JP2002539476A - Holographic recording material - Google Patents

Holographic recording material

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JP2002539476A JP2000604276A JP2000604276A JP2002539476A JP 2002539476 A JP2002539476 A JP 2002539476A JP 2000604276 A JP2000604276 A JP 2000604276A JP 2000604276 A JP2000604276 A JP 2000604276A JP 2002539476 A JP2002539476 A JP 2002539476A
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dye
recording
light
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Abstract

(57)【要約】 本発明は光アドレス可能ポリマーの分野で用いるに適した新規なホログラフィック記録材料に関する。   (57) [Summary] The present invention relates to novel holographic recording materials suitable for use in the field of photoaddressable polymers.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 本発明は、ホログラフィック多量記憶媒体(holographic vol
ume storage medium)用記録材料、それの製造、そしてそれ
を多量ホログラムの記録で用いることに関する。
[0001] The present invention relates to a holographic mass storage medium.
The present invention relates to a recording material for a medium storage medium, its production, and its use in recording large quantities of holograms.

【0002】 ホログラフィーは、2種類の可干渉性光線(coherent light
beams)[信号波と参照波]の間の干渉を用いて物体の画像を適切な記憶材
料に生じさせることができそしてその画像を再び光(読み取り光線)を用いて読
み取ることができる方法である(D.Gabor,Nature 151,54
5(1948),N.H.Farath,Advances in Holog
raphy,3巻,Marcel Decker(1977),H.M.Smi
th,Holographic Recording Materials,S
pringer(1977))。一方では信号波と参照波の間の角度を変えそし
て他方ではホログラフィック記憶材料を変えることを通して数多くのホログラム
を前記材料の中の1つの同じ標本位置(specimen position)
に書き込むことができそして最終的にまた再び個別に読み取ることもできる。用
いられる可干渉光源は一般にレーザーの光である。そのような記憶材料として非
常に幅広く多様な材料が記述されており、例えば無機結晶、例えばLiNbO3
(例えば)など、有機ポリマー(例えばM.Eich,J.H.Wendorf
f,Makromol.Chem.,Rapid Commun.8,467(
1987),J.H.Wendorff,M.Eich,Mol.Cryst.
Liq.Cryst.169,133(1989))またはフォトポリマー(p
hotopolymers)(Uh−Sock Rhee他,Applied
Optics,34(5),846(1995))が記述されている。
[0002] Holography uses two types of coherent light.
beams) A method in which an image of an object can be generated on a suitable storage material using the interference between the [signal wave and the reference wave] and the image can be read again using light (reading light). (D. Gabor, Nature 151, 54
5 (1948); H. Farath, Advances in Holog
Raphy, Vol. 3, Marcel Decker (1977), H.C. M. Smi
th, Holographic Recording Materials, S
springer (1977)). On the one hand, by changing the angle between the signal wave and the reference wave and, on the other hand, by changing the holographic storage material, a number of holograms are transferred to one and the same specimen position in said material.
Can be written to and finally read again individually. The coherent light source used is generally laser light. A very wide variety of materials have been described as such storage materials, for example inorganic crystals, for example LiNbO 3
Organic polymers (eg, M. Eich, JH Wendorf).
f, Makromol. Chem., Rapid Commun. 8,467 (
1987); H. Wendorff, M .; Eich, Mol. Cryst.
Liq. Cryst. 169, 133 (1989)) or a photopolymer (p
photopolymers) (Uh-Sock Rhee et al., Applied
Optics, 34 (5), 846 (1995)).

【0003】 しかしながら、そのような材料はまだホログラフィック記憶媒体に要求されて
いる必要条件を必ずしも全部満たしてはいない。特に、記録されたホログラムの
安定性が充分ではない。複数記録(multiple recording)は
可能であるとしても一般に限られた度合のみである、と言うのは、新しいホログ
ラムを記録する時に既に記録されていたホログラムの上に書き込みが成されてい
ることでそれが消去される。このことは特に無機結晶に当てはまり、無機結晶の
場合には、そのような安定性の問題を補う目的でそれに複雑な熱処理を受けさせ
ることが行われている。他方、フォトポリマーは収縮に問題を示し、収縮が起こ
るとホログラフィック画像形成特性に悪影響が生じる。
However, such materials do not yet meet all the requirements required for holographic storage media. In particular, the stability of the recorded hologram is not sufficient. Multiple recording, if possible, is generally, if at all, only to a limited degree, because when a new hologram is recorded, it is written over a hologram that has already been recorded. Is erased. This is especially true for inorganic crystals, which have been subjected to complex heat treatments to compensate for such stability problems. Photopolymers, on the other hand, exhibit problems with shrinkage, which can adversely affect holographic imaging properties.

【0004】 また、記録されたホログラムが高い度合の安定性を示す材料も例えばEP 0
704 513(LeA 30655)およびドイツ出願DE−A−1970
3132(LeA 31821)(まだ公開されていない)から公知である。
Further, a material in which a recorded hologram exhibits a high degree of stability is also used, for example, in EP 0
704 513 (LeA 30655) and German application DE-A-1970
3132 (LeA 31821) (not yet published).

【0005】 しかしながら、そのような材料は高い光密度を有することから、そのような材
料を用いて数多くのホログラムを記憶材料に記憶させようとする時に要求される
如きホログラフィック多量記憶媒体を製造するのは不可能である。
However, such materials have high optical densities, and such materials are used to produce holographic mass storage media as required when attempting to store a large number of holograms in a storage material. Is impossible.

【0006】 従って、充分に厚いホログラフィック多量記憶媒体の製造で用いるに適してお
りかつ記録材料の1つの標本位置に数多くのホログラムをそれらが長期の安定性
を示すような様式で記憶させることを可能にする材料が求められていた。今まで
に知られていた材料を用いたのでは、数多くのホログラムを1つの位置に次から
次に記憶させると、ホログラフィー的に記憶させた情報が次第に消去される:即
ち後で記録させたホログラムが以前に記録させておいたホログラムの構築で用い
られた分子と同じ分子をアドレス指定(addressed)し、その結果とし
て、ほんの数回のさらなる記録過程後に古い方のホログラムの情報が失われてし
まう。
[0006] It is therefore desirable to store a large number of holograms in one sample location of the recording material in a manner such that they exhibit long-term stability, which are suitable for use in the production of sufficiently thick holographic mass storage media. There was a need for a material that would enable it. With previously known materials, storing a large number of holograms in one location, one after the other, gradually erases the holographically stored information: holograms recorded later Addresses the same molecule that was used in the construction of the hologram previously recorded, resulting in the loss of information in the old hologram after only a few additional recording steps. .

【0007】 従って、本発明は、ホログラムを記録させた時に空間配置が変化する少なくと
も1種の染料を含有しかつ場合により少なくとも1種の形状異方性基(shap
e−anisotropic gouping)を含有していてもよいホログラ
フィック多量記憶媒体用記録材料を提供し、これは、1つの標本位置に2つ以上
のホログラムを記録することができることを特徴とする。
Therefore, the present invention comprises at least one dye whose spatial arrangement changes when a hologram is recorded and optionally at least one shape-anisotropic group (shap).
Provided is a recording material for a holographic mass storage medium, which may contain e-anisotropic grouping, characterized in that two or more holograms can be recorded at one sample position.

【0008】 これを、好適には、電磁放射線によってもはや励起しなくなり得る、即ち吸光
挙動(absorption behaviour)が変化、特に化学光線に対
する感度が各場合とも1番目のホログラムの記録を行う前の感度を基準にして低
下、好適には10%から100%低下、より好適には50%から100%低下、
最も好適には90%から100%低下するような様式で空間配置が変化する染料
を少なくとも1種類存在させる染料の中の染料にすることで行う。
This can preferably be such that it can no longer be excited by electromagnetic radiation, ie the absorption behavior changes, in particular the sensitivity to actinic light before the recording of the first hologram in each case. Reduction on a basis, preferably 10% to 100% reduction, more preferably 50% to 100% reduction,
It is most preferably carried out by making the dye in the at least one dye whose spatial arrangement changes in such a manner as to reduce it by 90% to 100%.

【0009】 しかしながら、前記染料はまた吸光挙動も低下し、特に化学光線に対する感度
が、それが前記化学光線の偏光方向に垂直な方向に素早く動い(flips)て
分子の縦方向軸が前記化学光線の偏光方向に対して10゜から90゜、好適には
50゜から90゜、より好適には75゜から90゜、最も好適には85゜から9
0゜の角度に位置するようになる点で低下し得る。
However, the dye also has a reduced absorption behavior, in particular its sensitivity to actinic radiation, as it is flipped in a direction perpendicular to the direction of polarization of the actinic light so that the longitudinal axis of the molecule is 10 ° to 90 °, preferably 50 ° to 90 °, more preferably 75 ° to 90 °, and most preferably 85 ° to 9 ° for the polarization direction of
It may decrease at the point where it comes to be located at an angle of 0 °.

【0010】 そのような様式で、1つの標本位置に数個のホログラムを記録させることを成
功裏に実施することが可能になる、即ち古いホログラムの情報が完全には消去さ
れないようにすることができる。
In such a manner, it is possible to successfully carry out recording several holograms at one sample position, ie to ensure that the information of the old hologram is not completely erased. it can.

【0011】 このようにホログラムを記録させる時の電磁放射線に関する励起挙動の変化は
、ポリマー状またはオリゴマー状非晶質有機材料の状態で空間配置の変化を起こ
す染料を用いることで達成可能である。
[0011] The change in the excitation behavior of electromagnetic radiation when a hologram is recorded as described above can be achieved by using a dye that causes a change in spatial arrangement in the state of a polymeric or oligomeric amorphous organic material.

【0012】 このような種類の材料を用いると、ホログラムを記録させる時に当該材料に以
前に既に記録させておいたホログラムが容認されないように消去されることも完
全な損傷を受けることも全体的に上書きされることさえも起こらないようにする
ことができる。
[0012] The use of these types of materials, when recording holograms, can result in holograms previously recorded on the material being unacceptably erased or completely damaged, as a whole. It can be prevented from even being overwritten.

【0013】 容認されない減衰(attenuation)は、測定技術の観点から、残存
する情報を背景ノイズに関してもはや解像することができなくなることを意味す
る。
Unacceptable attenuation means that, from a measurement technology point of view, the remaining information can no longer be resolved with respect to background noise.

【0014】 情報をホログラフィー的に記憶させる。この目的で、2種類の可干渉性偏光線
を標本上で干渉させる。
The information is stored holographically. For this purpose, two types of coherent polarized light are caused to interfere on the specimen.

【0015】 そのような染料は化学光線にさらされると結果としてポリマーもしくはオリゴ
マー層内でそれらの空間位置が変化する。露光時に分子の縦方向軸が前記2種類
の記録光線をつなぐことで作られる平面[入射面(incident plan
e)]の方向に配向する染料は、前記光線の偏光面が前記入射面に垂直に位置す
るならば、前記光線によってもはや励起しなくなり得る。記録過程中にそのよう
な染料に記録させた情報(ホログラム)は、次のホログラム記録過程中に起こる
変化に対して保護される。前記光線の偏光方向に対して完全には垂直にはならな
いで、前記偏光方向に対して90゜ではない角度θを形成する染料は、次のホロ
グラム露光中にさらなるアドレス指定を受ける。しかしながら、そのような染料
が再配向する確率、特にそのような染料が示す感光性は、分子の縦方向軸の角度
が90゜の位置に近くなればなるほど小さくなる。
[0015] Such dyes change their spatial position within the polymer or oligomer layer when exposed to actinic light. A plane [incident plane (incident plane)] formed by connecting the two types of recording light beams with the longitudinal axis of the molecule at the time of exposure.
e) a dye oriented in the direction of] can no longer be excited by the light beam if the plane of polarization of the light beam is perpendicular to the plane of incidence. Information (holograms) recorded on such dyes during the recording process is protected against changes that occur during the next hologram recording process. Dyes that are not perfectly perpendicular to the polarization direction of the light beam but form an angle θ that is not 90 ° to the polarization direction will be further addressed during the next hologram exposure. However, the probability of reorientation of such dyes, and in particular the photosensitivity of such dyes, decreases as the angle of the longitudinal axis of the molecule approaches the position of 90 °.

【0016】 分子の縦方向軸の決定は、例えば分子模型(molecular model
ling)(例えばCERIUS2)による分子形態(molecular f
orm)などで実施可能である。
The determination of the longitudinal axis of a molecule can be performed, for example, by using a molecular model (molecular model).
ling) (eg, CERIUS 2 )
orm).

