KR20120072174A - Touch panel - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 터치패널에 관한 것으로, 특히 저저항 특성의 투명 전극을 구비한 터치 패널에 관한 것이다.
The present invention relates to a touch panel, and more particularly to a touch panel having a transparent electrode of low resistance characteristics.
디스플레이 일체형 입력장치인 터치패널은 스타일러스 펜 또는 손가락이 눌려진 위치에 해당하는 전압 또는 전류 신호를 발생함으로써 사용자가 지정하는 명령 또는 그래픽 정보를 입력하는 수단이 되고 있다. The touch panel, which is an integrated display device, is a means for inputting a user-specified command or graphic information by generating a voltage or current signal corresponding to a position where a stylus pen or a finger is pressed.
근래에 들어서는 표시장치에 터치패널이 부착되어 화면을 터치하여 동작할 수 있는 기능을 갖는 제품 예를들면 휴대폰, PDA 또는 노트북이 제품화되고 있다. Recently, a touch panel is attached to a display device and a product having a function of operating by touching a screen, for example, a mobile phone, a PDA, or a notebook, has been commercialized.
이러한 터치패널은 작동원리에 따라 저항막식과 정전용량식으로 나뉘는데, 저항막식 터치패널은 2개의 대향(對向)하는 판 형태의 전극에 전압이 인가된 상태에서 사용자가 눌러 2개의 판 형태의 전극이 접촉하여 발생하는 접촉점에서의 전압 또는 전류 변화를 읽어들이고 좌표값으로 환산하여 작동되고 있다. The touch panel is divided into a resistive type and a capacitive type according to the principle of operation. The resistive type touch panel has two plate type electrodes pressed by a user while voltage is applied to two opposing plate type electrodes. The voltage or current change at the contact point generated by this contact is read and converted into coordinate values.
또한, 정전용량식 터치패널은 상하 기판 각각에 판 형태의 전극이 구비되며 정전용량의 충전 및 방전 상태가 반복되는 가운데 사용자가 누른 접촉점에서 펜 형태의 입력장치인 스타일러스(Stylus) 펜 또는 손가락과 판 형태의 전극의 용량결합에 따라 소량의 전하가 축적됨으로써 기생용량의 변화를 전극의 전류량 변화로 감지하여 읽어들이고 좌표값으로 환산하여 작동되는 것이다. In addition, the capacitive touch panel is provided with a plate-shaped electrode on each of the upper and lower substrates, and a stylus pen or a finger and a plate, which are pen-type input devices, at a contact point pressed by the user while the charge and discharge states of the capacitance are repeated. By accumulating a small amount of charge in accordance with the capacitive coupling of the type of electrode, the change in parasitic capacitance is sensed as a change in the amount of current in the electrode and read and converted into coordinate values.
한편, 이러한 2가지 방식을 갖는 터치패널은 표시장치에 부착되어 표시장치로부터 나오는 화상을 사용자가 바라보며 동작을 해야 하므로 투명한 특성이 부여되어야 한다.On the other hand, the touch panel having the two methods is attached to the display device, so that the user should look at the image coming from the display device to operate the transparent characteristics should be given.
따라서, 터치패널의 모두 상부기판 및 하부기판에 구비되는 판 형태의 전극은 투명 도전성 물질로 이루어지고 있다. Therefore, the plate-shaped electrode provided on both the upper substrate and the lower substrate of the touch panel is made of a transparent conductive material.
한편, 터치패널은 그 내부에 구비되는 투명 도전성 물질로 이루어진 전극을 이용하여 사용자의 손가락 또는 스타일러스 펜의 접촉함으로써 변화되는 기생용량의 변화를 감지해야 하므로 상기 판 형태의 전극의 내부 저항은 매우 중요한 요소가 되고 있다.On the other hand, since the touch panel must sense a change in parasitic capacitance that is changed by contacting a user's finger or stylus pen using an electrode made of a transparent conductive material provided therein, the internal resistance of the plate-shaped electrode is a very important factor. It is becoming.
종래의 터치패널의 경우, 투명한 특성을 갖는 상기 판 형태의 전극은 투명 도전성 물질인 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)로서 단일막 구조를 갖는다. In the case of the conventional touch panel, the plate-shaped electrode having transparent characteristics has a single film structure as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), which is a transparent conductive material.
