KR20020002401A - Holographic Recording Material - Google Patents

Holographic Recording Material Download PDF

Info

Publication number
KR20020002401A
KR20020002401A KR1020017011356A KR20017011356A KR20020002401A KR 20020002401 A KR20020002401 A KR 20020002401A KR 1020017011356 A KR1020017011356 A KR 1020017011356A KR 20017011356 A KR20017011356 A KR 20017011356A KR 20020002401 A KR20020002401 A KR 20020002401A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
recording material
dye
polymer
recording
formula
Prior art date
Application number
KR1020017011356A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
토마스 비린거
호르스트 베네트
요하네스 아이크만스
라이너 하겐
세르게이 코스트로미네
Original Assignee
빌프리더 하이더
바이엘 악티엔게젤샤프트
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 빌프리더 하이더, 바이엘 악티엔게젤샤프트 filed Critical 빌프리더 하이더
Publication of KR20020002401A publication Critical patent/KR20020002401A/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/241Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
    • G11B7/242Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
    • G11B7/244Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
    • G11B7/245Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing a polymeric component
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F246/00Copolymers in which the nature of only the monomers in minority is defined
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B69/00Dyes not provided for by a single group of this subclass
    • C09B69/10Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds
    • C09B69/106Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds containing an azo dye
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H2001/026Recording materials or recording processes
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H2001/026Recording materials or recording processes
    • G03H2001/0264Organic recording material
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H2240/00Hologram nature or properties
    • G03H2240/20Details of physical variations exhibited in the hologram
    • G03H2240/26Structural variations, e.g. structure variations due to photoanchoring or conformation variations due to photo-isomerisation
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/004Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
    • G11B7/0065Recording, reproducing or erasing by using optical interference patterns, e.g. holograms
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers

Abstract

본 발명은 포토어드레싱 중합체의 영역에서 사용하기 위한 신규한 홀로그래피 기록 재료에 관한 것이다.The present invention relates to a novel holographic recording material for use in the area of photo addressing polymers.

Description

홀로그래피 기록 재료 {Holographic Recording Material}Holographic Recording Material

본 발명은 홀로그래피 체적형 저장 매체용 기록 재료, 그의 제조 및 체적형 홀로그램 기록에서의 용도에 관한 것이다.The present invention relates to a recording material for holographic volumetric storage media, to its manufacture and to use in volumetric hologram recording.

홀로그래피는 두 개의 간섭광 (신호파 및 참조파) 사이의 간섭을 이용하여 적합한 저장 재료에 물체의 이미지를 만들 수 있고, 이러한 이미지를 광선 (판독광)을 사용하여 다시 읽어낼 수 있는 방법이다 (문헌 [D. Gabor, Nature 151, 454 (1948), N. H. Farath, Advances in Holography, Vol. 3, Marcel Decker (1977), H. M. Smith, Holographic Recording Materials, Springer (1977)]). 한편으로 신호파와 참조파 간의 각도를 변화시키고, 다른 한편으로는 홀로그래피 저장 재료를 변화시킴으로써, 많은 홀로그램을 하나의 동일한 시료 위치에서 재료에 기록할 수 있으며, 궁극적으로는 각각을 다시 판독할 수 있다. 사용되는 간섭성 광원은 일반적으로 레이저광이다. 저장 재료로서는 매우 다양한 재료, 예를 들어 LiNbO3과 같은 무기 결정, 유기 중합체 (예, 문헌 [M. Eich, J. H. Wendorff, Makromol. Chem., Rapid Commun. 8, 467 (1987), J. H. Wendorff, M. Eich, Mol. Cryst. Liq. Cryst. 169, 133 (1989)]) 또는 광중합체 (문헌 [Uh-Sock Rhee et al., Applied Optics, 34(5), 846 (1995)])가 기재되어 있다.Holography is a method of creating an image of an object in a suitable storage material by using interference between two interfering lights (signal and reference wave), and re-reading this image using light rays (reading light) ( D. Gabor, Nature 151, 454 (1948), NH Farath, Advances in Holography, Vol. 3, Marcel Decker (1977), HM Smith, Holographic Recording Materials, Springer (1977). By changing the angle between the signal wave and the reference wave on the one hand and the holographic storage material on the other hand, many holograms can be written to the material at one and the same sample location, and ultimately each can be read back. The coherent light source used is generally laser light. Storage materials include a wide variety of materials, for example inorganic crystals such as LiNbO 3 , organic polymers (eg, M. Eich, JH Wendorff, Makromol. Chem., Rapid Commun. 8, 467 (1987), JH Wendorff, M). Eich, Mol.Cyst.Liq.Cyst. 169, 133 (1989)) or photopolymers (Uh-Sock Rhee et al., Applied Optics, 34 (5), 846 (1995)). have.

그러나, 이러한 재료들이 홀로그래피 기록 매체에 대한 모든 요건을 충족시키지는 못한다. 특히, 기록된 홀로그램의 안정성이 적절하지 못하다. 다중 기록은 일반적으로 한정된 범위에서만 가능한데, 이는 새로운 홀로그램을 기록할 때 앞서 기록된 홀로그램 위에 다시 기록해야 하므로 앞서 기록된 홀로그램이 지워지기 때문이다. 무기 결정은 특히 그러하기 때문에 이들의 안정성 문제점을 보충하기 위해 복잡한 열 처리를 하여야 한다. 한편, 광중합체는 홀로그래피 이미지 특성에 불리한 영향을 주는 수축 문제점을 보인다.However, these materials do not meet all the requirements for holographic recording media. In particular, the stability of the recorded hologram is not appropriate. Multi-recording is generally only possible in a limited range, because when recording a new hologram, the previously recorded hologram is erased because it must be written over the previously recorded hologram. Inorganic crystals are particularly so and require complex heat treatment to compensate for their stability problems. On the other hand, photopolymers exhibit shrinkage problems that adversely affect holographic image properties.

또한, 기록된 홀로그램의 안정성이 높은 재료는, 예를 들어 아직 공개되지 않은 EP 제0 704 513 (LeA 30655) 및 독일 출원 제DE-A-19703132호 (LeA 31821)에 공지되어 있다.Highly stable materials of recorded holograms are also known, for example, from EP 0 704 513 (LeA 30655) and German application DE-A-19703132 (LeA 31821), which have not yet been published.

그러나, 이들 재료는 광학 밀도가 높기 때문에 저장 재료에 여러개의 홀로그램을 저장하는데 필요한 홀로그래피 체적형 저장 매체를 제조할 수 없다.However, because these materials have high optical densities, it is not possible to produce holographic volumetric storage media required to store several holograms in the storage material.

따라서, 충분히 두꺼운 홀로그래피 체적형 저장 매체의 제조에 적합하며 여러개의 홀로그램을 장기간 안정하게 기록 재료의 한 시료 위치에 저장할 수 있는 재료가 필요하다. 지금까지 공지된 재료로는 여러개의 홀로그램을 한 위치에 차곡차곡 저장하면 저장된 홀로그래피 정보가 점차적으로 지워지게 된다. 나중에 기록된 홀로그램이 먼저 기록된 홀로그램의 형성에 사용된 동일한 분자에 위치하게 되므로, 고작 몇 번의 기록 공정 후에 먼저 기록된 홀로그램의 정보가 지워졌다.Therefore, there is a need for a material that is suitable for the production of sufficiently thick holographic volumetric storage media and capable of storing several holograms stably in one sample position of the recording material for a long time. As far as the known materials are stored, the holographic information is gradually erased when several holograms are stored at one location. Since the later recorded holograms were located in the same molecule used to form the first recorded holograms, the information of the first recorded holograms was erased after only a few recording processes.

따라서, 본 발명은 홀로그램이 기록될 때 자신의 공간적 배열이 변하는 1종 이상의 염료 및 임의로는 1종 이상의 형상 이방성 원자단을 함유하는, 한 시료 위치에 여러개의 홀로그램을 기록할 수 있는 특징의 홀로그래피 체적형 저장 매체용 기록 재료를 제공한다.Accordingly, the present invention is a holographic volume type characterized by being capable of recording multiple holograms at one sample location, containing one or more dyes and optionally one or more shaped anisotropic atomic groups whose spatial arrangement changes when the hologram is recorded. A recording material for a storage medium is provided.

바람직하게는, 본 발명은 상기 1종 이상의 염료가 전자기선에 의해 더 이상 여기되지 않는 방식으로 공간적 배열이 변하거나 또는 그의 흡수 거동이 변화되어, 특히 화학광선에 대한 감도가, 최초 홀로그램을 기록하기 전의 감도를 기준으로 바람직하게는 10 % 내지 100 %, 더욱 바람직하게는 50 % 내지 100 %, 및 가장 바람직하게는 90 % 내지 100 % 정도 저하됨으로써 달성된다.Preferably, the present invention changes the spatial arrangement or its absorption behavior in such a way that the one or more dyes are no longer excited by electromagnetic radiation, so that in particular the sensitivity to actinic radiation is sufficient to record the initial hologram. It is achieved by decreasing 10%-100%, More preferably, 50%-100%, and Most preferably, about 90%-100% based on a previous sensitivity.

허나 염료는 또한, 화학광선의 편광 방향과 수직인 방향으로 움직여 그의 분자 종축이 화학광선의 편광 방향과 10 °내지 90 °, 바람직하게 50 ° 내지 90 °, 더욱 바람직하게 75 ° 내지 90 ° 및 가장 바람직하게 85 °내지 90 °의 각도로 놓여지게 되어 흡수 거동, 특히 화학광선에 대한 감도를 저감시킬 수도 있다.However, the dye also moves in a direction perpendicular to the polarization direction of actinic rays such that its molecular longitudinal axis is 10 ° to 90 °, preferably 50 ° to 90 °, more preferably 75 ° to 90 ° and most Preferably it is placed at an angle of 85 ° to 90 ° to reduce the absorption behavior, in particular the sensitivity to actinic light.

이러한 방식으로, 여러개의 홀로그램을 한 시료 위치에 성공적으로 기록할 수 있다. 다시 말하면, 먼저 기록된 홀로그램의 정보가 완전히 지워지지 않는다.In this way, multiple holograms can be successfully recorded at one sample location. In other words, the information of the first recorded hologram is not completely erased.

홀로그램이 기록될 때 전자기선에 대한 여기 거동의 이러한 변화는 비결정질 유기 고분자 또는 올리고머 재료내에서의 자신의 공간적 배열을 변화시키는 염료에 의해 달성될 수 있다.This change in the excitation behavior for the electromagnetic beam when the hologram is recorded can be achieved by a dye that changes its spatial arrangement in the amorphous organic polymer or oligomeric material.

이러한 유형의 재료는, 홀로그램을 기록할 때 재료에 이미 기록된 홀로그램이 허용할 수 없을 정도로 감소되거나 완전히 손상되거나 완전히 겹쳐져 기록되는 것을 방지할 수 있다.This type of material can prevent the hologram already recorded on the material from being recorded when the hologram is unacceptably reduced, completely damaged or completely overlapped.

측정 기술의 측면에서 허용할 수 없는 감쇠 잔류 정보란 백그라운드 노이즈(background noise)에 대해 더이상 화상을 표시하지 않음을 의미한다.Unacceptable attenuation residual information in terms of measurement technology means that the image is no longer displayed against background noise.

정보는 홀로그래피 방법으로 저장된다. 이 목적을 위해 두 개의 편광된 간섭광이 시료위에서 간섭되도록 한다.The information is stored in a holographic way. For this purpose, two polarized interfering lights are allowed to interfere on the sample.

화학광선에 노광되면, 염료는 고분자 또는 올리고머 층에서의 그들의 공간적 위치가 변한다. 노광 시에 분자 종축이 두 기록 빔에 의한 평면 (입사면)쪽으로 배향되는 염료는 그 광의 편광이 입사면과 수직이라면 그 광에 의해 더이상 여기될 수 없다. 기록 공정 동안 이러한 염료에 기록된 정보 (홀로그램)는 후속 홀로그램의 기록 동안의 변화로부터 보호된다. 광의 편광 방향과 완전한 수직은 아니고 편광 방향과 90 ˚ 이외의 소정의 θ각을 형성하는 염료는 후속 홀로그램 노광 동안에 더 어드레싱 (address)된다. 그러나, 이러한 염료가 재배향될 가능성, 특히 염료의 광 감도는 분자 종축의 각이 90 °에 가까울수록 더더욱 감소한다.Upon exposure to actinic light, the dyes change their spatial position in the polymer or oligomer layer. A dye whose molecular longitudinal axis is oriented towards a plane (incident surface) by two recording beams upon exposure can no longer be excited by the light if its polarization is perpendicular to the incident surface. The information (hologram) recorded in this dye during the recording process is protected from changes during the recording of subsequent holograms. The dye which is not completely perpendicular to the polarization direction of the light but forms a predetermined θ angle other than 90 ° with the polarization direction is further addressed during subsequent hologram exposure. However, the likelihood of such dyes being redirected, in particular the light sensitivity of the dyes, decreases further as the angle of molecular longitudinal axis approaches 90 °.

분자 종축은 예를 들어 분자 모델링에 의한 분자 형태에 의해 결정될 수 있다 (예, CERIUS2).Molecular longitudinal axis can be determined by molecular morphology, for example by molecular modeling (eg CERIUS 2 ).