【0017】 例えば偏光吸収分光測定(polarised absorption sp
ectroscopy)の調査:即ちUV/VIS分光計(例えばGARY 4
G、UV/VIS分光計)を用いて、当該染料の吸収スペクトル範囲内で前以て
化学光線に露光させておいたサンプルを2つの偏光子の間に位置させて試験する
ことなどで、染料が化学光線にさらされた後に再配向を起こすか否かの結果を得
る。前記偏光子を適切な位置、例えば交差する状態に位置させてサンプルをこの
サンプルの回りを直角に回転させた時に吸光度の強度がサンプルの角度の関数と
して変わると結果として前記染料が再配向を起こしたことになり、結果を明瞭に
測定することができる。
For example, polarized absorption spectroscopy (polarized absorption sp.
investigation: ie UV / VIS spectrometer (eg GARY 4)
G, UV / VIS spectrometer) by testing a sample previously exposed to actinic light within the absorption spectrum range of the dye by placing it between two polarizers. Will result in whether or not will undergo reorientation after exposure to actinic light. If the intensity of the absorbance changes as a function of the angle of the sample when the sample is rotated at right angles around the sample with the polarizer positioned in an appropriate position, e.g., crossed, the dye will reorient. This means that the results can be clearly measured.

【0018】 数個のホログラムを記録させようとする場合、いろいろな多重過程(mult
iplex processes)、例えば角多重化(angle multi
plexing)、波長多重化、位相多重化、シフト多重化、ペリストロフィッ
ク多重化(peristrophic multiplexing)などが存在
する。
When several holograms are to be recorded, various multiplexing processes (multiple holograms) are required.
iplex processes, such as angular multiplexing
plexing), wavelength multiplexing, phase multiplexing, shift multiplexing, peristrophic multiplexing, and the like.

【0019】 化学光線に対する感度の1つの尺度はホログラフィック感度である。これを、
例えばホログラフィック成長曲線(holographic growth c
urve)、即ち記録光線によって蓄えられたエネルギーの関数として生じる回
折効率(=読み取りレーザーの入射強度を基準にした回折強度)の曲線などから
計算する。この感度を、その蓄えられたエネルギーに応じた回折効率の根の勾配
(記憶媒体の厚みに対して標準化した)として定義する。
One measure of the sensitivity to actinic light is holographic sensitivity. this,
For example, a holographic growth curve (holographic growth c)
urve), that is, from a curve of diffraction efficiency (= diffraction intensity based on the incident intensity of the reading laser) which occurs as a function of the energy stored by the recording light beam. This sensitivity is defined as the root slope (normalized to the thickness of the storage medium) of the diffraction efficiency according to its stored energy.

【0020】 本発明は、記録レーザーの波長で≦2、好適には≦1、より好適には≦0.3
の光密度を有するホログラフィック多量記憶媒体用記録材料を提供する。このよ
うにして、化学光線が記憶媒体全体の均一な透照(transillumina
tion)をもたらすことを確保しかつ厚いホログラムを生じさせることができ
る。光密度の測定は商業的UV/VIS分光計(例えばCARY、4G、UV/
VIS分光計)を用いて実施可能である。
The present invention provides a recording laser having a wavelength of ≦ 2, preferably ≦ 1, more preferably ≦ 0.3.
Recording material for a holographic mass storage medium having an optical density of In this way, actinic light is transmitted uniformly through the storage medium.
and a thick hologram can be produced. The measurement of light density is performed using a commercial UV / VIS spectrometer (eg, CARY, 4G, UV / VIS).
(VIS spectrometer).

【0021】 本発明に従う記録材料は、好適には、照射厚(irradiated thi
ckness)が≧01.mm、より好適には≧0.5mm、更により好適には
≧1mm、最も好適には5cm以下の材料である。
[0021] The recording material according to the present invention is preferably irradiated thi.
ckness) ≧ 01. mm, more preferably ≧ 0.5 mm, even more preferably ≧ 1 mm, and most preferably 5 cm or less.

【0022】 電磁放射線と相互作用する基は染料である。従って、本発明に従う材料は少な
くとも1種類の染料を含有する。電磁放射線は好適にはレーザー光、好適には波
長の範囲が390から800nm、より好適には400から650nmの範囲、
最も好適には510から570nmの範囲のレーザー光である。
The group that interacts with electromagnetic radiation is a dye. Thus, the material according to the invention contains at least one dye. The electromagnetic radiation is preferably laser light, preferably in the wavelength range 390 to 800 nm, more preferably in the range 400 to 650 nm,
Most preferably, it is a laser beam in the range of 510 to 570 nm.

【0023】 読み取りでは、前記記録材料を2種類の可干渉光線に露光させる(記録光線の
場合のように)ことは行わず、1種類のみの光線、即ち読み取り光線に露光させ
る。
In reading, the recording material is not exposed to two types of coherent light (as is the case with recording light), but is exposed to only one type of light, the reading light.

【0024】 この読み取り光線の波長は、好適には、信号波および参照波の波長より長い波
長、例えば70から500nm長い波長である。しかしながら、また、記録レー
ザーの波長を用いて読み取りを行うことも可能であり、特に、ホログラフィック
多量記録媒体を商業的に用いる場合にはそれを用いる。しかしながら、この目的
で、読み取り過程では露光強度を低くするか或は露光時間を短くするか或は露光
強度を低くしかつ露光時間を短くすることで、読み取り光線のエネルギーを小さ
くする。
The wavelength of the reading light beam is preferably longer than the wavelengths of the signal wave and the reference wave, for example, 70 to 500 nm longer. However, it is also possible to read using the wavelength of the recording laser, especially when a holographic mass recording medium is used commercially. However, for this purpose, in the reading process, the energy of the reading light beam is reduced by lowering the exposure intensity or shortening the exposure time or reducing the exposure intensity and shortening the exposure time.

【0025】 本発明に従う記録材料の光密度の調整を下記の2つのパラメーターを用いて行
う: a)少なくとも1種類存在させる染料の中の染料のモル吸光係数(molar
extinction coefficient)および/または b)ポリマー状もしくはオリゴマー状有機材料の状態で存在させる少なくとも1
種類の染料の中の染料の濃度。
The adjustment of the light density of the recording material according to the invention is carried out using the following two parameters: a) the molar extinction coefficient (molar) of the dye in the dye present in at least one type
and / or b) at least one present in the form of a polymeric or oligomeric organic material
The concentration of the dye in the type of dye.

【0026】 低い吸光係数を示す染料は、例えば非極性および/または若干のみ極性を示す
(polarisable)構造を有する染料である。そのような染料は、例え
ばアントラキノン、スチルベン、アザスチルベン、アゾまたはメチン染料の種類
を源にし得る。アゾ染料が好適である。ππ*帯の吸光最大値が400nmに等
しいか或はそれ以下、より好適には400nm未満のアゾ染料が特に好適である
The dye exhibiting a low extinction coefficient is, for example, a dye having a non-polar and / or only slightly polar structure. Such dyes may originate, for example, from the class of anthraquinone, stilbene, azastilbene, azo or methine dyes. Azo dyes are preferred. Azo dyes having an absorption maximum in the ππ * band equal to or less than 400 nm, more preferably less than 400 nm, are particularly preferred.

【0027】 アゾ染料は、例えば下記の式(I)The azo dye is, for example, represented by the following formula (I)

【0028】[0028]

【化3】 Embedded image

【0029】 [式中、 R1およびR2は、互いに独立して、水素または非イオン性置換基を表し、そして
1は、追加的に、−X1'−R3を表してもよく、 mおよびnは、互いに独立して、0から4の整数、好適には0から2の整数を表
し、 X1およびX2は、それぞれ−X1'−R3および−X2'−R4を表し、 X1'およびX2'は、直接結合、−O−,−S−,−(N−R5)−,−C(R6 7 )−,−(C=O)−,−(CO−O)−,−(CO−NR5)−,−(SO2
)−,−(SO2−O)−,−(SO2−NR5)−,−(C=NR8)−または−
(CNR8−NR5)−を表し、 R3、R4、R5およびR8は、互いに独立して、水素、C1からC20−アルキル、
3からC10−シクロアルキル、C2からC20−アルケニル、C6からC10−アリ
ール、C1からC20−アルキル−(C=O)−、C3からC10−シクロアルキル−
(C=O)−、C2からC20−アルケニル−(C=O)−、C6からC10−アリー
ル−(C=O)−、C1からC20−アルキル−(SO2)−、C3からC10−シク
ロアルキル−(SO2)−、C2からC20−アルケニル−(SO2)−またはC6
らC10−アリール−(SO2)−を表すか、或は X1'−R3およびX2'−R4は、水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、CF3または
CCl3を表してもよく、 R6およびR7は、互いに独立して、水素、ハロゲン、C1からC20−アルキル、
1からC20−アルコキシ、C3からC10−シクロアルキル、C2からC20−アル
ケニルまたはC6からC10−アリールを表す] で表される構造を有する。
[Wherein, R1And RTwoRepresents, independently of one another, hydrogen or a non-ionic substituent; and
R1Is additionally -X1'-RThreeM and n independently of one another represent an integer from 0 to 4, preferably an integer from 0 to 2
Then X1And XTwoIs -X1'-RThreeAnd -XTwo'-RFourX1'And XTwo'Is a direct bond, -O-, -S-,-(N-RFive)-, -C (R6R 7 )-,-(C = O)-,-(CO-O)-,-(CO-NRFive)-,-(SOTwo
)-,-(SOTwo-O)-,-(SOTwo-NRFive)-,-(C = NR8)-Or-
(CNR8-NRFive)-, RThree, RFour, RFiveAnd R8Are, independently of one another, hydrogen, C1To C20-Alkyl,
CThreeTo CTen-Cycloalkyl, CTwoTo C20-Alkenyl, C6To CTen-Ant
, C1To C20-Alkyl- (C = O)-, CThreeTo CTen-Cycloalkyl-
(C = O)-, CTwoTo C20-Alkenyl- (C = O)-, C6To CTen-Ally
Ru- (C = O)-, C1To C20-Alkyl- (SOTwo)-, CThreeTo CTen-Shiku
Low alkyl- (SOTwo)-, CTwoTo C20-Alkenyl- (SOTwo)-Or C6Or
La CTen-Aryl- (SOTwo)-, Or X1'-RThreeAnd XTwo'-RFourIs hydrogen, halogen, cyano, nitro, CFThreeOr
CClThreeMay be represented by R6And R7Are, independently of one another, hydrogen, halogen, C1To C20-Alkyl,
C1To C20-Alkoxy, CThreeTo CTen-Cycloalkyl, CTwoTo C20-Al
Kenyl or C6To CTen-Represents aryl].

【0030】 非イオン性置換基はハロゲン、シアノ、ニトロ、C1からC20−アルキル、C1 からC20−アルコキシ、フェノキシ、C3からC10−シクロアルキル、C2からC 20 −アルケニルまたはC6からC10−アリール、C1からC20−アルキル−(C=
O)−、C6からC10−アリール−(C=O)−、C1からC20−アルキル−(S
2)−、C1からC20−アルキル−(C=O)−O−、C1からC20−アルキル
−(C=O)−NH−、C6からC10−アリール−(C=O)−NH−、C1から
20−アルキル−O−(C=O)−、C1からC20−アルキル−NH−(C=O
)−またはC6からC10−アリール−NH−(C=O)−であると理解されるべ
きである。
Non-ionic substituents include halogen, cyano, nitro, C1To C20-Alkyl, C1 To C20-Alkoxy, phenoxy, CThreeTo CTen-Cycloalkyl, CTwoTo C 20 -Alkenyl or C6To CTen-Aryl, C1To C20-Alkyl- (C =
O)-, C6To CTen-Aryl- (C = O)-, C1To C20-Alkyl- (S
OTwo)-, C1To C20-Alkyl- (C = O) -O-, C1To C20-Alkyl
-(C = O) -NH-, C6To CTen-Aryl- (C = O) -NH-, C1From
C20-Alkyl-O- (C = O)-, C1To C20-Alkyl-NH- (C = O
)-Or C6To CTen-Aryl-NH- (C = O)-
It is.

【0031】 逆に、アルキル、シクロアルキル、アルケニルおよびアリール基は、基ハロゲ
ン、シアノ、ニトロ、C1からC20−アルキル、C1からC20−アルコキシ、C3
からC10−シクロアルキル、C2からC20−アルケニルまたはC6からC10−アリ
ールの3個以下の基で置換されていてもよく、そしてアルキルおよびアルケニル
基は直鎖もしくは分枝していてもよい。
Conversely, the alkyl, cycloalkyl, alkenyl and aryl groups can be the radicals halogen, cyano, nitro, C 1 -C 20 -alkyl, C 1 -C 20 -alkoxy, C 3
From C 10 - cycloalkyl, C 2 from C 20 - alkenyl or C 6 C 10 - may be substituted with up to three groups of the aryl and the alkyl and alkenyl groups have straight-chain or branched Is also good.

【0032】 ハロゲンはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素、特にフッ素および塩素であると
理解されるべきである。
Halogen is to be understood as being fluorine, chlorine, bromine and iodine, in particular fluorine and chlorine.

【0033】 本発明に従う記録材料は、好適には、ポリマー状もしくはオリゴマー状の非晶
質有機材料、特に好適には側鎖を有するポリマーであり、またブロックコポリマ
ーおよび/またはグラフトポリマーも特に好適である。
The recording material according to the invention is preferably a polymeric or oligomeric amorphous organic material, particularly preferably a polymer having side chains, and also particularly preferably block copolymers and / or graft polymers. is there.

