KR200186341Y1 - High density plasma device coupled with ultrasonic wave and high frequency pulse for waste water treatment - Google Patents
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Abstract
본 고안은 초음파와 펄스파 결합 고밀도 플라즈마 폐수처리장치에 관한 것으로, 상세하게는 쓰레기 매립장 침출수, 염색폐수ㆍ피혁폐수ㆍ석유화학폐수ㆍ제지폐수와 같은 산업폐수와 축산폐수 및 생활폐수와 같은 각종 폐수 중으로 라디칼과 전자를 포함하는 음이온이나 오존을 폐수 속으로 버브링시키면서 20,000Hz~40,000Hz의 초음파와 1㎑~100㎒의 고주파 사각 펄스파(square pulse wave)를 동시에 이용하면 초음파에 의하여 준 분자수준으로 마이크로 믹싱(micro mixing) 되어 폐수 중에 용해하여 수화되어 있는 유기물이나 중금속 착이온(complexion)들과 라디컬, 전자, 음이온들은 수화된 물 층(hydration seath)을 벗어나게 되고, 펄스파가 수화층을 파괴하여 수중에서 유사기상반응(gas like reaction)을 일으켜 이온이나 극성 유기분자들이 수화층을 벗어나게 함으로써 마치 공기 중에서 휘발성 유기물(VOC)이 음이온에 의하여 순식간에 산화 분해되는 것과 같이 물 속에서 유기물이나 착이온, 음이온 및 전자들을 더욱 높은 에너지 상태로 활성화되어 오염물질들이 신속히 산화 분해되어 COD, BOD, SS의 제거는 물론 탈질, 탈인, 탈색 및 탈취에 특별한 효과를 나타내게 되므로 폐수의 고도정화 처리에 가장 적합하고 경제적인 폐수처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a high-density plasma wastewater treatment apparatus combined with ultrasonic waves and pulse waves, and more specifically, industrial wastewater such as landfill leachate, dyeing wastewater, leather wastewater, petrochemical wastewater and paper wastewater, and various wastewater such as animal wastewater and domestic wastewater. When using an ultrasonic wave of 20,000Hz ~ 40,000Hz and a high frequency square pulse wave of 1㎑ ~ 100MHz simultaneously while bubbling anion or ozone containing radicals and electrons into the wastewater, the molecular level is given by ultrasonic waves. Micromixed organic matter and heavy metal complex ions, radicals, electrons and anions that are hydrated and dissolved in the waste water, leave the hydration seath, and the pulse wave Break down and cause a gas-like reaction in water, causing ions or polar organic molecules to leave the hydration layer. Just as volatile organic compounds (VOCs) are rapidly oxidatively decomposed by anions in air, organic matters, complex ions, anions and electrons are activated in a higher energy state in the water and contaminants are rapidly oxidatively decomposed to COD, BOD and SS. Removal, as well as denitrification, dephosphorization, decolorization and deodorization because it has a special effect is the most suitable and economical wastewater treatment apparatus for advanced purification of wastewater.
Description
본 고안은 초음파와 펄스파 결합 고밀도 플라즈마 폐수처리장치에 관한 것으로, 상세하게는 쓰레기 매립장 침출수, 염색폐수ㆍ피혁폐수ㆍ석유화학폐수ㆍ제지폐수와 같은 산업폐수와 축산폐수 및 생활폐수와 같은 각종 폐수 중으로 라디칼과 전자를 포함하는 음이온이나 오존을 폐수 속으로 버브링시키면서 20,000Hz~40,000Hz의 초음파와 1㎑~100㎒의 고주파 사각 펄스파(square pulse wave)를 동시에 이용하면 초음파에 의하여 준 분자 수준으로 마이크로 믹싱(micro mixing) 되어 폐수 중에 용해하여 수화되어 있는 유기물이나 중금속 착이온(complexion)들과 라디컬, 전자, 음이온들은 수화된 물 층(hydration seath)을 벗어나게 되고, 고주파 펄스가 수화층을 파괴하여 수중에서 유사기상반응(gas like reaction)을 일으켜 이온이나 극성 유기분자들이 수화층을 벗어나게 함으로써 마치 공기 중에서 휘발성 유기물 (VOC)이 음이온에 의하여 순식간에 산화 분해되는 것과 같이 물 속에서 유기물이나 착이온, 음이온 및 전자들을 더욱 높은 에너지 상태로 활성화되어 오염물질들이 신속히 산화 분해되어 COD, BOD, SS의 제거는 물론 탈질, 탈인, 탈색 및 탈취에 특별한 효과를 나타내게 되므로 폐수 고도 정화처리에 가장 적합하고 경제적인 폐수처리장치를 제공하도록 한 것이다.The present invention relates to a high-density plasma wastewater treatment apparatus combined with ultrasonic waves and pulse waves, and more specifically, industrial wastewater such as landfill leachate, dyeing wastewater, leather wastewater, petrochemical wastewater and paper wastewater, and various wastewater such as animal wastewater and domestic wastewater. When the anion or ozone containing radicals and electrons is bubbling into the wastewater, the ultrasonic level of 20,000 Hz to 40,000 Hz and the high frequency square pulse wave of 1 ㎑ to 100 MHz are simultaneously used to give the molecular level. Micromixed organic matter, heavy metal complexions, radicals, electrons, and anions that are hydrated and dissolved in the waste water, leave the hydration seath, and high-frequency pulses Break down and cause a gas-like reaction in water, causing ions or polar organic molecules to leave the hydration layer. Just as volatile organic matter (VOC) is rapidly oxidatively decomposed by anions in air, organic matters, complex ions, anions and electrons are activated in a higher energy state in the water and contaminants are rapidly oxidatively decomposed to COD, BOD, SS. Of course, since it has a special effect on denitrification, dephosphorization, decolorization and deodorization, it is to provide the most suitable and economical wastewater treatment apparatus for advanced wastewater purification treatment.
각종 오염물질이 함유된 폐수는 색도가 높아서 강물이나 지하수 및 바닷물과 같은 수질을 오염시키고 또한 수중으로 유입되는 빛과 산소 등을 차단시켜 수중생물과 미생물에게 엄청난 피해를 끼치고 있으며 수자원의 오염으로 용수 생산에도 큰 장애요소로 되고 있다.Wastewater containing various pollutants is high in color, contaminating water quality such as river, groundwater and seawater, and blocking water and oxygen coming into the water, causing enormous damage to aquatic organisms and microorganisms. Edo has become a major obstacle.
또한, 인구의 증가와 산업의 발달에 따라 산업폐수의 발생량 또한 급증추세에 있으며 이들로 인한 환경공해 및 생태계 파괴가 큰 사회문제로 대두됨에 따라 방류폐수의 법적 환경기준치를 마련하여 엄격히 규제하고 있으며, 그 처리수단과 방법에 대해서는 많은 고심과 더불어 꾸준한 연구를 수행하고 있는 실정이다.In addition, the amount of industrial wastewater is increasing rapidly with the increase of the population and the development of the industry, and the environmental pollution and the destruction of the ecosystem caused by these problems are becoming a big social problem. The treatment method and method are doing a lot of research and steady research.
종래에도 화공약품으로 오염성분을 응집(또는 침전)시키는 방법, 미생물에 의한 처리방법 등 여러 방식의 폐수정화장치가 안출된 바 있으나, 폐수 중의 계면활성성분과 같은 난 분해성 오염성분의 분해나 물질변화 및 집체에 의한 정화 및 제거가 현실적으로 어려워 정화효율이 매우 낮고 처리비용이 상승되는 문제점이 있었다.Conventionally, various methods of wastewater purification devices have been proposed, such as agglomeration (or precipitation) of contaminants with chemicals, treatment with microorganisms, but decomposition or material change of hardly decomposable pollutants such as surfactants in wastewater. And it is difficult to purify and remove by the aggregate in reality, there is a problem that the purification efficiency is very low and the treatment cost is increased.
또한, 1급수나 2급수와 같이 COD가 비교적 낮은 상수도 원수를 오존으로 고도 정화처리하는 것은 가능하나 쓰레기 매립장의 침출수, 고농도 축산폐수와 염색폐수, 석유화학폐수, 제지폐수, 제당폐수와 같은 고농도 산업폐수를 오존으로 정화 처리하는 것은 거의 불가능하다.In addition, high-purity raw water with low COD, such as first-class or second-class water, can be highly purified with ozone, but high concentration industries such as leachate from landfills, high concentration livestock waste and dyeing wastewater, petrochemical wastewater, paper wastewater and sugar wastewater It is almost impossible to purify waste water with ozone.
따라서, 본 고안은 쓰레기 매립장 침출수, 염색폐수ㆍ피혁폐수ㆍ석유화학폐수ㆍ제지폐수와 같은 산업폐수와 축산폐수 및 생활폐수와 같은 각종 폐수 중으로 라디칼과 전자를 포함하는 음이온이나 오존을 폐수 속으로 버브링시키면서 20,000Hz~40,000Hz의 초음파와 1㎑~100㎒의 고주파 펄스파(High Frequency square pulse wave)를 동시에 이용하면 초음파에 의하여 준 분자 수준으로 마이크로 믹싱(micro mixing) 되어 폐수 중에 용해하여 수화되어 있는 유기물이나 중금속 착이온(complex ion)들과 라디컬, 전자, 음이온들은 수화된 물 층(hydration seath)을 벗어나게 되고, 고주파 펄스가 수화층을 파괴하여 수중에서 유사기상반응(gas like reaction)을 일으켜 이온이나 극성 유기분자들이 수화층을 벗어나게 함으로써 마치 공기 중에서 휘발성 유기물(VOC)이 음이온에 의하여 순식간에 산화 분해되는 것과 같이 물 속에서 유기물이나 착이온, 음이온 및 전자들을 더욱 높은 에너지 상태로 활성화되어 오염물질들이 신속히 산화 분해되어 COD, BOD, SS의 제거는 물론 탈질, 탈인, 탈색 및 탈취에 특별한 효과를 나타내는 폐수고도 정화처리에 가장 적합하고 경제적인 폐수처리장치를 제공함에 목적이 있다.Therefore, the present invention is to discharge anion or ozone containing radicals and electrons into various wastewaters such as landfill leachate, dyeing wastewater, leather wastewater, petrochemical wastewater and paper wastewater, and various wastewaters such as livestock wastewater and domestic wastewater. If you use the ultrasonic wave of 20,000Hz ~ 40,000Hz and the high frequency square pulse wave of 1㎑ ~ 100MHz at the same time, you can micro-mix at the quasi-molecular level by ultrasonic wave to dissolve and hydrate in waste water. The presence of organic or heavy metal complex ions, radicals, electrons, and anions leave the hydration seath, and high-frequency pulses destroy the hydration layer, causing gas-like reactions in water. It causes ions and polar organic molecules to leave the hydration layer, so that volatile organic matter (VOC) in the air Like oxidative decomposition, organics, complex ions, anions and electrons are activated in a higher energy state in the water, so pollutants are rapidly oxidatively decomposed and have a particular effect on the removal of COD, BOD and SS as well as denitrification, dephosphorization, decolorization and deodorization. It is an object of the present invention to provide a wastewater treatment apparatus that is most suitable for the wastewater altitude purification treatment.
일반적으로 공기 중에서 고전압 저 전류에 의한 직류방전으로 생성되는 플라즈마는 이온, 라디컬, 전자로 구성되어 있다. 이 경우 코로나 방전에서는 산소 음이온(O2 -), 오존 음이온(O3 -), 하드록사이드 라디컬(OHㆍ) 과 같은 음이온, 라디컬과 전자가 주로 발생하므로 플라즈마 발생장치는 음이온 발생장치라고 부른다. 그러나 스파크 방전에서는 오존(O3)이 주로 발생하므로 플라즈마 발생장치를 오존 발생장치라 부른다.In general, plasma generated by direct current discharge by high voltage and low current in air is composed of ions, radicals, and electrons. In this case, the corona discharge generates anions such as oxygen anions (O 2 − ), ozone anions (O 3 − ), hardoxide radicals (OH ·), radicals and electrons, and thus, plasma generators are called anion generators. Call. However, since the spark discharge mainly produces ozone (O 3 ), the plasma generator is called an ozone generator.