예를 들어 편광 흡수 분광법으로 조사하여 화학광선에 노광된 후의 염료의 재배향 여부를 알 수 있다. 화학광선에 미리 노광시킨 샘플을 염료의 흡수 스펙트럼 범위의 UV/VIS 분광계 (예, CARY 4G, UV/VIS 분광계)에서의 두 편광자로 검사하였다. 샘플을 정상 샘플 주위를 적합한 위치, 예를 들어 직교 위치의 편광자들과 함께 회전시키면, 샘플 각도 변화에 따른 여기 강도의 변화는 염료의 재배향을 의미하며 그 결과로서 염료의 재배향 여부를 확실히 측정할 수 있다.For example, it is possible to know whether or not the dye is redirected after exposure to actinic radiation by irradiation with polarization absorption spectroscopy. Samples previously exposed to actinic light were examined with two polarizers in a UV / VIS spectrometer (eg, CARY 4G, UV / VIS spectrometer) in the absorption spectral range of the dye. When the sample is rotated around the normal sample with polarizers at a suitable location, for example an orthogonal position, the change in the excitation intensity with the change of the sample angle implies the reorientation of the dye and as a result the dye is reliably measured. can do.

여러개의 홀로그램을 기록하는 방법에는 다양한 멀티플렉스 방법, 예를 들어 각도 멀티플렉싱법, 파장 멀티플렉싱법, 위상 멀티플렉싱법, 시프트 멀티플렉싱법, 페리스트로피성 (peristrophic) 멀티플렉싱법 등이 있다.Methods of recording multiple holograms include various multiplexing methods, for example, angular multiplexing, wavelength multiplexing, phase multiplexing, shift multiplexing, and peristrophic multiplexing.

화학광선에 대한 감도의 척도는 홀로그래피 감도이다. 예를 들어 홀로그래피 성장 곡선, 즉, 기록 빔에 의해 축적된 에너지의 함수로서 얻어지는 회절률값 (판독 레이저의 입사 강도를 기준으로 한 회절 강도)으로부터 이를 계산한다. 감도는 저장 매체의 두께에 맞게 환산한, 축적된 에너지에 따른 회절률의 제곱근 값의 증감으로서 정의된다.The measure of sensitivity to actinic radiation is holography sensitivity. For example, it is calculated from the holographic growth curve, i.e., the diffraction value obtained as a function of the energy accumulated by the recording beam (diffraction intensity based on the incident intensity of the reading laser). Sensitivity is defined as the increase or decrease of the square root of the diffraction rate with the accumulated energy, converted in accordance with the thickness of the storage medium.

본 발명은 기록 레이저의 파장에서 광학 밀도가 2 이하, 바람직하게 1 이하, 더욱 바람직하게 0.3 이하인 홀로그래피 체적형 저장 매체용 기록 재료를 제공한다. 이러한 방식으로, 화학광선이 전체 저장 매체의 균일한 투조 (transillumination)를 야기하고, 두꺼운 홀로그램을 제조할 수 있다. 광학 밀도는 시판되는 UV/VIS 분광계 (예, CARY, 4G, UV/VIS 분광계)를 사용하여 결정할 수 있다.The present invention provides a recording material for a holographic volumetric storage medium having an optical density of 2 or less, preferably 1 or less, more preferably 0.3 or less, at a wavelength of a recording laser. In this way, actinic light causes uniform transillumination of the entire storage medium and can produce thick holograms. Optical density can be determined using commercially available UV / VIS spectrometers (eg, CARY, 4G, UV / VIS spectrometers).

본 발명에 따른 기록 재료는 바람직하게 조사 두께가 0.1 mm 이상, 더욱 바람직하게 0.5 mm, 더욱 바람직하게 1 mm 이상, 가장 바람직하게 5 cm 이하인 재료이다.The recording material according to the present invention is preferably a material having an irradiation thickness of at least 0.1 mm, more preferably at least 0.5 mm, more preferably at least 1 mm and most preferably at most 5 cm.

전자기선과 상호작용하는 원자단은 염료이다. 따라서, 본 발명에 따른 재료는 1종 이상의 염료를 함유한다. 전자기선은 바람직하게 파장이 390 내지 800 nm 범위, 더욱 바람직하게 400 내지 650 nm 범위, 가장 바람직하게 510 내지 570 nm의범위인 레이저 광이다.Atomic groups that interact with electromagnetic radiation are dyes. Thus, the material according to the invention contains at least one dye. The electromagnetic radiation is preferably laser light having a wavelength in the range from 390 to 800 nm, more preferably in the range from 400 to 650 nm, most preferably in the range from 510 to 570 nm.

판독을 위해서는, 기록 재료를 기록의 경우처럼 두 개의 간섭 빔에 노광시키는 것이 아니라 하나의 빔, 즉 판독 빔에만 노광시킨다.For reading, the recording material is not exposed to two interfering beams as in the case of recording, but only to one beam, i.e. the reading beam.

판독 빔의 파장은 바람직하게는 신호파 및 참조파의 파장보다 더 긴데, 예를 들어 70 내지 500 nm가 더 길다. 그러나 기록 레이저의 파장으로 판독할 수도 있으며, 특히 이 방법은 홀로그래피 체적형 저장 매체의 상업적 이용의 경우 사용할 수 있다. 그러나, 이러한 목적을 위해서는 판독 빔의 에너지를 판독 공정 동안 광강도 또는 노광 시간을 감소시킴으로써 감소시킨다.The wavelength of the readout beam is preferably longer than the wavelengths of the signal and reference waves, for example 70 to 500 nm longer. However, it can also be read at the wavelength of the recording laser, in particular this method can be used for commercial use of holographic volumetric storage media. However, for this purpose, the energy of the readout beam is reduced by reducing the light intensity or exposure time during the readout process.

본 발명에 따른 기록 재료의 광학 밀도는 하기 두 개의 파라미터, 고분자 또는 올리고머 유기 재료 중에The optical density of the recording material according to the present invention is determined in the following two parameters, polymer or oligomeric organic material.

a) 1종 이상 존재하는 염료의 몰 흡광계수 및(또는)a) molar extinction coefficient of one or more dyes present and / or

b) 1종 이상 존재하는 염료의 농도를 통해 조절된다.b) controlled by the concentration of at least one dye present.

낮은 흡광계수를 갖는 염료는 예를 들어 비극성 및(또는) 아주 약간 편광성인 구조를 갖는 염료이다. 이러한 염료는 예를 들어 안트라퀴논, 스틸벤, 아자스틸벤, 아조 또는 메틴 염료로부터 얻을 수 있다. 아조 염료가 바람직하다. 특히 바람직한 것은 400 nm 이하, 더욱 바람직하게 400 nm 미만인 ππ*밴드의 최대 흡수성을 갖는 아조 염료이다.Dyes with low extinction coefficients are for example dyes having a nonpolar and / or very slightly polarizing structure. Such dyes can be obtained, for example, from anthraquinones, stilbenes, azastilbenes, azo or methine dyes. Azo dyes are preferred. Especially preferred are azo dyes having a maximum absorption of ππ * bands of 400 nm or less, more preferably less than 400 nm.

예를 들어, 아조 염료의 구조는 하기 화학식 I과 같다.For example, the structure of the azo dye is represented by the following formula (I).

상기 식에서,Where

R1및 R2는 각각 서로 독립적으로 수소 또는 비이온성 치환기를 나타내고,R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen or nonionic substituent,

R1은 추가로 -X1'-R3을 나타낼 수 있고,R 1 may further represent -X 1 ' -R 3 ,

m 및 n은 각각 서로 독립적으로 0 내지 4, 바람직하게 0 내지 2의 정수를 나타내고,m and n each independently represent an integer of 0 to 4, preferably 0 to 2,

X1및 X2는 각각 -X1'-R3및 X2'-R4를 나타내고,X 1 and X 2 each represent —X 1 ′ —R 3 and X 2 ′ —R 4 ,

X1'및 X2'는 직접 결합, -O-, -S-, -(N-R5)-, -C(R6R7)-, -(C=O)-, -(CO-O)-, -(CO-NR5)-, -(SO2)-, -(SO2-O)-, -(SO2-NR5)-, -(C=NR8)- 또는 -(CNR8-NR5)-를 나타내고,X 1 ' and X 2' are a direct bond, -O-, -S-,-(NR 5 )-, -C (R 6 R 7 )-,-(C = O)-,-(CO-O) -,-(CO-NR 5 )-,-(SO 2 )-,-(SO 2 -O)-,-(SO 2 -NR 5 )-,-(C = NR 8 )-or-(CNR 8 -NR 5 )-,

R3, R4, R5및 R8은 각각 서로 독립적으로 수소, C1-C20-알킬, C3-C10-시클로알킬, C2-C20-알케닐, C6-C10-아릴, C1-C20-알킬-(C=O)-, C3-C10-시클로알킬-(C=O)-, C2-C20-알케닐-(C=O)-, C6-C10-아릴-(C=O)-, C1-C20-알킬-(SO2)-, C3-C10-시클로알킬-(SO2)-, C2-C20-알케닐-(SO2)- 또는 C6-C10-아릴-(SO2)-를 나타내거나, 또는R 3 , R 4 , R 5 and R 8 are each independently of each other hydrogen, C 1 -C 20 -alkyl, C 3 -C 10 -cycloalkyl, C 2 -C 20 -alkenyl, C 6 -C 10- Aryl, C 1 -C 20 -alkyl- (C═O)-, C 3 -C 10 -cycloalkyl- (C═O)-, C 2 -C 20 -alkenyl- (C═O)-, C 6- C 10 -aryl- (C═O)-, C 1 -C 20 -alkyl- (SO 2 )-, C 3 -C 10 -cycloalkyl- (SO 2 )-, C 2 -C 20 -al alkenyl - (SO 2) - or C 6 -C 10 - aryl - (SO 2) -, or represent, or

-X1'-R3및 X2'-R4는 수소, 할로겐, 시아노, 니트로, CF3또는 CCl3을 나타낼 수 있고,-X 1 ' -R 3 and X 2' -R 4 can represent hydrogen, halogen, cyano, nitro, CF 3 or CCl 3 ,

R6및 R7은 각각 독립적으로 수소, 할로겐, C1-C20-알킬, C1-C20-알콕시, C3-C10-시클로알킬, C2-C20-알케닐 또는 C6-C10-아릴을 나타낸다.R 6 and R 7 are each independently hydrogen, halogen, C 1 -C 20 -alkyl, C 1 -C 20 -alkoxy, C 3 -C 10 -cycloalkyl, C 2 -C 20 -alkenyl or C 6- C 10 -aryl.

비이온성 치환기들로는 할로겐, 시아노, 니트로, C1-C20-알킬, C1-C20-알콕시, 페녹시, C3-C10-시클로알킬, C2-C20-알케닐 또는 C6-C10-아릴, C1-C20-알킬-(C=O)-, C6-C10-아릴-(C=O)-, C1-C20-알킬-(SO2)-, C1-C20-알킬-(C=O)-O-, C1-C20-알킬-(C=O)-NH-, C6-C20-아릴-(C=O)-NH-, C1-C20-알킬-O-(C=O)-, C1-C20-알킬-NH-(C=O)- 또는 C6-C10-아릴-NH-(C=O)-가 있다.Nonionic substituents include halogen, cyano, nitro, C 1 -C 20 -alkyl, C 1 -C 20 -alkoxy, phenoxy, C 3 -C 10 -cycloalkyl, C 2 -C 20 -alkenyl or C 6 -C 10 -aryl, C 1 -C 20 -alkyl- (C═O)-, C 6 -C 10 -aryl- (C═O)-, C 1 -C 20 -alkyl- (SO 2 )-, C 1 -C 20 -alkyl- (C═O) —O—, C 1 -C 20 -alkyl- (C═O) -NH-, C 6 -C 20 -aryl- (C═O) -NH- , C 1 -C 20 -alkyl-O- (C═O)-, C 1 -C 20 -alkyl-NH- (C═O)-or C 6 -C 10 -aryl-NH- (C = O) -There is.

알킬, 시클로알킬, 알케닐 및 아릴 라디칼은 할로겐, 시아노, 니트로, C1-C20-알킬, C1-C20-알콕시, C3-C10-시클로알킬, C2-C20-알케닐 또는 C6-C10-아릴의 군으로부터의 3개 이하의 라디칼에 의해 치환될 수 있으며, 상기 알킬 및 알케닐 라디칼은 직쇄형 또는 분지형일 수 있다.Alkyl, cycloalkyl, alkenyl and aryl radicals are halogen, cyano, nitro, C 1 -C 20 -alkyl, C 1 -C 20 -alkoxy, C 3 -C 10 -cycloalkyl, C 2 -C 20 -al alkenyl or C 6 -C 10 - and can be substituted by up to three radicals from the group of aryl, wherein the alkyl and alkenyl radicals may be of straight-chain or branched.

할로겐으로는 플루오르, 염소, 브롬 및 요오드, 특히 플루오르 및 염소가 있다.Halogens include fluorine, chlorine, bromine and iodine, in particular fluorine and chlorine.

본 발명에 따른 기록 재료는 바람직하게는 고분자 또는 올리고머 비결정질 유기 재료, 특히 바람직하게는 측쇄형 중합체, 또한 특히 바람직하게는 블록 공중합체 및(또는) 그라프트 공중합체이다.The recording material according to the invention is preferably a polymer or oligomeric amorphous organic material, particularly preferably a branched polymer, and particularly preferably a block copolymer and / or a graft copolymer.

측쇄형 중합체의 주쇄는 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리실록산, 폴리우레아, 폴리우레탄, 폴리에스테르 또는 셀룰로오스와 같은 기본 구조로부터 이다. 폴리아크릴레이트 및 폴리메타크릴레이트가 바람직하다.The main chain of the branched polymer is from a basic structure such as polyacrylate, polymethacrylate, polysiloxane, polyurea, polyurethane, polyester or cellulose. Polyacrylates and polymethacrylates are preferred.