이때, 상기 단일막의 구조를 갖는 각 전극은 그 두께에 따른 저항 의존성이 매우 크며, 투명 도전물질로 단일층 구조로 이루어진 판 형태의 상기 전극은 그 두께가 1500Å 에서 약 20Ω/ㅁ 정도의 면저항을 갖는다. 상기 판 형태의 전극의 두께를 증가시키는 경우 면저항은 감소되지만, 투과율이 급격히 떨어지게 되어 표시장치의 표시품질을 저하시키게 되므로, 1500Å정도 이상의 두께를 갖도록 형성할 수 없는 실정이다.At this time, each electrode having the structure of the single layer has a very large resistance dependence according to its thickness, and the plate-shaped electrode made of a single-layer structure made of a transparent conductive material has a sheet resistance of about 20 kW / kW at 1500 kW. . When the thickness of the plate-shaped electrode is increased, the sheet resistance is reduced, but the transmittance is sharply lowered, which lowers the display quality of the display device.
하지만, 1500Å 정도의 두께에서 20Ω/ㅁ 정도의 면저항을 갖는 투명 도전 도전 물질로 이루어진 판 형태의 전극이 10" 이상의 대면적 터치패널에 구비되는 경우, 상기 전극의 면저항에 의해 터치 감도가 급격히 저감되고 있다. However, when a plate-shaped electrode made of a transparent conductive conductive material having a sheet resistance of about 20 kW / ㅁ at a thickness of about 1500 kW is provided in a large area touch panel of 10 "or larger, the touch sensitivity is drastically reduced by the sheet resistance of the electrode. have.
따라서, 10" 이상의 대면적으로 갖는 터치패널에 있어 원활한 터치 감도를 갖도록 하기 위해서는 상기 양 기판 내측면에 구비되는 판 형태의 전극은 최소 10Ω/ㅁ 보다 작은 면저항을 갖는 것이 요구되고 있다. Therefore, in order to have a smooth touch sensitivity in a touch panel having a large area of 10 "or more, it is required that the plate-shaped electrodes provided on the inner surface of both substrates have a sheet resistance of at least 10 kW / kW.
상기 문제점을 해결하기 위해서, 본 발명은 터치패널 내 전극이 투명한 특성을 유지하면서도 저저항 특성을 가져 10"이상의 대면적 구현시에도 터치 감도가 우수한 터치패널을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a touch panel having excellent touch sensitivity even when the electrode in the touch panel maintains a transparent characteristic and has a low resistance characteristic even when implementing a large area of 10 "or more.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 터치패널은, 서로 마주하는 한 쌍의 투명한 기판과; 상기 한 쌍의 투명한 기판 내측면에 서로 마주하도록 형성된 한 쌍의 투명전극과; 상기 각각의 투명전극 상에 서로 마주하는 각 한쌍의 측면에 서로 교차하도록 형성된 배선전극과; 상기 배선전극을 덮으며 절연물질로 형성되며 상기 서로 마주하는 두 기판을 접착시키는 접착층을 포함하며, 상기 각 투명전극은 투명 도전성 물질로 이루어진 제1층과 저저항 금속물질로 이루어진 제2층을 포함하여 다중층 구조를 가지며 형성된 것이 특징이다. Touch panel according to the present invention for achieving the above object, a pair of transparent substrate facing each other; A pair of transparent electrodes formed to face each other on an inner surface of the pair of transparent substrates; Wiring electrodes formed on the transparent electrodes to cross each other on a pair of side surfaces facing each other; An adhesive layer covering the wiring electrode and formed of an insulating material and adhering the two substrates facing each other, wherein each transparent electrode includes a first layer made of a transparent conductive material and a second layer made of a low resistance metal material. It is characterized by having a multi-layer structure formed.
이때, 상기 각 투명전극은 상기 제2층을 덮으며 투명 도전성 물질로 이루어진 제3층을 더 구비하여 3중층 구조를 이룰 수 있다. In this case, each of the transparent electrodes may further include a third layer covering the second layer and made of a transparent conductive material to form a triple layer structure.
또한, 상기 투명 도전성 물질은 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)이며, 상기 저저항 금속물질은 금(Au), 은(Ag), 알루미늄(Al), 구리(Cu) 중 어느 하나인 것이 특징이다. In addition, the transparent conductive material is indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), and the low resistance metal material is gold (Au), silver (Ag), aluminum (Al), copper (Cu). ) Is any one of the features.
또한, 상기 각 투명전극은 그 면저항은 10Ω/ㅁ 이하이며, 가시광선의 평균적인 투과율은 80% 이상인 것이 특징이다. In addition, each of the transparent electrodes has a sheet resistance of 10 kW / W or less, and an average transmittance of visible light is 80% or more.
또한, 상기 각 투명전극은 상기 투명 도전성 물질로 이루어진 층과 상기 저저항 금속물질로 이루어진 층의 두께비가 1:0.25 내지 1:0.75를 이루도록 형성된 것이 특징이다. In addition, each of the transparent electrodes is characterized in that the thickness ratio of the layer made of the transparent conductive material and the layer made of the low resistance metal material is 1: 0.25 to 1: 0.75.