한편, 본 고안자가 기 발명한 특허 제10-0188232호에서 제시한 바와 같이 산업폐수를 전해(전기분해)처리하면서 공기, 산소 또는 오존이나 이들의 혼합가스를 버블링(bubbling)시키면 산업폐수의 색도, 화학적 산소 요구량(COD), 생물학적 산소 요구량(BOD) 그리고 분산된 고체(SS)입자 등을 크게 저하시켜 산업폐수가 정화 처리되며, 염소 화합물이나 이들의 혼합물을 산업폐수에 넣고 음이온 및 오존이나 이들의 혼합가스를 버블링시키면 염소이온(Cl-)의 산화로 인하여 차아 염소산이온( ClO1 -), 아 염소산 이온(ClO2 -), 염소산 이온(ClO3 -) 및 과 염소산 이온(ClO4 -)이 발생되므로 산업폐수내의 산소 용해도가 크게 증가된다.On the other hand, when the present inventors bubbling air, oxygen or ozone or a mixture of these while electrolytic (electrolytic) treatment of industrial wastewater as proposed in Patent No. 10-0188232, the chromaticity of the industrial wastewater , Chemical oxygen demand (COD), biological oxygen demand (BOD), and dispersed solid particles (SS) particles are greatly reduced, and industrial wastewater is purified.In addition, chlorine compounds or mixtures thereof are placed in industrial wastewater and anion and ozone or hypochlorite ion, due to the oxidation of (ClO 1 -) - in when ring a mixed gas bubble chloride ion (Cl), chlorite ion (ClO 2 -), chlorate ion (ClO 3 -) and the hypochlorite ion (ClO 4 - ), The solubility of oxygen in industrial wastewater is greatly increased.
또한, 이와 같은 염소산 이온들을 포함한 산업폐수에 저전압(1V∼100V)의 직류나 고주파 교류펄스를 인가하여 전기분해하면 이들 염소산 이온들로부터 높은 에너지를 가진 산소이온(O2 -)들이 분리되어 나와서 전술한 특허 제10-0188232호 보다 더욱 높은 효율로 염료분자나 안료분자의 발색단이나 조색단을 공격하여 이들 분자들을 산화 분해함으로써 산업용 폐수의 색도, COD, BOD 및 SS 등을 크게 저하시켜 정화 처리하게 된다.In addition, when the low-voltage (1V to 100V) direct current or high frequency alternating current pulse is applied to industrial wastewater containing such chlorate ions, oxygen ions (O 2 − ) having high energy are separated from these chlorate ions. By attacking chromophores or chromophores of dye molecules or pigment molecules with higher efficiency than Korean Patent No. 10-0188232, oxidative decomposition of these molecules greatly reduces the chromaticity, COD, BOD and SS of industrial wastewater, and purifies them. .
일반적으로 1급수나 2급수와 같이 COD가 비교적 낮은 상수도 원수를 오존으로 고도정화 처리하는 것은 가능하나 쓰레기 매립장 침출수, 고농도 축산폐수와 염색폐수, 석유화학폐수, 제지폐수, 제당폐수와 같은 고농도 산업폐수를 오존으로 정화 처리하는 것은 거의 불가능하다.In general, high-purity raw water with relatively low COD, such as first-class or second-class water, can be treated with ozone, but high concentration industrial wastewater such as landfill leachate, high concentration livestock wastewater, dyeing wastewater, petrochemical wastewater, paper wastewater and sugar wastewater. Is almost impossible to purify with ozone.
그러나, 라디칼과 전자를 포함하는 본 고안자가 출원한 특허출원 제10-1999-0036738호(1999. 8. 31)의 고밀도 플라즈마 발생장치를 사용하여 생성시킨 음이온이나 오존을 폐수 속으로 버브링시키면서 20,000Hz~40,000Hz의 초음파와 1㎑~100㎒의 고주파 펄스(high frequency square pulse wave)를 동시에 이용하면 초음파에 의하여 준 분자수준으로 마이크로 믹싱(micro mixing) 되어 폐수 중에 용해하여 수화되어 있는 유기물이나 중금속 착이온(complex ion)들과 라디컬, 전자, 음이온들은 수화된 물 층(hydration seath)을 벗어나게 되고, 펄스 전파에 의하여 이온이나 극성 유기분자들이 수화층을 벗어나게 된다.However, while bubbling into the wastewater, anion or ozone generated using the high-density plasma generator of Patent Application No. 10-1999-0036738 (August 31, 1999) filed by the inventor including radicals and electrons, By using ultrasonic wave of Hz ~ 40,000Hz and high frequency square pulse wave of 1㎑ ~ 100MHz at the same time, it is micro-mixed to quasi-molecular level by ultrasonic wave and dissolved in waste water to hydrate organic matter or heavy metal Complex ions, radicals, electrons, and anions leave the hydration seath, and ions or polar organic molecules leave the hydration layer by pulse propagation.
따라서, 마치 공기 중에서 휘발성 유기물(VOC)이 음이온에 의하여 순식간에 산화분해되는 것과 같이 물 속에서 유기물이나 착이온 들이 신속히 산화 분해된다. 이와 같은 사실은 높은 진동수를 가진 초음파와 펄스전파가 앞에서 언급한 바와 같은 수화층을 파괴하므로 인하여 수중에서 유사기상반응(gas like reaction)을 일으키게 하고 동시에 물 속의 유기물, 착이온, 음이온 및 전자들을 더욱 높은 에너지 상태로 활성화시키기 때문에 가능하게 된다.Therefore, organic matter or complex ions are rapidly oxidatively decomposed in water as if volatile organic matter (VOC) is rapidly oxidatively decomposed by anions in the air. This is due to the fact that high frequency ultrasonic waves and pulse propagation destroy the hydration layer as mentioned above, resulting in gas-like reactions in water and at the same time more organic matters, complex ions, anions and electrons in water. This is possible because it is activated in a high energy state.
이와 같은 폐수처리는 COD, BOD, SS의 제거는 물론 탈질, 탈인, 탈색 및 탈취에 특별한 효과를 나타내게 되므로 폐수고도 정화처리에 가장 적합하고 경제적인 방법이다.Such wastewater treatment is the most suitable and economical method for the purification of wastewater altitude because it will have a particular effect on the removal of COD, BOD, SS as well as denitrification, dephosphorization, decolorization and deodorization.
도 1 : 본 고안의 단면 구성도.1 is a cross-sectional configuration of the present invention.
도 2 : 본 고안 다른 실시 예의 평면도.2 is a plan view of another embodiment of the present invention.
도 3 : 본 고안의 반응기 부분 단면도.3 is a partial cross-sectional view of the reactor of the present invention.
도 4 : 본 고안 고주파 펄스 인가전극의 고정부분 단면도.4 is a cross-sectional view of a fixed part of the high frequency pulse applying electrode of the present invention.
도 5 : 본 고안 고밀도 플라즈마 발생장치 부분 단면도.5 is a partial cross-sectional view of the present invention high density plasma generator.
도 6 : 본 고안 고밀도 플라즈마 발생장치의 전극 부분 단면도.6 is a partial cross-sectional view of the electrode of the present invention high density plasma generator.
도 7 : 본 고안 고밀도 플라즈마 발생장치의 음극관 부분 사시도.7 is a partial perspective view of the cathode tube of the high-density plasma generator of the present invention.
도 8 : 본 고안 고밀도 플라즈마 발생장치의 전극 다른 실시 예 사시도.8 is a perspective view of another embodiment of the electrode of the present invention high density plasma generator.
도 9 : 본 고안 고밀도 플라즈마 발생장치의 2중 구조 단면도.9 is a cross-sectional view of a double structure of the present invention high density plasma generator.
도 10 : 본 고안 고밀도 플라즈마 발생장치의 다른 실시 예의 단면도.10 is a cross-sectional view of another embodiment of the present invention high density plasma generator.
도 11 : 본 고안 도 1의 다른 실시 예 단면도.11 is a cross-sectional view of another embodiment of the present invention FIG. 1.
도 12 : 본 고안 예비 분해조의 사시도.12 is a perspective view of the preliminary decomposition tank of the present invention.
도 13 : 본 고안 도 12에서 슬러지 제거용 스크레이퍼의 단면도.13 is a cross-sectional view of the sludge removal scraper in FIG.
도 14 : 본 고안 연속형 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치의 밀집 구성도.14 is a dense configuration diagram of a continuous high-density plasma wastewater treatment device of the present invention.
도 15 : 본 고안 도 14의 단면 구성도.15 is a cross-sectional view of the present invention FIG.
도 16 : 본 고안 고밀도 플라즈마 발생장치의 다른 실시 예의 단면도.16 is a cross-sectional view of another embodiment of the present invention high density plasma generator.
도 17 : 본 고안 수위 조절장치의 단면 구성도.17 is a cross-sectional configuration of the water level control device of the present invention.
도 18 : 본 고안 폐수 처리장치의 흐름도.18 is a flow chart of the wastewater treatment apparatus of the present invention.
도 19 : 본 고안 폐수 처리장치의 다른 실시 예 흐름도.19 is a flow chart of another embodiment of the wastewater treatment apparatus.