블록 공중합체는 그 중 하나 이상의 유형이 상기 기재된 공중합체 시스템을 함유하는 다수의 블록으로 구성된다. 나머지 블록들은 필요한 광학 밀도로 조절하기 위해 관능성 블록을 희석하는 역할을 하는 비관능화 중합체 구조로 구성된다. 관능성 블록의 범위는 광 파장 미만, 바람직하게 200 nm 미만의 영역, 더욱 바람직하게 100 nm 미만의 영역이다.Block copolymers consist of a number of blocks, one or more of which contain a copolymer system as described above. The remaining blocks consist of a nonfunctionalized polymer structure that serves to dilute the functional block to adjust to the required optical density. The range of functional blocks is less than the wavelength of light, preferably less than 200 nm, more preferably less than 100 nm.

블록 공중합체의 중합반응은 예를 들어 자유 라디칼 또는 음이온성 중합반응에 의해, 또는 다른 적합한 중합 공정에 의해, 임의로 중합-유사 반응에 의해, 또는 이러한 방법의 조합에 의해 수행한다. 시스템의 균질성은 2.0 미만, 바람직하게 1.5 미만의 범위이다. 자유 라디칼 중합반응에 의해 얻어진 블록 공중합체의 분자량은 50,000의 범위의 값에 달하며, 100,000 초과의 값은 음이온성 중합 반응에 의해 조절할 수 있다.The polymerization of the block copolymers is carried out, for example, by free radical or anionic polymerization, or by other suitable polymerization processes, optionally by polymerization-like reactions, or by a combination of these methods. The homogeneity of the system is in the range of less than 2.0, preferably less than 1.5. The molecular weight of the block copolymer obtained by free radical polymerization reaches a value in the range of 50,000, and a value above 100,000 can be controlled by anionic polymerization.

염료, 특히 화학식 I의 아조 염료는 일반적으로 스페이서에 의해 이러한 중합체 구조에 공유결합된다. 예를 들어, X1(또는 X2또는 R1)은 이러한 스페이서,특히 X1'-(Q1)i-T1-S1- (여기서, X1'는 상기 정의된 바와 같고; Q1은 -O-, -S-, -(N-R5)-, -C(R6R7)-, -(C=O)-, -(CO-O)-, -(CO-NR5)-, -(SO2)-, -(SO2-O)-, -(SO2-NR5)-, -(C=NR8)-, -(CNR8-NR5)-, -(CH2)p-, p- 또는 m-C6H4-, 또는또는의 2가 라디칼을 나타내고; i는 0 내지 4의 정수를 나타내고, 여기서 i > 1인 경우 각 라디칼 Q1은 서로 다른 의미를 가지고; T1은 -(CH2)p-를 나타내고, 여기서 쇄에는 -O-, -NR9- 또는 -OSiR10 2O-이 개재될 수 있고; S1은 직접 결합, -O-, -S- 또는 -NR9-를 나타내고; p는 2 내지 12, 바람직하게 2 내지 8, 더욱 바람직하게 2 내지 4의 정수를 나타내고; R9는 수소, 메틸, 에틸 또는 프로필을 나타내고; R10은 메틸 또는 에틸을 나타내고; R5내지 R8은 상기 정의된 바와 같음)를 나타낸다.Dyes, in particular azo dyes of formula I, are generally covalently bonded to this polymer structure by spacers. For example, X 1 (or X 2 or R 1 ) is such a spacer, in particular X 1 ′ -(Q 1 ) i -T 1 -S 1- (where X 1 ′ is as defined above; Q 1 Is -O-, -S-,-(NR 5 )-, -C (R 6 R 7 )-,-(C = O)-,-(CO-O)-,-(CO-NR 5 )- ,-(SO 2 )-,-(SO 2 -O)-,-(SO 2 -NR 5 )-,-(C = NR 8 )-,-(CNR 8 -NR 5 )-,-(CH 2 ) p- , p- or mC 6 H 4- , or or Represents a divalent radical of; i represents an integer of 0 to 4, where each radical Q 1 has a different meaning when i>1; T 1 represents — (CH 2 ) p —, wherein the chain may be interrupted by —O—, —NR 9 — or —OSiR 10 2 O—; S 1 represents a direct bond, -O-, -S- or -NR 9- ; p represents an integer of 2 to 12, preferably 2 to 8, more preferably 2 to 4; R 9 represents hydrogen, methyl, ethyl or propyl; R 10 represents methyl or ethyl; R 5 to R 8 are as defined above).

폴리아크릴레이트 또는 폴리메타크릴레이트의 바람직한 염료 단량체는 하기 화학식 II와 같다.Preferred dye monomers of polyacrylate or polymethacrylate are represented by the following general formula (II).

상기 식에서,Where

R은 수소 또는 메틸을 나타내고,R represents hydrogen or methyl,

다른 라디칼은 상기 정의된 바와 같다.The other radicals are as defined above.

하기 화학식 IIa의 염료 단량체가 특히 적합하다.Particularly suitable are dye monomers of the formula (IIa).

상기 식에서,Where

X3은 수소, 할로겐 또는 C1-C4-알킬, 바람직하게 수소를 나타내고,X 3 represents hydrogen, halogen or C 1 -C 4 -alkyl, preferably hydrogen,

라디칼 R, S1, T1, Q1, X1', R1및 R2, 및 i, m 및 n은 상기 정의된 바와 같다.The radicals R, S 1 , T 1 , Q 1 , X 1 ′ , R 1 and R 2 , and i, m and n are as defined above.

특히 바람직한 화학식 IIa의 단량체에는, 예를 들어 하기와 같은 것이 있다.Particularly preferred monomers of formula (IIa) include, for example, the following.

또한, 하기 화학식 IIb의 염료 단량체도 이들이 10 몰% 이하, 바람직하게 5 몰% 이하, 더욱 바람직하게 1 몰% 이하의 양으로 중합체 중에 함유될 때 적합하다.Also suitable are dye monomers of the general formula (IIb) when they are contained in the polymer in an amount of up to 10 mol%, preferably up to 5 mol%, more preferably up to 1 mol%.

상기 식에서,Where

X4는 시아노 또는 니트로를 나타내고,X 4 represents cyano or nitro,

라디칼 R, S1, T1, Q1, X1', R1및 R2, 및 i, m 및 n은 상기 정의된 바와 같다.The radicals R, S 1 , T 1 , Q 1 , X 1 ′ , R 1 and R 2 , and i, m and n are as defined above.

특히 바람직한 화학식 IIb의 단량체에는, 예를 들어 하기와 같은 것들이 있다.Particularly preferred monomers of formula (IIb) include, for example, the following.

본 발명에 따른 고분자 또는 올리고머 비결정성 유기 재료는 염료 이외에, 예를 들어 화학식 I의 형상-이방성 원자단 (shape-anisotrophic grouping)을 함유할 수 있다. 이들 원자단도 역시 일반적으로 스페이서를 통해 중합체 구조에 공유결합된다.Polymeric or oligomeric amorphous organic materials according to the invention may contain, in addition to dyes, for example, shape-anisotrophic groupings of the formula (I). These atomic groups are also generally covalently bonded to the polymer structure through spacers.

형상-이방성 원자단은 예를 들어 하기 화학식 III (여기서, Z는 하기 화학식 IIIa 또는 IIIb의 라디칼을 나타냄)과 같은 구조를 가진다.The shape-anisotropic atom group has a structure such as, for example, the formula III, wherein Z represents a radical of formula IIIa or IIIb.

상기 식에서,Where

A는 O, S 또는 N-C1-C4-알킬을 나타내고,A represents O, S or NC 1 -C 4 -alkyl,

X3은 -X3'-(Q2)j-T2-S2-를 나타내고,X 3 represents -X 3 ' -(Q 2 ) j -T 2 -S 2- ,

X4는 X4'-R13을 나타내고,X 4 represents X 4 ′ -R 13 ,

X3'및 X4'는 각각 서로 독립적으로 직접 결합, -O-, -S-, -(N-R5)-, -C(R6R7)-, -(C=O)-, -(CO-O)-, -(CO-NR5)-, -(SO2)-, -(SO2-O)-, -(SO2-NR5)-, -(C=NR8)- 또는 -(CNR8-NR5)-를 나타내고,X 3 ' and X 4' are each independently a direct bond, -O-, -S-,-(NR 5 )-, -C (R 6 R 7 )-,-(C = O)-,-( CO-O)-,-(CO-NR 5 )-,-(SO 2 )-,-(SO 2 -O)-,-(SO 2 -NR 5 )-,-(C = NR 8 )-or -(CNR 8 -NR 5 )-;

R5, R8및 R13은 각각 서로 독립적으로 수소, C1-C20-알킬, C3-C10-시클로알킬, C2-C20-알케닐, C6-C10-아릴, C1-C20-알킬-(C=O)-, C3-C10-시클로알킬-(C=O)-, C2-C20-알케닐-(C=O)-, C6-C10-아릴-(C=O)-, C1-C20-알킬-(SO2)-, C3-C10-시클로알킬-(SO2)-, C2-C20-알케닐-(SO2)- 또는 C6-C10-아릴-(SO2)-이거나, 또는R 5 , R 8 and R 13 are each independently of each other hydrogen, C 1 -C 20 -alkyl, C 3 -C 10 -cycloalkyl, C 2 -C 20 -alkenyl, C 6 -C 10 -aryl, C 1- C 20 -alkyl- (C═O)-, C 3 -C 10 -cycloalkyl- (C═O)-, C 2 -C 20 -alkenyl- (C═O)-, C 6 -C 10 -aryl- (C = O)-, C 1 -C 20 -alkyl- (SO 2 )-, C 3 -C 10 -cycloalkyl- (SO 2 )-, C 2 -C 20 -alkenyl- ( SO 2 )-or C 6 -C 10 -aryl- (SO 2 )-, or

X4'-R13은 수소, 할로겐, 시아노, 니트로, CF3또는 CCl3을 나타낼 수 있고,X 4 ′ -R 13 may represent hydrogen, halogen, cyano, nitro, CF 3 or CCl 3 ,

R6및 R7은 각각 서로 독립적으로 수소, 할로겐, C1-C20-알킬, C1-C20-알콕시, C3-C10-시클로알킬, C2-C20-알케닐 또는 C6-C10-아릴을 나타내고,R 6 and R 7 are each independently of each other hydrogen, halogen, C 1 -C 20 -alkyl, C 1 -C 20 -alkoxy, C 3 -C 10 -cycloalkyl, C 2 -C 20 -alkenyl or C 6 -C 10 -aryl;

Y는 단일 결합, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NHCO-, -CON(CH3)-, -N(CH3)CO-, -O-, -NH- 또는 -N(CH3)-을 나타내고,Y is a single bond, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NHCO-, -CON (CH 3 )-, -N (CH 3 ) CO-, -O-, -NH- or -N (CH 3 )-

R11, R12, R15는 각각 서로 독립적으로 수소, 할로겐, 시아노, 니트로, C1-C20-알킬, C1-C20-알콕시, 페녹시, C3-C10-시클로알킬, C2-C20-알케닐 또는 C6-C10-아릴, C1-C20-알킬-(C=O)-, C6-C10-아릴-(C=O)-, C1-C20-알킬-(SO2)-, C1-C20-알킬-(C=O)-O-, C1-C20-알킬-(C=O)-NH-, C6-C10-아릴-(C=O)-NH-, C1-C20-알킬-O-(C=O)-, C1-C20-알킬-NH-(C=O)- 또는 C6-C10-아릴-NH-(C=O)-를 나타내고,R 11 , R 12 , R 15 are each independently of the other hydrogen, halogen, cyano, nitro, C 1 -C 20 -alkyl, C 1 -C 20 -alkoxy, phenoxy, C 3 -C 10 -cycloalkyl, C 2 -C 20 -alkenyl or C 6 -C 10 -aryl, C 1 -C 20 -alkyl- (C═O)-, C 6 -C 10 -aryl- (C═O)-, C 1- C 20 -alkyl- (SO 2 )-, C 1 -C 20 -alkyl- (C═O) -O—, C 1 -C 20 -alkyl- (C═O) -NH-, C 6 -C 10 -Aryl- (C = 0) -NH-, C 1 -C 20 -alkyl-O- (C═O)-, C 1 -C 20 -alkyl-NH- (C═O)-or C 6 -C 10 -aryl-NH- (C = 0)-;

q, r 및 s는 각각 서로 독립적으로 0 내지 4, 바람직하게 0 내지 2의 정수를 나타내고,q, r and s each independently represent an integer of 0 to 4, preferably 0 to 2,

Q2는 -O-, -S-, -(N-R5)-, -C(R6R7)-, -(C=O)-, -(CO-O)-, -(CO-NR5)-, -(SO2)-, -(SO2-O)-, -(SO2-NR5)-, -(C=NR8)-, -(CNR8-NR5)-, -(CH2)p-, p- 또는 m-C6H4- 또는 화학식또는의 2가 라디칼을 나타내고,Q 2 is -O-, -S-,-(NR 5 )-, -C (R 6 R 7 )-,-(C = O)-,-(CO-O)-,-(CO-NR 5 )-,-(SO 2 )-,-(SO 2 -O)-,-(SO 2 -NR 5 )-,-(C = NR 8 )-,-(CNR 8 -NR 5 )-,-( CH 2 ) p- , p- or mC 6 H 4 -or formula or Represents a divalent radical,

j는 0 내지 4의 정수를 나타내고, 여기서 j > 1일 경우 각 라디칼 Q1은 서로 다른 의미를 가질 수 있고,j represents an integer of 0 to 4, where j> 1, each radical Q 1 may have a different meaning,

T2는 -(CH2)p-를 나타내고, 여기서 쇄에는 -O-, -NR9- 또는 -OSiR10 2O-가 개재될 수 있고,T 2 represents-(CH 2 ) p- , wherein the chain may be interrupted by -O-, -NR 9 -or -OSiR 10 2 O-,

S2는 직접 결합, -O-, -S- 또는 -NR9-를 나타내고,S 2 represents a direct bond, -O-, -S- or -NR 9- ,

p는 2 내지 12, 바람직하게 2 내지 8, 더욱 바람직하게 2 내지 4의 정수를 나타내고,p represents an integer of 2 to 12, preferably 2 to 8, more preferably 2 to 4,

R9는 수소, 메틸, 에틸 또는 프로필을 나타내고,R 9 represents hydrogen, methyl, ethyl or propyl,

R10은 메틸 또는 에틸을 나타낸다.R 10 represents methyl or ethyl.

