KR100326451B1 - High Density Plasma Method and its Device Coupled with Ultrasonic Wave for Waste Water Treatment - Google Patents

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Abstract

본 발명은 초음파와 고밀도 플라즈마를 이용한 폐수 처리방법과 그 장치에 관한 것으로, 상세하게는 염색폐수, 피혁폐수, 석유화학폐수, 제지폐수와 같은 산업폐수와 축산폐수 및 생활폐수와 같은 각종 폐수 중으로 라디칼과 전자를 포함하는 음이온과 오존을 버브링시키면서 20,000Hz~40,000Hz의 초음파로 극렬하게 진동시켜 준 분자 수준으로 마이크로 믹싱(micro mixing)시킴으로써 폐수 중으로 고밀도의 음이온이 용존되며, 용해하여 수화되어 있는 유기물이나 중금속 착이온 (complexion)들과 라디컬, 전자, 음이온들은 수화된 물층(hydration seath)을 벗어나게 하여 마치 공기 중에서 휘발성 유기물(VOC)이 음이온에 의하여 순식간에 산화 분해되는 것과 같이 물 속에서 유기물이나 착이온 들이 신속히 산화ㆍ분해되어 깨끗이 정화되도록 하는 방법과 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a wastewater treatment method using an ultrasonic wave and a high-density plasma, and a device thereof, and more particularly, to radicals into various wastewaters such as industrial wastewater, livestock wastewater and domestic wastewater, such as dyeing wastewater, leather wastewater, petrochemical wastewater, and paper wastewater. High-density anions are dissolved and dissolved in hydrated water by micro-mixing to the molecular level that vibrates violently with ultrasonic waves of 20,000Hz ~ 40,000Hz while bubbling anions and ozone including electrons and electrons. Or heavy metal complexions, radicals, electrons, and anions leave the hydration seath, causing organic matter in water to be oxidized and decomposed instantly by ions in the air. Of method and apparatus for complex ions to be oxidized and decomposed rapidly to be.

Description

초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수처리 방법과 그 장치{High Density Plasma Method and its Device Coupled with Ultrasonic Wave for Waste Water Treatment}High Density Plasma Method and its Device Coupled with Ultrasonic Wave for Waste Water Treatment

본 발명은 초음파와 고밀도 플라즈마를 이용한 폐수 처리방법과 그 장치에 관한 것으로, 상세하게는 염색폐수, 피혁폐수, 석유화학폐수, 제지폐수와 같은 산업폐수와 축산폐수 및 생활폐수와 같은 각종 폐수 중으로 라디칼과 전자를 포함하는 음이온과 오존을 버브링시키면서 20,000Hz~40,000Hz의 초음파로 극렬하게 진동시켜 준 분자 수준으로 마이크로 믹싱(micro mixing)시킴으로써 폐수 중으로 고밀도의 음이온이 용해하여 수화되어 있는 유기물이나 중금속 착이온(complexion)들과 라디컬, 전자, 음이온들이 수화된 물층(hydration seath)을 벗어나게 하여 마치 공기 중에서 휘발성 유기물(VOC)이 음이온에 의하여 순식간에 산화 분해되는 것과 같이 물 속에서 유기물이나 착이온 들이 신속히 산화ㆍ분해되어 깨끗이 정화되도록 한 것이다.The present invention relates to a wastewater treatment method using an ultrasonic wave and a high-density plasma, and a device thereof, and more particularly, to radicals into various wastewaters such as industrial wastewater, livestock wastewater and domestic wastewater, such as dyeing wastewater, leather wastewater, petrochemical wastewater, and paper wastewater. Micro-mixing to the molecular level that vibrates violently with ultrasonic waves of 20,000Hz to 40,000Hz while bubbling negative ions and ozone containing electrons and electrons.High density anions are dissolved in the wastewater and hydrated organic or heavy metal complexes. Ions (complexions), radicals, electrons, and anions leave the hydration seath, allowing organic matter or complex ions to be released in water as if volatile organic matter (VOC) is rapidly oxidized by anions in the air. It is quickly oxidized and decomposed to be cleansed.

각종 오염물질이 함유된 폐수는 색도가 높아서 강물이나 지하수 및 바닷물과 같은 수질을 오염시키고 또한 수중으로 유입되는 빛과 산소 등을 차단시켜 수중생물과 미생물에게 엄청난 피해를 끼치고 있으며 수자원의 오염으로 용수 생산에도 큰 장애요소로 대두되고 있다.Wastewater containing various pollutants is high in color, contaminating water quality such as river, groundwater and seawater, and blocking water and oxygen coming into the water, causing enormous damage to aquatic organisms and microorganisms. Is also emerging as a major obstacle.