또한, 상기 각 투명전극에 있어, 상기 투명 도전성 물질로 이루어진 층은 100Å 내지 1500Å의 두께를 가지며, 상기 저저항 금속물질로 이루어진 층은 50Å 내지 200Å의 두께를 갖는 것이 특징이다. Further, in each of the transparent electrodes, the layer made of the transparent conductive material has a thickness of 100 kPa to 1500 kPa, and the layer made of the low resistance metal material has a thickness of 50 kPa to 200 kPa.
또한, 상기 제 1 투명전극 상부에는 일정간격 이격하는 다수의 스페이서가 구비되며, 상기 접착층은 제 1 투명전극과 상기 제 2 투명전극 사이에 형성됨으로써 절연층의 역할을 하는 것이 특징이다. In addition, the first transparent electrode is provided with a plurality of spacers spaced apart a predetermined interval, the adhesive layer is characterized in that the role of the insulating layer by being formed between the first transparent electrode and the second transparent electrode.
또한, 상기 서로 마주하는 투명한 기판 중 어느 하나의 기판은 표시장치인 것이 특징이다.
In addition, any one of the transparent substrates facing each other is a display device.
본 발명에 따른 터치패널은 상하 기판 각각에 구비되는 전극이 이중층 또는 삼중층 구조를 이룸으로써 기존의 투명 도전성 물질로 단일막 구조를 갖는 전극 대비 면저항이 낮으며, 상기 전극의 내부에서 마이크로 커비티 효과가 구현되어, 빛의 투과도는 단일막의 전극과 유사한 수준을 이루어 10"이상의 대면적을 구현하여도 터치 감도가 우수한 장점이 있다.
In the touch panel according to the present invention, since the electrodes provided on each of the upper and lower substrates have a double layer or triple layer structure, the sheet resistance is lower than that of the electrode having a single layer structure using a conventional transparent conductive material, and the microcavity effect inside the electrode. Is implemented, the light transmittance is similar to the electrode of a single film to achieve a large area of 10 "or more has the advantage of excellent touch sensitivity.
도 1a 및 1b는 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널에 대한 단면도.
도 2는 본 발명의 변형예에 따른 터치패널이 구비된 터치 인식 표시장치에 대한 단면도.1A and 1B are cross-sectional views of a touch panel according to an embodiment of the present invention, respectively.
2 is a cross-sectional view of a touch recognition display device with a touch panel according to a modification of the present invention.
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings.
도 1a 및 1b는 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널에 대한 단면도로서 도 1a는 제 1 및 제 2 투명전극이 3중층 구조를 갖는 것을 도시하였으며, 도 1b는 제 1 및 제 2 투명전극이 2중층 구조를 갖는 것을 각각 도시하였다. 1A and 1B are cross-sectional views of a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention, respectively. FIG. 1A shows the first and second transparent electrodes having a triple layer structure, and FIG. 1B shows the first and second transparent electrodes. The thing which has this double layer structure was shown, respectively.
본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널(100)은 하부기판(110) 및 상부기판(150)과, 상기 하부기판(110)의 내측면에 형성된 제 1 투명전극(115)과 상기 상부기판(150)의 내측면에 형성된 제 2 투명전극(155)과, 상기 제 1 및 제 2 투명전극 (115, 155)사이에 일정간격 이격하며 형성된 스페이서(미도시)를 포함하여 구성되고 있다. 이때, 상기 스페이서(미도시)는 상기 터치패널(100)이 저항막 방식으로 동작되는 경우 형성되며, 정전용량 방식으로 동작하는 경우 생략될 수 있다.The
이러한 구성을 갖는 상기 터치패널(100)에 있어, 상기 제 1 투명전극(115) 상의 서로 마주하는 양측의 가장자리에는 제 1 방향으로 연장하는 배선 형태를 가지며 제 1 배선전극(120)이 형성되고 있다.In the