〈 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
(2)(2a)--분해조 (3)(3a)--삼발이(2) (2a)-the digester (3) (3a)-the trivet
(4)--폐수 (6)--반응기(4)-waste water (6)-reactor
(8)--급수관 (10)--출수관(8)-Water Pipe (10)-Water Pipe
(12)(94)--케이스 (14)--반응실(12) (94)-Case (14)-Reaction Chamber
(16)--유입관 (18)(208)--배출관(16)-Inlet Pipe (18) (208)-Outlet Pipe
(20)--필터 (22)--펌프(20)-Filter (22)-Pump
(24)(220)--출구 (26)--보조 반응실(24) (220)-Exit (26)-Secondary Reaction Chamber
(28)(128)--초음파 진동자 (30)--보호 케이스(28) (128)-Ultrasonic Oscillator (30)-Protective Case
(32)(178)(180)--초음파 밴드 (34)--고밀도 플라즈마 발생장치(32) (178) (180)-Ultrasonic Band (34)-High Density Plasma Generator
(36)--급기관 (38)--급기팬(36)-Supply Pipe (38)-Supply Fan
(40)--체크밸브 (42)--집진필터(40)-check valve (42)-dust collection filter
(44)--걸림부 (46)(64)(76)--통기공(44)-Hanging Part (46) (64) (76)-Aerator
(48)--하우징 (50)(52)(54)(56)--세라믹 절연링(48)-Housing (50) (52) (54) (56)-Ceramic Insulation Ring
(58)--예비 분해조 (60)--덮개링(58)-Spare Disassembly (60)-Cover Ring
(62)--음극판 (66)--양극판(62)-cathode plate (66)-anode plate
(68)(70)--급전선 (72)--음극관(68) (70)-Feeder Wire (72)-Cathode
(74)양극봉 (78)(84)--방전칩(74) Anode Bars (78) (84)-Discharge Chips
(80)(80a)(86)--방전홀 (82)--방전홀의 방전부분(80) (80a) (86)-discharge hole (82)-discharge portion of discharge hole
(88)--제습장치 (90)--전열히터(88)-Dehumidifier (90)-Electric Heater
(92)--온도스위치 (96)--격리조(92)-Temperature Switch (96)-Isolator
(98)(100)(206)--드레인 밸브 (102)(182)--고주파 펄스전원(98) (100) (206)-Drain Valve (102) (182)-High Frequency Pulsed Power
(104)(106)(188)(190)(192)(194)--고주파 펄스 인가전극(104) (106) (188) (190) (192) (194)-High Frequency Pulsed Electrode
(110)(124)(240)--너트 (112)(118)--오링(110) (124) (240)-Nut (112) (118)-O-Ring
(114)--플렌지부 (116)--절연너트(114)-Flange Section (116)-Insulated Nut
(120)--나사봉 (122)--급전와셔(120)-Screw Rod (122)-Feeding Washer
(126)--스크레이퍼 (130)--버브링 장치(126)-Scraper (130)-Burbing Device
(132)(134)(136)(138)--체인기어 (140)(142)--축봉(132) (134) (136) (138)-Chain Gears (140) (142)-Shafts
(144)--축 베어링 (146)(148)--체인(144)-Axle Bearing (146) (148)-Chain
(150)--감속모터 (152)--연결봉(150)-Reduction Motor (152)-Connecting Rod
(154)(156)--체인 어태치먼트 (156)--상수면(154) (156)-Chain Attachment (156)-Water Surface
(160)-- 슬러지 (162)-- 슬러지 저장조(160)-Sludge (162)-Sludge Reservoir
(164)--분사공 (166)--관체(164)-Injector (166)-Constitution
(168)--연결관체 (170)(198)--급기팬(168)-Connector (170) (198)-Air supply fan
(172)--오존발생장치 (174)--연속형 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치(172)-Ozone Generator (174)-Continuous High Density Plasma Wastewater Treatment System
(176)--배기구 (196)--응집(또는 침전)(침전)제 자동 투입기(176)-Exhaust vent (196)-Automatic injector for flocculation (or sedimentation)
(200)--버블링 장치 (202)--응집(또는 침전)조(침전조)(200)-bubbling device (202)-aggregation (or sedimentation) tank (sedimentation tank)
(204)--산/알칼리 투입조 (210)--pH 저장조(204)-acid / alkali dosing tank (210)-pH reservoir
(212)(214)(216)(218)--절곡형 배수관 (220)--수위조절장치(212) (214) (216) (218)-Bented Drain (220)-Level Control
(224)--드레인관 (226)--집수관체(224)-Drain Tube (226)-Catching Tube
(228)--오링 (230)--수위 조절관(228)-O-Ring (230)-Level Controller
(232)--지지봉 (234)--핸들(232)-Support Rod (234)-Handle
(236)--나사봉 (238)--연결봉(236)-Screw Rod (238)-Joint Rod
(HV)--고전압부 (P)--플라즈마(HV)-High Voltage Part (P)-Plasma
이하, 본 고안의 바람직한 실시 예를 첨부한 도면에 따라 상세히 설명하고자 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 고안은 폐수가 담수되는 분해조(2)와, 분해조(2)의 폐수(4)를 순환시키면서 정화처리하는 반응기(6)로 구성되며, 상기 반응기(6)는 폐수(4)를 정화처리하는 주 반응실 및 보조 반응실과, 폐수(4)를 분해조(2)와 반응실로 순환시키는 순환장치와, 폐수(4)를 초음파로 진동시키는 초음파 진동장치와, 음이온 및 오존을 폐수 (4) 중으로 용존시켜 정화처리하는 음이온 및 오존 발생장치와, 고주파 펄스파 장치로 구성된다.The present invention is composed of a decomposing tank (2) in which the wastewater is fresh water, and a reactor (6) for circulating the wastewater (4) of the decomposing tank (2), wherein the reactor (6) purifies the wastewater (4). A main reaction chamber and an auxiliary reaction chamber to be treated; a circulator for circulating the waste water 4 into the decomposition tank 2 and a reaction chamber; an ultrasonic vibrator for vibrating the waste water 4 with ultrasonic waves; And an anion and ozone generator for dissolving and purifying.
도 1은 본 고안의 단면 구성도로, 폐수(4)가 담수되는 분해조(2)는 처리용량에 따라 적당한 크기의 콘크리트 구조물 또는 철 구조물로 구성되며, 분해조(2)의 양측으로 밸브를 갖는 급수관(8)과 출수관(10)이 각각 설치되어 처리대상 폐수의 공급과 처리된 폐수의 배출을 수행하게 된다.1 is a cross-sectional configuration of the present invention, the decomposing tank (2) in which the wastewater (4) is fresh water is composed of a concrete structure or steel structure of a suitable size according to the treatment capacity, having a valve on both sides of the decomposing tank (2) A water supply pipe 8 and a water discharge pipe 10 are respectively installed to supply the wastewater to be treated and discharge the treated wastewater.
반응기(6)는 도 1과 같이 한 쌍의 삼발이(3)(3a)를 이용하여 분해조(2)에 반 잠수식으로 설치하거나 도 2와 같이 분해조(2)의 바깥 측에 설치하도록 하고, 원통형상이나 다각형상으로 구성되는 반응기(6)의 케이스(12)는 내식성과 내화학성을 갖는 금속재질로 형성하여 내구성을 갖도록 한다.Reactor (6) is installed in a semi-submersible in the digestion tank (2) using a pair of trivets (3) (3a) as shown in FIG. 1 or installed on the outer side of the digestion tank (2) as shown in FIG. , The case 12 of the reactor 6 composed of a cylindrical or polygonal shape is formed of a metal material having corrosion resistance and chemical resistance to have durability.
상기에서 삼발이(3)(3a)를 이용하여 반응기(6)를 반 잠수식으로 설치하는 경우 급수관(8)의 말단부와 출수관(10)의 말단부는 분해조(2)의 바닥으로부터 10㎝ 가량 이격시켜 기계적인 충격을 방지하도록 하고, 반응기(6)의 무게중심을 낮추거나 체결수단을 이용하여 삼발이(3)(3a)에 고정함으로써 반응기(6)의 회전이나 유동을 방지하도록 한다.In the case where the reactor 6 is semi-submerged using the trivets 3 and 3a, the distal end of the water supply pipe 8 and the distal end of the discharge pipe 10 are about 10 cm from the bottom of the digester 2. Spaced apart to prevent mechanical shock, and by lowering the center of gravity of the reactor (6) or by using a fastening means to the trivet (3) (3a) to prevent rotation or flow of the reactor (6).
또한, 도 2와 같이 반응기(6)를 분해조(2)의 바깥에 설치하는 경우 분해조 (2)의 상부에 이동식 스크레이퍼(126)를 설치하여 슬러지를 제거하도록 한다.In addition, as shown in FIG. 2, when the reactor 6 is installed outside the digester 2, a removable scraper 126 is installed on the digester 2 to remove sludge.
반응기(6)의 반응실(14) 양측에는 처리대상 폐수(4)가 유입되는 유입관(16)과 정화처리 된 폐수(4)가 배출되는 배출관(18)을 분해조(2)에 잠기거나 연결되도록 설치하고, 반응기(6)와 반응실(12)의 양측은 유입관(16)과 유출관(18)으로 향할수록 점차적으로 좁아지도록 형성하여 반응실(14) 내에서 폐수 정화반응이 충분히 일어날 수 있도록 한다.On both sides of the reaction chamber 14 of the reactor 6, the inlet pipe 16 into which the wastewater 4 to be treated is introduced and the discharge pipe 18 through which the purified wastewater 4 is discharged are immersed in the decomposition tank 2, It is installed to be connected, both sides of the reactor 6 and the reaction chamber 12 is formed to gradually narrow toward the inlet pipe 16 and the outlet pipe 18 so that the waste water purification reaction in the reaction chamber 14 is sufficient Make it happen.
상기 유입관(16)과 유출관(18)은 금속튜브 보다는 나이론과 같은 합성수지로 형성하여 음이온이나 오존의 파괴 및 수명단축을 방지하도록 하고, 유입관(16)에는 에어스톤 필터(20)와 펌프(22)를 설치하여 분해조(2)의 폐수(4)가 여과된 다음 펌프(22)에 의해 반응실(14)로 유입되어 반복 정화 처리되도록 한다.The inlet tube 16 and the outlet tube 18 are formed of a synthetic resin such as nylon rather than a metal tube to prevent anion or ozone from being destroyed and shortening the lifespan. The inlet tube 16 includes an air stone filter 20 and a pump. (22) is installed so that the wastewater (4) of the digestion tank (2) is filtered and then introduced into the reaction chamber (14) by the pump (22) for repeated purification.
정화 처리된 폐수(4)는 분해조(2)로 배출되고 다시 반응실(14)로 유입되는 과정을 반복하면서 순환 처리되도록 하고, 반응실(12)의 입구 부분에는 복수 개의 경사판(22)을 고정시켜 유입되는 폐수(4)가 소용돌이형으로 와류(준 폭기상태)되게 함으로써 효과적인 정화반응이 이루어지도록 한다.The purified wastewater 4 is discharged to the decomposition tank 2 and is circulated while repeating the flow into the reaction chamber 14, and a plurality of inclined plates 22 are provided at the inlet of the reaction chamber 12. The fixed wastewater 4 is swirled in a swirl (quasi-aeration state) to achieve an effective purification reaction.
점차적으로 좁아지는 반응기(6)의 출구(24)와 출수관(16) 사이에는 반응실 (12)보다 작은 크기의 보조 반응실(26)을 형성하여 고밀도의 음이온이 잠시나마 체류되게 함으로써 반응실(14)에서 정화 처리된 폐수(4)가 보조 반응실(26)로 이동하여 또 한 번의 반응에 의해 충분히 정화될 수 있도록 한다.A secondary reaction chamber 26 having a size smaller than that of the reaction chamber 12 is formed between the outlet 24 and the outlet pipe 16 of the reactor 6, which gradually narrows, allowing the high density of anions to stay for a while. The wastewater 4 purified in (14) is moved to the auxiliary reaction chamber 26 so that it can be sufficiently purified by another reaction.
상기에서 출구(24) 부분의 크기가 보조 반응실(26)에 비하여 협소하므로 반응실(14)로부터 유입되는 폐수(4)가 와류되어 폭기되며, 반응기(6)의 케이스(12) 단면형상은 초음파의 손실없이 고정할 수 있으면 원통형이더라도 상관없으나 원통형에 가까운 다각형 예컨데 도 3과 같이 초음파 진동자(28)를 밀착시켜 고정할 수 있도록 12각형 전ㆍ후의 다각형 구조로 형성함이 바람직하다.Since the size of the outlet 24 is narrower than that of the auxiliary reaction chamber 26, the wastewater 4 flowing from the reaction chamber 14 is vortexed and aerated, and the cross-sectional shape of the case 12 of the reactor 6 is If it can be fixed without the loss of ultrasonic waves, it may be a cylindrical shape, but it is preferable to form a polygonal structure before and after the octagonal shape so that the ultrasonic vibrator 28 can be fixed in close contact with the cylindrical shape as shown in FIG. 3.
상기 다각형 케이스(12)의 외면마다 도시안된 초음파(Ultrasonic Wave) 발생장치에 의해 20,000Hz~40,000Hz의 초음파가 발생되는 복수 개의 초음파 진동자 (28)를 고정한 다음 보호케이스(30)를 덮어씌워 초음파 밴드(32)를 구성하도록 하고, 초음파 밴드(32)는 반응기(6)의 길이나 크기를 감안하여 2개 또는 그 이상의 복수 개로 설치하도록 한다.An ultrasonic band is fixed by fixing a plurality of ultrasonic vibrators 28 generating ultrasonic waves of 20,000 Hz to 40,000 Hz by an ultrasonic wave generator (not shown) for each outer surface of the polygonal case 12. (32), the ultrasonic band 32 is to be provided in two or more plural in consideration of the length and size of the reactor (6).