또한, 인구의 증가와 산업의 발달에 따라 산업폐수의 발생량 또한 급증추세에 있으며 이들로 인한 환경공해 및 생태계 파괴가 큰 사회문제로 대두됨에 따라 방류폐수의 법적 환경기준치를 마련하여 엄격히 규제하고 있으며, 그 처리수단과 방법에 대해서는 많은 고심과 더불어 꾸준한 연구가 수행되고 있는 실정이다.In addition, the amount of industrial wastewater is increasing rapidly with the increase of the population and the development of the industry, and the environmental pollution and the destruction of the ecosystem caused by these problems are becoming a big social problem. The treatment methods and methods are being studied with a lot of hard work.

종래에도 화공약품으로 pH를 조정하거나 오염성분을 응집시키는 방법, 미생물에 의한 처리방법 등 여러 방식의 폐수 정화장치가 안출된 바 있으나, 폐수 중의 계면활성 성분과 같은 난 분해성 오염성분의 분해나 물질변화 및 집체에 의한 정화 및 제거가 현실적으로 어려워 정화효율이 매우 낮고 처리비용이 상승되는 문제점이 있었다.In the past, various methods of wastewater purifying devices, such as pH adjustment, coagulation of contaminants, and treatment by microorganisms, have been proposed. And it is difficult to purify and remove by the aggregate in reality, there is a problem that the purification efficiency is very low and the treatment cost is increased.

또한, 1급수나 2급수와 같이 화학적 산소 요구량(COD)이 비교적 낮은 상수도 원수를 오존으로 고도 정화ㆍ처리하는 것은 가능하나 쓰레기 매립장의 침출수, 고농도 축산폐수와 염색폐수, 석유화학폐수, 제지폐수, 제당폐수와 같은 고농도 산업폐수를 오존으로 정화 처리하는 것은 거의 불가능한 실정이다.In addition, it is possible to purify and treat high-purity raw water with relatively low chemical oxygen demand (COD), such as first-class or second-class water, with ozone. It is almost impossible to purify high concentration industrial wastewater such as sugar wastewater with ozone.

따라서, 본 발명은 염색폐수, 피혁폐수, 석유화학폐수, 제지폐수와 같은 산업폐수와 축산폐수 및 생활폐수와 같은 각종 폐수 중으로 라디칼과 전자를 포함하는 음이온과 오존을 버브링시키면서 20,000Hz~40,000Hz의 초음파로 극렬하게 진동시켜 준 분자 수준으로 마이크로 믹싱(micro mixing)시킴으로써 폐수 중의 유기물이나 중금속 착이온(complexion)들과 라디컬, 전자, 음이온들이 수화된 물층 (hydration seath)을 벗어나게 하여 마치 공기 중에서 휘발성 유기물(VOC)이 음이온에 의하여 순식간에 산화 분해되는 것과 같이 물 속에서 유기물이나 착이온 들을 신속히 산화ㆍ분해시켜 깨끗이 정화할 수 있는 폐수 처리방법을 제공함에 목적이 있다.Therefore, the present invention while bubbling anion and ozone containing radicals and electrons in various wastewaters, such as industrial wastewater, livestock wastewater and domestic wastewater, such as dyeing wastewater, leather wastewater, petrochemical wastewater, papermaking wastewater, 20,000Hz ~ 40,000Hz Micro-mixing to the molecular level that vibrates violently with ultrasonic waves of organic matter, wastes, organics, heavy metal complexes, radicals, electrons, and anions leave the hydration seath. It is an object of the present invention to provide a wastewater treatment method in which volatile organic compounds (VOCs) are rapidly oxidized and decomposed by anions, thereby rapidly oxidizing and decomposing organic substances or complex ions in water and purifying them cleanly.

또한, 상기 폐수 처리방법에 적합한 폐수 처리장치를 제공함에 목적이 있다. 일반적으로 공기 중에서 고전압 저 전류 직류방전으로 생성되는 플라즈마는 이온, 라디컬, 전자로 구성되어 있다. 이 경우 코로나 방전에서는 산소 음이온(O2 -), 오존 음이온(O3 -), 하드록사이드 라디컬(OH-)과 같은 음이온, 라디컬과 전자가 주로 발생하므로 플라즈마 발생장치는 음이온 발생장치라 부르고, 스파크 방전에서는 오존(O3)이 주로 발생하므로 플라즈마 발생장치를 오존발생장치라고 부른다.In addition, it is an object to provide a wastewater treatment apparatus suitable for the wastewater treatment method. In general, plasma generated by high voltage low current direct current discharge in air is composed of ions, radicals, and electrons. In this case, the corona discharge oxygen anion (O 2 -), ozone, negative ions (O 3 -), hard hydroxide radical (OH -) because the negative ions, radicals and electrons, such as typically occurs plasma generating device is an anion generator LA In addition, since the ozone (O 3 ) is mainly generated in the spark discharge, the plasma generator is called an ozone generator.