또한, 상기 제 2 투명전극(155) 하부의 서로 마주하는 양측의 가장자리에는 상기 제 1 방향과 수직한 제 2 방향으로 연장하는 배선 형태를 가지며 제 2 배선전극(160)이 형성되고 있다. In addition, a
이때, 상기 제 1 및 제 2 배선전극(120, 160)은 각각 저저항 금속물질 예를들면 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 구리(Cu), 구리합금, 은(Ag), 금(Au) 중 어느 하나의 물질로 이루질 수 있다. In this case, the first and
한편, 상기 상부 및 하부기판(150, 110)은 투명한 유리기판 또는 유연한 플라스틱 기판으로 이루어질 수 있으며, 나아가 절연특성을 갖는 고분자 필름 예를들면 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate : PET)로 이루어 질 수도 있다. Meanwhile, the upper and
또한, 전술한 구성을 갖는 터치패널(100)은 제 1 투명전극(115) 및 제 1 배선전극이 구비된 하부기판(110)과 상기 제 2 투명전극(155) 및 제 2 배선전극(160)이 구비된 상부기판(150)을 합착시키기 위한 접착층(180)이 구비된다. 이때, 상기 터치패널(100)이 저항막 방식으로 이용되는 경우 상기 접착층(180)은 상기 제 1 및 제 2 배선전극(120, 160)에 대응해서 이들 각 배선전극(120, 160)을 덮는 형태로 형성되며, 상기 터치패널(110)이 정전용량 방식으로 이용되는 경우 상기 접착층(180)은 상기 제 1 및 제 2 배선전극(120, 160)을 포함하여 상기 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155) 사이의 표시영역 전면에 형성될 수 있다. In addition, the
이러한 상기 접착층(180)은 상기 하부 및 상부기판(150)을 접착하여 패널상태를 유지시키는 역할을 할 뿐만 아니라 상기 제 1 및 제 2 배선전극(120, 160)간을 절연시키는 절연층의 역할을 하는 것이 특징이다.The
이러한 구성을 갖는 터치패널(100)은 저항막 방식으로 동작하는 경우, 상기 상부기판(150)의 외측면이 스타일러스 펜 또는 사용자의 손가락에 의해 눌려질 때 제 2 배선전극(160)이 상기 제 1 배선전극(120)과 단락됨으로써 눌려진 위치에 따라 달라지는 전류량 또는 전압레벨을 가지는 신호가 발생되며, 이러한 신호를 기초로 하여 터치된 부분을 위치를 감지할 수 있다. When the
즉, 상기 상부기판(150)의 외측면의 특정한 지점이 터치되면, 상기 제 1 및 제 2 배선전극(120, 160)으로부터 위치에 비례하여 상, 하 및 좌, 우 각각의 투명전극(115, 155) 저항치가 확인되기 때문에 이것에 기초하여 연산하는 것에 의해 평면 상에서 터치된 부분의 좌표가 산출됨으로써 터치된 부분의 위치를 감지할 수 있는 것이다. That is, when a specific point of the outer surface of the
또는 정전용량 방식의 경우, 사용자의 손가락 등이 터치가 이루어졌을 시 손가락 터치에 의해 상부기판(150) 내측면에 구비된 제 2 투명전극(155)과 손가락에 의해 발생된 기생용량에 의해 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155) 사이에 형성된 용량 변화를 체크하여 이것을 이것에 기초하여 연산하는 것에 의해 평면 상에서 터치된 부분의 좌표가 산출됨으로써 터치된 부분의 위치를 감지할 수 있는 것이다. Alternatively, in the case of the capacitive type, when the user's finger or the like is touched, the second
전술한 바와 같은 구성을 갖는 터치패널(100)은 상기 상부기판(150) 및 하부기판(110)의 내측면 각각에 형성된 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155)의 면저항이 크면 터치된 부분 검출의 정밀도가 저하되기 때문에 이의 면저항을 10Ω/ㅁ 이하가 되도록 하는 것이 바람직하다.The
따라서, 본 발명의 실시예에 따른 터치패널(100)에 있어서는, 10"이상의 대면적화 시에도 터치 감도 저하를 억제하기 위해 상기 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155)의 면저항이 10Ω/ㅁ 이하가 될 수 있도록 형성한 것이 특징이다.Therefore, in the
즉, 상기 상부기판(150) 및 하부기판(110) 내측면에 각각 형성되는 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155)을 도 1b에 도시한 바와같이, 저저항 금속물질/투명 도전성 물질 또는 투명 도전성 물질/저저항 금속물질로 이루어진 2중층 구조를 이루도록 하거나, 또는 도 1a에 도시한 바와같이 투명 도전성 물질/저저항 금속물질/투명 도전성 물질로 이루어진 3중층 구조로 형성되고 것이 특징이다. That is, as shown in FIG. 1B, the first and second
이때, 상기 투명 도전성 물질은 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)이며, 상기 저저항 금속물질은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag) 중 어느 하나가 되고 있다. In this case, the transparent conductive material is indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), and the low resistance metal material is copper (Cu), aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag). ) To any one.