상기에서 초음파 진동자(24)는 다각형 케이스(12) 구조에 의해 도 3과 같이 반응실(14)의 중심점(O)을 향하여 초음파가 집중되므로 중앙으로 갈수록 밀도가 높아지고 진동효과가 증폭되며, 20,000Hz~40,000Hz의 초음파에 의해 폐수(4)가 극렬하게 진동하면서 준 분자상태로 분리된다.Since the ultrasonic vibrator 24 is focused on the ultrasonic wave toward the center point O of the reaction chamber 14 by the polygonal case 12 structure as shown in FIG. 3, the density increases and the vibration effect is amplified toward the center, 20,000 Hz. Ultrasonic waves of ˜40,000 Hz separate the semi-molecular state while vibrating the waste water 4 violently.
따라서, 폐수(4) 중에 용해 및 수화되어 있는 유기물이나 중금속 착이온 (complexion)들과 라디컬ㆍ전자ㆍ음이온들은 수화된 물층(hydration seath)을 벗어나 마치 공기 중에서 휘발성 유기물(VOC)이 음이온에 의하여 순식간에 산화 분해되는 것과 같이 폐수(4) 중의 유기물이나 착이온들이 신속히 산화ㆍ분해되므로 폐수(4)가 신속하고 깨끗이 정화된다.Therefore, organic matter, heavy metal complexes and radicals, electrons, and anions dissolved and hydrated in the wastewater 4 escape the hydrated water seam, and the volatile organic matter (VOC) in the air As the organic matter and complex ions in the wastewater 4 are rapidly oxidized and decomposed like oxidative decomposition in an instant, the wastewater 4 is purified quickly and cleanly.
또한, 반응실(14)의 내부에는 도 1과 같이 고주파 펄스전원(102)이 공급되는 한 쌍 이상의 고주파 펄스 인가전극(104)(106)을 설치하여 폐수(4)를 전해 처리할 수 있도록 한다.In addition, the reaction chamber 14 is provided with a pair of one or more high frequency pulse applying electrodes 104 and 106 to which the high frequency pulse power supply 102 is supplied as shown in FIG. 1 to allow the wastewater 4 to be electrolytically treated. .
상기에서 고주파 펄스 인가전극(104)(106)은 내화학성을 갖는 탄소나 스텐레스 재질로 구성하여 폐수에 견딜 수 있도록 하고, 형상은 봉체로 구성할 수 있으나 표면적이 넓은 평면형상으로 구성하여 전해효율을 향상시키도록 한다.The high frequency pulse applying electrodes 104 and 106 may be made of carbon or stainless steel having chemical resistance to withstand wastewater, and may be formed of a rod, but may have a planar shape with a large surface area to improve electrolytic efficiency. Try to improve.
이때, 고주파 펄스전원(102)에 의해 고주파 펄스 인가전극(104)(106)으로 달라붙는 폐수 중의 슬러지가 쉽게 제거되며 초음파와 고주파 펄스 인가전극(104) (106)으로 슬러지가 달라붙는 현상이 억제된다.At this time, the sludge in the wastewater adhering to the high frequency pulse applying electrodes 104 and 106 by the high frequency pulse power supply 102 is easily removed, and the phenomenon that the sludge adheres to the ultrasonic wave and the high frequency pulse applying electrodes 104 and 106 is suppressed. do.
도 4는 케이스(12)에 고정되는 상기 고주파 펄스 인가전극(104)(106)을 절연 유지하면서 고정할 수 있는 구조를 도시한 도면이다.4 is a diagram illustrating a structure in which the high frequency pulse applying electrodes 104 and 106 fixed to the case 12 can be fixed while being insulated.
즉, 케이스(12)에 통공을 형성한 다음 그 외면에 너트(110)를 접촉시켜 수밀유지되게 용접하고, 상기 너트(110)에 오링(112)이 끼워지고 플렌지부(114)가 형성된 베이클 라이트와 같은 재질의 절연너트(116)를 체결시켜 너트(110)와 절연너트 (116) 사이에 수밀이 유지되도록 하고, 절연너트(116)의 내부 통공에 고주파 펄스 인가전극(104)(106)이 체결되고 외면에 오링(118)이 결합된 나사봉(120)을 끼우고, 바깥으로 돌출된 나사봉(120)의 외면에 급전와셔(122)를 끼운 다음 너트(124)로 체결시켜 고주파 펄스 인가전극(104)(106)의 수밀이 유지되게 고정한 것이다.That is, a through hole is formed in the case 12, and then the nut 110 is brought into contact with the outer surface to be welded in a watertight manner, and the o-ring 112 is fitted to the nut 110 and the flange portion 114 is formed therein. The insulating nut 116 of the same material as the light is fastened to maintain the watertight between the nut 110 and the insulating nut 116, and the high frequency pulse applying electrodes 104 and 106 are formed in the inner hole of the insulating nut 116. The fastening and insert the screw rod 120 is coupled to the outer ring O-ring 118, the feed washer 122 is inserted into the outer surface of the screw rod 120 protruding outward and then fastened with a nut 124 to fasten the high frequency pulse The watertight of the application electrodes 104 and 106 is fixed so as to be maintained.
상기에서 케이스(12)와 고주파 펄스 인가전극(104)(106) 사이에는 절연거리를 유지하여 불요성 방전을 방지하도록 하고, 오링(112)(118)이 직접적으로 접촉하는 너트(110), 플렌지부(114), 고주파 펄스 인가전극(104)(106), 절연너트(116) 부분에는 오링(112)(118)의 일부가 들어갈 수 있는 안착홈을 각각 형성하여 너트 (124)로 죄임할 때 오링(112)(114)의 어긋남이나 위치이탈 등을 방지하도록 한다.In the above, the insulation distance is maintained between the case 12 and the high frequency pulse applying electrodes 104 and 106 to prevent the undesired discharge, and the nuts 110 and the flan that the O-rings 112 and 118 directly contact. When the mounting portion 114, the high frequency pulse applying electrode 104, 106, the insulating nut 116 is formed with a recessed groove into which a part of the O-rings 112 and 118 can be inserted and tightened with the nut 124, respectively. The O-rings 112 and 114 are prevented from being misaligned or displaced.
한편, 반응기(6)의 케이스(12) 상부에는 고밀도 플라즈마 발생장치(34)를 설치하여 고밀도(대량)의 음이온과 소량의 오존이 폐수(4) 중으로 용존되게 함으로써 초음파 진동에 의해 수화된 물층을 벗어난 폐수(4)가 효과적으로 신속히 정화처리되도록 한다.On the other hand, a high density plasma generator 34 is installed on the case 12 of the reactor 6 to dissolve the water layer hydrated by ultrasonic vibration by dissolving high density (large amount) of anion and a small amount of ozone in the waste water 4. Allow out-of-water wastewater 4 to be effectively and quickly purged.
상기 고밀도 플라즈마 발생장치(34)의 입구 부분에는 도 1과 같이 급기관 (36)을 설치하고, 급기관(36)에는 공기를 2 ~ 5기압으로 불어 넣어면서 급기량을 조정할 수 있는 급기팬(부로아 팬: 38)과, 공기의 역류를 방지하는 체크밸브(40)와, 불순물의 유입을 방지하는 전기 집진 또는 바이오 집진필터(42)를 설치하여 여과된 공기가 역류함이 없이 공급되면서 고밀도의 음이온과 소량의 오존이 발생되어 폐수(4) 중으로 용존되게 한다.An air supply fan 36 is installed at an inlet of the high-density plasma generator 34 as shown in FIG. 1, and an air supply fan can adjust the air supply while blowing air at 2 to 5 atmospheres. Bloa fan: 38, the check valve 40 to prevent the backflow of air, and the electric dust collector or bio-dust filter 42 to prevent the inflow of impurities, the filtered air is supplied without high flow back flow Negative ions and a small amount of ozone are generated and dissolved in the waste water (4).
상기에서 고밀도 플라즈마 발생장치(34)는 폐수(4)의 상수면으로부터 다소 높게 설치하여 절연을 유지하도록 한다.The high-density plasma generator 34 is installed somewhat higher from the constant surface of the wastewater 4 to maintain insulation.
도 5는 상기 고밀도 플라즈마 발생장치(34)의 단면 구성도로, 걸림부(44)와 큰 직경의 통기공(46)을 갖는 하우징(48)을 케이스(12)에 끼워 고정하고, 하우징 (48)의 내부에 복수 개의 세라믹 절연링(50)(52)(54)(56)을 적층시킨 다음 덮개링 (60)으로 덮어 고정시키고, 하부 절연링(52)의 단턱부에 복수 개의 음극관(72)이 체결되는 음극판(62)을 끼워 설치하고, 또 다른 절연링(56)의 단턱부에 복수 개의 통기공(64)이 형성되고 또한 복수 개의 양극봉(74)이 체결되는 양극판(66)을 끼워 양극판(66)과 음극판(62)이 하우징(48)내에서 적당한 간격으로 절연이 유지되게 한다.FIG. 5 is a cross-sectional configuration diagram of the high-density plasma generator 34, in which a housing 48 having a catching portion 44 and a large diameter vent hole 46 is inserted into and fixed to a case 12, and the housing 48 is fixed. A plurality of ceramic insulating rings 50, 52, 54, 56 are laminated in the inside of the cover, and then covered with a cover ring 60, and fixed, and a plurality of cathode tubes 72 at the stepped portions of the lower insulating ring 52. The negative electrode plate 62 to be fastened is installed, and a plurality of vent holes 64 are formed in the stepped portion of the insulating ring 56, and the positive electrode plate 66 to which the positive electrode rods 74 are fastened. Positive plate 66 and negative plate 62 allow insulation to be maintained at appropriate intervals in housing 48.
음극판(62)과 양극판(66)에는 고전압부(HV)가 연결된 급전선(68)(70)을 접속하고, 음극관(72)의 내부에는 음극관(72)의 내경보다 비교적 작은 외경의 양극봉 (74)을 결합하되 양극봉(74)과 음극관(72)이 서로 접촉하지 않도록 이격 설치하여 그 사이로 방전공간인 통기공(76)을 형성하고, 고전압부(HV)는 상용전원을 3,000V∼ 25,000V 전압과 수 μA에서 수 A의 전류로 승압한 다음 양극판(66)과 음극판 (62)으로 각각 공급시켜 코로나 방전에 의한 플라즈마(P)가 발생되도록 한다.The negative electrode plate 62 and the positive electrode plate 66 are connected to the feed lines 68 and 70 to which the high voltage portion (HV) is connected, and the positive electrode rod 74 having an outer diameter smaller than the inner diameter of the negative electrode tube 72 inside the negative electrode tube 72. ) And spaced apart so that the anode rod 74 and the cathode tube 72 do not come into contact with each other to form a vent hole 76 which is a discharge space therebetween, and the high voltage unit HV uses a commercial power supply of 3,000V to 25,000V. The voltage is boosted with a current of several A at several μA and then supplied to the positive electrode plate 66 and the negative electrode plate 62 so as to generate plasma P by corona discharge.