폴리아크릴레이트 또는 폴리메타크릴레이트에 있어 바람직한 이러한 형상 이방성 원자단을 갖는 단량체는 하기 화학식 IV를 갖는다.Preferred monomers for polyacrylates or polymethacrylates having such shape anisotropic atomic groups have the general formula (IV) below.

상기 식에서,Where

R은 수소 또는 메틸을 나타내고,R represents hydrogen or methyl,

다른 라디칼은 상기 정의된 바와 같다.The other radicals are as defined above.

특히 바람직한 화학식 IV의 형상 이방성 단량체에는, 예를 들어 하기와 같은 것들이 있다.Particularly preferred shape anisotropic monomers of the general formula (IV) include, for example:

알킬, 시클로알킬, 알케닐 및 아릴 라디칼은 할로겐, 시아노, 니트로, C1-C20-알킬, C1-C20-알콕시, C3-C10-시클로알킬, C2-C20-알케닐 또는 C6-C10-아릴의 군으로부터의 3개 이하의 라디칼에 의해 치환될 수 있으며 상기 알킬 및 알케닐 라디칼은 직쇄형 또는 분지형일 수 있다.Alkyl, cycloalkyl, alkenyl and aryl radicals are halogen, cyano, nitro, C 1 -C 20 -alkyl, C 1 -C 20 -alkoxy, C 3 -C 10 -cycloalkyl, C 2 -C 20 -al It may be substituted by up to 3 radicals from the group of kenyl or C 6 -C 10 -aryl and the alkyl and alkenyl radicals may be straight or branched.

할로겐으로는 플루오르, 염소, 브롬 및 요오드, 특히 플루오르 및 염소가 있다.Halogens include fluorine, chlorine, bromine and iodine, in particular fluorine and chlorine.

이러한 관능성 단위 이외에도, 본 발명에 따른 올리고머 또는 고분자는 또한 주로 관능성 단위, 특히 염료 단위의 백분율 함량을 낮추는 작용을 하는 단위를 함유할 수 있다. 이러한 작용 이외에, 이들은 또한 올리고머 또는 고분자의 다른 특성, 예를 들어 유리 전이 온도, 액체 결정성, 필름형성 특성 등을 제공할 수 있다.In addition to these functional units, the oligomers or polymers according to the invention may also contain units which serve primarily to lower the percentage content of functional units, in particular dye units. In addition to these actions, they may also provide other properties of the oligomer or polymer, such as glass transition temperature, liquid crystallinity, film forming properties, and the like.

폴리아크릴레이트 또는 폴리메타크릴레이트에서, 이러한 단량체는 하기 화학식 V의 아크릴산 또는 메타크릴산 에스테르이다.In polyacrylates or polymethacrylates, these monomers are acrylic or methacrylic acid esters of the general formula (V).

상기 식에서,Where

R은 수소 또는 메틸을 나타내고,R represents hydrogen or methyl,

R14는 분지형일 수 있는 알킬 및 알케닐 라디칼 C1-C20-알킬 또는 하나 이상의 또다른 아크릴 단위를 함유하는 라디칼을 나타낸다.R 14 represents a radical containing an alkyl and alkenyl radical C 1 -C 20 -alkyl or one or more other acrylic units, which may be branched.

본 발명에 따른 폴리아크릴레이트 및 폴리메타크릴레이트는 반복 단위로서 바람직하게 하기 화학식 VI의 화합물, 바람직하게 하기 화학식 VI 및 VII 또는 화학식 VI 및 VIII 또는 화학식 VI, VII 및 VIII의 화합물, 또는 화학식 VI 대신 화학식 VIa 또는 VIb의 반복 단위를 함유한다.The polyacrylates and polymethacrylates according to the invention are preferably represented as repeating units instead of compounds of the formula (VI), preferably of the formulas (VI) and (VII) or of the formulas (VI) and (VIII) or of the compounds of the formulas (VI), (VII) and (VIII), or (VI) It contains a repeating unit of formula VIa or VIb.

상기 식에서 라디칼은 상기 정의된 바와 같다. 또한 화학식 VI (VIa 또는 VIb)의 반복 단위 및(또는) 화학식 VII 및(또는) VIII의 반복 단위로 여러개가 존재할 수도 있다.Radicals in the above formula are as defined above. There may also be several in repeat units of formula VI (VIa or VIb) and / or in repeat units of formulas VII and / or VIII.

VI (VIa, VIb), VII 및 VIII의 상대비율은 목적한 바대로 정해진다. VI (VIa, VIb)의 농도는 VI (VIa, VIb)의 흡수 계수에 따라 해당 혼합물을 기준으로 바람직하게 0.1 내지 100 %이다. VI (VIa, VIb) 대 VII의 비율은 100:0 내지1:99, 바람직하게 100:0 내지 30:70, 더욱 바람직하게 100:0 내지 50:50이다.The relative proportions of VI (VIa, VIb), VII and VIII are determined as desired. The concentration of VI (VIa, VIb) is preferably 0.1 to 100% based on the mixture in question, depending on the absorption coefficient of VI (VIa, VIb). The ratio of VI (VIa, VIb) to VII is 100: 0 to 1:99, preferably 100: 0 to 30:70, more preferably 100: 0 to 50:50.

화학식 I의 염료 및 화학식 II의 염료 단량체는 단파장 범위에서 주된 흡수 대역 (π- π*밴드) 및 장파장 범위에서 부차적 흡수 대역 (n - π*밴드)를 나타낸다. n - π*밴드의 몰 흡광계수 ε는 400 내지 5000 x 103cm2/mol의 범위이다. 몰 질량을 400 g/mol로 가정한 염료에서, 올리고머 또는 고분자가 이러한 염료를 1.6 % 이하 (ε= 5000) 내지 20 % 이하(ε= 400)로 함유할 경우 조사 두께 0.1 mm에서 이들의 광학 밀도는 2 이하이다.The dyes of formula (I) and dye monomers of formula (II) exhibit major absorption bands (π-π * bands) in the short wavelength range and secondary absorption bands (n-π * bands) in the long wavelength range. The molar extinction coefficient ε of the n-π * band is in the range of 400 to 5000 x 10 3 cm 2 / mol. In dyes assuming a molar mass of 400 g / mol, their optical density at an irradiation thickness of 0.1 mm when the oligomers or polymers contain such dyes at 1.6% or less (ε = 5000) to 20% or less (ε = 400) Is 2 or less.

본 발명에 따른 고분자 및 올리고머의 유리 전이 온도 Tg는 바람직하게는 40 ℃ 이상이다. 유리 전이 온도는 예를 들어 문헌 [B. Vollmer, Grundriss der Markromolekularen Chemie, p. 406-410, Springer-Verlag, Heidelberg 1962]에 따라 결정할 수 있다.The glass transition temperature T g of the polymer and oligomer according to the invention is preferably at least 40 ° C. Glass transition temperatures are described, for example, in B. Vollmer, Grundriss der Markromolekularen Chemie, p. 406-410, Springer-Verlag, Heidelberg 1962].

본 발명에 따른 고분자 및 올리고머의 중량 평균으로 계산한 분자량은 겔 투과 크로마토그래피에 의해 계산하여 5000 내지 2,000,000, 바람직하게 8000 내지 1,500,000 (폴리스티렌 환산값)이다.The molecular weight calculated from the weight average of the polymers and oligomers according to the invention is 5000 to 2,000,000, preferably 8000 to 1,500,000 (polystyrene equivalent), calculated by gel permeation chromatography.

그라프트 중합체를 화학식 II 또는 IIa 또는 IIb의 염료 단량체, 임의로 추가적으로 화학식 IV의 형상 이방성 단량체 및(또는) 임의로 추가적으로 화학식 V의 단량체의, 올리고머 또는 고분자 기재 시스템에 대한 자유 라디칼 결합에 의해 제조한다. 이러한 기재 시스템은 매우 상이한 종류의 중합체, 예를 들어 폴리스티렌 폴리(메트)아크릴레이트, 전분, 셀룰로오스, 펩티드일 수 있다. 자유 라디칼 결합은 광을 조사함으로써 또는 라디칼 발생 시약, 예를 들어 tert-부틸 히드로퍼옥시드, 디벤조일 퍼옥시드, 아조디이소부티로니트릴, 과산화수소/철 (II) 염을 사용함으로써 수행할 수 있다.Graft polymers are prepared by free radical bonding to oligomeric or polymeric based systems of dye monomers of formula II or IIa or IIb, optionally additionally the shape anisotropic monomers of formula IV and / or optionally additionally monomers of formula V. Such substrate systems can be very different kinds of polymers, for example polystyrene poly (meth) acrylates, starches, celluloses, peptides. Free radical bonding can be carried out by irradiation of light or by using radical generating reagents such as tert-butyl hydroperoxide, dibenzoyl peroxide, azodiisobutyronitrile, hydrogen peroxide / iron (II) salt.

이 고분자 및 올리고머의 구조로 인해, 화학식 VI (VIa, VIb)의 구성 요소간의 분자내 상호반응, 또는 화학식 VI (VIa, VIb) 및 VII의 구성 요소간의 분자내 상호반응은, 액정 질서 상태의 형성을 막고 광학적으로 등방성인 투명 비산란 필름, 호일, 판 또는 입방체가 만들어지도록 조정된다. 한편, 그럼에도 불구하고 분자내 상호반응은 광조사할 때 광발색성 (photochromic) 및 비광발색성 측쇄기의 광화학적으로 유도되며 상호작용하여 방향성있는 재배향 과정이 일어날 만큼 충분히 강하다.Due to the structure of this polymer and oligomer, intramolecular interactions between the components of formulas VI (VIa, VIb), or intramolecular interactions between the components of formulas VI (VIa, VIb) and VII, form a liquid crystal order state. And optically isotropic transparent non-scattering films, foils, plates or cubes are adjusted. Nevertheless, intramolecular interactions, nonetheless, are photochemically induced and interact with photochromic and non-photochromic side chains and are strong enough to result in a directional reorientation process.

바람직하게는, 광에 의한 화학식 VI (VIa, VIb)의 측쇄기 배열 변화가 다른 측쇄기 (VI (VIa, VIb) 및(또는) VII)를 단방향 (소위 협력성) 재배향시키기에 충분한 상호작용력이 바람직하게 화학식 VI (VIa, VIb)의 반복 단위의 측쇄기 사이에 또는 화학식 VI (VIa, VIb)과 VII의 반복 단위 사이에 발생한다.Preferably, the change in the side chain arrangement of formula VI (VIa, VIb) by light is sufficient to force one-sided (so-cooperative) reorientation of the other side chains (VI (VIa, VIb) and / or VII). This preferably occurs between the side chain groups of the repeating units of formulas VI (VIa, VIb) or between the repeating units of formulas VI (VIa, VIb) and VII.

광학적으로 등방성인 비결정질 광발색성 중합체에서는 매우 높은 값의 광학 비등방성이 유도될 수 있다 (Δn 내지 0.4).Very high values of optical anisotropy can be induced in optically isotropic amorphous photochromic polymers (Δn to 0.4).

화학광선의 영향으로, 고분자 또는 올리고머내 질서 상태가 발생되고 변형되므로 광학 특성이 조절된다.Under the influence of actinic rays, optical properties are controlled because order states in the polymer or oligomer are generated and modified.

사용한 광은 파장이 화학식 VI의 반복 단위의 흡수 대역 범위, 바람직하게장파장 n - π*밴드의 범위에 있는 편광된 광이다.The light used is polarized light whose wavelength is in the absorption band range of the repeating unit of formula VI, preferably in the range of the long wavelength n-π * band.

고분자 및 올리고머는 문헌, 예를 들어 DD 제276 297호, DE-A 제3 808 430호, 문헌 [Makromolekulare Chemie 187, 1327-1334 (1984)], SU 제887 574호, 문헌 [Europ. Polym. 18, 561 (1982) and Liq. Cryst. 2, 195 (1987)]에 공지된 방법에 의해 제조될 수 있다.Polymers and oligomers are described in, for example, DD 276 297, DE-A 3 808 430, Makromolekulare Chemie 187, 1327-1334 (1984), SU 887 574, Europ. Polym. 18, 561 (1982) and Liq. Cryst. 2, 195 (1987).

외부 필드 및(또는) 표면 효과를 이용한 복잡한 배향 방법을 사용할 필요없이 필름, 호일, 판 및 입방체의 제조가 가능하다. 이들은 기술적인 면에서 조절이 쉬운 스핀 코팅, 침지, 방사 (pouring) 또는 다른 코팅 방법에 의해 기판에 도포될 수 있거나, 압착 또는 유동에 의해 2개의 투명판 사이에 넣거나, 또는 간단히 방사 또는 압출성형에 의해 자립형 재료로 제조될 수 있다. 이러한 필름, 호일, 판 및 입방체는 또한 기재된 의미의 구조 성분을 함유하는 액정 고분자 또는 올리고머로부터 급냉, 즉 냉각 속도 > 100 K/분에 의해, 또는 용매의 신속한 제거에 의해 제조될 수 있다.Production of films, foils, plates and cubes is possible without the need to use complex orientation methods using external field and / or surface effects. They may be applied to the substrate by technically controllable spin coating, dipping, pouring or other coating methods, sandwiched between two transparent plates by compression or flow, or simply by spinning or extrusion. Can be made of a freestanding material. Such films, foils, plates and cubes can also be prepared from liquid crystal polymers or oligomers containing structural components in the meanings described by quenching, ie cooling rates> 100 K / min, or by rapid removal of the solvent.