이렇게 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155)이 2중층(도 1b 참조) 또는 3중층(도 1a 참조) 구조를 이루게 됨으로써 종래의 투명 도전성 물질로 단일층 구조를 갖는 투명 전극 대비 면저항이 저감된 것이 특징이다.As such, the first and second
나아가 상기 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155)은 저저항 금속물질로 이루어진 층이 개재되어 2중층 또는 3중층 구조를 이루지만, 투명 도전성 물질로 이루어진 층(115a, 115c, 155a, 155c)과 저저항 금속물질로 이루어진 층(115b, 155b)의 적절한 두께 조절이 이루어짐으로써 투명 도전성 물질로 단일층 구조를 갖는 종래의 투명전극 대비 빛의 투과율은 유사한 것이 특징이다.Further, the first and second
이렇게 저저항 금속물질로 이루어진 층을 포함하여 2중층 또는 3중층 구조를 이룸에도 불구하고 투명 도전성 물질로 단일층 구조를 갖는 종래의 투명전극과 유사한 수준의 투과율을 갖는 것은 2중층(도 1b 참조) 또는 3중층(도 1a 참조) 구조를 갖는 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155) 내부에서 마이크 커비티(micro cavity) 효과 및 표면 플라즈몬(surface plasmon) 효과가 발현됨에 기인한다. Despite having a double layer or triple layer structure including a layer of a low resistance metal material, a double layer has a transmittance similar to that of a conventional transparent electrode having a single layer structure as a transparent conductive material (see FIG. 1B). Alternatively, the microcavity effect and the surface plasmon effect may be expressed in the first and second
마이크로 커비티 효과(micro cavity)는 빛이 특정 물질층 내부에서 반사를 반복하다 특정 조건이 만족되면 일시에 반사시킴으로써 빛의 투과효율이 향상시킬 수 있는 것이다. 이때, 이러한 마이크로 커비티 효과(micro cavity)를 구현하기 위해서는 반사율이 다른 이중층 이상의 구조를 이루어야 한다.The micro cavity effect is that light repeatedly reflects inside a specific material layer, and when specific conditions are satisfied, the light can be temporarily reflected to improve light transmission efficiency. In this case, in order to implement such a micro cavity effect, a structure having a double layer or more having different reflectances must be formed.
한편, 표면 플라즈몬(surface plasmon)은 금속 박막 표면에서 일어나는 전자들의 집단적 진동(collective charge density oscillation)이다. 이러한 표면 플라즈몬(surface plasmon)은 특정의 금속 즉, 외부 자극에 의해 전자의 방출이 쉽고 음의 유전상수를 갖는 금속에서 발생되며, 이렇게 표면 플라즈몬(surface plasmon)을 발생시키는 금속은 일례로 구리(Cu), 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag) 등이 있다. Surface plasmons, on the other hand, are collective charge density oscillations of electrons that occur on the metal thin film surface. The surface plasmon is generated from a specific metal, that is, a metal having a negative dielectric constant, which is easy to emit electrons by an external stimulus, and the metal that generates the surface plasmon is, for example, copper (Cu). ), Aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag) and the like.
플라즈몬(plasmon)은 빛이 외부에서 입사되면 집단으로 운동하고, 특정한 조건을 만족하는 빛이 입사되면 이와 반응하여 더 센 빛을 방출하는 특성이 있으며, 이러한 표면 플라즈몬(surface plasmon)의 특성에 의해 빛의 투과율이 향상된다. Plasmons move in a group when light is incident from the outside, and emit light when they meet specific conditions. The transmittance of is improved.
따라서, 본 발명에 따른 터치패널(100)은 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155)을 이중층 또는 삼중층 구조를 이루도록 함으로써 마이크로 커비티 효과(micro cavity)와 표면 플라즈몬(surface plasmon) 발현에 의해 투과율이 향상시킬 수 있는 것이다.Accordingly, the
조금 더 구체적으로 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155)의 구성에 대해 설명한다.More specifically, the configuration of the first and second
본 발명에 따른 터치패널(100)에 있어서 도 1a에 도시한 바와같이, 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155)이 각각 3중층을 이루는 경우 각각 제 1 두께를 갖는 투명 도전성 물질로 이루어진 하부층(115a, 155a)과, 제 2 두께를 갖는 전술한 저저항 금속물질로 이루어진 중간층(115b, 155b) 및 제 3 두께를 갖는 투명 도전성 물질로 이루어진 상부층(115c, 155c)으로 구성되고 있다. In the
또한, 도 1b에서와 같이 상기 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155)이 2중층 구조를 이루는 경우, 제 1 두께를 갖는 투명 도전성 물질로 이루어진 제 1 층(115a, 155a)과, 제 2 두께를 갖는 전술한 저저항 금속물질로 이루어진 제 2 층(115b, 155b)으로 구성되고 있다.In addition, as shown in FIG. 1B, when the first and second