【0034】 そのように側鎖を有するポリマーの主鎖は下記の基本的構造を源とする:ポリ
アクリレート、ポリメタアクリレート、ポリシロキサン、ポリ尿素、ポリウレタ
ン、ポリエステルまたはセルロース。ポリアクリレートおよびポリメタアクリレ
ートが好適である。
The main chain of the polymer having such side chains is derived from the following basic structure: polyacrylate, polymethacrylate, polysiloxane, polyurea, polyurethane, polyester or cellulose. Polyacrylates and polymethacrylates are preferred.

【0035】 ブロックコポリマーは複数のブロックで構成されており、前記ブロックの中の
少なくとも1種類は上述したコポリマー系を含有する。他のブロックを、要求さ
れる光密度を調整するように前記官能ブロック(functional blo
ck)を希釈する働きをする非官能化(non−functionalised
)ポリマー構造で構成させる。前記官能ブロックの範囲(extent)は、前
記光の波長未満、好適には200nm未満、より好適には100nm未満の範囲
である。
The block copolymer is composed of a plurality of blocks, at least one of said blocks containing a copolymer system as described above. The other blocks are replaced with the functional block to adjust the required light density.
ck) which serves to dilute the non-functionalized (non-functionalized)
) Consist of a polymer structure. The extent of the functional block is less than the wavelength of the light, preferably less than 200 nm, more preferably less than 100 nm.

【0036】 このようなブロックコポリマーの重合を、例えばフリーラジカルもしくはアニ
オン重合または他の適切な重合方法に続く任意のポリマー類似反応(polym
er−analogous reaction)または前記方法の組み合わせを
用いて実施する。この系(systems)の均一性(homogeneity
)は2.0未満、好適には1.5未満の範囲である。ブロックコポリマーをフリ
ーラジカル重合で得る時にはブロックコポリマーの分子量が50,000の領域
の値に到達し、アニオン重合を用いると、100,000を越える値になるよう
に調整することができる。
The polymerization of such block copolymers can be carried out, for example, by free-radical or anionic polymerization or any other suitable polymerization method followed by any polymer-like reaction (polym
er-analogous reaction) or a combination of the above methods. The homogeneity of this system
) Ranges from less than 2.0, preferably less than 1.5. When the block copolymer is obtained by free radical polymerization, the molecular weight of the block copolymer reaches a value in the range of 50,000, and when anionic polymerization is used, the molecular weight can be adjusted to a value exceeding 100,000.

【0037】 そのようなポリマー構造物に染料、特に式(I)で表されるアゾ染料を一般的
にはスペーサー(spacer)を通して共有結合させる。その場合、例えばX 1 (またはX2またはR1)がそのようなスペーサーを表し、特にX1'−(Q1i
−T1−S1−の意味のスペーサーを表し、ここで、 X1'は、この上で定義した通りであり、 Q1は、−O−,−S−,−(N−R5)−,−C(R67)−,−(C=O)−
,−(CO−O)−,−(CO−NR5)−,−(SO2)−,−(SO2−O)
−,−(SO2−NR5)−,−(C=NR8)−,−(CNR8−NR5)−,−
(CH2p−,p−またはm−C64−、または式
Dyes, in particular azo dyes of the formula (I), are generally added to such polymer structures.
Is covalently bonded through a spacer. In that case, for example, X 1 (Or XTwoOr R1) Represents such a spacer, in particular X1'-(Q1)i
-T1-S1Represents a spacer having the meaning of-, where X1'Is as defined above, Q1Is -O-, -S-,-(N-RFive)-, -C (R6R7)-,-(C = O)-
,-(CO-O)-,-(CO-NRFive)-,-(SOTwo)-,-(SOTwo-O)
−, − (SOTwo-NRFive)-,-(C = NR8)-,-(CNR8-NRFive) −, −
(CHTwo)p-, P- or mC6HFour− Or expression

【0038】[0038]

【化4】 Embedded image

【0039】 で表される二価の基を表し、 iは、0から4の整数を表し、ここで、i>1の時には個々の基Q1が異なる意
味を持っていてもよく、 T1は、−(CH2p−を表し、ここで、この鎖には−O−、−NR9−または−
OSiR10 2O−が割り込んでいてもよく、 S1は、直接結合、−O−、−S−または−NR9−を表し、 pは、2から12、好適には2から8、より好適には2から4の整数を表し、 R9は、水素、メチル、エチルまたはプロピルを表し、 R10は、メチルまたはエチルを表し、そして R5からR8は、この上で定義した通りである。
[0039] represents a divalent group represented by, i is an integer of 0 to 4, where, i> 1 of the case may have the meanings which the individual radicals Q 1 is different, T 1 is, - (CH 2) p - represents, here, in this chain -O -, - NR 9 - or -
OSiR 10 2 O— may be interrupted, S 1 represents a direct bond, —O—, —S— or —NR 9 —, p is 2 to 12, preferably 2 to 8, more preferably Represents an integer from 2 to 4, R 9 represents hydrogen, methyl, ethyl or propyl; R 10 represents methyl or ethyl; and R 5 to R 8 are as defined above. .

【0040】 この場合、ポリアクリレートまたはポリメタアクリレートに好適な染料モノマ
ーは、式(II)
In this case, suitable dye monomers for the polyacrylate or polymethacrylate are of the formula (II)

【0041】[0041]

【化5】 Embedded image

【0042】 [式中、 Rは、水素またはメチルを表し、そして その他の基はこの上で定義した通りである] で表される。Wherein R represents hydrogen or methyl, and the other groups are as defined above.

【0043】 特に適切な染料モノマーは、下記の式(IIa)Particularly suitable dye monomers are of the formula (IIa)

【0044】[0044]

【化6】 Embedded image

【0045】 [式中、 X3は、水素、ハロゲンまたはC1からC4−アルキル、好適には水素を表し、そ
して 基R,S1,T1,Q1,X1’,R1およびR2そしてi,mおよびnはこの上で定
義した通りである] で表される染料モノマーである。
Wherein X 3 represents hydrogen, halogen or C 1 -C 4 -alkyl, preferably hydrogen, and the radicals R, S 1 , T 1 , Q 1 , X 1 ′, R 1 and R 2 and i, m and n are as defined above].

【0046】 式(IIa)で表される特に好適なモノマーは例えば下記である:Particularly preferred monomers of the formula (IIa) are, for example:

【0047】[0047]

【化7】 Embedded image

【0048】 また、式(IIb)Further, the formula (IIb)

【0049】[0049]

【化8】 Embedded image

【0050】 [式中、 X4は、シアノまたはニトロを表し、そして 基R,S1,T1,Q1,X1’,R1およびR2そしてi,mおよびnはこの上で定
義した通りである] で表される染料モノマーも適切であり、それらをポリマーに≦10モル%、好適
には≦5モル%、より好適には≦1モル%の量で含有させる。
Wherein X 4 represents cyano or nitro, and the radicals R, S 1 , T 1 , Q 1 , X 1 ′, R 1 and R 2 and i, m and n are defined above. Dye monomers of the formula are also suitable and are included in the polymer in an amount of ≦ 10 mol%, preferably ≦ 5 mol%, more preferably ≦ 1 mol%.

【0051】 式(IIb)で表される特に好適なモノマーは例えば下記である:Particularly preferred monomers of the formula (IIb) are, for example:

【0052】[0052]

【化9】 Embedded image

【0053】 本発明に従うポリマー状もしくはオリゴマー状の非晶質有機材料は、前記染料
、例えば式(I)で表される染料に加えて、形状異方性基を持ち得る。このよう
な基もまた一般にスペーサーを通してポリマー構造に共有結合している。
The polymeric or oligomeric amorphous organic material according to the present invention may have a shape-anisotropic group in addition to the dye, for example, the dye represented by the formula (I). Such groups are also commonly covalently attached to the polymer structure through a spacer.

【0054】 形状異方性基は、例えば式(III)The shape anisotropic group is, for example, a compound represented by the formula (III)

【0055】[0055]

【化10】 Embedded image

【0056】 [式中、Zは、式[Wherein, Z is a formula

【0057】[0057]

【化11】 Embedded image

【0058】 で表される基を表し、ここで、 Aは、O、SまたはN−C1からC4−アルキルを表し、 X3は、−X3'-(Q2j−T2−S2−を表し、 X4は、X4’−R13を表し、 X3'およびX4'は、互いに独立して、直接結合、−O−,−S−,−(N−R5
)−,−C(R67)−,−(C=O)−,−(CO−O)−,−(CO−NR 5 )−,−(SO2)−,−(SO2−O)−,−(SO2−NR5)−,−(C=
NR8)−または−(CNR8−NR5)−を表し、 R5、R8およびR13は、互いに独立して、水素、C1からC20−アルキル、C3
らC10−シクロアルキル、C2からC20−アルケニル、C6からC10−アリール、
1からC20−アルキル−(C=O)−、C3からC10−シクロアルキル−(C=
O)−、C2からC20−アルケニル−(C=O)−、C6からC10−アリール−(
C=O)−、C1からC20−アルキル−(SO2)−、C3からC10−シクロアル
キル−(SO2)−、C2からC20−アルケニル−(SO2)−またはC6からC10 −アリール−(SO2)−であるか、或は X4'−R13は、水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、CF3またはCCl3を表して
もよく、 R6およびR7は、互いに独立して、水素、ハロゲン、C1からC20−アルキル、
1からC20−アルコキシ、C3からC10−シクロアルキル、C2からC20−アル
ケニルまたはC6からC10−アリールを表し、 Yは、単結合、−COO−,OCO−,−CONH−,−NHCO−,−CON
(CH3)−,−N(CH3)CO−,−O−,−NH−または−N(CH3)−
を表し、 R11、R12、R15は、互いに独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、C1
からC20−アルキル、C1からC20−アルコキシ、フェノキシ、C3からC10−シ
クロアルキル、C2からC20−アルケニルまたはC6からC10−アリール、C1
らC20−アルキル−(C=O)−、C6からC10−アリール−(C=O)−、C1 からC20−アルキル−(SO2)−、C1からC20−アルキル−(C=O)−O−
、C1からC20−アルキル−(C=O)−NH−、C6からC10−アリール−(C
=O)−NH−、C1からC20−アルキル−O−(C=O)−、C1からC20−ア
ルキル−NH−(C=O)−またはC6からC10−アリール−NH−(C=O)
−を表し、 q、rおよびsは、互いに独立して、0から4、好適には0から2の整数を表し
、 Q2は、−O−,−S−,−(N−R5)−,−C(R67)−,−(C=O)−
,−(CO−O)−,−(CO−NR5)−,−(SO2)−,−(SO2−O−
)−,−(SO2−NR5)−,−(C=NR8)−,−(CNR8−NR5)−,
−(CH2p−,p−またはm−C64−、または式
Wherein A is O, S or N—C1To CFourX represents alkyl;ThreeIs -XThree'-(QTwo)j-TTwo-STwo-Represents XFourIs XFour'-R13XThree'And XFour'Are, independently of one another, a direct bond, -O-, -S-,-(N-RFive
)-, -C (R6R7)-,-(C = O)-,-(CO-O)-,-(CO-NR Five )-,-(SOTwo)-,-(SOTwo-O)-,-(SOTwo-NRFive)-,-(C =
NR8)-Or-(CNR8-NRFive)-, RFive, R8And R13Are, independently of one another, hydrogen, C1To C20-Alkyl, CThreeOr
La CTen-Cycloalkyl, CTwoTo C20-Alkenyl, C6To CTen-Aryl,
C1To C20-Alkyl- (C = O)-, CThreeTo CTen-Cycloalkyl- (C =
O)-, CTwoTo C20-Alkenyl- (C = O)-, C6To CTen-Aryl- (
C = O)-, C1To C20-Alkyl- (SOTwo)-, CThreeTo CTen-Cycloal
Kill-(SOTwo)-, CTwoTo C20-Alkenyl- (SOTwo)-Or C6To CTen -Aryl- (SOTwo)-Or XFour'-R13Is hydrogen, halogen, cyano, nitro, CFThreeOr CClThreeRepresents
Well, R6And R7Are, independently of one another, hydrogen, halogen, C1To C20-Alkyl,
C1To C20-Alkoxy, CThreeTo CTen-Cycloalkyl, CTwoTo C20-Al
Kenyl or C6To CTenY represents a single bond, -COO-, OCO-, -CONH-, -NHCO-, -CON.
(CHThree)-, -N (CHThree) CO-, -O-, -NH- or -N (CHThree)-
Represents R11, R12, RFifteenAre independently of one another hydrogen, halogen, cyano, nitro, C1
To C20-Alkyl, C1To C20-Alkoxy, phenoxy, CThreeTo CTen
Chloroalkyl, CTwoTo C20-Alkenyl or C6To CTen-Aryl, C1Or
La C20-Alkyl- (C = O)-, C6To CTen-Aryl- (C = O)-, C1 To C20-Alkyl- (SOTwo)-, C1To C20-Alkyl- (C = O) -O-
, C1To C20-Alkyl- (C = O) -NH-, C6To CTen-Aryl- (C
OO) —NH—, C1To C20-Alkyl-O- (C = O)-, C1To C20-A
Alkyl-NH- (C = O)-or C6To CTen-Aryl-NH- (C = O)
-Represents q, r and s independently of one another an integer from 0 to 4, preferably from 0 to 2
, QTwoIs -O-, -S-,-(N-RFive)-, -C (R6R7)-,-(C = O)-
,-(CO-O)-,-(CO-NRFive)-,-(SOTwo)-,-(SOTwo-O-
)-,-(SOTwo-NRFive)-,-(C = NR8)-,-(CNR8-NRFive) −,
− (CHTwo)p-, P- or mC6HFour− Or expression

【0059】[0059]

【化12】 Embedded image

【0060】 で表される二価の基を表し、 jは、0から4の整数を表し、ここで、j>1の時には個々の基Q2が異なる意
味を持っていてもよく、 T2は、−(CH2p−を表し、ここで、この鎖には−O−、−NR9−または−
OSiR10 2O−が割り込んでいてもよく、 S2は、直接結合、−O−、−S−または−NR9−を表し、 pは、2から12、好適には2から8、より好適には2から4の整数を表し、 R9は、水素、メチル、エチルまたはプロピルを表し、そして R10は、メチルまたはエチルを表す] で表される構造を有する。
[0060] represents a divalent group represented by, j represents an integer of 0 to 4, wherein, when the j> 1 may have a meaning that individual radicals Q 2 different, T 2 is, - (CH 2) p - represents, here, in this chain -O -, - NR 9 - or -
OSiR 10 2 O— may be interrupted; S 2 represents a direct bond, —O—, —S— or —NR 9 —; p is 2 to 12, preferably 2 to 8, more preferably Represents an integer of 2 to 4, R 9 represents hydrogen, methyl, ethyl or propyl, and R 10 represents methyl or ethyl.]