한편, 양극봉(74)의 끝 단부는 도 6과 같이 끝이 첨예하게 뽀족한 침상의 플라즈마 방전칩(78)을 형성하도록 하고, 방전칩(78)이 위치하는 음극관(72)의 하부에는 도 6, 도 7과 같이 복수 개의 방전홀(80)을 좁은 간격으로 빙둘러 형성하고, 음극관(72)의 하단부는 양극봉(74)보다 다소 하향 돌출시켜 가운데 부분에 위치하는 방전홀(80a)을 중심하여 상ㆍ하로 코로나 방전이 발생되게 함으로써 고밀도의 플라즈마(P)와 플라즈마의 작용에 의해 종래 방법보다 30% 이상 효율이 향상된 고밀도의(대량의) 음이온 및 소량의 오존(O3)을 얻을 수 있도록 한다.On the other hand, the end of the anode rod 74 is to form a needle-shaped plasma discharge chip 78 with a sharp tip as shown in Figure 6, the lower portion of the cathode tube 72 where the discharge chip 78 is located 6, 7, as shown in Figure 7, a plurality of discharge holes 80 are formed at narrow intervals, and the lower end of the cathode tube 72 protrudes slightly downward than the anode rod 74 to form a discharge hole 80a located in the center portion. By generating corona discharge up and down at the center, high density (large amount) of anion and a small amount of ozone (O 3 ) can be obtained, which is 30% more efficient than the conventional method by the action of high density plasma (P) and plasma. Make sure
방전홀(80)은 음극관(72)에 전체적으로 설치할 수 있으나 전하(電荷)의 집중이 분산되어 방전효율이 떨어질 수 있으므로 방전전하(放電電荷)가 집중 분포되는 방전칩(78)의 주변에 설치하도록 한다.The discharge hole 80 may be installed in the cathode tube 72 as a whole, but since the concentration of charge may be dispersed and discharge efficiency may be reduced, the discharge hole 80 may be installed around the discharge chip 78 where the discharge charge is concentrated. do.
또한, 방전홀(80)의 방전부분(82)은 90°전후의 각도를 이루는 모서리 구조로 하여 방전전하가 집중 분포되게 함으로써 방전칩(78)의 작용에 의해 코로나 방전효율이 극대화되며 이에 따라 고밀도(高密度)의 플라즈마(P)가 발생되므로 공기가 고밀도로 음 이온화 및 오존화 되면서 배출된다.In addition, the discharge portion 82 of the discharge hole 80 has a corner structure that forms an angle of about 90 ° so that the discharge charges are concentrated, so that the corona discharge efficiency is maximized by the action of the discharge chip 78 and accordingly high density. Since high plasma P is generated, air is discharged by anionization and ozonation at high density.
상기에서 0.2기압 내지 5기압의 압송공기에 의해 강력한 코로나 방전과 폐수(4)의 폭기가 이루어지며, 끝 부분이 첨예하게 가공되는 방전칩(78)은 석출(용출) 및 마모에 의해 수명이 짧아질 수 있으므로 플라즈마 방전칩(78) 부분은 도전성 산화방지 물질로 형성하거나 또는 그 표면에 도포하여 산화피막을 형성함으로써 플라즈마 방전칩(78)의 수명을 연장시키도록 한다.In the above, a strong corona discharge and aeration of the wastewater 4 are made by the pressure air of 0.2 to 5 atm, and the discharge chip 78 having a sharp end portion has a short life due to precipitation (elution) and abrasion. Since the plasma discharge chip 78 may be formed of a conductive anti-oxidation material or coated on the surface thereof to form an oxide film, the life of the plasma discharge chip 78 may be extended.
또한, 코로나 방전에 의해 방전열이 발생되더라도 도시안된 공기압 공급원에 의해 통기공(46)(64)(76)으로 다량의 공기가 공급되므로 양극봉(74)과 음극관(72)의 과열이 방지되며, 또한 통기공(76)을 흐르는 공기의 유속에 의해 음극관(72)의 내ㆍ외부간에 발생되는 기압차이에 의해 양극봉(74)의 외부에 위치하는 공기가 방전홀(80)을 통하여 통기공(76)의 내부로 유입되므로 양극봉(74)과 음극관(72)의 방열효과가 증진된다.In addition, even if discharge heat is generated by the corona discharge, a large amount of air is supplied to the vent holes 46, 64, 76 by the air pressure source (not shown), thereby preventing overheating of the anode rod 74 and the cathode tube 72. In addition, due to the air pressure difference generated between the inside and the outside of the cathode tube 72 due to the flow rate of the air flowing through the vent hole 76, the air located outside the anode rod 74 is vented through the discharge hole 80. Since it flows into the interior of the 76, the heat dissipation effect of the anode rod 74 and the cathode tube 72 is enhanced.
도 8은 고밀도 플라즈마 발생장치(34)에 사용되는 전극의 다른 실시 예로 도시한 분해 사시도로, 양극봉(74)의 길이방향과 원주방향 외면에 피라미드(사각뿔) 형상의 방전칩(84)을 조밀한 간격으로 빙둘러 형성하고 상기 방전칩(84)과 1:1로 대응하는 위치의 음극관(72)에 방전홀(86)을 각각 형성하여 코로나 방전이 전극의 전체부분으로 발생되게 한 것이다.8 is an exploded perspective view showing another embodiment of the electrode used in the high-density plasma generator 34, in which the discharge chips 84 in the form of pyramids (square pyramids) are densified on the longitudinal and circumferential outer surfaces of the anode rod 74. As shown in FIG. It is formed at intervals one by one, and the discharge holes 86 are formed in the cathode tube 72 at a position corresponding to the discharge chip 84 1: 1, respectively, so that the corona discharge is generated as an entire portion of the electrode.
양극봉(74)ㆍ음극관(72)ㆍ양극판(66)ㆍ음극판(62) 및 방전칩(78)(84)의 재료는 몰리브덴ㆍ텅스텐ㆍ니켈ㆍ백금 또는 니켈ㆍ몰리브텐ㆍ구리 등과 같이 내열성과 내산성 및 도전성이 우수한 합금재료를 이용하도록 하고, 양극봉(74)과 음극관 (72)이 고정되는 양극판(66) 및 음극판(62) 또한 상기와 같이 내열성과 내산성 및 도전성이 우수한 합금재료로 형성하여 내열성, 내산성 및 도전성(導電性)이 우수하면서 열팽창 계수가 같아지도록 한다.The materials of the anode rod 74, the cathode tube 72, the anode plate 66, the anode plate 62, and the discharge chips 78 and 84 are heat resistant, such as molybdenum, tungsten, nickel, platinum, nickel, molybdenum, copper, and the like. And an alloy material having excellent acid resistance and conductivity, and the anode plate 66 and the cathode plate 62 to which the anode rod 74 and the cathode tube 72 are fixed are also formed of an alloy material having excellent heat resistance, acid resistance and conductivity as described above. Therefore, the thermal expansion coefficient is excellent while the heat resistance, acid resistance and conductivity are excellent.
상기 고밀도 플라즈마 발생장치(34)는 처리용량이나 반응실(14)의 크기에 따라 도 9와 같이 1개 이상 복수 개로 설치할 수 있다.The high-density plasma generator 34 may be installed in one or more, as shown in Figure 9 depending on the processing capacity and the size of the reaction chamber (14).
한편, 고밀도 플라즈마 발생장치(34)는 체크밸브(40)에 의해 반응실(14)의 폐수 역류가 방지되지만 증발수 및 습기에 의해 양극봉(74)과 음극관(72)이 전기적으로 단락(short circuit)될 수 있으므로 도 10과 같은 류의 제습장치(88)를 설치하도록 한다.On the other hand, the high density plasma generator 34 prevents the backflow of the wastewater in the reaction chamber 14 by the check valve 40, but the anode rod 74 and the cathode tube 72 are electrically shorted by evaporated water and moisture. Since it can be a circuit) to install a dehumidifier 88 of the type shown in FIG.
즉, 양극봉(74)과 음극관(72)이 위치하는 부분의 케이스(12) 외면에 절연이 유지되는 전열히터(90)를 빙둘러 감고, 케이스(12)의 표면에 온도스위치(92)를 설치한 다음 도시안된 스위치에 의해 전원이 공급되는 전열히터(90)를 직렬로 연결하여 고밀도 플라즈마 발생장치(34)를 초기 동작시킬 때 고밀도 플라즈마 발생장치 (34)를 150℃~300℃로 가열시킬 수 있게 함으로써 양극봉(74)과 음극관(72) 사이로 침투하거나 침투한 증발수 및 습기를 제거시켜 고밀도 플라즈마 발생장치(34)의 전기적인 단락이나 고장을 방지하도록 하고, 전열히터(90)와 온도스위치(92)는 케이스(94)로 감싸 보호하도록 한다.That is, the electric heat heater 90 in which insulation is maintained is wound around the outer surface of the case 12 at the portion where the anode rod 74 and the cathode tube 72 are positioned, and the temperature switch 92 is placed on the surface of the case 12. After installation, the heat transfer heaters 90, which are powered by an unillustrated switch, are connected in series to heat the high density plasma generator 34 to 150 ° C to 300 ° C when the high density plasma generator 34 is initially operated. It is possible to remove the evaporated water and moisture penetrated or penetrated between the anode rod 74 and the cathode tube 72 to prevent the electrical short circuit or failure of the high-density plasma generator 34, the heat transfer heater 90 and the temperature The switch 92 is wrapped in the case 94 to protect.
도 11은 본 고안 다른 실시 예의 단면도로, 반응실(14)의 내부에 원통형이나 다각형 구조의 격리조(96)를 설치하여 고밀도 플라즈마 발생장치(34)에 의해 발생되는 음이온 및 오존이 출구(24) 부분에서 폐수에 용존되게 함으로써 고밀도 플라즈마 발생장치(34)의 전기적인 단락을 효과적으로 방지할 수 있도 있으며 이때 초음파 밴드(32)는 격리조(96)의 외면에 설치함이 바람직하다.11 is a cross-sectional view of another embodiment of the present invention, in which an anion and ozone generated by the high-density plasma generator 34 is formed by installing an isolation tank 96 having a cylindrical or polygonal structure inside the reaction chamber 14. By dissolving in the waste water in the) portion it can effectively prevent the electrical short-circuit of the high-density plasma generator 34, wherein the ultrasonic band 32 is preferably installed on the outer surface of the isolation tank (96).
본 고안에서 케이스(12)와 케이스(12), 케이스(12)와 고밀도 플라즈마 발생장치(34) 사이는 수밀 유지수단을 갖는 플렌지 구조로 체결시켜 수리나 이동 및 분해ㆍ조립이 쉽도록 하고, 반응실(14)과 보조 반응실(26)의 하부에 드레인 밸브(98) (100)를 설치하여 침전물이나 청소할 때 이용할 수 있도록 한다.In the present invention, the case 12 and the case 12, the case 12 and the high-density plasma generator 34 is fastened in a flange structure having a watertight holding means to facilitate repair, movement, disassembly and assembly, and reaction. Drain valves (98) (100) are provided in the lower portion of the chamber (14) and the auxiliary reaction chamber (26) so that they can be used when depositing or cleaning.
도 12는 본 고안 예비 분해조(58)의 다른 실시 예 사시도로, 슬러지 제거장치와 초음파 진동장치와 버브링 장치를 설치하여 폐수(4)를 정화 처리할 때 부유하는 슬러지나 거품 등을 경사 상태의 스크레이퍼(126)를 이용하여 쉽게 제거할 수 있도록 하고, 예비 분해조(58)의 내측벽에는 복수 개의 초음파 진동자(128)를 고정시켜 폐수(4)를 진동시킬 수 있도록 하고, 예비 분해조(58)의 바닥에는 버브링 장치(130)를 설치하여 폐수(4) 중으로 음이온과 오존이 공급되게 한 것이다.12 is a perspective view of another embodiment of the preliminary digester 58 of the present invention, in which a sludge removing device, an ultrasonic vibrator, and a bubbling device are installed to incline sludge or foam floating when the wastewater 4 is purified. The scraper 126 can be easily removed, and a plurality of ultrasonic vibrators 128 are fixed to the inner wall of the preliminary digestion tank 58 so that the wastewater 4 can be vibrated, and the preliminary digestion tank ( 58 is installed at the bottom of the bubbling device 130 to supply anion and ozone to the waste water (4).