한편, 도면에 있어서는 상기 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155)이 각각 투명 도전성 물질로 이루어진 제 1 층(115a, 155a)과, 전술한 저저항 금속물질로 이루어진 제 2 층(115b, 155b)으로 구비됨을 보이고 있지만, 상기 제 1 층(115a, 155a)이 저저항 금속물질로 이루어지며 상기 제 2 층(115b, 155b)이 투명 도전성 물질로 이루어질 수도 있음은 자명하다 할 것이다. Meanwhile, in the drawing, the first and second
이때, 투명 도전성 물질로 이루어진 층(115a, 115c, 155a, 155c)과 저저항 금속물질로 이루어진 층(115b, 155b)의 두께는 1:0.25 내지 1:0.75 정도의 두께비를 갖도록 형성되는 것이 특징이다.In this case, the thicknesses of the
즉, 투명 도전성 물질로 이루어진 층(115a, 115c, 155a, 155c)이 저저항 금속물질로 이루어진 층(115b, 155b)의 두께 대비 큰 두께를 갖도록 형성되는 것이 특징이다.That is, the
이때, 투명 도전성 물질로 이루어진 층(115a, 115c, 155a, 155c)의 상기 제 1 및 제 3 두께는 100Å 내지 1500Å 정도가 되도록 형성하며, 저저항 금속물질로 이루어진 층(115b, 155b)의 상기 제 2 두께는 50Å 내지 200Å정도가 되도록 형성하는 것이 바람직하다. In this case, the first and third thicknesses of the
이러한 두께를 가지며 2중층 또는 3증충 구조를 갖는 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155)은 그 면저항이 10Ω/ㅁ이하가 되는 동시에 빛의 평균적인 투과율 또한 80% 이상이 되는 것이 특징이다.The first and second
표 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 3중층 구조의 투명전극과 비교예로서 투명 도전성 물질로 단일층 구조를 갖는 투명전극의 빛에 대한 투과율 및 면저항을 측정한 것을 나타낸 것이다. 이때, 투명전극을 이루는 투명 도전성 물질은 인듐-징크-옥사이드(IZO), 저저항 금속물질은 은(Ag)을 사용한 것을 일례로 나타내었으며, 실시예의 경우 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 이루어지는 하부층 및 상부층은 그 두께가 각각 400Å, 비교예의 경우 단일층 구조의 투명전극을 800Å의 두께로 형성한 것에 측정을 실시하였다.
Table 1 shows the measurement of the transmittance and sheet resistance of light of the transparent electrode having a single layer structure as a transparent conductive material and a transparent electrode having a triple layer structure according to an embodiment of the present invention. In this case, the transparent conductive material constituting the transparent electrode is represented by using indium-zinc-oxide (IZO), and the low-resistance metal material is silver (Ag) as an example. The thickness of each of the upper layers was 400 kPa, and in the case of the comparative example, a transparent electrode having a single layer structure was formed to have a thickness of 800 kPa.
(800Å)IZO alone
(800 yen)
투과율
(%)
Transmittance
(%)
표 1을 참조하면, 실시예의 경우, 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 이루어진 상부층 및 하부층의 두께를 400Å으로 고정한 상태에서 저저항 금속물질로 이루어진 중간층이 120Å 이상의 두께를 갖도록 형성하는 경우 투명전극의 그 면저항은 6.3Ω/ㅁ 이하가 됨을 알 수 있다. Referring to Table 1, when the thickness of the upper layer and the lower layer made of indium-zinc-oxide (IZO) is 400 kPa, the intermediate layer made of the low resistance metal material is formed to have a thickness of 120 kPa or more. It can be seen that the sheet resistance is 6.3 kW / W or less.
이때, 적, 녹, 청색의 나타내는 630nm, 550nm 및 470nm의 파장대의 빛에 대한 투과도 두께별로 변화됨을 알 수 있으며, 일례로 중간층이 140Å 정도의 두께를 갖도록 형성하는 경우 630nm, 550nm 및 470nm의 파장대의 빛에 대한 투과도가 각각 75%, 84.3% 및 85.5%가 되며 평균적인 투과율은 약 82%정도가 됨을 알 수 있다.In this case, it can be seen that the transmittance of the light in the wavelength bands of 630 nm, 550 nm, and 470 nm representing red, green, and blue changes for each thickness. For example, when the intermediate layer is formed to have a thickness of about 140 dB, the wavelength bands of 630 nm, 550 nm, and 470 nm The light transmittance is 75%, 84.3% and 85.5%, respectively, and the average transmittance is about 82%.
한편, 비교예의 경우, 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 이루어진 투명전극의 두께가 실시예와 동일한 800Å 정도의 두께를 갖도록 한 투명전극은 630nm, 550nm 및 470nm의 파장대의 빛에 대한 투과도가 각각 83.1%, 81.9%, 83.9%가 되어 평균적으로 83% 정도의 투과율을 갖지만, 그 면저항이 53.6Ω/ㅁ이 되어 실시예 대비 수배이상 높은 값을 가짐을 알 수 있었다.On the other hand, in the comparative example, the transparent electrode made of indium-zinc oxide (IZO) had a thickness of about 800 kPa as in the embodiment, and the transmittance of light at wavelengths of 630 nm, 550 nm, and 470 nm was 83.1, respectively. %, 81.9%, 83.9%, the average transmittance of about 83%, but the sheet resistance is 53.6 kW / ㅁ was found to have a value several times higher than the embodiment.