【0061】 この場合、そのような形状異方性基を有していてポリアクリレートまたはポリ
メタアクリレートに好適なモノマーは、式(IV)
In this case, a monomer having such a shape anisotropic group and suitable for polyacrylate or polymethacrylate is represented by the formula (IV)

【0062】[0062]

【化13】 Embedded image

【0063】 [式中、 Rは、水素またはメチルを表し、そして その他の基はこの上で定義した通りである] で表される。Wherein R represents hydrogen or methyl, and the other groups are as defined above.

【0064】 式(IV)で表される特に好適な形状異方性モノマーは例えば下記である:Particularly suitable shape-anisotropic monomers of the formula (IV) are for example:

【0065】[0065]

【化14】 Embedded image

【0066】 逆に、アルキル、シクロアルキル、アルケニルおよびアリール基は、基ハロゲ
ン、シアノ、ニトロ、C1からC20−アルキル、C1からC20−アルコキシ、C3
からC10−シクロアルキル、C2からC20−アルケニルまたはC6からC10−アリ
ールの3個以下の基で置換されていてもよく、そしてアルキルおよびアルケニル
基は直鎖もしくは分枝していてもよい。
Conversely, alkyl, cycloalkyl, alkenyl and aryl groups include the groups halogen, cyano, nitro, C 1 -C 20 -alkyl, C 1 -C 20 -alkoxy, C 3
From C 10 - cycloalkyl, C 2 from C 20 - alkenyl or C 6 C 10 - may be substituted with up to three groups of the aryl and the alkyl and alkenyl groups have straight-chain or branched Is also good.

【0067】 ハロゲンはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素、特にフッ素および塩素であると
理解されるべきである。
Halogen is to be understood as fluorine, chlorine, bromine and iodine, in particular fluorine and chlorine.

【0068】 本発明に従うオリゴマーまたはポリマーは、そのような官能単位に加えて、ま
た、主に官能単位、特に染料単位の含有パーセントを下げる働きをする単位も含
有していても構わない。それらは、そのような機能を有することに加えて、また
、本オリゴマーまたはポリマーの他の特性、例えばガラス転移温度、液晶度、フ
ィルム形成特性などにも影響を与え得る。
The oligomers or polymers according to the invention may contain, in addition to such functional units, also units which serve mainly to reduce the percentage content of functional units, in particular dye units. In addition to having such a function, they may also affect other properties of the oligomer or polymer, such as glass transition temperature, liquid crystallinity, film forming properties, and the like.

【0069】 ポリアクリレートまたはポリメタアクリレートの場合のそのようなモノマーは
、式(V)
Such monomers in the case of polyacrylates or polymethacrylates have the formula (V)

【0070】[0070]

【化15】 Embedded image

【0071】 [式中、 Rは、水素またはメチルを表し、そして R14は、場合により分枝していてもよいC1からC20−アルキル、またはさらな
るアクリル単位を少なくとも1つ含む基を表す] で表されるアクリル酸エステルもしくはメタアクリル酸エステルである。
Wherein R represents hydrogen or methyl and R 14 represents optionally branched C 1 -C 20 -alkyl or a group comprising at least one further acrylic unit ] The acrylate or methacrylate represented by these.

【0072】 この場合、本発明に従うポリアクリレートおよびポリメタアクリレートは、好
適には、式(VI)で表される繰り返し単位、好適には式(VI)と(VII)
で表される繰り返し単位、または式(VI)と(VIII)で表される繰り返し
単位、または式(VI)と(VII)と(VIII)で表される繰り返し単位
In this case, the polyacrylates and polymethacrylates according to the invention are preferably the repeating units of the formula (VI), preferably of the formulas (VI) and (VII)
Or a repeating unit represented by the formulas (VI) and (VIII), or a repeating unit represented by the formulas (VI), (VII) and (VIII)

【0073】[0073]

【化16】 Embedded image

【0074】 または式(VI)で表される繰り返し単位の代わりに式(VIa)または(VI
b)
Alternatively, instead of the repeating unit represented by the formula (VI), the compound represented by the formula (VIa) or (VI
b)

【0075】[0075]

【化17】 Embedded image

【0076】 [これらの基はこの上で定義した通りである] で表される繰り返し単位を繰り返し単位として含有する。また、式(VI)[(
VIa)または(VIb)]で表される繰り返し単位および/または式(VII
)および/または(VIII)で表される繰り返し単位を数種類存在させること
も可能である。
[These groups are as defined above.] The repeating unit represented by the following formula is contained as a repeating unit. Further, the formula (VI) [(
VIa) or (VIb)] and / or the formula (VII)
) And / or several types of repeating units represented by (VIII).

【0077】 VI、(VIa、b)、VIIおよびVIIIの相対比は所望通りである。V
I(VIa、b)の濃度は、VI(VIa、b)の吸光係数に応じて、当該混合
物を基準にして好適には0.1から100%である。VI(VIa、b)とVI
Iの比率を100:0から1:99、好適には100:0から30:70、より
好適には100:0から50:50にする。
The relative ratios of VI, (VIa, b), VII and VIII are as desired. V
The concentration of I (VIa, b) is preferably from 0.1 to 100%, based on the mixture, depending on the extinction coefficient of VI (VIa, b). VI (VIa, b) and VI
The ratio of I is from 100: 0 to 1:99, preferably from 100: 0 to 30:70, more preferably from 100: 0 to 50:50.

【0078】 式(I)で表される染料および式(II)で表される染料モノマーが示す主な
吸収帯(π−π*帯)は短い波長の領域に位置しそして二次的吸収帯(n−π*
帯)は長い方の波長の領域に位置する。前記n−π*帯のモル吸光係数εは40
0から5000・103cm2/モルの範囲である。照射厚が0.1mmで推定染
料モル質量が400g/モルのオリゴマーまたはポリマーが示す光密度は、前記
染料の含有量が≦1.6%(ε=5000)から≦20%(ε=400)の場合
、≦2である。
The main absorption band (π-π * band) exhibited by the dye represented by the formula (I) and the dye monomer represented by the formula (II) is located in a short wavelength region, and is represented by a secondary absorption band. (N-π *
Band) is located in the longer wavelength region. The molar extinction coefficient ε of the n-π * band is 40.
It is in the range of 0 to 5000 · 10 3 cm 2 / mol. The light density of an oligomer or polymer having an irradiation thickness of 0.1 mm and an estimated dye molar mass of 400 g / mol indicates that the content of the dye is ≦ 1.6% (ε = 5000) to ≦ 20% (ε = 400). ≦ 2.

【0079】 本発明に従うポリマーおよびオリゴマーが示すガラス転移温度Tgは好適には
少なくとも40℃である。このガラス転移温度は、例えばB.Vollmer,
Grundriss der Makromolekularen Chemi
e,406−410頁,Springer−Verlag,Heidelber
g 1962に従って測定可能である。
The glass transition temperature T g of the polymers and oligomers according to the invention is preferably at least 40 ° C. This glass transition temperature is, for example, Volmer,
Grundris der Makromolekularen Chemi
e, pages 406-410, Springer-Verlag, Heidelber.
g 1962.

【0080】 本発明に従うポリマーおよびオリゴマーの測定分子量は、ゲル浸透クロマトグ
ラフィー(ポリスチレンを用いて較正)で測定した重量平均として5000から
2,000,000、好適には8000から1,500,000である。
The measured molecular weight of the polymers and oligomers according to the invention is between 5000 and 2,000,000, preferably between 8000 and 1,500,000 as a weight average determined by gel permeation chromatography (calibrated with polystyrene). is there.

【0081】 式(II)または(IIa)または(IIb)で表される染料モノマーおよび
場合により追加的に式(IV)で表される形状異方性モノマーおよび/または場
合により追加的に式(V)で表されるモノマーをオリゴマー状もしくはポリマー
状の基礎系(base systems)にフリーラジカルで結合させるとグラ
フトポリマーが生じる。そのような基礎系は非常に異なる種類のポリマーであっ
てもよく、例えばポリスチレン、ポリ(メタ)アクリレート、澱粉、セルロース
、ペプチドなどであってもよい。前記フリーラジカルによる結合は光による照射
でか或はラジカルを発生する反応体、例えばt−ブチルヒドロパーオキサイド、
ジベンゾイルパーオキサイド、アゾジイソブチロニトリル、過酸化水素/鉄(I
I)塩などを用いて実施可能である。
The dye monomers of the formula (II) or (IIa) or (IIb) and optionally additionally the shape-anisotropic monomers of the formula (IV) and / or optionally additionally the formula ( The free-radical bonding of the monomers of formula V) to oligomeric or polymeric base systems gives rise to graft polymers. Such base systems may be very different types of polymers, for example polystyrene, poly (meth) acrylate, starch, cellulose, peptides and the like. The free radical bond may be irradiated by light or generate a radical, such as t-butyl hydroperoxide,
Dibenzoyl peroxide, azodiisobutyronitrile, hydrogen peroxide / iron (I
I) It can be carried out using a salt or the like.

【0082】 そのようなポリマーおよびオリゴマーの構造の結果として、式(VI)、(V
Ia、b)で表される構成要素が互いにか或は式(VI)、(VIa、b)およ
び(VII)で表される構成要素が互いに起こす分子間相互作用を調整すると結
果として液晶秩序状態(order states)の生成が抑制されて光学的
に等方性で透明で光を散乱しないフィルム、箔、板または立方体が生じ得る。他
方、それにも拘らず、そのような分子間相互作用は、フォトクロミックおよび非
フォトクロミック(non−photochromic)側基が光照射時に光化
学的に誘発されて共同方向再配向(cooperative,directed
reorientation)過程を起こすに充分なほど強い。
As a result of the structure of such polymers and oligomers, formulas (VI), (V
When the components represented by Ia, b) or the components represented by formulas (VI), (VIa, b) and (VII) adjust the intermolecular interaction caused by each other, the resulting liquid crystal ordered state The formation of (order states) can be suppressed to produce films, foils, plates or cubes that are optically isotropic, transparent and do not scatter light. On the other hand, nevertheless, such intermolecular interactions can be attributed to photochromic and non-photochromic side groups being photochemically induced upon irradiation with light, resulting in cooperative, directed orientation.
strong enough to cause the reorientation process.

【0083】 式(VI)、(VIa、b)で表される繰り返し単位が有する側基の間にか或
は式(VI)、(VIa、b)および(VII)で表される繰り返し単位が有す
る側基の間に存在する相互作用力(interaction forces)を
、好適には、式(VI)、(VIa、b)で表される側基の形態が光で誘発され
て変化することによって他の側基[(VI)、(VIa、b)および/または(
VII)]の1方向(unidirectional)(いわゆる共同)再配向
がもたらされるに充分なほどにする。
The repeating units represented by the formulas (VI), (VIa, b) and (VII) may be located between the side groups of the repeating units represented by the formulas (VI) and (VIa, b). The interaction forces existing between the side groups having the side groups are preferably changed by changing the form of the side groups represented by the formulas (VI) and (VIa, b) by light-induced changes. Side groups [(VI), (VIa, b) and / or (
VII)] is sufficient to provide a unidirectional (so-called joint) reorientation.

【0084】 光学的に等方性の非晶質フォトクロミックポリマーの場合、極めて高い値の光
学異方性(optical anisotropy)が誘発され得る(0.4に
及ぶΔn)。
In the case of optically isotropic amorphous photochromic polymers, very high values of optical anisotropy can be induced (Δn up to 0.4).