바람직한 홀로그래피 체적형 저장 매체의 제조방법은 300 ℃ 이하의 범위, 바람직하게 220 ℃ 이하의 범위, 더욱 바람직하게 180 ℃ 이하의 범위에서 통상의 주입 성형 방법에 따른 단계를 포함한다.Preferred methods for the production of holographic volumetric storage media comprise the steps according to conventional injection molding methods in the range up to 300 ° C., preferably in the range up to 220 ° C. and more preferably in the range up to 180 ° C.

층 두께는 0.1 mm 이상, 바람직하게 0.5 mm 이상, 더욱 바람직하게 1 mm이상이다. 특히 바람직한 밀리미터 범위의 층 제조 방법은 주입 성형 방법이다. 이러한 방법에서, 중합체 용융물을 노즐을 통해 형성 용기로 보내고, 이를 냉각 후 형성 용기로부터 꺼낼 수 있다.The layer thickness is at least 0.1 mm, preferably at least 0.5 mm, more preferably at least 1 mm. Particularly preferred layer production methods in the millimeter range are injection molding methods. In this method, the polymer melt can be sent through a nozzle to a forming vessel which can be taken out of the forming vessel after cooling.

본 발명에 따른 기록 재료 또는 중합체의 바람직한 제조 방법은 1종 이상의 단량체가 추가의 용매 없이 중합되는 방법을 포함하는데, 여기서 중합 반응은 바람직하게 자유 라디칼 중합 반응이며, 더욱 바람직하게 자유 라디칼 개시제 및(또는) UV 광 및 열에 의해 개시되는 반응이다.Preferred methods for preparing the recording material or polymer according to the invention include processes in which at least one monomer is polymerized without further solvent, wherein the polymerization reaction is preferably a free radical polymerization reaction, more preferably a free radical initiator and / or ) Is a reaction initiated by UV light and heat.

이 방법은 20 ℃ 내지 200 ℃, 바람직하게 40 ℃ 내지 150 ℃, 더욱 바람직하게 50 ℃ 내지 100 ℃, 가장 바람직하게 약 60 ℃의 온도에서 수행된다.This process is carried out at a temperature of 20 ° C. to 200 ° C., preferably 40 ° C. to 150 ° C., more preferably 50 ° C. to 100 ° C., and most preferably about 60 ° C.

특정 실시태양에서는, AIBN을 자유 라디칼 개시제로서 사용한다.In certain embodiments, AIBN is used as the free radical initiator.

바람직하게 또다른 액체 단량체를 동시에 사용하는 것이 유리하다고 흔히 알려져 있다. 이러한 단량체들은 반응 온도에서 액체인 단량체이며, 이러한 단량체는 바람직하게 올레핀계 불포화 단량체이고, 더욱 바람직하게는 아크릴산 및 메타크릴산을 기재로 하며, 가장 바람직하게는 메틸 메타크릴레이트이다.It is often known that it is advantageous to use another liquid monomer at the same time. These monomers are monomers which are liquid at the reaction temperature, such monomers are preferably olefinically unsaturated monomers, more preferably based on acrylic acid and methacrylic acid, most preferably methyl methacrylate.

공중합체에서 화학식 II의 단량체 함량은 바람직하게 0.1 내지 99.9 중량%, 더욱 바람직하게 0.1 내지 50 중량%, 더욱 바람직하게 0.1 내지 5 중량%, 가장 바람직하게 0.5 내지 2 중량%이다.The monomer content of formula (II) in the copolymer is preferably from 0.1 to 99.9% by weight, more preferably from 0.1 to 50% by weight, more preferably from 0.1 to 5% by weight and most preferably from 0.5 to 2% by weight.

홀로그래피 데이타 저장 방법은 예를 들어 문헌 [LASER FOCUS WORLD, NOVEMBER 1996, 81쪽 이하]에 기재되어 있다.Holographic data storage methods are described, for example, in LASER FOCUS WORLD, NOVEMBER 1996, p. 81.

홀로그램을 기록할 때, 상기 기재된 중합체 필름에 필요한 광-유도 재배향을 야기하는 파장의 2 개의 간섭성 레이저 빔을 조사한다. 하나의 빔 (물체광 (object beam))은 저장하고자 하는 광학 정보, 예를 들어 2차원 체크형 픽셀 구조를 통해 광선이 통과하여 얻어지는 강도의 변화를 함유한다 (데이타 페이지). 그러나 원칙적으로는 임의의 2차원 또는 3차원 물체가 회절, 산란 또는 반사하는 광을 물체광으로 사용할 수 있다. 저장 매체에서, 물체광은 제2 레이저 빔 (일반적으로 평평하거나 원형의 파장인 참조광 (reference beam))과 간섭하게 된다. 얻어진 간섭 패턴은 광학 상수 (반사 지수 및(또는) 흡수 계수)의 변조 (modulation)로 저장 매체에 각인된다. 이러한 변조는 전체 조사 영역, 특히 저장 매체의 두께 방향으로 퍼진다. 물체광이 블록킹되고 매체가 참조광에 단독으로 노광될 경우, 변조된 저장 매체는 참조광에 대한 일종의 회절 격자로 작용한다. 회절로 인한 강도 분포는 저장하고자하는 물체로부터 비롯된 강도 분포에 상응하므로, 광이 물체 그 자체로부터 비롯된 것인지, 참조광의 회절에 의한 것인지 더이상 구별할 수 없다.When recording the hologram, two coherent laser beams of wavelength are irradiated causing the light-induced redirection necessary for the polymer film described above. One beam (object beam) contains the optical information to be stored, for example a change in intensity obtained by the passage of light through a two-dimensional check pixel structure (data page). In principle, however, any two-dimensional or three-dimensional object can use as diffracted, scattered or reflected light as the object light. In a storage medium, object light interferes with a second laser beam (a reference beam, which is generally a flat or circular wavelength). The resulting interference pattern is imprinted on the storage medium with a modulation of the optical constants (reflection index and / or absorption coefficient). This modulation spreads throughout the entire irradiated area, in particular in the thickness direction of the storage medium. When the object light is blocked and the medium is exposed alone to the reference light, the modulated storage medium acts as a kind of diffraction grating for the reference light. Since the intensity distribution due to diffraction corresponds to the intensity distribution originating from the object to be stored, it can no longer be distinguished whether the light originates from the object itself or by diffraction of the reference light.

하나의 시료 위치에 상이한 홀로그램을 저장하기 위해서, 다양한 멀티플렉스 공정, 즉 파장 멀티플렉싱법, 시프트 멀티플렉싱법, 위상 멀티플렉싱법, 페리스트로피성 멀티플렉싱법 및(또는) 각도 멀티플렉싱법 및(또는) 등을 사용한다. 각도 멀티플렉싱법의 경우, 홀로그램이 해당 각도로 저장되어 있는 저장 매체와 참조광 사이의 각도가 변화된다. 어떤 각도 변화로 인해서는, 최초 홀로그램이 사라진다 (브래그 미스매치 (Bragg mismatch)). 입사 참조광은 저장 매체에 의해 더 이상 편향되지 않아 물체를 재구성할 수 있다. 그로부터 발생하는 각도는 저장 매체의 두께 (및 매체 중 생성된 광학 상수의 변조)에 따라 정해진다. 매체의 두께가 두꺼워질수록, 참조광이 변화되는 각도가 작아야 한다.In order to store different holograms at one sample location, various multiplexing processes are used, namely wavelength multiplexing, shift multiplexing, phase multiplexing, ferristographic multiplexing and / or angular multiplexing and / or the like. . In the angular multiplexing method, the angle between the reference medium and the storage medium in which the hologram is stored at the corresponding angle is changed. Due to some angle change, the original hologram disappears (Bragg mismatch). The incident reference light is no longer deflected by the storage medium to reconstruct the object. The angle resulting therefrom is determined by the thickness of the storage medium (and the modulation of the optical constants produced in the medium). The thicker the medium, the smaller the angle at which the reference light changes.

또다른 홀로그램을 그의 새로운 각도 형상으로 기록할 수 있다. 그 홀로그램도 홀로그램이 기록된 저장 매체와 참조광 간의 각도 형성에 따라 정밀하게 판독된다.Another hologram can be recorded in its new angular shape. The hologram is also read accurately according to the angle formation between the storage medium on which the hologram is recorded and the reference light.

매체와 기록 빔 간의 각도를 점차적으로 변화시킴으로써, 다수의 홀로그램을 저장 매체의 동일한 장소에 기록할 수 있다.By gradually changing the angle between the medium and the recording beam, multiple holograms can be recorded in the same place on the storage medium.

본 특허에 기재된 중합체계는 큰 장점을 갖는데, 이는 후속 홀로그램이 기록될 때, 이전의 홀로그램에 관련해 저장 매체에 축적된 정보가 지워지지 않고 3개가 넘는, 바람직하게 50개 초과, 더욱 바람직하게 100 개 초과, 더욱 바람직하게 500개 초과, 가장 바람직하게 1000 개 초과의 홀로그램을 저장 매체의 한 장소에 기록할 수 있다. 저장 대상은 액정 디스플레이의 전송에 의해 생성된 데이타 페이지이다. 이러한 데이타 페이지는 256 x 256 픽셀, 바람직하게 512 x 512 픽셀, 바람직하게 1024 x 1024 데이타 픽셀을 갖는다.The polymer system described in this patent has a great advantage, when the subsequent hologram is recorded, more than three, preferably more than 50, more preferably more than 100 information is stored in the storage medium in relation to the previous hologram without being erased. More preferably, more than 500 holograms, more preferably more than 1000 holograms, can be recorded in one place on the storage medium. The storage object is a data page generated by the transmission of the liquid crystal display. This data page has 256 x 256 pixels, preferably 512 x 512 pixels, preferably 1024 x 1024 data pixels.

또한, 본 발명은 전자기선과 상호작용하는 하나 이상의 원자단 및 임의로 1종 이상의 형상 이방성 원자단을 함유하는 고분자 또는 올리고머 비결정질 유기 재료로 구성된, 광학 밀도가 2 이하, 바람직하게 1 이하, 더욱 바람직하게 0.3 이하인 것을 특징으로 하는 홀로그래피 체적형 저장 매체용 기록 재료를 제공한다. 기록 재료는 바람직하게 다층 구조인 자립형 필름의 형태로 데이타 저장하는데 사용될 수 있다. 다층 구조는 예를 들어 실제 기록 매체가 하나 이상의 기판에 의해 둘러싸여 있는 샌드위치이다. 기판은 광학 고품질의 투명 매체, 예를 들어 유리판, 석영판 또는 폴리카르보네이트 판일 수 있다. 광학 고품질은 산란 효율, 즉그 샌드위치 구조에서 산란된 광과 입사광 간의 비율을 의미하며, 이는 10-4이상, 바람직하게 10-5이상, 더욱 바람직하게 10-6이상이다. 이러한 비율을 결정하기 위해, 샘플을 HeNe 레이저 빔에 노광시킬 수 있다. CCD 카메라에 의해 검출한다.In addition, the present invention has an optical density of 2 or less, preferably 1 or less, more preferably 0.3 or less, consisting of a polymer or oligomeric amorphous organic material containing one or more atomic groups and optionally one or more shaped anisotropic atomic groups that interact with electromagnetic radiation. A recording material for a holographic volumetric storage medium is provided. The recording material can be used for data storage in the form of a freestanding film, which is preferably a multilayer structure. The multilayer structure is, for example, a sandwich in which the actual recording medium is surrounded by one or more substrates. The substrate may be an optical high quality transparent medium, for example a glass plate, a quartz plate or a polycarbonate plate. Optical high quality means scattering efficiency, ie the ratio between the scattered light and the incident light in its sandwich structure, which is at least 10 −4 , preferably at least 10 −5 , more preferably at least 10 −6 . To determine this ratio, the sample can be exposed to a HeNe laser beam. It is detected by a CCD camera.