슬러지 제거장치의 경우, 도 12와 같이 예비 분해조(58)의 상부 양측에 한 쌍의 체인기어(132)(134)(136)(138)를 축봉(140)(142)과 축 베어링(144)으로 축 설치한 다음 체인(146)(148)을 걸어 평행하도록 하고, 일측 축봉(142)의 단부에 감속모터(150)의 회전축봉을 연결시켜 체인(146)(148)이 연동 회전하도록 하고, 체인 (146)(148)의 안쪽면에는 연결봉(152)의 양단부가 고정되는 체인 어태치먼트(154) (156)를 고정시켜 체인(146)(148)을 따라 순환 회전하도록 하고, 연결봉(152)에는 도 13과 같이 가볍고 질기면서 내화학성 재질의 스크레이퍼(126)를 경사지게 고정시켜 예비 분해조(58)의 상수면(158)으로 부유하는 슬러지(160)이나 거품 등을 슬러지 저장조(162)로 이동시킬 수 있게 한 것이다.In the case of the sludge removal apparatus, as shown in FIG. 12, a pair of chain gears 132, 134, 136 and 138 are arranged on both sides of the upper part of the preliminary digestion tank 58, and the shaft 140, 142 and the shaft bearing 144. After installing the shaft to the chain (146) (148) by hanging the parallel to the end, one side of the shaft 142 by connecting the rotating shaft of the reduction motor 150 to the chain 146 (148) to rotate the interlocking The chain attachments 154 and 156 fixed to both ends of the connecting rods 152 are fixed to inner surfaces of the chains 146 and 148 so as to circulate and rotate along the chains 146 and 148 and the connecting rods 152. 13, the sludge 160, foam, and the like, which float on the constant surface 158 of the preliminary digestion tank 58, are fixed to the sludge storage tank 162 by inclinedly fixing the scraper 126 made of a light and durable chemical resistant material as shown in FIG. 13. It was made possible.
상기에서 스크레이퍼(126)는 체인 어태치먼트(154)(156)에 고정시켜 하부 체인에 위치할 때에는 폐수(4) 중으로 들어가게 함으로써 체인을 따라 이동하면서 슬러지 및 거품을 슬러지 저장조(162)로 걷어내도록 하고, 상부 체인에 위치할 때에는 공중에 들려 이동하도록 함으로써 슬러지나 거품 등이 역방향으로 이동하지 않도록 한다.In the above, the scraper 126 is fixed to the chain attachments 154 and 156 so as to enter the wastewater 4 when positioned in the lower chain, so that the sludge and bubbles are moved to the sludge storage tank 162 while moving along the chain. When it is located in the upper chain, it moves in the air so that sludge or foam does not move in the reverse direction.
버브링 장치(130)는, 양측면과 상부면으로 좁은 간격의 분사공(164)이 형성된 관체(166)를 예비 분해조(58)의 바닥에 설치하고 연결관체(168)의 단부에는 급기팬(170)과 오존발생장치(172)를 설치하여 산소와 오존이 폐수(4) 중으로 버블링되게 한 것이다.The bubbling device 130 is installed at the bottom of the preliminary disassembly tank 58, the pipe body 166 is formed at both sides and the upper surface of the injection hole 164 with a narrow gap, and an air supply fan at the end of the connecting pipe 168. 170 and an ozone generator 172 are installed to allow oxygen and ozone to bubble into the wastewater 4.
도 14 및 도 15는 본 고안 다른 실시 예로 제시한 연속형 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치(174)의 밀집 구성도로, 반응기(2)를 삭제하는 대신 도 12와 같이 감속모터(150)에 의해 회전하는 체인(146)(148)과, 체인(146)(148)을 따라 이동하는 스크레이퍼(126) 구조에 의해 슬러지가 제거되는 슬러지 제거장치가 설치되는 예비 분해조(58)와, 도 16과 같은 고밀도 플라즈마 발생장치(34)의 배기구(176)가 투입 설치되고 상ㆍ하 한 쌍의 초음파 밴드(178)(180)와 전해전원(182)이 인가되는 한 쌍 이상의 고주파 펄스 인가전극(188)(190)(192)(194)이 설치되는 1, 2차 분해조 (2)(2a)와, 응집(또는 침전)제 자동 투입기(196)와 급기팬(198)을 갖는 버블링 장치(200)가 설치된 응집(또는 침전)조(202)와, 산 또는 알칼리 투입조(204)와 배출관(208)을 갖는 pH 저장조 (210)를 단일구조의 셀(방)별로 구분하도록 하고, 예비 분해조(58)와 1, 2차 분해조(2)(2a)와 응집(또는 침전)조(202)와 pH 저장조(210)는 절곡형 배수관(212)(214)(216)(218)을 이용하여 폐수(4)가 옆에 위치하는 셀로 이동되게 한 것으로 제작비를 줄이고, 최소공간을 점유할 수 있도록 한 것이다. 뿐만 아니라 이 장치는 연속적으로 폐수 처리가 가능한 연속형 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치이므로 불연속적인 배지형 (badge type) 장치보다 폐수처리 효과가 매우 높고, 자동화가 가능한 장치이다.14 and 15 are dense configurations of the continuous high-density plasma wastewater treatment apparatus 174 shown in another embodiment of the present invention. Instead of deleting the reactor 2, the chain rotated by the reduction motor 150 as shown in FIG. 12. 146, 148, a preliminary digestion tank 58 in which a sludge removal apparatus for removing sludge is installed by the scraper 126 structure moving along the chains 146, 148, and a high density plasma as shown in FIG. One or more pairs of high frequency pulse applying electrodes 188 and 190 to which an exhaust port 176 of the generator 34 is input and installed and to which an upper and lower pair of ultrasonic bands 178 and 180 and an electrolytic power source 182 are applied. 192, 194, the first and second decomposition tanks (2) (2a) are installed, a bubbling device 200 having a coagulation (or sedimentation) automatic injector 196 and an air supply fan 198 is installed The pH storage tank 210 having the agglomeration (or precipitation) tank 202 and the acid or alkali inlet tank 204 and the discharge pipe 208 may be divided into cells (rooms) of a single structure. In addition, the preliminary digestion tank 58, the primary and secondary digestion tanks 2, 2a, the coagulation (or sedimentation) tank 202, and the pH storage tank 210 are bent drain pipes 212, 214, and 216. By using 218, the wastewater 4 is moved to a cell located next to it, thereby reducing the production cost and occupying the minimum space. In addition, the device is a continuous high-density plasma wastewater treatment device capable of continuously treating wastewater, so the wastewater treatment effect is much higher than that of a discontinuous badge type device, and it is an automated device.
1, 2차 분해조(2)(2a)는 셀의 하단부(바닥에서 약 300㎜~500㎜ 올라간 지점)와 셀 상단부(셀 상단부에서 아랫쪽으로 약 300㎜~500㎜ 내려간 지점)에 빙둘러 복수 개의 초음파 진동자와 보호 케이스로 구성되는 초음파 밴드(178)(180)를 2줄로 빙둘러 설치하고, 그 중앙에 탄소 또는 스텐레스 재질로 된 한 쌍 또는 여러 쌍의 고주파 펄스 인가전극(188)(190)(192)(194)을 설치한 다음 1㎑~100㎒의 고주파 펄스전원(182)를 인가시켜 전해하도록 한다.A plurality of primary and secondary disassembling tanks (2) (2a) are circumscribed to the lower end of the cell (about 300 mm to 500 mm from the bottom) and the upper part of the cell (about 300 mm to 500 mm down from the top of the cell). Ultrasonic bands 178, 180 consisting of two ultrasonic vibrators and protective cases are installed in two rows, and a pair or several pairs of high frequency pulse applying electrodes 188, 190 made of carbon or stainless steel in the center thereof. After installing (192) (194), a high frequency pulsed power source (182) of 1 kHz to 100 MHz is applied to deliver.
또한, 본 고안자가 출원한 특허출원 제10-0188232호의 전기분해장치를 추가설치하면 색도가 높은 염색폐수나 제당폐수 정화처리에 특별한 효과가 있다.In addition, when the electrolysis device of Patent Application No. 10-0188232 filed by the present inventors is additionally installed, there is a special effect on the high-color dyeing wastewater or sugar wastewater purification treatment.
그리고, 응집(또는 침전)조(202)에서는 무기 응집(또는 침전)제(황산 알미늄, 염화 제2철, PAC)와 유기 응집(또는 침전)제(음이온 또는 양이온 유기 응집(또는 침전)제)를 적당량 가하여 급기팬(198)을 이용하여 가압 부상시킨 다음 예비 분해조(58)와 같은 방법으로 스크레이퍼(126)에 의해 슬러지가 제거되는 슬러지 제거장치와 도시안된 슬러지 저장조를 설치하여 응집(또는 침전)조(202)의 상수면(158)으로 부유하는 슬러지(160)이나 거품 등을 슬러지 저장조로 걷어낼 수 있도록 하고, 슬러지 제거장치 이외에도 급기팬(198)을 갖는 버브링 장치(200)를 설치하여 슬러지를 가압 부상시켜 스크레이퍼(126)로 쉽게 제거할 수 있도록 한다.In the flocculation (or precipitation) bath 202, inorganic flocculation (or precipitation) agents (aluminum sulfate, ferric chloride, PAC) and organic flocculation (or precipitation) agents (anionic or cationic organic flocculation (or precipitation) agents) By adding an appropriate amount to pressurize the air using the air supply fan 198, and then install a sludge removal device and a sludge storage tank (not shown) in which sludge is removed by the scraper 126 in the same manner as the preliminary digestion tank 58. The sludge 160 or foam floating on the water surface 158 of the tank 202 can be removed by a sludge storage tank, and a bubbling device 200 having an air supply fan 198 is installed in addition to the sludge removing device. To press the sludge under pressure so that the scraper 126 can be easily removed.
슬러지 제거장치의 경우, 도 12와 같이 예비 분해조(58)의 상부 양측에 한 쌍의 체인기어(132)(134)(136)(138)를 축봉(140)(142)과 축 베어링(144)으로 축 설치한 다음 체인(146)(148)을 걸어 평행하도록 하고, 일측 축봉(142)의 단부에 감속모터(150)의 회전축봉을 연결시켜 체인(146)(148)이 연동 회전하도록 하고, 체인 (146)(148)의 안쪽면에는 연결봉(152)의 양단부가 고정되는 체인 어태치먼트(154) (156)를 고정시켜 체인(146)(148)을 따라 순환 회전하도록 하고, 연결봉(152)에는 도 13과 같이 가볍고 질기면서 내화학성 재질의 스크레이퍼(126)를 경사지게 고정시켜 예비 분해조(58)의 상수면(158)으로 부유하는 슬러지(160)나 거품 등을 슬러지 저장조(162)로 이동시킬 수 있게 한 것이다.In the case of the sludge removal apparatus, as shown in FIG. 12, a pair of chain gears 132, 134, 136 and 138 are arranged on both sides of the upper part of the preliminary digestion tank 58, and the shaft 140, 142 and the shaft bearing 144. After installing the shaft to the chain (146) (148) by hanging the parallel to the end, one side of the shaft 142 by connecting the rotating shaft of the reduction motor 150 to the chain 146 (148) to rotate the interlocking The chain attachments 154 and 156 fixed to both ends of the connecting rods 152 are fixed to inner surfaces of the chains 146 and 148 so as to circulate and rotate along the chains 146 and 148 and the connecting rods 152. 13, the sludge 160, foam, and the like, which float on the constant surface 158 of the preliminary digestion tank 58, are fixed to the sludge storage tank 162 by inclinedly fixing the scraper 126 made of a light and durable chemical resistant material as shown in FIG. 13. It was made possible.