【0085】 本ポリマーまたはオリゴマーが化学光線の影響を受けると、結果として、秩序
状態が生じかつ修飾を受け(modified)、このようにして光学特性を調
節する。
When the present polymers or oligomers are affected by actinic light, an ordered state results and is modified, thus adjusting the optical properties.

【0086】 用いる光は、式(VI)で表される繰り返し単位の吸収帯の範囲、好適には長
波n−π*帯の範囲にある波長を有する偏光である。
The light used is polarized light having a wavelength in the range of the absorption band of the repeating unit represented by the formula (VI), preferably in the range of the long wave n-π * band.

【0087】 前記ポリマーおよびオリゴマーの調製は文献で公知の方法、例えばDD 27
6 297,DE−A 3 808 430,Makromolekulare
Chemie,187,1327−1334(1984),SU 887 5
74,Europ.Polym.18,561(1982)およびLiq.Cr
yst.2,195(1987)に従って実施可能である。
The preparation of said polymers and oligomers is carried out by methods known in the literature, for example DD 27
6 297, DE-A 3 808 430, Makromolekulare
Chemie, 187, 1327-1334 (1984), SU 8875.
74, Europ. Polym. 18,561 (1982) and Liq. Cr
yst. 2, 195 (1987).

【0088】 外部場および/または表面効果を用いた複雑な配向過程を用いる必要なく膜、
箔、板および立方体を生じさせることができる。それらをスピンコーティング(
spin coating)、浸漬、注ぎ込みまたは他のコーティング方法(技
術的観点から調節が容易な)を用いて基質に塗布してもよいか、プレス加工また
は流し込みで2枚の透明な板の間に位置させてもよいか、或は簡単に流し込みま
たは押出し加工で自己支持型材料として生じさせることも可能である。また、こ
の上に記述した意味の構成要素を含む液晶ポリマーまたはオリゴマーを急冷、即
ち>100K/分の冷却速度で冷却するか或は溶媒を迅速に除去することを通し
て、そのような膜、箔、板および立方体を生じさせることも可能である。
A film without the need to use complex alignment processes using external fields and / or surface effects,
Foil, plate and cube can be produced. Spin coating them (
It may be applied to the substrate using spin coating, dipping, pouring or other coating methods (easy to adjust from a technical point of view) or it may be pressed or poured between two transparent plates. It can be produced as a self-supporting material, either by good or simple casting or extrusion. Also, by quenching the liquid crystal polymer or oligomer containing components of the meaning described above, ie, by cooling at a cooling rate of> 100 K / min or by rapidly removing the solvent, such films, foils, It is also possible to create plates and cubes.

【0089】 ホログラフィック多量記憶媒体の製造工程に300℃以下、好適には220℃
以下、より好適には180℃以下の範囲の通常の射出成形加工に従う段階を含め
るのが好適である。
[0089] 300 ° C. or less, preferably 220 ° C. or less for the manufacturing process of the holographic mass storage medium
Hereinafter, it is preferable to include a step according to a usual injection molding process in a range of 180 ° C. or less.

【0090】 層厚を≧0.1mm、好適には≧0.5mm、より好適には≧1mmにする。
ミリメートルの範囲の層を生じさせるに特に好適な方法は射出成形方法である。
この方法では、ポリマー溶融物をノズルに通して成形用ホルダーの中に押し込み
、冷却後にそれをそこから取り出してもよい。
The layer thickness is ≧ 0.1 mm, preferably ≧ 0.5 mm, more preferably ≧ 1 mm.
A particularly preferred method for producing layers in the millimeter range is the injection molding method.
In this method, the polymer melt may be forced through a nozzle and into a molding holder, from which it is removed after cooling.

【0091】 本発明に従う記録材料、即ちポリマーを製造する好適な方法には、少なくとも
1種のモノマーをさらなる溶媒なしに重合させる方法が含まれ、この重合は好適
にはフリーラジカル重合であり、より好適にはフリーラジカル開始剤および/ま
たはUV光および/または熱で重合を開始させる。
A preferred method for producing the recording material, ie the polymer, according to the invention comprises a method in which at least one monomer is polymerized without further solvent, which polymerization is preferably a free radical polymerization, Preferably, the polymerization is initiated with a free radical initiator and / or UV light and / or heat.

【0092】 この方法を20℃から200℃、好適には40℃から150℃、より好適には
50℃から100℃、最も好適には約60℃の温度で実施する。
The method is carried out at a temperature from 20 ° C. to 200 ° C., preferably from 40 ° C. to 150 ° C., more preferably from 50 ° C. to 100 ° C., most preferably about 60 ° C.

【0093】 特別な態様ではAIBNをフリーラジカル開始剤として用いる。In a particular embodiment, AIBN is used as a free radical initiator.

【0094】 付随的にさらなるモノマー、好適には液状のモノマーを用いるのがしばしば有
利であることを見いだした。そのようなモノマーは反応温度で液状のモノマーで
あると理解されるべきであり、このようなモノマーは好適にはオレフィン系不飽
和モノマー、より好適にはアクリル酸およびメタアクリル酸を基とするモノマー
、最も好適にはメタアクリル酸メチルである。
It has frequently been found to be advantageous to use additional monomers, preferably liquid monomers. It is to be understood that such monomers are monomers that are liquid at the reaction temperature, such monomers being preferably olefinically unsaturated monomers, more preferably monomers based on acrylic acid and methacrylic acid. And most preferably methyl methacrylate.

【0095】 コポリマーに含める式(II)で表されるモノマーの量を好適には0.1から
99.9重量%、より好適には0.1から50重量%、更により好適には0.1
から5重量%、最も好適には0.5から2重量%にする。
The amount of monomer of formula (II) included in the copolymer is preferably from 0.1 to 99.9% by weight, more preferably from 0.1 to 50% by weight, even more preferably from 0.1 to 9% by weight. 1
To 5% by weight, most preferably 0.5 to 2% by weight.

【0096】 ホログラフィックデータ記憶方法は例えばLASER FOCUS WORL
D,NOVEMBER 1996の81頁以降に記述されている。
The holographic data storage method is, for example, LASER FOCUS WORL
D, November 1996, page 81 et seq.

【0097】 ホログラムの記録では、この上に記述したポリマーフィルムに、必要な光誘発
再配向をもたらす波長を有する2種類の可干渉性レーザー光線による照射を受け
させる。一方の光線、即ち物体波は、記憶させるべき光学情報、例えば光線が二
次元格子模様のピクセル構造(データページ)を通過する結果としてもたらされ
る強度の変化などを含有する。しかしながら、原則として、任意の二次元もしく
は三次元物体によって回折、散乱または反射する光を物体波として用いることが
できる。この物体波は記憶媒体上で2番目のレーザー光線、即ち参照波(これは
一般に平らまたは円形の波である)と干渉する。その結果として生じる干渉模様
が記憶媒体に光定数(屈折率および/または吸光係数)の変調(modulat
ion)として刻印される。この変調は照射領域全体、特に記憶媒体の厚み全体
に浸透する。次に、前記物体波が遮断されて前記媒体が参照波のみにさらされる
と、そのような変調を受けた記憶媒体はある種の参照波用回折格子として働く。
この回折の結果として生じる強度分布は、その光が前記物体自身から来た光であ
るか否かも参照波の回折が理由でもたらされた光であるか否かももはや区別する
ことができなくなるほど記憶させるべき物に由来する強度分布に相当する。
For hologram recording, the above-described polymer film is exposed to two coherent laser beams having wavelengths that provide the required light-induced reorientation. One light beam, the object wave, contains the optical information to be stored, such as a change in intensity resulting from the light beam passing through a two-dimensional grid of pixel structures (data pages). However, in principle, light diffracted, scattered or reflected by any two-dimensional or three-dimensional object can be used as the object wave. This object wave interferes with the second laser beam on the storage medium, the reference wave, which is generally a flat or circular wave. The resulting interference pattern causes the storage medium to modulate optical constants (refractive index and / or extinction coefficient).
ion). This modulation penetrates the entire illuminated area, in particular the entire thickness of the storage medium. Then, when the object wave is cut off and the medium is exposed only to a reference wave, such a modulated storage medium acts as a kind of reference wave grating.
The intensity distribution resulting from this diffraction is so memorable that it is no longer possible to distinguish whether the light is light coming from the object itself or not due to the diffraction of the reference wave. This corresponds to an intensity distribution derived from an object to be made.

【0098】 1つの標本位置にいろいろなホログラムを記憶させようとする場合、下記の如
きいろいろな多重過程、即ち波長多重化、シフト多重化、位相多重化、ペリスト
ロフィック多重化および/または角多重化および/または他を用いる。角多重化
の場合、記憶媒体と参照波の間の角度[ホログラムを関連角(relevant
angles)で記憶させた時の]を変える。角度を特定の度合で変えると元
々のホログラムが見えなくなる(Braggミスマッチ):即ち記憶媒体が入射
参照波をもはや偏光させなくなると、それによって物体を再び構築することが可
能になる。それが起こる角度は、記憶媒体の厚み(および前記媒体内でもたらさ
れる光定数の変調)に依存する:即ち参照波に関して変える必要がある角度は前
記媒体が厚くなればなるほど小さくなる。
In order to store various holograms in one sample position, various multiplexing processes are performed as follows, that is, wavelength multiplexing, shift multiplexing, phase multiplexing, peristroic multiplexing, and / or angular multiplexing. And / or others. In the case of angular multiplexing, the angle between the storage medium and the reference wave [the hologram is related to
angles when stored in “angles”). Changing the angle to a certain degree makes the original hologram invisible (Bragg mismatch): when the storage medium no longer polarizes the incident reference wave, it is then possible to reconstruct the object. The angle at which it occurs depends on the thickness of the storage medium (and the modulation of the optical constants introduced in the medium): the angle that needs to be changed with respect to the reference wave is smaller the thicker the medium.

【0099】 そのような新しい角配置(angle configuration)にさら
なるホログラムを記録させることができる。このホログラムの読み取りも再び前
記ホログラムの記録で用いた角配置(記憶媒体と参照波の間の)で正確に起こる
Additional holograms can be recorded in such a new angle configuration. This reading of the hologram also occurs exactly again in the angular arrangement (between the storage medium and the reference wave) used for recording the hologram.

【0100】 従って、前記記憶媒体と記録光線の間の角度を徐々に変えることを通して、こ
の媒体の同じ場所に複数のホログラムを記録させることが可能になる。
Thus, by gradually changing the angle between the storage medium and the recording light beam, it becomes possible to record a plurality of holograms in the same place on the medium.

【0101】 本明細書に記述するポリマー系は、次のホログラムを記録させる時に先行して
記憶媒体に蓄積しておいた情報(ホログラムに関連する)が消されることはなく
記憶媒体の1つの場所にホログラムを4個以上、好適には50個以上、より好適
には100個以上、更により好適には500個以上、最も好適にはホログラムを
1000個以上記録させることができると言った大きな利点を有する。記憶させ
るべき物は、液晶ディスプレーの伝送でもたらされたデータページである。その
ようなデータページはピクセルを256x256、好適にはピクセルを512x
512、好ましくはデータピクセルを1024x1024有する。
The polymer system described in this specification does not erase the information (related to the hologram) previously stored in the storage medium when the next hologram is recorded, and saves the information in one place of the storage medium. A great advantage is that four or more holograms can be recorded, preferably 50 or more, more preferably 100 or more, even more preferably 500 or more, and most preferably 1000 or more holograms. Having. What is to be stored is the data page resulting from the transmission of the liquid crystal display. Such a data page would have pixels 256x256, preferably pixels 512x
512, preferably 1024 x 1024 data pixels.

【0102】 本発明は、また、電磁放射線と相互作用する基を少なくとも1つ含みかつ場合
により形状異方性基を少なくとも1つ含んでいてもよいポリマー状もしくはオリ
ゴマー状の非晶質有機材料で構成されているホログラフィック多量記憶媒体用記
録材料も提供し、これは光密度が≦2、好適には≦1、より好適には≦0.3で
あることを特徴とする。この記録材料は非支持型フィルムの形態でか或は好適に
は多層構造物の形態でデータの記憶で使用可能である。多層構造物は、例えば、
実際の記録媒体が少なくとも1種の基質で取り巻かれているサンドイッチ型構造
物である。前記基質は高い光学品質を有する透明な媒体、例えばガラス板、石英
板またはポリカーボネート板などであってもよい。高い光学品質は、散乱率、即
ち前記サンドイッチの所で散乱する光と入射光の間の商が10-4以上、好適には
10-5以上、より好適には10-6以上であることを意味すると理解されるべきで
ある。この商は、サンプルをHeNeレーザ−光線にさらすことを通して決定可
能である。CCDカメラを用いて検出を行う。
The present invention also comprises a polymeric or oligomeric amorphous organic material comprising at least one group interacting with electromagnetic radiation and optionally containing at least one shape-anisotropic group. Also provided is a recording material for a holographic mass storage medium, wherein the light density is ≦ 2, preferably ≦ 1, more preferably ≦ 0.3. The recording material can be used for data storage in the form of an unsupported film or, preferably, in the form of a multilayer structure. The multilayer structure is, for example,
It is a sandwich type structure in which the actual recording medium is surrounded by at least one substrate. The substrate may be a transparent medium having high optical quality, such as a glass plate, a quartz plate or a polycarbonate plate. High optical quality means that the scattering factor, i.e. the quotient between the light scattered at the sandwich and the incident light, is at least 10 -4 , preferably at least 10 -5 , more preferably at least 10 -6. It should be understood to mean. This quotient can be determined through exposing the sample to a HeNe laser beam. Detection is performed using a CCD camera.