본 발명의 실시예에 따른 터치패널(100)의 경우, 도 1a 및 도 1b를 참조하면, 투명 도전성 물질과 저저항 금속물질로 2중층 또는 3중층 구조를 갖도록 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155)을 형성함으로써 면저항을 10Ω/ㅁ 이하가 되도록 현저히 저감시키는 동시에, 빛에 대한 투과율은 투명 도전성 물질의 단일층 구조의 투과전극을 갖는 종래의 터치패널과 유사한 수준을 갖게 된다. In the case of the
따라서, 전술한 바와같은 구성을 갖는 본 발명에 따른 터치패널(100)의 경우 10"이상의 대면적화를 구현하여도 투명전극의 저항에 의한 터치 민감도 등의 저하는 발생하지 않는 장점이 갖는다. Therefore, in the case of the
한편, 본 발명의 실시예에 따른 터치패널(100)에 있어서는 하부기판 및 상부기판(110, 150)과 이들 두 기판(110, 150) 사이에 개재되는 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155)과 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155) 내측면에 각각 교차하는 형태로 구비된 제 1 및 제 2 배선전극(120, 160)을 구비한 터치패널(100)만을 일례로 하여 설명하였지만, 본 발명은 이러한 실시예에 한정되지 않고 다양하게 변경될 수 있음은 자명하다.Meanwhile, in the
일례로, 도 2(본 발명의 변형예에 따른 터치패널이 구비된 터치 인식 표시장치에 대한 단면도)에 도시한 바와같이, 본 발명의 변형예에 따른 터치패널(200)은 이에 부착되는 표시장치(300) 예를들면 어레이 소자가 구비된 어레이 기판(210)과 컬러필터층을 구비한 컬러필터 기판(250) 및 액정층(280)을 포함하는 액정패널(300) 또는 유기전계 발광 다이오드(미도시)를 구비한 제 1 기판(미도시)과 인캡슐레이션을 위한 제 2 기판(미도시)을 포함하는 유기전계 발광소자(미도시)를 하나의 기판으로 이용하여 형성될 수도 있다. As an example, as shown in FIG. 2 (sectional view of a touch recognition display device with a touch panel according to a modification of the present invention), the
이 경우, 상기 표시소자(300)의 외측면에 제 1 투명전극(115)과 서로 마주하는 양측 가장자리에 배선형태로 제 1 배선전극(120)을 형성하고, 상기 제 1 투명전극(115)과 마주하여 위치하는 투명한 기판(450)의 내측면에 제 2 투명전극(155)과 상기 제 1 배선전극(160)과 교차하는 방향으로 상기 제 2 투명전극(155) 상에 형성된 제 2 배선전극(160) 및 접착층(180)을 구비함으로써 터치패널(200)을 구성되도록 할 수도 있다. In this case, the
이러한 구성을 갖는 변형예에 따른 터치패널(200)의 경우도 상기 제 1 투명전극(115)과 제 2 투명전극(155)을 전술한 실시예에서와 같이 적절한 두께로서 투명 도전성 물질과 저저항 금속물질로 이루어진 이중층 또는 삼중층 구조를 이루도록 함으로써 상기 제 1 및 제 2 투명전극(115, 155)의 면저항을 10Ω/ㅁ 이하가 되도록 할 수 있다.
Also in the case of the
100 : 터치패널
110 : 하부기판
115 : 제 1 투명전극
115a, 115b, 115c : (제 1 투명전극의) 하부층, 중간층, 상부층
120 : 제 1 배선전극
150 : 상부기판
155 : 제 2 투명전극
155a, 155b, 155c : (제 2 투명전극의)하부층, 중간층, 상부층
160 : 제 2 배선전극
180 : 접착층100: touch panel
110: lower substrate
115: first transparent electrode
115a, 115b, 115c: lower layer, middle layer, upper layer (of the first transparent electrode)
120: first wiring electrode
150: upper substrate
155: second transparent electrode
155a, 155b, 155c: lower layer, middle layer, upper layer (of the second transparent electrode)
160: second wiring electrode
180: adhesive layer
Claims (9)
상기 한 쌍의 투명한 기판 내측면에 서로 마주하도록 형성된 한 쌍의 투명전극과;
상기 각각의 투명전극 상에 서로 마주하는 각 한쌍의 측면에 서로 교차하도록 형성된 배선전극과;
상기 배선전극을 덮으며 절연물질로 형성되며 상기 서로 마주하는 두 기판을 접착시키는 접착층
을 포함하며, 상기 각 투명전극은 투명 도전성 물질로 이루어진 제1층과 저저항 금속물질로 이루어진 제2층을 포함하여 다중층 구조를 가지며 형성된 터치패널.