상기에서 스크레이퍼(126)는 체인 어태치먼트(154)(156)에 고정시켜 하부 체인에 위치할 때에는 폐수(4) 중으로 들어가게 함으로써 체인을 따라 이동하면서 슬러지 및 거품을 슬러지 저장조(162)로 걷어내도록 하고, 상부 체인에 위치할 때에는 공중에 들려 이동하도록 함으로써 부유하는 슬러지나 거품 등이 역방향으로 이동하지 않도록 한다.In the above, the scraper 126 is fixed to the chain attachments 154 and 156 so as to enter the wastewater 4 when positioned in the lower chain, so that the sludge and bubbles are moved to the sludge storage tank 162 while moving along the chain. When it is located in the upper chain, it is lifted by the air so that floating sludge or foam does not move in the reverse direction.
버브링 장치(200)는, 양측면과 상부면으로 좁은 간격의 분사공이 형성된 관체를 응집(또는 침전)조(202)의 바닥에 설치하고 연결관체의 단부에는 급기팬(198)을 설치하여 공기를 폐수(4) 중으로 버블링시켜 가압 부상하는 슬러지를 스크레이퍼(126)로 제거하도록 한다.The bubbling device 200 is installed at the bottom of the agglomeration (or sedimentation) tank 202 and the air supply fan 198 at the end of the connecting pipe is installed in the pipe formed with a narrow spaced injection hole on both sides and the top surface. Bubbling into the wastewater 4 allows for the removal of pressurized sludge with the scraper 126.
또한, pH 저장조(210)에서는 산(HCℓ, H2SO4), 알칼리(NaOH 가성소다)를 사용하여 pH를 7~8로 조정한다. 이렇게 처리한 처리수는 배출관(208)을 통하여 미생물 반응조로 이송시켜 연계 처리한 다음 방류하면 된다.Further, in the pH reservoir 210 by using an acid (HCℓ, H 2 SO 4), alkali (sodium hydroxide NaOH) to adjust pH to 7-8. The treated water is transferred to the microbial reaction tank through the discharge pipe 208, and then discharged.
본 고안에서 예비 분해조(58)와, 1, 2차 분해조(2)(2a)와, 응집(또는 침전)조(202)와, pH 조정조(210)의 하부에는 도 14와 같이 드레인 밸브(206)를 각각 설치하여 이들의 바닥에 침전된 침전물이나 청소가 필요할 때 폐수(4)를 퇴수시킬 수 있도록 한 것이다.In the present invention, the preliminary digestion tank 58, the primary and secondary digestion tanks 2 and 2a, the coagulation (or sedimentation) tank 202, and the pH adjusting tank 210 have a drain valve as shown in FIG. Each of the (206) is installed so that the waste water (4) can be discharged when the sediment deposited on the bottom or cleaning is required.
본 고안에서 예비 분해조(58)와 응집(또는 침전)조(202)에는 스크레이퍼 (126)를 갖는 슬러지 제거장치가 설치되어 있다. 따라서, 스크레이퍼(126)를 이용하여 슬러지나 거품등을 효과적으로 걷어내기 위해서는 수위조절이 정확해야 한다.In the present invention, the preliminary digestion tank 58 and the flocculation (or sedimentation) tank 202 are provided with a sludge removal device having a scraper 126. Therefore, in order to effectively remove the sludge or foam using the scraper 126, the water level control must be accurate.
그러므로 예비 분해조(58)와 응집(또는 침전)조(202)의 절곡형 배수관(212) (218)에 도 17과 같은 구성의 수위조절장치(220)를 설치하여 예비 분해조(58)와 응집(또는 침전)조(202)의 수위를 슬러지의 상태 및 높이 등에 따라 정확히 조절할 수 있게 한다.Therefore, the preliminary digestion tank 58 and the bend-type drain pipe 212 and 218 of the coagulation (or sedimentation) tank 202 are provided with a water level control device 220 having the configuration as shown in FIG. It is possible to precisely adjust the level of the flocculation (or sedimentation) tank 202 according to the state and height of the sludge.
상기 수위조절장치(220)는 도 17과 같이 예비 분해조(58)와 응집(또는 침전)조(202)의 출구(222)에 상부로 개방된 드레인관(224)이 상승 돌출되고, 드레인관 (224)의 외부에는 드레인관(224)보다 많이 상승되는 집수관체(226)가 설치되며, 상부로 개방된 집수관체(226)의 일측 하부에 1차 분해조(2)와, pH 저장조(210)에 담기는 출수관 (212)(218)이 연결된다.As for the water level control device 220 as shown in Figure 17 drain pipe 224 opened upward to the outlet 222 of the preliminary digestion tank 58 and the coagulation (or sedimentation) tank 202 is raised and protruded, the drain pipe The collection pipe 226 which is raised more than the drain pipe 224 is installed on the outside of the 224, the primary decomposition tank 2 and the pH storage tank 210 in one lower portion of the collection pipe 226 opened to the upper side ), The outlet pipes 212 and 218 are connected.
드레인관(224)의 내부에는 한 개 이상의 오링(228)과 수위 조절관(230)이 승강할 수 있게 헐겁게 끼워져 설치되며, 드레인관(224)과 수위 조절관(230) 사이에 위치하는 오링(228)은 수밀을 유지하게 된다.One or more O-rings 228 and the water level control pipe 230 are loosely installed in the drain pipe 224 so that the water level control pipe 230 can be elevated, and positioned between the drain pipe 224 and the water level control pipe 230 ( 228 maintains watertightness.
수위 조절관(230)의 상부에는 3개 전후의 지지봉(232)이 고정되고, 지지봉 (232)의 상부면에 핸들(234)을 갖는 나사봉(236)이 고정되고, 상기 나사봉(236)은 집수관체(226) 또는 여타의 고정수단에 연결봉(238)고정되는 너트(240)에 나사 결합되며, 따라서 핸들(234)의 회전 방향에 따라 수위 조절관(230)의 상승 또는 하강이 달성되므로 슬러지 제거장치가 설치된 예비 분해조(58)와 응집(또는 침전)조(202)의 수위를 정밀하게 조정할 수 있다.Three upper and lower support rods 232 are fixed to the upper part of the water level control tube 230, and a screw rod 236 having a handle 234 is fixed to an upper surface of the support rod 232, and the screw rods 236 are fixed. Is screwed to the nut 240 is fixed to the connecting rod 238 to the collecting pipe 226 or other fixing means, so that the rise or fall of the water level control pipe 230 is achieved according to the rotation direction of the handle 234 The water level of the preliminary digestion tank 58 and the flocculation (or sedimentation) tank 202 provided with the sludge removal apparatus can be adjusted precisely.
도 18은 본 고안 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치의 폐수처리 흐름도이다. 여기서 예비 분해조(58)는 오존 발생기, 초음파 발생기와 스크레이퍼 (scraper)(126)가 부착되어 있다.18 is a wastewater treatment flow chart of the present invention ultrasonically coupled high density plasma wastewater treatment apparatus. Here, the preliminary decomposition tank 58 is attached with an ozone generator, an ultrasonic generator and a scraper 126.
상기 예비 분해조(58)는 앞서 언급한 바와 같이 초음파와 고주파 펄스에 의하여 폐수 중에 용해되어 있는 유기화합물, 중금속 착이온과 오존분자들이 수화층을 벗게되고, 동시에 높은 에너지 상태로 활성화되므로 오존에 의한 유기분자와 착이온 산화 분해되는 효과가 크므로 쓰레기 매립장 침출수와 고농도 축산폐수 등의 COD, BOD, SS, T-N, T-P 저감율이 우수하고, 탈색과 탈취 효과가 매우 높다.As described above, the preliminary decomposition tank 58 removes the hydrated layer of organic compounds, heavy metal complex ions, and ozone molecules dissolved in the waste water by ultrasonic and high frequency pulses, and at the same time is activated in a high energy state. Due to the great effect of oxidative decomposition of organic molecules and complex ions, COD, BOD, SS, TN, TP reduction rate of waste landfill leachate and high concentration livestock wastewater is excellent, and the effect of decolorization and deodorization is very high.
그리고 스크레이퍼(126)로 슬러지를 걷어내므로 앞의 분자 분해 잔유물이 응집(또는 침전)하여 발생되는 SS의 저감율도 큰 편이다. 1차 분해조는 음이온 발생기와 초음파 발생기와 고주파 펄스장치가 부착되어 있으므로 예비 분해조와 같은 효과를 나타내고 있으나 라디컬을 포함한 음이온이 폐수중의 유기물과 착이온을 공격하여 산화 분해시키는 점만 다를 뿐이다.In addition, since the sludge is removed by the scraper 126, the reduction rate of SS generated by agglomeration (or precipitation) of the preceding molecular decomposition residue is also large. The primary digester has the same effect as the preliminary digester because the anion generator, the ultrasonic generator, and the high-frequency pulse device are attached, except that the anion including radicals oxidize and decompose organic matter and complex ions in the wastewater.
1차 분해조에서 생성되는 슬러지는 예비 분해조와는 달리 황산 알미늄, 염화 제2철, PAC와 같은 무기 응집(또는 침전)제 또는 이온성 유기 응집(또는 침전)제 등으로 응집(또는 침전) 침전시키거나 가압 부상시킨다. 2차 분해조는 1차 예비 분해조에 고주파 펄스 인가장치를 추가한 구조를 하고 있다. 따라서, 그 기능도 1차 분해조와 동일 하나 다만 같은 분해과정을 한번 더 반복하여 폐수 처리효율을 증가시키는데 그 목적이 있다.Unlike the preliminary digestion tank, sludge produced in the primary digestion tank is aggregated (or settled) by an inorganic flocculant (or precipitation) agent such as aluminum sulfate, ferric chloride, or PAC, or an ionic organic flocculation (or precipitation) agent. Or pressurize. The secondary digester has a structure in which a high frequency pulse applying device is added to the primary preliminary digester. Therefore, the function is the same as that of the primary digestion tank, but the purpose of increasing the wastewater treatment efficiency by repeating the same decomposition process once more.
1차 분해조와 2차 분해조를 거치는 동안 고농도 침출수나 축산폐수 중에 포함된 미생물에 극히 유해한 페놀과 그 유도체, 중금속 이온 등은 70%~90% 이상 제거되므로 염산과 가성소다 등의 산, 알카리를 투입하는 PH 조정조에서 pH를 7~8로 맞춘 다음 고 다공성 메디아에 미생물을 고밀도로 착생시킨 고밀도 미생물 반응조를 거치면 95% 이상의 정화 효과를 나타내게 된다.During the first and second digestion tanks, 70% to 90% or more of phenol, its derivatives, and heavy metal ions, which are extremely harmful to microorganisms contained in high concentration leachate or livestock wastewater, are removed, thus removing acids and alkalis such as hydrochloric acid and caustic soda. The pH is adjusted to 7-8 in the pH control tank to be injected, and then the high-density microbial reaction tank in which high-density microorganisms are grafted to the high-porous media shows 95% or more purification effect.
이 고밀도 미생물 반응조를 거친 처리수에 1차 침전조에서 사용하는 약품들을 투입하여 침전 후 활성탄 흡착조에서 SS를 흡착 처리하고 다음 단계로 중공사막 필터나 RO(역삼투) 극미세 여과를 거치면 폐수처리의 궁극적인 목적인 폐수를 처리하여 재사용할 수 있으며, 오로지 증발이나 손실되는 양의 물만 보충하고 폐수 처리수를 전혀 방류하지 않는 소위 무방류 폐수처리가 가능하게 된다.Chemicals used in the primary sedimentation tank are added to the treated water that has passed through the high-density microbial reaction tank. After precipitation, SS is adsorbed in the activated carbon adsorption tank and the next step is a hollow fiber membrane filter or RO (reverse osmosis) ultrafiltration. The ultimate purpose is to treat and reuse the wastewater, so that it is possible to so-called undischarged wastewater treatment that only replenishes evaporated or lost water and does not discharge the wastewater at all.