【0103】 (実施例) 実施例1 モノマーの調製:EXAMPLES Example 1 Preparation of Monomers:

【0104】[0104]

【化18】 Embedded image

【0105】 a)4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)安息香酸 350mlのエタノールを撹拌しながらこれにp−ヒドロキシ安息香酸を13
8gおよびKIを0.5g入れる。150mlの水に150gのKOHを入れる
ことで生じさせた溶液を滴下する。88.6gのエチレンクロロヒドリンを30
−60℃で30分かけて滴下する。この反応混合物を還流下で15時間撹拌する
。次に、溶媒を最初に通常の圧力下で留出させた後、真空下で完全に留出させる
。その残留物を1リットルの水に溶解させた後、HClを用いて酸性にする。沈
澱物を吸引を伴わせて濾別した後、1.8リットルの水を用いて再び結晶化させ
る。この生成物を乾燥させた後、これにエタノールを用いた再結晶化を2回受け
させる。収量は46g(理論収率の25%)である。融点179.5℃。 b)4−(2−メタアクリロイルオキシエチルオキシ)安息香酸 150mlのクロロホルムを撹拌しながらこれに4−(2−ヒドロキシエチル
オキシ)安息香酸を45g、メタアクリル酸を180ml、p−トルエンスルホ
ン酸を10gおよびヒドロキノンを10g入れて還流下に加熱する。反応中に生
じた水を水分離装置で分離する。この反応混合物を150mlのクロロホルムで
希釈し、各場合とも100mlの水を用いて数回洗浄した後、Na2SO4で乾燥
させる。この乾燥剤を濾別した後、ロータリーエバポレーターを用いてクロロホ
ルムを留出させることで、2/3にする。沈澱した生成物を吸引を伴わせて濾別
した後、これにイソプロパノールを用いた再結晶化を2回受けさせる。収量は2
8g(理論収率の45%)である。融点146℃。 c)4−(2−メタアクリロイルオキシエチルオキシ)安息香酸クロライド 25gの4−(2−メタアクリロイルオキシエチルオキシ)安息香酸と80m
lの塩化チオニルと0.5mlのDMFを室温で30分間撹拌する。次に、余分
な塩化チオニルを最初に中程度の真空下で留出させた後、高真空下で留出させる
。次に、実質的に定量的収率で生じた酸クロライドを室温でゆっくり結晶化させ
る。 元素分析:C1313ClO4(268.7) 計算値: C58.11;H4.88;Cl13.19 測定値: C58.00;H4.90;Cl13.20。 d)4−ピバリノイルアミノ−4’−アミノアゾベンゼン 400mlのTHFに4,4’−ジアミノアゾベンゼンを36gおよびトリエ
チルアミンを62g入れる。100mlのTHFに23.2gのピバリン酸クロ
ライドを入れることで生じさせた溶液をゆっくり滴下する。この反応混合物を室
温で2時間撹拌した後、これに水を加える。沈澱物を濾別して乾燥させる。生成
物を42g得る。クロマトグラフィー(シリカゲル、トルエン/酢酸エチル1:
1)でさらなる精製を実施する。収量は8gである。融点230℃。 e)4−ピバリノイルアミノ−4’−[p−(2−メタアクリロイルオキシエチ
ルオキシ)ベンゾイルアミノ]アゾベンゼン 10mlのN−メチル−2−ピロリドン(NMP)に50℃で4−ピバリノイ
ルアミノ−4’−アミノアゾベンゼンを1g入れた後、これを、1mlのNMP
に1gの4−(2−メタアクリロイルオキシエチルオキシ)安息香酸を入れるこ
とで生じさせた50℃の溶液に加える。この反応混合物を前記温度で1時間撹拌
し、冷却した後、水を200ml加える。沈澱物を濾別した後、30mlのメタ
ノールを入れて室温で撹拌し、母液を濾別して乾燥を真空下で実施する。収量は
1.2gである。融点194℃。λmax=378nm(DMF);ε=3700
0l/(mol*cm)。
A) 4- (2-Hydroxyethyloxy) benzoic acid While stirring 350 ml of ethanol, p-hydroxybenzoic acid was added to 13 ml of ethanol.
8 g and 0.5 g of KI are charged. A solution of 150 g of KOH in 150 ml of water is added dropwise. 88.6 g of ethylene chlorohydrin in 30
Add dropwise at -60 ° C over 30 minutes. The reaction mixture is stirred under reflux for 15 hours. Next, the solvent is first distilled off under normal pressure and then completely distilled off under vacuum. The residue is dissolved in one liter of water and then acidified with HCl. The precipitate is filtered off with suction and recrystallized from 1.8 l of water. After drying the product, it is recrystallized twice with ethanol. The yield is 46 g (25% of theoretical). 179.5 ° C. b) 4- (2-methacryloyloxyethyloxy) benzoic acid While stirring 150 ml of chloroform, 45 g of 4- (2-hydroxyethyloxy) benzoic acid, 180 ml of methacrylic acid, and p-toluenesulfonic acid were added thereto. Add 10 g and 10 g of hydroquinone and heat under reflux. Water generated during the reaction is separated by a water separator. The reaction mixture is diluted with 150 ml of chloroform, washed several times in each case with 100 ml of water and dried over Na 2 SO 4 . After the desiccant is filtered off, chloroform is distilled off using a rotary evaporator to reduce the chloroform to 2/3. After the precipitated product has been filtered off with suction, it is recrystallized twice from isopropanol. Yield 2
8 g (45% of theoretical yield). 146 ° C. c) 4- (2-methacryloyloxyethyloxy) benzoic acid chloride 25 g of 4- (2-methacryloyloxyethyloxy) benzoic acid and 80 m
Stir 1 l thionyl chloride and 0.5 ml DMF at room temperature for 30 minutes. The excess thionyl chloride is then first distilled off under moderate vacuum and then under high vacuum. The resulting acid chloride is then slowly crystallized at room temperature in a substantially quantitative yield. Elemental analysis: C 13 H 13 ClO 4 ( 268.7) calc: C58.11; H4.88; Cl13.19 measurements: C58.00; H4.90; Cl13.20. d) 4-Pivalinoylamino-4'-aminoazobenzene In 400 ml of THF are charged 36 g of 4,4'-diaminoazobenzene and 62 g of triethylamine. A solution of 23.2 g of pivalic acid chloride in 100 ml of THF is slowly added dropwise. After stirring the reaction mixture at room temperature for 2 hours, water is added thereto. The precipitate is filtered off and dried. 42 g of product are obtained. Chromatography (silica gel, toluene / ethyl acetate 1:
Further purification is carried out in 1). The yield is 8 g. 230 ° C. e) 4-Pivalinoylamino-4 ′-[p- (2-methacryloyloxyethyloxy) benzoylamino] azobenzene 4-Pivalinoylamino in 10 ml of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) at 50 ° C. After adding 1 g of -4'-aminoazobenzene, 1 ml of NMP
Of 1 g of 4- (2-methacryloyloxyethyloxy) benzoic acid into a 50 ° C. solution. The reaction mixture is stirred for 1 hour at said temperature and, after cooling, 200 ml of water are added. After the precipitate has been filtered off, 30 ml of methanol are stirred in at room temperature, the mother liquor is filtered off and the drying is carried out under vacuum. The yield is 1.2 g. Melting point 194 [deg.] C. λ max = 378 nm (DMF); ε = 3700
0 l / (mol * cm).

【0106】 実施例2 a)氷酢酸が210mlでプロピオン酸が75mlで濃塩酸が31mlの混合物
に3−5℃でN−ベンゾイル−p−フェニレンジアミンを32g入れた。50g
のニトロシル硫酸(約40%)を前記温度で1時間かけて滴下した。 b)130mlの氷酢酸にm−トルイジンを16g溶解させた。これに0−5℃
でa)で得たジアゾ化物(diazotisation)を2時間かえて滴下し
た。この混合物を室温で一晩撹拌した。結果として生じた染料を吸引を伴わせて
濾別した後、550mlの水に入れて懸濁させた。ソーダを用いてpHを8.4
にまで上昇させた。この染料を再び吸引を伴わせて濾別し、イソプロパノールで
洗浄した後、乾燥させた。式
Example 2 a) 32 g of N-benzoyl-p-phenylenediamine were added at 3-5 ° C. to a mixture of 210 ml of glacial acetic acid, 75 ml of propionic acid and 31 ml of concentrated hydrochloric acid. 50g
Of nitrosylsulfuric acid (about 40%) was added dropwise at the above temperature over 1 hour. b) 16 g of m-toluidine was dissolved in 130 ml of glacial acetic acid. 0-5 ° C
The diazotization obtained in a) was added dropwise over 2 hours. The mixture was stirred overnight at room temperature. The resulting dye was filtered off with suction and suspended in 550 ml of water. PH is adjusted to 8.4 using soda
Up to. The dye was again filtered off with suction, washed with isopropanol and dried. formula

【0107】[0107]

【化19】 Embedded image

【0108】 で表される染料を27g(理論収率の54.4%)得た。ジメチルホルムアミド
中のUV/VIS:λmax=416nm。 c)20mlのN−メチルピロリドンに50℃でb)で得た染料を5g溶解させ
た。式
27 g (54.4% of theoretical yield) of the dye represented by was obtained. UV / VIS in dimethylformamide: λ max = 416 nm. c) 5 g of the dye obtained in b) were dissolved at 50 ° C. in 20 ml of N-methylpyrrolidone. formula

【0109】[0109]

【化20】 Embedded image

【0110】 で表される酸クロライドを3.5g加えた。この混合物を50℃で1.5時間撹
拌した。最後に、水を20ml加えた後、結果として生じた染料を吸引を伴わせ
て濾別した。これを50mlのイソプロパノールと一緒に撹拌し、吸引を伴わせ
て濾別した後、乾燥させた。式
3.5 g of the acid chloride represented by was added. The mixture was stirred at 50 ° C. for 1.5 hours. Finally, after the addition of 20 ml of water, the resulting dye was filtered off with suction. This was stirred with 50 ml of isopropanol, filtered off with suction and dried. formula

【0111】[0111]

【化21】 Embedded image

【0112】 で表される染料モノマーを6.2g(理論収率の73.4%)得た。ジメチルホ
ルムアミド中のUV/VIS:λmax=386nm。
6.2 g (73.4% of theoretical yield) of the dye monomer represented by was obtained. UV / VIS in dimethylformamide: λ max = 386 nm.

【0113】 以下の表に示す染料モノマーを同様な様式で調製した。The dye monomers shown in the table below were prepared in a similar manner.

【0114】[0114]

【表1】 [Table 1]

【0115】グラフトポリマーの実施例 60mlの水にAvebe(Foxhol、NL)から入手した澱粉であるP
erfectamyl A 4692(86.3%)を8.7g入れて86℃で
溶解させた。これに1重量%のFeSO4水溶液が1.5gで3重量%のH22
水溶液が6.1gの混合物を加えた。撹拌を86℃で15分間実施した。次に、
この温度で、12.5gのメタアクリル酸メチルに式
Example of Graft Polymer In 60 ml of water, P, a starch obtained from Avebe (Foxhol, NL)
8.7 g of erfectamyl A 4692 (86.3%) was added and dissolved at 86 ° C. 1.5 g of a 1% by weight aqueous solution of FeSO 4 and 3% by weight of H 2 O 2
A mixture of 6.1 g of the aqueous solution was added. Stirring was performed at 86 ° C. for 15 minutes. next,
At this temperature, 12.5 g of methyl methacrylate has the formula

【0116】[0116]

【化22】 Embedded image

【0117】 で表される染料モノマーを1.4g入れることで生じさせた溶液と4.1gの3
重量%H22水溶液を同時に90分かけて滴下した。この温度で更に15分後、
t−ブチルヒドロパーオキサイドを0.105g添加して、撹拌を86℃で更に
1時間実施した。黄色の微細分散液を100μmのポリアミドフィルターに通し
て濾過した。
A solution formed by adding 1.4 g of the dye monomer represented by the formula (1) and 4.1 g of 3
A weight% aqueous solution of H 2 O 2 was simultaneously added dropwise over 90 minutes. After another 15 minutes at this temperature,
0.105 g of t-butyl hydroperoxide was added and stirring was carried out at 86 ° C. for another hour. The yellow fine dispersion was filtered through a 100 μm polyamide filter.