<실시예 1><Example 1>

단량체의 제조:Preparation of Monomers:

a) 4-(2-히드록시에틸옥시)벤조산a) 4- (2-hydroxyethyloxy) benzoic acid

138 g의 p-히드록시벤조산 및 0.5 g의 KI를 350 ml의 에탄올에 교반하면서 넣었다. 150 ml의 물 중 150 g의 KOH의 용액을 적가하였다. 88.6 g의 에틸렌클로로히드린을 30 내지 60 ℃에서 30 분에 걸쳐 적가하였다. 반응 혼합물을 환류하에서 15 시간 동안 교반하였다. 이어서 용매를 먼저 정압하에 그리고 진공하에서 완전히 증류제거하였다. 잔류물을 1 l의 물에 용해하고 HCl을 사용하여 산성화시켰다. 침전물을 흡입여과하고, 1.8 l의 물로부터 재결정시켰다. 생성물을 건조시키고 에탄올로부터 2회 재결정하였다. 수득량은 46 g (이론값 수득량의 25 %)이었다. M. p. 179.5 ℃.138 g of p-hydroxybenzoic acid and 0.5 g of KI were added to 350 ml of ethanol with stirring. A solution of 150 g KOH in 150 ml water was added dropwise. 88.6 g of ethylenechlorohydrin were added dropwise at 30 to 60 ° C. over 30 minutes. The reaction mixture was stirred at reflux for 15 h. The solvent was then completely distilled off first under constant pressure and under vacuum. The residue was dissolved in 1 l of water and acidified with HCl. The precipitate was suction filtered and recrystallized from 1.8 l of water. The product was dried and recrystallized twice from ethanol. The yield was 46 g (25% of theoretical yield). M. p. 179.5 ° C.

b) 4-(2-메타크릴로일옥시에틸옥시) 벤조산b) 4- (2-methacryloyloxyethyloxy) benzoic acid

150 ml의 클로로포름 중 45 g의 4-(2-히드록시에틸옥시)벤조산, 180 ml의 메타크릴산, 10 g의 p-톨루엔술폰산 및 10 g의 히드로퀴논을 환류하에서 교반하면서 가열하였다. 반응 동안에 형성된 물은 물 분리기로 분리제거하였다. 반응 혼합물을 150 ml의 클로로포름으로 희석하고, 매번 100 ml의 물을 사용하여 여러번 세척하고, Na2SO4상에서 건조하였다. 건조제를 여과제거하고, 클로로포름을 회전식 증발기 중에서 2/3 까지 증류제거하였다. 침전 생성물을 흡입여과하고, 이소프로판올로부터 2회 재결정하였다. 수득량은 28 g (이론값 수득량의 45 %)이었다. M. p. 146 ℃.45 g of 4- (2-hydroxyethyloxy) benzoic acid, 180 ml of methacrylic acid, 10 g of p-toluenesulfonic acid and 10 g of hydroquinone in 150 ml of chloroform were heated with stirring under reflux. Water formed during the reaction was separated off with a water separator. The reaction mixture was diluted with 150 ml of chloroform, washed several times with 100 ml of water each time and dried over Na 2 S0 4 . The desiccant was filtered off and the chloroform was distilled off to 2/3 in a rotary evaporator. The precipitated product was suction filtered and recrystallized twice from isopropanol. The yield was 28 g (45% of theoretical yield). M. p. 146 ° C.

c) 4-(2-메타크릴로일옥시에틸옥시) 벤조산 클로라이드c) 4- (2-methacryloyloxyethyloxy) benzoic acid chloride

25 g의 4-(2-메타크릴로일옥시에틸옥시)벤조산, 80 ml의 티오닐 클로라이드 및 0.5 ml의 DMF를 실온에서 30 분 동안 교반하였다. 이어서, 과량의 티오닐 클로라이드를 온화한 진공에 이어 높은 진공하에서 증류하였다. 이어서, 사실상 정량적인 수득량으로 형성된 산 염화물을 실온에서 천천히 결정화시켰다.25 g of 4- (2-methacryloyloxyethyloxy) benzoic acid, 80 ml thionyl chloride and 0.5 ml DMF were stirred at room temperature for 30 minutes. Excess thionyl chloride was then distilled off under mild vacuum followed by high vacuum. The acid chloride formed in virtually quantitative yield was then slowly crystallized at room temperature.

원소 분석 : C13H13ClO4(268.7)Elemental Analysis: C 13 H 13 ClO 4 (268.7)

이론값 : C 58.11; H 4.88; Cl 13.19 ;Theoretical: C 58.11; H 4.88; Cl 13.19;

측정값 : C 58.00; H 4.90; Cl 13.20Measured value: C 58.00; H 4.90; Cl 13.20

d) 4-피발리노일아미노-4'-아미노아조벤젠d) 4-pivalinoylamino-4'-aminoazobenzene

36 g의 4,4'-디아미노아조벤젠 및 62 g의 트리에틸아민을 400 ml의 THF에 넣었다. 100 ml의 THF 중 23.2 g의 피발산 클로라이드의 용액을 천천히 적가하였다. 실온에서 2 시간 동안 교반 후, 물을 반응 혼합물에 첨가하였다. 침전물을 여과하고 건조시켰다. 42 g의 생성물을 얻었다. 크로마토그래피 (실리카 겔; 톨루엔/에틸 아세테이트 1:1)에 의해 더 정제하였다. 수득량은 8 g이었다. M. p. 230 ℃.36 g of 4,4'-diaminoazobenzene and 62 g of triethylamine were added to 400 ml THF. A solution of 23.2 g pivalic chloride in 100 ml THF was slowly added dropwise. After stirring for 2 hours at room temperature, water was added to the reaction mixture. The precipitate was filtered off and dried. 42 g of the product were obtained. Further purification by chromatography (silica gel; toluene / ethyl acetate 1: 1). Yield was 8 g. M. p. 230 ° C.

e) 4-피발리노일아미노-4'-[p-(2-메타크릴로일옥시-에틸옥시) 벤조일아미노]아조벤젠e) 4-pivalinoylamino-4 '-[p- (2-methacryloyloxy-ethyloxy) benzoylamino] azobenzene

1 g의 4-피발리노일아미노-4'-아미노아조벤젠을 50 ℃에서 10 ml의 N-메틸-2-피롤리돈 (NMP)에 넣고, 50 ℃에서 1 ml의 NMP 중 1 g의 4-(2-메타크릴로일옥시에틸옥시)벤조산의 용액에 첨가하였다. 반응 혼합물을 이 온도에서 1 시간 동안 교반하고 냉각한 후, 200 ml의 물을 첨가하였다. 침전물을 여과제거하고 실온에서 30 ml의 메탄올 중에서 교반하였다. 모액을 여과하고 진공하에서 건조시켰다. 수득량은 1.2 g이었다. M. p. 194 ℃. λmax= 378 nm (DMF); ε = 37000 l/(mol*cm).1 g of 4-pivalinoylamino-4′-aminoazobenzene is placed in 10 ml of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) at 50 ° C. and 1 g of 4-g in 1 ml of NMP at 50 ° To a solution of (2-methacryloyloxyethyloxy) benzoic acid. The reaction mixture was stirred at this temperature for 1 hour and cooled before 200 ml of water was added. The precipitate was filtered off and stirred in 30 ml of methanol at room temperature. The mother liquor was filtered and dried under vacuum. Yield was 1.2 g. M. p. 194 ° C. λ max = 378 nm (DMF); ε = 37000 l / (mol * cm).

<실시예 2><Example 2>

a) 32 g의 N-벤조일-p-페닐렌디아민을 3 ℃ 내지 5 ℃에서 210 ml의 빙초산, 75 ml의 프로피온산 및 31 ml의 진한 염산의 혼합물에 넣었다. 50 g의 니트로실황산 (약 40 %)을 이 온도에서 1 시간에 걸쳐 적가하였다.a) 32 g of N-benzoyl-p-phenylenediamine was added to a mixture of 210 ml glacial acetic acid, 75 ml propionic acid and 31 ml concentrated hydrochloric acid at 3 ° C to 5 ° C. 50 g nitrosulfuric acid (about 40%) was added dropwise at this temperature over 1 hour.

b) 16 g의 m-톨루이딘을 130 ml의 빙초산에 용해하였다. 0 ℃ 내지 5 ℃에서 a)로부터의 디아조화물을 2 시간에 걸쳐 적가하였다. 혼합물을 밤새 실온에서교반하였다. 얻어진 염료를 흡입여과하고 550 ml의 물에 현탁시켰다. 소다를 사용하여 pH를 8.4로 조절하였다. 염료를 다시 흡입여과하고 이소프로판올로 세척하여 건조시켰다. 27 g (이론값 수율의 54.5 %)의 하기 화학식의 염료를 얻었다. 디메틸포름아미드 중 UV/VIS: λmax= 416 nmb) 16 g of m-toluidine was dissolved in 130 ml of glacial acetic acid. The diazoside from a) was added dropwise over 2 hours at 0 ° C to 5 ° C. The mixture was stirred overnight at room temperature. The dye obtained was suction filtered and suspended in 550 ml of water. The pH was adjusted to 8.4 using soda. The dye was again suction filtered and washed with isopropanol to dry. 27 g (54.5% of theory yield) of the following formula were obtained. UV / VIS in dimethylformamide: λ max = 416 nm

c) b)로부터의 5 g의 염료를 50 ℃에서 20 ml의 N-메틸피롤리돈에 용해하였다. 3.5 g의 화학식의 산 염화물을 첨가하였다. 혼합물을 50 ℃에서 1.5 시간 동안 교반하였다. 마지막으로, 20 ml의 물을 첨가하여 얻어진 염료를 흡입여과하였다. 이것을 50 ml의 이소프로판올과 함께 교반하여 흡입여과하고 건조시켰다. 6.2 g (이론값 수득량의 73.4 %)의 하기 화학식의 염료 단량체를 얻었다. 디메틸포름아미드 중 UV/VIS: λmax= 386 nmc) 5 g of the dye from b) were dissolved in 20 ml of N-methylpyrrolidone at 50 ° C. 3.5 g of chemical formula Acid chloride was added. The mixture was stirred at 50 ° C for 1.5 h. Finally, the dye obtained by adding 20 ml of water was suction filtered. It was stirred with 50 ml of isopropanol, filtered off by suction and dried. 6.2 g (73.4% of theoretical yield) of the dye monomer of the following formula were obtained. UV / VIS in dimethylformamide: λ max = 386 nm

하기 표의 염료 단량체들을 유사하게 제조하였다.The dye monomers in the following table were similarly prepared.

그라프트 중합체의 실시예Examples of Graft Polymers

네델란드 폭스홀 소재의 아베베 (Avebe)로부터의 전분 퍼펙트아밀 (Perfectamyl) A 4692 (86.3 %) 8.7 g을 86 ℃에서 60 ml의 물에 용해하였다. 여기에 1.5 g의 1 중량% 수성 FeSO4용액 및 6.1 g의 3 중량% 수성 H202용액의 혼합물을 첨가하였다. 86 ℃에서 15 분 동안 교반을 수행하였다. 이어서, 동일한 온도에서 12.5 g의 메틸 메타크릴레이트 및 4.1 g의 3 중량% 수성 H202용액 중 화학식의 염료 단량체 1.4 g을 90 분에 걸쳐 동시에 적가하였다. 동일한 온도에서 15 분이 더 지난 후, 0.105 g의 tert-부틸 히드로퍼옥시드를 첨가하고, 86 ℃에서 1 시간 더 교반하였다. 순황색 분산액을 100 ㎛ 폴리아미드 필터를 통해 여과하였다.8.7 g of starch Perfectamyl A 4692 (86.3%) from Avebe, Foxhole, The Netherlands was dissolved in 60 ml of water at 86 ° C. To this was added a mixture of 1.5 g 1 wt% aqueous FeSO 4 solution and 6.1 g 3 wt% aqueous H 2 O 2 solution. Stirring was performed at 86 ° C. for 15 minutes. The formula is then formulated in 12.5 g of methyl methacrylate and 4.1 g of 3 wt% aqueous H 2 0 2 solution at the same temperature. 1.4 g of the dye monomer of were added dropwise simultaneously over 90 minutes. After 15 minutes at the same temperature, 0.105 g tert-butyl hydroperoxide was added and stirred at 86 ° C. for 1 hour. The pure yellow dispersion was filtered through a 100 μm polyamide filter.

분산액을 물을 사용하여 1:10으로 희석하여 유리판에 도포하고 건조시켰다. 유리판 상의 연황색 투명 필름을, 스코트 (Schott)로부터의 KL 500 콜드 라이트 램프 (cold light lamp) (스팟 (spot) 직경 6 mm)을 사용한 편광으로 10 분 동안 조사하였다. 직교 편광자들 사이에서, 조사된 스팟은 어두운 배경에서 밝게 보였다.The dispersion was diluted 1:10 with water, applied to a glass plate and dried. The light yellow transparent film on the glass plate was irradiated for 10 minutes with polarization using a KL 500 cold light lamp (spot diameter 6 mm) from Schott. Among the orthogonal polarizers, the spot irradiated appeared bright on a dark background.

<실시예 3><Example 3>

블록 공중합에 의한 홀로그래피 재료의 제조Preparation of Holographic Materials by Block Copolymerization

10 g의 메틸 메타크릴레이트 중 0.314 g의 4-(2-메타크릴로일옥시에틸옥시)아조벤젠 (1 mol%)() 및 0.052 g의 2,2'-아조이소부티르산 니트릴의 용액을 유리 앰플 중에서 무수 아르곤으로 30 분 동안 헹구었다. 앰플을 고무 마개로 막고 60 ℃에서 7 일 동안 단련하였다. 투명한 중합체 기둥을 얻었다. 앰플을 깨뜨리고 깨진 유리를 제거하여 중합체 기둥을 단리할 수 있었다. 메틸 메타크릴레이트 잔류물을 제거하고 중합체 블록 내 응력을 완화시키기 위하여 60 ℃에서 2 주간 더 저장하였다.0.314 g 4- (2-methacryloyloxyethyloxy) azobenzene (1 mol%) in 10 g methyl methacrylate ( ) And 0.052 g of 2,2 '- azo-isobutyric acid was rinsed and a solution of the nitrile with dry argon for 30 minutes in a glass ampoule. The ampoules were covered with rubber stoppers and annealed at 60 ° C. for 7 days. A clear polymer column was obtained. The polymer pillar could be isolated by breaking the ampoule and removing the broken glass. Store at 60 ° C. for 2 more weeks to remove methyl methacrylate residues and relieve stress in the polymer block.

이렇게 얻어진 PAP 기둥을 정밀 공학 작업장에서 직경 17 mm, 두께 1.9 mm의 판으로 절단하고 폴리싱하였다. 판은 중요한 파장에서 하기와 같은 광학 밀도를 가졌다: OD (514 nm) =2.502; OD (532 nm) = 0.755; OD (568 nm) =0.052.The PAP column thus obtained was cut and polished into plates of diameter 17 mm and thickness 1.9 mm in a precision engineering workshop. The plate had the following optical densities at significant wavelengths: OD (514 nm) = 2.502; OD (532 nm) = 0.755; OD (568 nm) = 0.052.