A pair of transparent substrates facing each other;
A pair of transparent electrodes formed to face each other on an inner surface of the pair of transparent substrates;
Wiring electrodes formed on the transparent electrodes to cross each other on a pair of side surfaces facing each other;
An adhesive layer covering the wiring electrodes and formed of an insulating material to bond the two substrates facing each other;
Wherein each of the transparent electrodes has a multilayer structure including a first layer made of a transparent conductive material and a second layer made of a low resistance metal material.
상기 각 투명전극은 상기 제2층을 덮으며 투명 도전성 물질로 이루어진 제3층을 더 구비하여 3중층 구조를 이루는 것이 특징인 터치패널.
The method of claim 1,
Each of the transparent electrodes covers the second layer and further includes a third layer made of a transparent conductive material to form a triple layer structure.
상기 투명 도전성 물질은 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)이며,
상기 저저항 금속물질은 금(Au), 은(Ag), 알루미늄(Al), 구리(Cu) 중 어느 하나인 것이 특징인 터치패널.
The method according to claim 1 or 2,
The transparent conductive material is indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO),
The low resistance metal material is a touch panel, characterized in that any one of gold (Au), silver (Ag), aluminum (Al), copper (Cu).
상기 각 투명전극은 그 면저항은 10Ω/ㅁ 이하이며, 가시광선의 평균적인 투과율은 80% 이상인 터치패널.
The method of claim 3, wherein
Each of the transparent electrodes has a sheet resistance of 10 kW / W or less, and an average transmittance of visible light of 80% or more.
상기 각 투명전극은 상기 투명 도전성 물질로 이루어진 층과 상기 저저항 금속물질로 이루어진 층의 두께비가 1:0.25 내지 1:0.75를 이루도록 형성된 것이 특징인 터치패널.
The method of claim 3, wherein
Each of the transparent electrodes is a touch panel, characterized in that the thickness ratio of the layer made of the transparent conductive material and the layer made of the low-resistance metal material is 1: 0.25 to 1: 0.75.
상기 각 투명전극에 있어, 상기 투명 도전성 물질로 이루어진 층은 100Å 내지 1500Å의 두께를 가지며, 상기 저저항 금속물질로 이루어진 층은 50Å 내지 200Å의 두께를 갖는 것이 특징인 터치패널.
The method of claim 3, wherein
In each of the transparent electrodes, the layer of the transparent conductive material has a thickness of 100 ~ 1500Å, the layer of the low resistance metal material has a thickness of 50 ~ 200Å of the touch panel.
상기 제 1 투명전극 상부에는 일정간격 이격하는 다수의 스페이서가 구비된 터치패널.
The method of claim 3, wherein
A touch panel provided with a plurality of spacers spaced at a predetermined interval on the first transparent electrode.
상기 접착층은 제 1 투명전극과 상기 제 2 투명전극 사이에 형성됨으로써 절연층의 역할을 하는 것이 특징인 터치패널.
The method of claim 3, wherein
The adhesive layer is formed between the first transparent electrode and the second transparent electrode, the touch panel, characterized in that serves as an insulating layer.
상기 서로 마주하는 투명한 기판 중 어느 하나의 기판은 표시장치인 것이 특징인 터치패널. The method of claim 3, wherein
And any one of the transparent substrates facing each other is a display device.
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KR101524928B1 (en) * | 2013-09-02 | 2015-06-02 | 주영도 | Touch panel have digitizer function |
US10013097B2 (en) | 2014-02-05 | 2018-07-03 | Samsung Display Co., Ltd. | Touch screen panel including touch electrode patterns and driving circuit wirings having a low resistance wiring layer and connected thereto and manufacturing method thereof |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19980048999A (en) * | 1995-12-20 | 1998-09-15 | 사토 아키오 | Transparent conductive laminate and EL light emitting device using same |
KR20020009034A (en) * | 2000-07-22 | 2002-02-01 | 서용운 | Method for making of touch panels by using a mask |
-
2010
- 2010-12-23 KR KR1020100134000A patent/KR102047724B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19980048999A (en) * | 1995-12-20 | 1998-09-15 | 사토 아키오 | Transparent conductive laminate and EL light emitting device using same |
KR20020009034A (en) * | 2000-07-22 | 2002-02-01 | 서용운 | Method for making of touch panels by using a mask |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101524928B1 (en) * | 2013-09-02 | 2015-06-02 | 주영도 | Touch panel have digitizer function |
US10013097B2 (en) | 2014-02-05 | 2018-07-03 | Samsung Display Co., Ltd. | Touch screen panel including touch electrode patterns and driving circuit wirings having a low resistance wiring layer and connected thereto and manufacturing method thereof |
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