【0118】 この分散液を水で1:10に希釈してガラス板に塗布した後、乾燥させた。こ
のガラス板に付着している透明な淡黄色フィルムにSchott製KL 500
冷光ランプが発する偏光(点直径6mm)による照射を10分間受けさせた。交
差偏光子の間に位置する照射点(irradiated spot)を暗い取り
巻きの中に明るく見ることができた。
This dispersion was diluted 1:10 with water, applied to a glass plate, and dried. A KL 500 made by Schott is applied to the transparent pale yellow film attached to the glass plate.
Irradiation with polarized light (point diameter 6 mm) emitted from a cold light lamp was performed for 10 minutes. The irradiated spot located between the crossed polarizers could be seen brightly in a dark surrounding.

【0119】 実施例3:ブロック重合によるホログラフィック材料の調製 10gのメタアクリル酸メチルに4−(2−メタアクリロイルオキシエチルオ
キシ)アゾベンゼン
Example 3 Preparation of Holographic Material by Block Polymerization 10 g of methyl methacrylate was added to 4- (2-methacryloyloxyethyloxy) azobenzene

【0120】[0120]

【化23】 Embedded image

【0121】 を0.314g(1モル%)と2,2’−アゾイソ酪酸ニトリルを0.052g
入れることで生じさせた溶液をガラス製アンプルに入れてこれに乾燥アルゴンを
30分間流し込んだ。このアンプルをゴム製ストッパーで密封した後、60℃で
7日間鋳造した。透明なポリマーシリンダーを得た。前記アンプルを壊して破壊
されたガラスを取り除くことで、前記ポリマーシリンダーを単離することができ
た。残留するメタアクリル酸メチルを除去しかつ前記ポリマーブロック内の応力
を解放させる目的でそれを60℃で更に2週間貯蔵した。
Was 0.314 g (1 mol%) and 2,2′-azoisobutyric acid nitrile was 0.052 g.
The resulting solution was placed in a glass ampule and flushed with dry argon for 30 minutes. The ampoule was sealed with a rubber stopper and cast at 60 ° C. for 7 days. A clear polymer cylinder was obtained. The polymer cylinder could be isolated by breaking the ampoule and removing the broken glass. It was stored at 60 ° C. for another 2 weeks in order to remove residual methyl methacrylate and release the stress in the polymer block.

【0122】 このようにして得たPAPシリンダーを精密工学作業場で直径が17mmで厚
みが1.9mmの板に切断した後、磨いた。この板は下記の重要な波長の所に下
記の光密度を示す:OD(514nm)=2.502;OD(532nm)=0.
755;OD(568nm)=0.052。
The PAP cylinder thus obtained was cut into plates having a diameter of 17 mm and a thickness of 1.9 mm in a precision engineering workshop and then polished. This plate exhibits the following light densities at the following important wavelengths: OD (514 nm) = 2.502; OD (532 nm) = 0.
755; OD (568 nm) = 0.052.

【0123】 同様な様式で、アゾ染料含有量が10モル%のコポリマーを生じさせた。同様
な様式で、モノマー:
In a similar manner, a copolymer having an azo dye content of 10 mol% was obtained. In a similar manner, the monomers:

【0124】[0124]

【化24】 Embedded image

【0125】 の含有量が1モル%でメタアクリル酸メチル含有量が99モル%のコポリマーを
調製する。
A copolymer having a content of 1 mol% and a methyl methacrylate content of 99 mol% is prepared.

【0126】 実施例4 溶液を用いたスピンコーティングで実施例3のポリマーを厚みが150μmの
ガラス基質に塗布する。前記基質の中心の所に位置する測定点の層厚は600n
mである。このポリマー層が示す屈折率nのレベルを、プリズムカップリング方
法を用いて3空間方向x、y(層面)およびz(層に垂直)に関して測定する。
この目的で、プリズムのベース(base)がポリマー層に密に接触するように
する。レーザーの偏光が層の中に取り込まれてそれを導波管様式で透過する角度
によって、その光の波長の所の屈折率に関する情報が得られる。検出器上のシグ
ナルドロップ(signal drop)が反射を起こすと各取り込み(cou
pling in)がクリアになる(becomes clear)。
Example 4 The polymer of Example 3 is applied to a glass substrate having a thickness of 150 μm by spin coating using a solution. The layer thickness at the measurement point located at the center of the substrate is 600 n
m. The level of the refractive index n of the polymer layer is measured in three spatial directions x, y (layer plane) and z (perpendicular to the layer) using a prism coupling method.
For this purpose, the base of the prism is brought into intimate contact with the polymer layer. The angle at which the polarization of the laser is incorporated into the layer and transmitted through it in a waveguide manner provides information about the refractive index at the wavelength of the light. When a signal drop on the detector causes a reflection, each incorporation (cou) occurs.
"pling in" is cleared (becomes clear).

【0127】 前記レーザーの偏光をこれが入射面に対して垂直になるように選択する(s偏
光)ことでこの偏光方向における屈折率を測定することができる。nxおよびny の値を前記基質の配向に応じて測定することができる。低い方の屈折率を示す基
質の屈折率、プリズムの屈折率およびレーザーの波長(λ=633nm)も計算
に加える。入射面で偏光(p偏光)が起こる場合、nzの値を測定することがで
きる。この目的で、2空間方向の一方xまたはyを入射面に一致させる必要があ
る。追加的に、このようにして選択した方向の屈折率値(nxまたはny)も計算
に加える。
By selecting the polarization of the laser so that it is perpendicular to the plane of incidence (s-polarization), the refractive index in this polarization direction can be measured. the value of n x and n y can be determined according to the orientation of the substrate. The refractive index of the substrate showing the lower refractive index, the refractive index of the prism and the wavelength of the laser (λ = 633 nm) are also added to the calculation. If polarized light (p-polarized light) occurs at the plane of incidence, the value of nz can be measured. For this purpose, it is necessary to match one of the two spatial directions, x or y, with the plane of incidence. Additionally, the index value ( nx or ny ) in the direction thus selected is also added to the calculation.

【0128】 当該サンプルに関する屈折率nx、nyおよびnzを数回の露光および取り消し
過程前、過程中および過程後に測定する。ポリマー層に波長λ=514nmのレ
ーザー光による照射を垂直な入射で受けさせることで露光を受けさせる。この光
の強度を200mW/cm2にする。この光をx方向に線形偏光させる。このよ
うにしてxy面に誘発させた配向異方性の取り消しをy方向における偏光で起こ
させる。
[0128] The samples for refractive indices n x, n y and n z several exposure and revocation process before, measured during and after the course and the course. The polymer layer is irradiated with laser light having a wavelength of λ = 514 nm at normal incidence to be exposed. The intensity of this light is set to 200 mW / cm 2 . This light is linearly polarized in the x direction. In this way, the cancellation of the orientation anisotropy induced in the xy plane is caused by polarized light in the y direction.

【0129】[0129]

【表2】 [Table 2]

【0130】 各空間方向の屈折率のレベルは、その方向に配向した発色団の平均数の尺度で
ある、と言うのは、これは誘発性偏光と相互に関係しかつこれは主に各分子軸に
沿って存在する高分子量の偏光体(polarisabilities)で構成
されているからである。nxとnyは元々同じであることから、巨視的に等方性の
分布がxy面に存在する。nz値が小さいことは、製造工程の結果として分子の
配向が平らであることを示している。最初の露光で次第に配向分配(orien
tation distribution)がもたらされる結果として、x方向
に位置する発色団の数が少なくなる。この方向の減少は、統計学的意味で、他の
2つの空間方向yおよびzが等しい分率(equal parts)で増加する
ことで起こり、これはnyとnzの値が大きくなることで読み取ることができる。
フィルム面における複屈折ny−nxを再び完全になくすことができる。しかしな
がら、さらなる露光または取り消し手順を行うに伴って、それらの各々でz方向
に配向する発色団の数が多くなる。
The level of refractive index in each spatial direction is a measure of the average number of chromophores oriented in that direction, because it correlates with the induced polarization and it is primarily This is because it is composed of a high molecular weight polarizer that exists along the axis. Since nx and ny are originally the same, a macroscopically isotropic distribution exists on the xy plane. A small nz value indicates that the orientation of the molecules is flat as a result of the manufacturing process. Orientation distribution gradually (orien
As a result of the occurrence of the transition, the number of chromophores located in the x-direction is reduced. This decrease in direction occurs in the statistical sense by increasing the other two spatial directions, y and z, by an equal fraction, which is due to the larger values of ny and nz. Can be read.
Birefringence n y -n x can again completely eliminated in the film plane. However, as further exposure or cancellation procedures are performed, the number of chromophores oriented in the z-direction in each of them increases.

【0131】 実施例5 実施例3で得たポリマーは粒子の形態で存在する。これをガラス基質に塗布し
て約180℃に加熱する。この温度で前記ポリマーは溶融する。前記ガラス基質
の上にスペーサー、例えばマイラーフィルムまたはガラス繊維などを位置させそ
して更にカバーガラスを位置させる。このようなガラス−ポリマー−ガラスのサ
ンドイッチを用いて20から1000μmの範囲の層を生じさせる。
Example 5 The polymer obtained in Example 3 is in the form of particles. This is applied to a glass substrate and heated to about 180 ° C. At this temperature the polymer melts. A spacer, such as a mylar film or glass fiber, is placed on the glass substrate and a cover glass is further placed. Such glass-polymer-glass sandwiches are used to produce layers ranging from 20 to 1000 μm.

【0132】 実施例6 実施例5の方法で生じさせた厚みが500μmのポリマーフィルムに試験をホ
ログラフィック構造の状態で受けさせる。SHG Nd:YAGレーザー(53
2nm)を記録源として用いる。物体波の光線路にSpatial Light
Modulator(これはピクセル数が1024x1024のデータマスク
を構成している)を位置させる。参照波と物体波の強度比を7:1にし、サンプ
ルの上に落ちて来る全パワー密度を200mW/cm2にする。前記参照波と物
体波を重ね合わせてそれらの偏光を入射面に対して垂直にしそしてそれらがサン
プルの上に互いに対して40゜の角度で落ちて来てサンプルを30秒間露光する
ようにして、ホログラムを記録させ、次に、参照波のみを用いた露光(露光時間
10ミリ秒)で前記ホログラムを読み取った。参照波の角度を0.25゜変える
とBragg状態が壊れて、元々のホログラムはもはや見ることができなくなる
。そのような新しい角度の配置下で新しいホログラムを記録させる。この過程を
100回繰り返す。各記録過程後、相当する参照角(reference an
gle)を調節することを通して、直前に記録させたホログラムを読み取ること
ができることに加えて、以前に記録させたホログラムの全部を読み取った。10
0回の記録過程が終了した後でも、全てのホログラムに含まれる情報が保持され
た。
EXAMPLE 6 A 500 μm thick polymer film produced by the method of Example 5 is tested in a holographic structure. SHG Nd: YAG laser (53
2 nm) as a recording source. Spatial Light on the optical path of the object wave
Locate the Modulator (which constitutes a data mask with 1024 x 1024 pixels). The intensity ratio of the reference wave to the object wave is 7: 1 and the total power density falling on the sample is 200 mW / cm 2 . Superimposing the reference and object waves so that their polarizations are perpendicular to the plane of incidence and they fall on the sample at an angle of 40 ° to each other, exposing the sample for 30 seconds, The hologram was recorded, and then the hologram was read by exposure using only the reference wave (exposure time: 10 ms). Changing the angle of the reference wave by 0.25 ° breaks the Bragg state and the original hologram can no longer be seen. A new hologram is recorded under such a new angle arrangement. This process is repeated 100 times. After each recording step, the corresponding reference angle (reference an)
By adjusting the gle), all of the previously recorded holograms were read, in addition to being able to read the hologram just recorded. 10
The information contained in all the holograms was retained even after the zero recording process was completed.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/004 505 G03F 7/004 505 521 521 G03H 1/26 G03H 1/26 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZW ),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU, TJ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,C R,CU,CZ,DE,DK,DM,EE,ES,FI ,GB,GD,GE,GH,GM,HR,HU,ID, IL,IN,IS,JP,KE,KG,KP,KR,K Z,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MA ,MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ, PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,S K,SL,TJ,TM,TR,TT,TZ,UA,UG ,US,UZ,VN,YU,ZA,ZW (72)発明者 アイクマンス,ヨハネス ドイツ・デー−42781ハーン・ロベルト− コツホ−シユトラーセ3 (72)発明者 ハゲン,ライナー ドイツ・デー−51375レーフエルクーゼ ン・フエリクス−フオン−ロル−シユトラ ーセ35 (72)発明者 コストロミネ,セルゲイ ドイツ・デー−53913シユビストタール・ カタリネンシユトラーセ28 Fターム(参考) 2H025 AA01 AA12 AB20 AC08 BH05 CB08 CB41 CC13 2K008 AA04 BB04 CC01 DD12 FF07 4H006 AA03 AB46 AB91 AB92 4J026 AA03 BA27 BA39 BB01 DB15 GA01 HA11 HB11 HE01 4J100 AL08P BA02P BA34P BA45P BC43P ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme court ゛ (Reference) G03F 7/004 505 G03F 7/004 505 521 521 G03H 1/26 G03H 1/26 (81) Designated country EP ( AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE), OA (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG), AP (GH, GM, KE, LS, MW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW), EA (AM , AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM), AE, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE , KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW (72) Inventor Eikmans, Johannes Deutsche D 42781 Hahn Robert-Kotscho-Schülase 3 (72) Inventor Hagen, Reiner Germany-51 375 Lehuel-Herikusn-Felix-Hon-Roll-Shuitrace 35 (72) Inventor Kostromine, Sergey Germany-D-53913 Schivist Tar Katarinen Shuttlease 28 F Term (Reference) 2H025 AA01 AA12 AB20 AC08 BH05 CB08 CB41 CC13 2K008 AA04 BB04 CC01 DD12 FF07 4H006 AA03 AB46 AB91 AB92 4J026 AA03 BA27 BA39 BB01 DB15 GA01 BA11 HBP08P