유사한 방법으로, 아조 염료 함량이 10 몰%인 공중합체를 제조하였다. 유사한 방법으로, 화학식의 단량체 함량이 1 몰%이고 메틸 메타크릴레이트 함량이 99 몰%인 공중합체를 제조하였다.In a similar manner, copolymers having an azo dye content of 10 mol% were prepared. In a similar way, the chemical formula A copolymer having a monomer content of 1 mol% and a methyl methacrylate content of 99 mol% was prepared.

<실시예 4><Example 4>

실시예 3으로부터의 중합체를 용액으로부터의 스핀 코팅에 의해 두께가 150 ㎛인 유리 기판에 도포하였다. 기판의 중앙에 위치한 측정점에서의 층 두께는 600 nm이었다. 중합체 층의 반사 지수 n을 프리즘 커플링법에 의해 3 개의 공간 방향 x, y (층에 수평) 및 z (층에 수직)에 대하여 결정하였다. 이를 위해, 프리즘의 기저부를 중합체 층과 가깝게 접촉하도록 하였다. 레이저의 편광이 중합체 층에 커플링되고 도파관과 같은 방식으로 층을 통과하는 각도는 그 광 파장에서의 반사 지수에 대한 정보를 제공한다. 매 커플링은 반사 중 검출기에서의 신호 저하로서 명확히 알 수 있다.The polymer from Example 3 was applied to a glass substrate having a thickness of 150 μm by spin coating from a solution. The layer thickness at the measurement point located in the center of the substrate was 600 nm. The reflection index n of the polymer layer was determined for three spatial directions x, y (horizontal to the layer) and z (perpendicular to the layer) by the prism coupling method. To this end, the base of the prism was brought into close contact with the polymer layer. The angle at which the polarization of the laser couples to the polymer layer and passes through the layer in a waveguide-like manner provides information about the index of reflection at that light wavelength. Every coupling is clearly seen as a signal degradation at the detector during reflection.

레이저의 편광이 입사면에 수직일 경우 (s-편광), 편광 방향의 반사 지수를결정할 수 있다. 기판의 배향에 따라, nx및 ny값을 결정할 수 있다. 낮은 반사 지수를 갖는 기판의 지수, 프리즘의 지수 및 레이저 파장 (λ= 633 nm)를 계산에 포함시킨다. 입사면으로 편광되는 경우 (p-편광), nz값을 결정할 수 있다. 이를 위해, 두 개의 공간 방향 x 또는 y중 하나가 반드시 입사면에 일치하여야 하였다. 추가적으로, 이렇게 선택된 방향의 반사 지수 (nx또는 ny)도 계산에 포함한다.When the polarization of the laser is perpendicular to the plane of incidence (s-polarization), the reflection index in the polarization direction can be determined. Depending on the orientation of the substrate, the n x and n y values can be determined. The index of the substrate with the low index of reflection, the index of the prism and the laser wavelength (λ = 633 nm) are included in the calculation. When polarized to the plane of incidence (p-polarized light), the value of n z can be determined. For this purpose, one of the two spatial directions x or y must match the plane of incidence. In addition, the index of reflection (n x or n y ) in this selected direction is also included in the calculation.

반사 지수 nx,ny및 nz는 몇몇 노광 및 소거 (cancellation) 공정 전, 그 동안 및 그 후에 결정되었다. 노광은 수직 입사로 파장 λ= 514 nm의 레이저 광으로 중합체 층을 조사시킴으로써 수행되었다. 광 출력은 200 mW/cm2이었다. 광은 x 방향으로 선형 편광되었다. xy 평면에서 유도된 배향 이방계의 소거는 y 방향의 편광시에 발생한다.Reflection indices n x , n y and n z were determined before, during and after some exposure and cancellation processes. The exposure was performed by irradiating the polymer layer with laser light of wavelength λ = 514 nm at normal incidence. The light output was 200 mW / cm 2 . The light was linearly polarized in the x direction. Erase of the orientation anisotropy induced in the xy plane occurs upon polarization in the y direction.

샘플Sample λ= 633 nm에서의 반사 지수reflection index at λ = 633 nm nx n x ny n y nz n z 비처리Untreated 1.6921.692 1.6921.692 1.6271.627 200초간 노광 후After exposure for 200 seconds 1.6571.657 1.7211.721 1.6821.682 500초간 노광 후After exposure for 500 seconds 1.6261.626 1.7321.732 1.7001.700 5000초간 노광 후After exposure for 5000 seconds 1.5961.596 1.7461.746 1.7161.716 1차 소거 후After the first erase 1.6721.672 1.6751.675 1.7231.723 2차 노광 후 (5000 초)After secondary exposure (5000 seconds) 1.5881.588 1.7211.721 1.7301.730 2차 소거 후After secondary erasure 1.6501.650 1.6511.651 1.7351.735

각 공간 방향의 반사 지수의 수준은 그 방향으로 배향된 발색단의 평균 수의 척도인데, 이는 입사 편광과 관련되었으며 주로 각 분자 축을 따라 높은 분자 편광성으로 구성되었기 때문이었다. nx및 ny는 원래 동일하기 때문에, xy 평면에서는 거시적으로 등방성으로 분배되었다. 작은 nz값은 평면 분자 배향을 나타내고, 이는 제조 공정에 의한 것이었다. 첫번째 노광으로 인해 x 방향에 놓여 있는 발색단의 수가 감소하면서 점차적으로 배향 분포되었다. 그 방향에서의 고갈 (depletion)은 증가하는 ny및 nz값으로부터 읽고자하는 다른 두 개의 공간 방향 y 및 z를 위해 동일한 부분에서 랜덤하게 발생하였다. 필름 평면에서 이중 반사 ny-nx는 거의 완전하게 다시 소거될 수 있었다. 그러나, 노광 공정 또는 소거 공정을 더 수행하면 z 방향으로 배향된 발색단의 수는 증가하였다.The level of reflection index in each spatial direction is a measure of the average number of chromophores oriented in that direction because it is related to incident polarization and consists mainly of high molecular polarization along each molecular axis. Since n x and n y were originally identical, they were distributed isotropically macroscopically in the xy plane. Small n z values indicate planar molecular orientation, which is due to the manufacturing process. Due to the first exposure, the number of chromophores lying in the x direction was gradually decreased in orientation distribution. Depletion in that direction occurred randomly in the same portion for the other two spatial directions y and z to read from increasing n y and n z values. In the film plane the double reflection n y -n x could be almost completely erased again. However, further performing the exposure process or the erase process increased the number of chromophores oriented in the z direction.

<실시예 5>Example 5

실시예 3으로부터의 중합체를 과립의 형태로 만들었다. 이를 유리판에 도포하고 약 180 ℃로 가열하였다. 이 온도에서, 중합체를 용융시켰다. 기판상에서 예를 들어 마일라 (mylar) 필름 또는 유리 섬유와 같은 스페이서 및 또다른 커버 글라스를 위치시키켰다. 유리-중합체-유리 샌드위치를 사용하여 20 내지 1000 ㎛ 범위의 층을 제조하였다.The polymer from Example 3 was made in the form of granules. It was applied to a glass plate and heated to about 180 ° C. At this temperature, the polymer was melted. The spacer and another cover glass, for example a mylar film or glass fiber, were placed on the substrate. Layers ranging from 20 to 1000 μm were prepared using glass-polymer-glass sandwiches.

<실시예 6><Example 6>

실시예 5의 방법에 의해 제조된 500 ㎛ 두께 중합체 필름의 홀로그래피 구조를 연구하였다. SHG Nd:YAG 레이저 (532 nm)를 기록원으로 사용하였다. 물체광의 빔 경로에는 1024 x 1024 픽셀의 데이타 마스크를 제공하는 스페이셜 라이트 모듈레이터 (Spatial Light Modulator)를 설치했다. 참조광 대 물체광의 강도비는 7:1이고, 샘플에서 총 출력 밀도는 200 mW/cm2이었다. 입사면에 대해 수직으로 편광되고, 각각 서로에 대해 40 °의 각도로 샘플에 비춰지며 30 초간 노광한 참조광 및물체광을 포갬으로써 홀로그램을 기록하였다. 이어서 홀로그램을 참조광에 단독 노광시킴으로써 (노광 시간 10 밀리초) 판독하였다. 참조광의 각도를 0.25 °변화시킴으로써, 브래그 (Bragg) 상태가 깨어지고 원래 홀로그램이 더이상 보이지 않았다. 새로운 홀로그램은 새로운 각도 구성하에 기록되었다. 이 공정을 100회 반복하였다. 각 기록 공정 후, 상응하는 참조 각을 조절함으로써 방금 기록된 홀로그램 뿐만 아니라 이전에 기록된 모든 홀로그램을 판독하였다. 100 회 기록 공정 후에도, 모든 홀로그램의 정보가 유지되었다.The holographic structure of the 500 μm thick polymer film prepared by the method of Example 5 was studied. SHG Nd: YAG laser (532 nm) was used as the recording source. In the beam path of the object light, a spatial light modulator is provided that provides a data mask of 1024 x 1024 pixels. The intensity ratio of the reference light to the object light was 7: 1, and the total power density in the sample was 200 mW / cm 2 . The hologram was recorded by foaming the reference light and the object light, which were polarized perpendicularly to the plane of incidence, respectively, projected at an angle of 40 ° to each other and exposed for 30 seconds. The hologram was then read alone by exposure to reference light (10 milliseconds of exposure time). By varying the angle of the reference light by 0.25 °, the Bragg state was broken and the original hologram was no longer visible. The new hologram was recorded under a new angle configuration. This process was repeated 100 times. After each recording process, all previously recorded holograms were read as well as the hologram just recorded by adjusting the corresponding reference angle. Even after 100 recording processes, the information of all the holograms was maintained.

Claims (19)

