panel manufacturing method comprises 소정 패턴을 갖는 마스크를 기판상에 밀착하여 마스크 지지용 지그내에 결합시키는 단계와;Contacting a mask having a predetermined pattern on a substrate and bonding the mask to a mask supporting jig; 상기 마스크면을 통해 투명도전박막 또는 배선전극용 박막을 증착하는 단계를 추가로 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는, 터치패널 제조방법.And depositing a transparent conductive thin film or a thin film for a wiring electrode through the mask surface. 제 13 항에 있어서, 상기 마스크는 5 mm 이하의 얇은 두께를 갖는 것을 특징으로 하는, 터치패널 제조방법.The method of claim 13, wherein the mask has a thin thickness of 5 mm or less. 제 14 항에 있어서, 상기 마스크는 자석에 붙는 재료로 이루어지며, 밀착성이 좋도록 유연성을 가지며, 그 0.1 내지 2 mm 이하의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는, 터치패널 제조방법.15. The method of claim 14, wherein the mask is made of a material that adheres to the magnet, has flexibility for good adhesion, and has a thickness of 0.1 to 2 mm or less. 제 14 항내지 제 15 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 배선전극용 물질은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 은(Ag), 금(Au)으로 구성되는 그룹중 하나의 물질을 선택하여 이루어지는 단층물질 이거나 또는 상기 그룹을 포함한 적어도 2개 이상의 물질이 선택되어 적층으로 이루어지는 복층물질 이거나 또는 상기 그룹을 포함한 적어도 2개 이상의 물질로 이루어진 합금물질인 것을 특징으로 하는, 터치패널 제조방법.The material of any one of claims 14 to 15, wherein the wiring electrode material is made of aluminum (Al), copper (Cu), nickel (Ni), chromium (Cr), silver (Ag), and gold (Au). It is a single layer material formed by selecting one of the materials to be selected, or at least two or more materials including the group is a multilayer material consisting of a stack or an alloy material consisting of at least two or more materials including the group Touch panel manufacturing method. 제 16 항에 있어서, 상기 배선전극용 물질은 기판 상에 크롬 박막이 형성되고 그 위에 알루미늄이 형성되며 그 알루미늄 상에 니켈이 형성된 3층 구조를 갖거나, 또는 알루미늄과 은의 합금이거나, 또는 구리와 은의 합금이거나, 또는 니켈 단층인 것을 특징으로 하는, 터치패널 제조방법.The method of claim 16, wherein the wiring electrode material has a three-layer structure in which a chromium thin film is formed on a substrate, aluminum is formed thereon, and nickel is formed on the aluminum, or an alloy of aluminum and silver, or copper and It is an alloy of silver or nickel single layer, The manufacturing method of the touchscreen characterized by the above-mentioned.
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