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ホログラム記録時に空間配置が変化する少なくとも1種の染
料を含有しかつ場合により少なくとも1種の形状異方性基を含有していてもよい
ホログラフィック多量記憶媒体用記録材料であって、1つの標本位置に数個のホ
ログラムを記録することができることを特徴とする記録材料。
1. A recording material for a holographic mass storage medium, comprising at least one dye whose spatial arrangement changes during hologram recording and optionally containing at least one shape anisotropic group, A recording material characterized in that several holograms can be recorded at one sample position.
【請求項2】 吸光挙動が変化、特に化学光線に対する感度が各場合とも1
番目のホログラムの記録を行う前の感度を基準にして低下、好適には10%から
100%低下、より好適には50%から100%低下、最も好適には90%から
100%低下するような様式で空間配置が変化する染料が少なくとも1種類存在
する染料の中の染料であることを特徴とする請求項1記載の記録材料。
2. The absorption behavior changes, in particular the sensitivity to actinic radiation is 1 in each case.
The sensitivity is preferably reduced by 10% to 100%, more preferably by 50% to 100%, most preferably by 90% to 100%, based on the sensitivity before recording the hologram. 2. The recording material according to claim 1, wherein the dye whose spatial arrangement changes in a manner is a dye among the dyes present in at least one kind.
【請求項3】 吸光挙動が変化、特に化学光線に対する感度が、特に前記化
学光線の偏光方向に垂直な方向に素早く動いて分子の縦方向軸が前記化学光の偏
光方向に対して10゜から90゜、好適には50゜から90゜、より好適には7
5゜から90゜、最も好適には85゜から90゜の角度に位置するようになる点
で、低下するような様式で空間配置が変化する染料が少なくとも1種類存在する
染料の中の染料であることを特徴とする請求項1記載の記録材料。
3. The absorption behavior changes, in particular the sensitivity to actinic light, especially when the molecule moves quickly in a direction perpendicular to the direction of polarization of the actinic light so that the longitudinal axis of the molecule is from 10 ° to the direction of polarization of the actinic light. 90 °, preferably 50 ° to 90 °, more preferably 7
Dyes in which at least one dye has at least one dye that changes spatial arrangement in such a way as to decrease in that it will be located at an angle of 5 ° to 90 °, most preferably 85 ° to 90 °. The recording material according to claim 1, wherein the recording material is provided.
【請求項4】 390から800nm、好適には400から650nm、よ
り好適には510から570nm、最も好適には520から570nmの波長範
囲内の光密度が≦2、好適には1に等しいか或はそれ以下、より好適には0.3
に等しいか或はそれ以下であることを特徴とする請求項1から3の1項以上記載
の記録材料。
4. The light density in the wavelength range from 390 to 800 nm, preferably from 400 to 650 nm, more preferably from 510 to 570 nm, most preferably from 520 to 570 nm, is equal to ≦ 2, preferably equal to 1, or Is less than that, more preferably 0.3
4. The recording material according to claim 1, wherein the recording material is equal to or less than the following.
【請求項5】 ≧0.1mm、好適には>0.5mm、より好適には>1.
0mm、最も好適には5cm以下の照射厚を有することを特徴とする請求項1か
ら4の1項以上記載の記録材料。
5 .gtoreq.0.1 mm, preferably> 0.5 mm, more preferably> 1.
5. A recording material according to claim 1, wherein the recording material has an irradiation thickness of 0 mm, most preferably 5 cm or less.
【請求項6】 主にポリマー状またはオリゴマー状の有機材料を含有するこ
とを特徴とする請求項1から5の1項以上記載の記録材料。
6. The recording material according to claim 1, wherein the recording material mainly contains a polymer or oligomer organic material.
【請求項7】 前記記録材料の光密度が、好適には、少なくとも1種類存在
する染料の中の染料の濃度によって調整されることを特徴とする請求項1から6
の1項以上記載の記録材料。
7. The light density of the recording material is preferably adjusted by the concentration of a dye in at least one type of dye.
The recording material according to one or more of the above.
【請求項8】 前記光密度が少なくとも1種類存在する染料の中の染料のモ
ル吸光係数によって調整されることを特徴とする請求項1から7の1項以上記載
の記録材料。
8. The recording material according to claim 1, wherein the light density is adjusted by the molar extinction coefficient of at least one of the dyes.
【請求項9】 ポリマー状もしくはオリゴマー状の非晶質有機材料、好適に
は側鎖ポリマーおよび/またはブロックコポリマーおよび/またはグラフトポリ
マーであることを特徴とする請求項1から8の1項以上記載の記録材料。
9. A polymer or oligomeric amorphous organic material, preferably a side-chain polymer and / or a block copolymer and / or a graft polymer. Recording material.
【請求項10】 前記電磁放射線が波長の範囲が好適には390から800
nm、より好適には400から650nm、更により好適には510から570
nm、最も好適には520nmから570nmのレーザー光であることを特徴と
する請求項1から9の1項以上記載の記録材料。
10. The electromagnetic radiation preferably has a wavelength in the range of 390 to 800.
nm, more preferably 400 to 650 nm, even more preferably 510 to 570
10. Recording material according to one or more of the preceding claims, characterized in that it is a laser beam of nm, most preferably of 520 nm to 570 nm.
【請求項11】 請求項1から10の1項以上記載の記録材料の使用であっ
て、前記記憶材料の1つの位置に少なくとも3個、好適には100個を越える数
、より好適には500個を越える数、最も好適には1000個越える数の多量の
ホログラムを記録、特に角依存で記録するための使用。
11. Use of a recording material according to one or more of the preceding claims, wherein at least one, preferably more than 100, more preferably 500, in one position of said storage material. Use for recording a large number of holograms, more than one, most preferably more than one thousand, especially for angle-dependent recording.
【請求項12】 請求項1から10の1項以上記載の記録材料の使用であっ
て、多量のホログラムを読み取る、特に角依存で読み取るための使用。
12. Use of the recording material according to one or more of claims 1 to 10, for reading a large amount of holograms, in particular for reading angle-dependent.
【請求項13】 ホログラフィック多量記憶媒体であって、請求項1から1
0記載の記録材料を含有することを特徴とするホログラフィック多量記憶媒体。
13. A holographic mass storage medium, comprising:
A holographic mass storage medium comprising the recording material described in Item 0.
【請求項14】 前記記録材料が任意所望形態の1種以上の非支持型物、好
適には非支持型二次元構造物、より好適には非支持型フィルムを含有していてそ
れが多層構造物、好適には少なくとも1層の基質層内に含まれていることを特徴
とする請求項13記載のホログラフィック多量記憶媒体。
14. The recording material comprises any desired form of one or more unsupported objects, preferably an unsupported two-dimensional structure, more preferably an unsupported film, which comprises a multilayer structure. 14. Holographic mass storage medium according to claim 13, characterized in that it is contained within an object, preferably at least one substrate layer.
【請求項15】 請求項13または14の少なくとも1項記載のホログラフ
ィック多量記憶媒体を製造する方法であって、操作を通常の射出成形加工に従っ
て300℃以下、好適には220℃以下、より好適には180℃以下の範囲で実
施する段階を包含することを特徴とする方法。
15. A method for producing a holographic mass storage medium according to at least one of claims 13 and 14, wherein the operation is carried out below 300 ° C., preferably below 220 ° C., according to normal injection molding processes. Comprises a step performed at a temperature of 180 ° C. or lower.
【請求項16】 ポリマーであって、式(I) 【化1】 [式中、 R1およびR2は、互いに独立して、水素または非イオン性置換基を表し、そして
1は、追加的に、−X1'−R3を表してもよく、 mおよびnは、互いに独立して、0から4の整数、好適には0から2の整数を表
し、 X1およびX2は、それぞれ−X1'−R3および−X2'−R4を表し、 X1'およびX2'は、直接結合、−O−,−S−,−(N−R5)−,−C(R6 7 )−,−(C=O)−,−(CO−O)−,−(CO−NR5)−,−(SO2
)−,−(SO2−O)−,−(SO2−NR5)−,−(C=NR8)−または−
(CNR8−NR5)−を表し、 R3、R4、R5およびR8は、互いに独立して、水素、C1からC20−アルキル、
3からC10−シクロアルキル、C2からC20−アルケニル、C6からC10−アリ
ール、C1からC20−アルキル−(C=O)−、C3からC10−シクロアルキル−
(C=O)−、C2からC20−アルケニル−(C=O)−、C6からC10−アリー
ル−(C=O)−、C1からC20−アルキル−(SO2)−、C3からC10−シク
ロアルキル−(SO2)−、C2からC20−アルケニル−(SO2)−またはC6
らC10−アリール−(SO2)−を表すか、或は X1'−R3およびX2'−R4は、水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、CF3または
CCl3を表してもよく、 R6およびR7は、互いに独立して、水素、ハロゲン、C1からC20−アルキル、
1からC20−アルコキシ、C3からC10−シクロアルキル、C2からC20−アル
ケニルまたはC6からC10−アリールを表す] で表される染料が化学的に結合しているポリマー。
16. A polymer comprising a compound of the formula (I)[Where R1And RTwoRepresents, independently of one another, hydrogen or a non-ionic substituent; and
R1Is additionally -X1'-RThreeM and n independently of one another represent an integer from 0 to 4, preferably an integer from 0 to 2
Then X1And XTwoIs -X1'-RThreeAnd -XTwo'-RFourX1'And XTwo'Is a direct bond, -O-, -S-,-(N-RFive)-, -C (R6R 7 )-,-(C = O)-,-(CO-O)-,-(CO-NRFive)-,-(SOTwo
)-,-(SOTwo-O)-,-(SOTwo-NRFive)-,-(C = NR8)-Or-
(CNR8-NRFive)-, RThree, RFour, RFiveAnd R8Are, independently of one another, hydrogen, C1To C20-Alkyl,
CThreeTo CTen-Cycloalkyl, CTwoTo C20-Alkenyl, C6To CTen-Ant
, C1To C20-Alkyl- (C = O)-, CThreeTo CTen-Cycloalkyl-
(C = O)-, CTwoTo C20-Alkenyl- (C = O)-, C6To CTen-Ally
Ru- (C = O)-, C1To C20-Alkyl- (SOTwo)-, CThreeTo CTen-Shiku
Low alkyl- (SOTwo)-, CTwoTo C20-Alkenyl- (SOTwo)-Or C6Or
La CTen-Aryl- (SOTwo)-, Or X1'-RThreeAnd XTwo'-RFourIs hydrogen, halogen, cyano, nitro, CFThreeOr
CClThreeMay be represented by R6And R7Are, independently of one another, hydrogen, halogen, C1To C20-Alkyl,
C1To C20-Alkoxy, CThreeTo CTen-Cycloalkyl, CTwoTo C20-Al
Kenyl or C6To CTen-Represents an aryl] is a polymer chemically bonded thereto.
【請求項17】 式(II) 【化2】 [式中、 Rは、水素またはメチルを表し、そして 他の基はこの上で定義した通りである] で表される少なくとも1種のモノマーを含有することを特徴とする請求項16記
載のポリマー。
17. A compound of the formula (II) 17. A polymer as claimed in claim 16, comprising at least one monomer of the formula wherein R represents hydrogen or methyl and the other groups are as defined above. .
【請求項18】 式(IIa)および/または(IIb)で表される少なく
とも1種のモノマーを含有することを特徴とする請求項16または17の少なく
とも1項記載のポリマー。
18. The polymer according to claim 16, wherein the polymer contains at least one monomer represented by the formula (IIa) and / or (IIb).
【請求項19】 請求項1から10の1項記載の記録材料または請求項16
から18の1項記載のポリマーを製造する方法であって、少なくとも1種類存在
するモノマーの中のモノマーをさらなる溶媒なしに重合させるが、この重合が好
適にはフリーラジカル重合であり、より好適には、この重合をフリーラジカル開
始剤および/またはUV光および/または熱で開始させることを特徴とする方法
19. The recording material according to claim 1, wherein the recording material is a recording material.
20. The process for producing a polymer according to 1 to 18 wherein the monomers among the at least one monomer present are polymerized without further solvent, this polymerization being preferably a free radical polymerization, more preferably Is a process characterized by initiating the polymerization with a free radical initiator and / or UV light and / or heat.
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