홀로그램이 기록될 때 자신의 공간적 배열이 변하는 1종 이상의 염료 및, 임의로는 1종 이상의 형상-이방성 원자단을 함유하는, 한 시료 위치에 여러개의 홀로그램을 기록할 수 있는 특징의 홀로그래피 체적형 저장 매체용 기록 재료.For holographic volumetric storage media characterized by the ability to record multiple holograms at one sample location, containing one or more dyes, and optionally one or more shape-isotropic atoms, whose spatial arrangement changes when the hologram is recorded Recording material. 제1항에 있어서, 상기 1종 이상 존재하는 염료가, 그의 흡수 거동을 변화시키는 방식으로, 특히 화학광선에 대한 감도가 최초 홀로그램을 기록하기 전의 감도를 기준으로 바람직하게는 10 % 내지 100 %, 더욱 바람직하게는 50 % 내지 100 %, 가장 바람직하게 90 내지 100 % 저하되는 방식으로 그의 공간적 배열이 변하는 것임을 특징으로 하는 기록 재료.The method according to claim 1, wherein the dye present in at least one kind changes its absorption behavior, in particular, the sensitivity to actinic rays is preferably 10% to 100%, based on the sensitivity before recording the first hologram, More preferably 50% to 100%, most preferably 90% to 100%, so that its spatial arrangement changes. 제1항에 있어서, 상기 1종 이상 존재하는 염료가, 그의 흡수 거동을 변화시키는 방식으로, 특히 화학광선의 편광 방향에 수직인 방향으로 움직여, 염료의 분자 종축이 화학광선의 편광 방향과 10 °내지 90 °, 바람직하게는 50 ° 내지 90 °, 더욱 바람직하게는 75 °내지 90 °, 가장 바람직하게는 85 ° 내지 90 °의 각도를 이루어 염료의 화학광선에 대한 감도가 저하되는 방식으로 그의 공간적 배열이 변하는 것임을 특징으로 하는 기록 재료.The method according to claim 1, wherein the dye present in at least one kind is moved in such a manner as to change its absorption behavior, in particular in a direction perpendicular to the polarization direction of actinic rays, such that the molecular longitudinal axis of the dye is 10 ° from the polarization direction of actinic rays. At an angle of from 90 ° to 90 °, preferably from 50 ° to 90 °, more preferably from 75 ° to 90 °, most preferably from 85 ° to 90 °, in a manner that reduces the sensitivity of the dye to actinic rays. A recording material, characterized in that the arrangement changes. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 광학 밀도가 2 이하, 바람직하게는 1 이하, 더욱 바람직하게는 0.3 이하이고, 파장 범위가 390 내지 800 nm, 바람직하게는 400 내지 650 nm, 더욱 바람직하게는 510 내지 570 nm, 가장 바람직하게는 520 내지 570 nm인 것을 특징으로 하는 기록 재료.The optical density according to any one of claims 1 to 3, wherein the optical density is 2 or less, preferably 1 or less, more preferably 0.3 or less, and the wavelength range is 390 to 800 nm, preferably 400 to 650 nm, More preferably, it is 510-570 nm, Most preferably, it is 520-570 nm. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 조사 두께가 0.1 mm 이상, 바람직하게는 0.5 mm 초과, 더욱 바람직하게는 1.0 mm 초과, 가장 바람직하게는 5 cm 이하인 것을 특징으로 하는 기록 재료.The recording material according to any one of claims 1 to 4, wherein the irradiation thickness is 0.1 mm or more, preferably more than 0.5 mm, more preferably more than 1.0 mm, most preferably 5 cm or less. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 고분자 유기 재료 또는 올리고머 유기 재료를 주로 함유하는 것을 특징으로 하는 기록 재료.The recording material according to any one of claims 1 to 5, which mainly contains a polymer organic material or an oligomeric organic material. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 기록 재료의 광학 밀도를 바람직하게는 1종 이상 존재하는 염료의 농도를 통해 조절하는 것을 특징으로 하는 기록 재료.7. The recording material according to any one of claims 1 to 6, wherein the optical density of the recording material is adjusted via a concentration of a dye, which preferably exists at least one. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 광학 밀도를 1종 이상 존재하는 염료의 몰 흡광계수를 통해 조절하는 것을 특징으로 하는 기록 재료.8. The recording material according to any one of claims 1 to 7, wherein the optical density is adjusted through a molar extinction coefficient of at least one dye present. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 고분자 비결정성 유기 재료 또는 올리고머 비결정성 유기 재료, 바람직하게는 측쇄형 중합체 및(또는) 블록 공중합체 및(또는) 그라프트 중합체인 것을 특징으로 하는 기록 재료.The process according to any of the preceding claims, characterized in that it is a polymeric amorphous organic material or an oligomeric amorphous organic material, preferably branched polymers and / or block copolymers and / or graft polymers. Recording material. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 전자기선이 레이저의 파장 범위가 바람직하게는 390 내지 800 nm, 더욱 바람직하게는 400 내지 650 nm, 더욱 바람직하게는 510 내지 570 nm, 가장 바람직하게는 520 내지 570 nm의 광임을 특징으로 하는 기록 재료.The wavelength range of the electromagnetic beam of claim 1, wherein the wavelength of the laser is preferably 390-800 nm, more preferably 400-650 nm, more preferably 510-570 nm, most preferred. Preferably 520-570 nm light. 저장 재료의 한 위치에 3개 이상, 바람직하게는 100 개 초과, 더욱 바람직하게는 500 개 초과, 가장 바람직하게는 1000 개 초과의 체적형 홀로그램의 기록, 특히 각도-의존형 기록에서의, 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 기록 재료의 용도.Claim 1, in the recording of at least three, preferably more than 100, more preferably more than 500 and most preferably more than 1000 volumetric holograms, in particular angle-dependent recording, in one location of the storage material Use of the recording material according to any one of claims 10 to 10. 체적형 홀로그램의 판독에서, 특히 각도-의존형 판독에서의, 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 기록 재료의 용도.Use of a recording material according to any of the preceding claims in the reading of volumetric holograms, in particular in angle-dependent reading. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 기록 재료를 함유하는 것을 특징으로 하는 홀로그래피 체적형 저장 매체.A holographic volume storage medium comprising the recording material according to any one of claims 1 to 10. 제13항에 있어서, 기록 재료가 임의의 목적하는 형태, 바람직하게는 하나 이상의 기재층을 갖는 다층 구조에 함유된, 바람직하게는 비지지형 2차원 구조, 더욱바람직하게는 비지지형 필름 형태의 비지지형 물체 하나 이상을 함유하는 것을 특징으로 하는 홀로그래피 체적형 저장 매체.14. The unsupported film of claim 13, wherein the recording material is contained in any desired form, preferably in a multilayer structure having one or more substrate layers, preferably an unsupported two-dimensional structure, more preferably in the form of an unsupported film. A holographic volumetric storage medium containing one or more objects. 통상의 주입-성형 공정에 따라 300 ℃ 이하, 바람직하게 220 ℃ 이하, 더욱 바람직하게 180 ℃ 이하의 범위에서 수행되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 제13항 또는 제14항에 따른 홀로그래피 체적형 저장 매체의 제조 방법.The holographic volume according to claim 13 or 14, characterized in that it comprises the step carried out in the range of 300 ° C. or less, preferably 220 ° C. or less, more preferably 180 ° C. or less according to a conventional injection-molding process. Method of Making Storage Media. 하기 화학식 I의 화학적으로 결합된 염료를 갖는 중합체.A polymer having a chemically bound dye of formula (I) <화학식 I><Formula I> 상기 식에서,Where R1및 R2는 각각 서로 독립적으로 수소 또는 비이온성 치환기를 나타내고,R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen or nonionic substituent, R1은 추가로 -X1'-R3을 나타낼 수 있고,R 1 may further represent -X 1 ' -R 3 , m 및 n은 각각 서로 독립적으로 0 내지 4, 바람직하게는 0 내지 2의 정수를 나타내고,m and n each independently represent an integer of 0 to 4, preferably 0 to 2, X1및 X2는 각각 -X1'-R3및 X2'-R4를 나타내고,X 1 and X 2 each represent —X 1 ′ —R 3 and X 2 ′ —R 4 , X1'및 X2'는 직접 결합, -O-, -S-, -(N-R5)-, -C(R6R7)-, -(C=O)-, -(CO-O)-, -(CO-NR5)-, -(SO2)-, -(SO2-O)-, -(SO2-NR5)-, -(C=NR8)- 또는 -(CNR8-NR5)-를 나타내고,X 1 ' and X 2' are a direct bond, -O-, -S-,-(NR 5 )-, -C (R 6 R 7 )-,-(C = O)-,-(CO-O) -,-(CO-NR 5 )-,-(SO 2 )-,-(SO 2 -O)-,-(SO 2 -NR 5 )-,-(C = NR 8 )-or-(CNR 8 -NR 5 )-, R3, R4, R5및 R8은 각각 서로 독립적으로 수소, C1-C20-알킬, C3-C10-시클로알킬, C2-C20-알케닐, C6-C10-아릴, C1-C20-알킬-(C=O)-, C3-C10-시클로알킬-(C=O)-, C2-C20-알케닐-(C=O)-, C6-C10-아릴-(C=O)-, C1-C20-알킬-(SO2)-, C3-C10-시클로알킬-(SO2)-, C2-C20-알케닐-(SO2)- 또는 C6-C10-아릴-(SO2)-를 나타내거나, 또는R 3 , R 4 , R 5 and R 8 are each independently of each other hydrogen, C 1 -C 20 -alkyl, C 3 -C 10 -cycloalkyl, C 2 -C 20 -alkenyl, C 6 -C 10- Aryl, C 1 -C 20 -alkyl- (C═O)-, C 3 -C 10 -cycloalkyl- (C═O)-, C 2 -C 20 -alkenyl- (C═O)-, C 6- C 10 -aryl- (C═O)-, C 1 -C 20 -alkyl- (SO 2 )-, C 3 -C 10 -cycloalkyl- (SO 2 )-, C 2 -C 20 -al alkenyl - (SO 2) - or C 6 -C 10 - aryl - (SO 2) -, or represent, or -X1'-R3및 X2'-R4는 수소, 할로겐, 시아노, 니트로, CF3또는 CCl3을 나타낼 수 있고,-X 1 ' -R 3 and X 2' -R 4 can represent hydrogen, halogen, cyano, nitro, CF 3 or CCl 3 , R6및 R7은 각각 서로 독립적으로 수소, 할로겐, C1-C20-알킬, C1-C20-알콕시, C3-C10-시클로알킬, C2-C20-알케닐 또는 C6-C10-아릴을 나타낸다.R 6 and R 7 are each independently of each other hydrogen, halogen, C 1 -C 20 -alkyl, C 1 -C 20 -alkoxy, C 3 -C 10 -cycloalkyl, C 2 -C 20 -alkenyl or C 6 -C 10 -aryl. 제16항에 있어서, 하기 화학식 II의 단량체를 하나 이상 함유하는 것을 특징으로 하는 중합체.The polymer of claim 16 containing at least one monomer of formula (II). <화학식 II><Formula II> 상기 식에서,Where R은 수소 또는 메틸을 나타내고,R represents hydrogen or methyl, 다른 라디칼은 상기 정의된 바와 같다.The other radicals are as defined above. 제16항 또는 제17항에 있어서, 화학식 IIa 및(또는) IIb의 단량체를 하나 이상 함유하는 것을 특징으로 하는 중합체.18. The polymer of claim 16 or 17, which contains at least one monomer of formula (IIa) and / or (IIb). 1종 이상 존재하는 단량체가 추가의 용매 없이 중합 반응, 바람직하게는 자유 라디칼 중합 반응, 더욱 바람직하게는 자유 라디칼 개시제 및(또는) UV 광 및(또는) 열에 의해 개시되는 자유 라디칼 중합 반응함을 특징으로 하는, 제1항 또는 제10항 중 어느 한 항에 따른 기록 재료 또는 제16 내지 18항에 따른 중합체의 제조 방법.Characterized in that at least one monomer present is polymerised, preferably free radical polymerization, more preferably free radical initiator and / or free radical polymerization initiated by UV light and / or heat without further solvent. The manufacturing method of the recording material of any one of Claims 1-10, or the polymer of Claims 16-18.
KR1020017011356A 1999-03-08 2000-02-24 Holographic Recording Material KR20020002401A (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19910247.3 1999-03-08
DE19910247A DE19910247A1 (en) 1999-03-08 1999-03-08 New holographic recording material
PCT/EP2000/001500 WO2000054112A1 (en) 1999-03-08 2000-02-24 Holographic recording material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20020002401A true KR20020002401A (en) 2002-01-09

Family

ID=7900185

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020017011356A KR20020002401A (en) 1999-03-08 2000-02-24 Holographic Recording Material

Country Status (8)

Country Link
EP (1) EP1166187A1 (en)
JP (1) JP2002539476A (en)
KR (1) KR20020002401A (en)
AU (1) AU3159900A (en)
CA (1) CA2366846A1 (en)
DE (1) DE19910247A1 (en)
TW (1) TWI261153B (en)
WO (1) WO2000054112A1 (en)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19947579A1 (en) * 1999-10-01 2001-04-12 Bayer Ag Digital optical data storage method
DE10027153A1 (en) * 2000-05-31 2001-12-06 Bayer Ag Block polymer, useful for optical elements and data storage contains a block comprising at least 3 repeating units not containing photoisomerizable groups and a block containing STQP groups
DE10039374A1 (en) * 2000-08-11 2002-02-21 Eml Europ Media Lab Gmbh Holographic data storage
CA2461570C (en) 2001-09-27 2010-09-14 Bayer Aktiengesellschaft Rewriteable optical recording material having good solubility
JP4649821B2 (en) 2002-06-07 2011-03-16 富士ゼロックス株式会社 Polyester, optical recording medium, and optical recording / reproducing apparatus
WO2006016725A1 (en) 2004-08-13 2006-02-16 National Institute Of Advanced Industrial Scienceand Technology Photosensitive heterocyclic azo compound, process for producing the same, and optical information recording medium
JP4649158B2 (en) * 2004-09-30 2011-03-09 富士フイルム株式会社 Hologram recording method
US7897296B2 (en) 2004-09-30 2011-03-01 General Electric Company Method for holographic storage
JP4936048B2 (en) 2006-07-11 2012-05-23 日東電工株式会社 Polyfunctional compound, optical recording material, optical recording medium, optical recording / reproducing apparatus, optical waveguide material, and optical alignment film material
JP4888766B2 (en) 2006-07-11 2012-02-29 日東電工株式会社 Method for producing polyfunctional compound
KR100927853B1 (en) 2006-11-24 2009-11-23 주식회사 엘지화학 Dichroic dye for color filter, color filter formation composition comprising same, and color filter array substrate made therefrom
WO2024005139A1 (en) * 2022-06-30 2024-01-04 三菱ケミカル株式会社 Method for producing optical element

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4339862A1 (en) * 1993-03-30 1994-10-06 Agfa Gevaert Ag Flat structures made of side group polymers
US5496670A (en) * 1993-08-30 1996-03-05 Riso National Laboratory Optical storage medium
DE4431823A1 (en) * 1994-09-07 1996-03-14 Bayer Ag Process for enhancing information in photoaddressable side chain polymers
DE19703132A1 (en) * 1997-01-29 1998-07-30 Bayer Ag Polymer with high inducible birefringence undergoing very rapid permanent change on intensive irradiation
DE19720288A1 (en) * 1997-05-15 1998-11-19 Bayer Ag Homopolymers with high photo-inducible birefringence

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002539476A (en) 2002-11-19
TWI261153B (en) 2006-09-01
AU3159900A (en) 2000-09-28
WO2000054112A1 (en) 2000-09-14
CA2366846A1 (en) 2000-09-14
EP1166187A1 (en) 2002-01-02
DE19910247A1 (en) 2000-09-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2255935C (en) Photo-addressable substrates and photo-addressable side-group polymers with highly inducible double refraction
JP3626224B2 (en) Flat plate material made from side chain polymer
US5641846A (en) Side-group polymers, and their use for optical components
KR100514567B1 (en) Photoaddressable side group polymers of high sensitivity
KR100785990B1 (en) Block copolymers for optical data storage
KR100774779B1 (en) Copolymers for optical data storage
KR100525700B1 (en) Homopolymers with High Photoinduceable Double Refraction
US7022460B2 (en) Erasable optical recording material for blue lasers
KR20020002401A (en) Holographic Recording Material
KR20010103044A (en) Holographic Recording Material
US3668663A (en) Optical storage devices
CA2461570C (en) Rewriteable optical recording material having good solubility
JPH10212324A (en) Highly inducible birefringent photoaddressable side chain polymer
JP4348446B2 (en) Hologram recording medium
KR100940612B1 (en) Reinscribable Optical Recording Material Exhibiting Good Solubility
KR100472886B1 (en) Photo-Addressable Substrates and Photo-Addressable Side-Group Polymers with Highly Inducible Double Refraction
Kim et al. Photopolymers containing epoxy monomers for holographic recording
DE19703132A1 (en) Polymer with high inducible birefringence undergoing very rapid permanent change on intensive irradiation
Shishido et al. Rewritable Bragg holograms of azobenzene polymers with fast response
Ikeda et al. A simple formulation for rewritable Bragg holograms with angle and polarization multiplicity
DE19706379A1 (en) Polymer with high inducible birefringence undergoing very rapid permanent change on intensive irradiation

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
NORF Unpaid initial registration fee