도 19는 도 18의 흐름도 과정에서 2차 예비 분해조를 생략하고 고밀도 미생물 반응조를 일반 미생물 반응조로 대체한 것으로, 활성탄 흡착조를 거친 처리수를 방류시키도록 한다. 이 경우 방류수의 수질은 매우 양호하며 무색, 무취 및 탈질(탈 질소)과 탈인도 95% 이상인 방류수가 된다.FIG. 19 omits the secondary preliminary digestion tank in the flow chart of FIG. 18 and replaces the high density microbial reactor with the general microbial reactor to discharge the treated water passing through the activated carbon adsorption tank. In this case, the water quality of the discharged water is very good, and it becomes colorless, odorless and denitrification (denitrification) and discharged water having a dephosphorization degree of 95% or more.
본 고안은 도 18와 도 19에서 고밀도 미생물 처리와 일반 미생물 처리의 전처리에서 현재까지 가장 효과가 뛰어난 물리 화학적 폐수처리장치의 시험결과는 다음 표 1과 같다.In the present invention, the test results of the physicochemical wastewater treatment apparatus which is the most effective so far in the pretreatment of the high-density microbial treatment and the general microbial treatment in FIGS. 18 and 19 are shown in Table 1 below.
표 1 매립장 침출수 파일롯트 시험 결과표Table 1 Landfill Leachate Pilot Test Results Table
(단위 : ㎎/ℓ)(Unit: mg / l)
상기 표 1에서 보는 바와 같이 COD=1,927.0ppm, BOD=2,470.5ppm, SS=4,782.0ppm, T-N=1,397.0ppm, T-P=99.7ppm인 원수의 침출수 예비 분해처리수의 제거율은 COD=67.5%, BOD=50.1%, SS=95.7%, T-N=22.3%, T-P=95.3%이다.As shown in Table 1, COD = 1,927.0ppm, BOD = 2,470.5ppm, SS = 4,782.0ppm, TN = 1,397.0ppm, TP = 99.7ppm, and the removal rate of the leachate preliminary leachate of raw water is COD = 67.5%, BOD = 50.1 %, SS = 95.7%, TN = 22.3%, TP = 95.3%.
그러나 1차 분해처리수는 T-N의 제거율이 45.2%를 제외한 나머지 수 처리항목의 데이터는 86.3%에서 98.5%에 이른다. 그런데 2차 분해처리수의 제거율은 T-N=73.5%를 제외하고 모든 수 처리 항목의 데이터는 97%를 상회하고 있다.However, except for 45.2% of T-N removal rate, primary decomposed water ranged from 86.3% to 98.5%. However, except for T-N = 73.5%, the removal rate of the secondary cracked water exceeded 97% of all water treatment items.
T-N=73.5%는 현재까지 실행되고 있는 모든 폐수처리 가운데서 가장 제거율이 높은 수치이다. 여기서 우리는 초음파와 펄스파 결합 고밀도 플라즈마 폐수처리 방법의 장점과 우수성을 입증하게 된다. 뿐만 아니라 이 장치는 운전이 매우 간단하고, 계절에 따른 온도의 영향도 받지 않는 장점도 지니고 있다.T-N = 73.5% is the highest removal rate among all wastewater treatments carried out to date. Here we demonstrate the advantages and superiority of ultrasonic and pulsed wave combined high density plasma wastewater treatment. The device also has the advantage of being very simple to operate and unaffected by seasonal temperatures.
한편, 고밀도 플라즈마 발생장치(34)로부터 발생 공급되는 라디칼과 전자를 포함하는 음이온 및 오존을 폐수 속으로 버브링시키면서 20,000Hz~40,000Hz의 초음파를 이용하여 폐수(4)를 준 분자수준으로 마이크로 믹싱(micro mixing)하고 고주파 펄스에 의하여 폐수 중에 용해하여 수화되어 있는 극성 유기분자나 중금속 착이온(complex ion)들과 라디컬, 전자, 음이온들이 수화된 물층(hydration seath)을 벗어나게 된다.On the other hand, while mixing the anion and ozone containing radicals and electrons generated from the high density plasma generator 34 into the wastewater, using the ultrasonic wave of 20,000Hz to 40,000Hz, micromixing the wastewater 4 to the molecular level. (Micro mixing) and polar organic molecules or heavy metal complex ions and radicals, electrons, and anions that are hydrated and dissolved in the waste water by high-frequency pulses leave the hydration seath.
따라서, 마치 공기 중에서 휘발성 유기물(VOC)이 음이온에 의하여 순식간에 산화 분해되는 것과 같이 물 속에서 유기물이나 착이온 들이 신속하게 산화 분해하게 된다. 이와 같은 사실은 높은 진동수를 가진 초음파와 고주파 펄스가 앞에서 언급한 바와 같은 수화층 파괴로 인하여 수중에서 유사기상반응(gas like reaction)을 일으키게 하고 동시에 물 속의 유기물, 착이온, 음이온 및 전자들을 더욱 높은 에너지 상태로 활성화시키기 때문에 가능하게 된다.Therefore, organic matter or complex ions are rapidly oxidatively decomposed in water as if volatile organic matter (VOC) is rapidly oxidatively decomposed by anions in the air. This is due to the fact that high frequency ultrasonic waves and high frequency pulses cause gas-like reactions in water due to the destruction of the hydration layer as mentioned above, while at the same time increasing organic, complex ions, anions and electrons in water. This is possible because it is activated in an energy state.
그리고 이와 같은 조건에서 양극과 음극 양쪽 전극을 모두 비활성 탄소전극이나 스텐레스 전극으로 하고 일정한 시간으로 극성을 바꾸면서 전기분해를 하면 본 고안자가 기 발명한 '산업폐수 연속 전해정화 처리방법 및 그 장치(특허 제10-0188232호)' 보다 매우 신속하게 폐수를 정화 처리할 수 있다.Under these conditions, both the positive and negative electrodes are inert carbon electrodes or stainless steel electrodes, and electrolysis is performed by changing the polarity at a predetermined time. 10-0188232), it is possible to purify waste water much more quickly.
이때, 극성을 교대로 변경하는 것은 수중에 분산된 슬러지중 양극으로 달라붙은 슬러지를 제거시킴으로써 양극에서 발생되는 과전압을 방지하고 전해 정화처리효율은 상승시키기 위함이다.At this time, the alteration of the polarity is to prevent the overvoltage generated in the anode and to increase the electrolytic purification efficiency by removing the sludge stuck to the anode in the sludge dispersed in the water.
이와 같은 폐수처리는 COD, BOD, SS의 제거는 물론 탈질, 탈인, 탈색 및 탈취에 특별한 효과를 나타내게 되므로 폐수의 고도정화 처리에 가장 적합하고 경제적인 방법이다.Such wastewater treatment is the most suitable and economical method for the advanced purification of wastewater because it will have a particular effect on the removal of COD, BOD, SS, as well as denitrification, dephosphorization, decolorization and deodorization.
본 고안에서 고도 정화처리하고자 하는 경우 여러 개의 폐수처리장치를 직렬로 연결하면 되며, 처리용량을 늘리고자 하는 경우 폐수처리장치를 병렬로 연결하면 될 것이다.In the present invention, if the high purification treatment is to be connected in series with multiple wastewater treatment device, if you want to increase the treatment capacity would be connected to the wastewater treatment device in parallel.
또한, 폐수(4)를 연속적으로 처리하고자 하는 경우 A, B 2개의 폐수처리장치를 병렬로 연결한 다음, A 폐수 처리장치를 가동하는 경우 B 폐수처리장치는 처리된 폐수(4)를 방류시키고, 반대로 B 폐수처리장치가 가동하는 경우 A 폐수처리장치가 처리된 폐수(4)를 방류시키는 방법으로 교대로 가동시키면 폐수(4)를 연속적으로 처리할 수 있으므로 폐수(4) 정화처리 능력을 배가시킬 수 있다.In addition, when the wastewater 4 is to be treated continuously, A and B wastewater treatment devices are connected in parallel, and when the A wastewater treatment device is operated, the B wastewater treatment device discharges the treated wastewater 4. On the contrary, when the B wastewater treatment system is operated, when the A wastewater treatment system is alternately operated by discharging the treated wastewater 4, the wastewater 4 can be continuously treated, thereby doubling the wastewater 4 purification capacity. You can.
이상과 같이 본 고안은 쓰레기 매립장 침출수, 염색폐수, 피혁폐수, 석유화학폐수, 제지폐수와 같은 산업폐수와 축산폐수 및 생활폐수와 같은 각종 폐수 중으로 라디칼과 전자를 포함하는 음이온과 오존을 버브링시키면서 20,000Hz~40,000Hz의 초음파와 고주파 펄스로 극렬하게 진동시켜 준 분자수준으로 마이크로 믹싱(micro mixing)시킴으로써 폐수 중에 용해하여 수화되어 있는 유기물이나 중금속 착이온(complexion)들과 라디컬, 전자, 음이온들은 수화된 물층(hydration seath)을 벗어나게 되므로 마치 공기 중에서 휘발성 유기물(VOC)이 음이온에 의하여 순식간에 산화 분해되는 것과 같이 물 속에서 유기물이나 착이온 들을 신속하게 산화ㆍ분해시켜 깨끗이 정화되는 효과가 있어서 배출 폐수로 야기되는 각종 환경오염을 현격히 줄일 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention is made while bubbling anions and ozone containing radicals and electrons in various industrial wastewaters such as landfill leachate, dyeing wastewater, leather wastewater, petrochemical wastewater, papermaking wastewater, and various wastewaters such as livestock wastewater and domestic wastewater. Micro-mixing at the molecular level, which vibrates violently with ultrasonic waves and high frequency pulses of 20,000 Hz to 40,000 Hz, hydrated organics, heavy metal complexes, radicals, electrons and anions As it leaves the hydration seath, the volatile organic matter (VOC) is rapidly oxidized and decomposed in the air by anion. There is an effect that can significantly reduce the various environmental pollution caused by waste water.
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2019990026458U KR200186341Y1 (en) | 1999-09-02 | 1999-11-29 | High density plasma device coupled with ultrasonic wave and high frequency pulse for waste water treatment |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2019990018494U KR200177419Y1 (en) | 1999-09-01 | 1999-09-02 | High density plasma device coupled with ultrasonic wave and high frequency pulse for waste water treatment |
KR2019990026458U KR200186341Y1 (en) | 1999-09-02 | 1999-11-29 | High density plasma device coupled with ultrasonic wave and high frequency pulse for waste water treatment |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR2019990018494U Division KR200177419Y1 (en) | 1999-09-01 | 1999-09-02 | High density plasma device coupled with ultrasonic wave and high frequency pulse for waste water treatment |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR200186341Y1 true KR200186341Y1 (en) | 2000-06-15 |
Family
ID=19587107
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR2019990026458U KR200186341Y1 (en) | 1999-09-02 | 1999-11-29 | High density plasma device coupled with ultrasonic wave and high frequency pulse for waste water treatment |
KR2019990026459U KR200179939Y1 (en) | 1999-09-02 | 1999-11-29 | High Density Plasma Device Coupled with Ultrasonic Wave and High Frequency Pulse for Waste Water Treatment |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR2019990026459U KR200179939Y1 (en) | 1999-09-02 | 1999-11-29 | High Density Plasma Device Coupled with Ultrasonic Wave and High Frequency Pulse for Waste Water Treatment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (2) | KR200186341Y1 (en) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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KR100411804B1 (en) * | 2000-11-24 | 2003-12-31 | 신영길 | Wastewater Physical Treatment Device |
KR101655240B1 (en) | 2014-10-24 | 2016-09-08 | (주) 테크윈 | Apparatus for electrochemical treatment of wastewater using inclined electrode and supersonic |
-
1999
- 1999-11-29 KR KR2019990026458U patent/KR200186341Y1/en not_active IP Right Cessation
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---|---|
KR200179939Y1 (en) | 2000-04-15 |
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