한편, 산업폐수를 전해(전기분해)처리하면서 공기ㆍ산소 또는 오존이나 이들의 혼합가스를 버블링(bubbling)시키면 산업폐수의 색도ㆍ화학적 산소 요구량 (COD), 생물학적 산소 요구량(BOD) 그리고 분산된 고체(SS)입자 등을 크게 저하시켜 산업폐수가 정화 처리되며, 상기 화합물이나 이들의 혼합물을 산업폐수에 넣고 공기ㆍ산소 및 오존이나 이들의 혼합가스를 버블링시키면 염소이온(Cl )의 산화로 인하여 차아 염소산 이온( ClO2 ), 아 염소산이온(ClO2 ), 염소산이온(ClO3 ) 및 과 염소산 이온(ClO4 )이 발생되므로 폐수내의 산소 용해도가 크게 증가된다.On the other hand, bubbling air, oxygen, or ozone or a mixture of these gases while electrolyzing (electrolyzing) the industrial wastewater causes chromaticity, chemical oxygen demand (COD), biological oxygen demand (BOD) and dispersion of the industrial wastewater. oxidation-solid (SS) to lower significantly the particle, etc., and the industrial waste water purification process, the compound or into a mixture thereof in industrial waste when the ring of air and oxygen, and ozone or a mixture of these gas bubbles chloride ion (Cl) due to the hypochlorous acid ions (ClO 2 -), chlorite ion (ClO 2 -), chlorate ion (ClO 3 -) and the hypochlorite ion (ClO 4 -), because the generation is greatly increased solubility of oxygen in the waste water.

또한, 이와 같은 염소산 이온들을 포함한 폐수를 전기분해하면 이들 염소산 이온들로부터 높은 에너지를 가진 산소이온(O2 )들이 분리되어 나와서 염료분자나 안료분자의 발색단이나 조색단을 공격하여 이들 분자들을 산화 분해하므로 폐수의 색도ㆍCODㆍBOD 및 SS 등이 저하되어 정화된다.Also, By this electrolysis the waste water including the same chlorate ion oxygen ions with high energy from these chlorite ion (O 2 -) are to come separately attack the chromophore or auxochrome of the dye molecules or pigment molecules oxidation of these molecules Degradation reduces the chromaticity, COD, BOD, SS, etc. of the wastewater and cleanses it.

일반적으로 1급수나 2급수와 같이 화학적 산소 요구량(COD)이 비교적 낮은 상수도 원수를 오존으로 고도 정화ㆍ처리하는 것은 가능하나 쓰레기 매립장의 침출수, 고농도 축산폐수와 염색폐수, 석유화학폐수, 제지폐수, 제당폐수와 같은 고농도 산업폐수를 오존으로 정화 처리하는 것은 거의 불가능하다.In general, it is possible to highly purify and treat tap water with relatively low chemical oxygen demand (COD), such as first-class or second-class water with ozone. It is almost impossible to purify high concentration industrial wastewater such as sugar wastewater with ozone.

그러나 라디칼과 전자를 포함하는 음이온이나 오존을 폐수 속으로 버브링 시키면서 20,000Hz~40,000Hz의 초음파를 이용하여 준 분자 수준으로 마이크로 믹싱 (micro mixing)시키면 폐수 중에 용해하여 수화되어 있는 유기물이나 중금속 착이온(complexion)들과 라디컬, 전자, 음이온들은 수화된 물층(hydration seath)을 벗어나게 된다.따라서 마치 공기 중에서 휘발성 유기물(VOC)이 음이온에 의하여 순식간에 산화 분해되는 것과 같이 물 속에서 유기물이나 착이온 들이 신속히 산화 분해된다.However, micro-mixing at a semi-molecular level using ultrasonic waves ranging from 20,000 Hz to 40,000 Hz while bubbling anions or ozone containing radicals and electrons into the waste water, the organics or heavy metal complex ions dissolved and dissolved in the waste water are hydrated. The complexes, radicals, electrons, and anions leave the hydration seath, so organic or complex ions in water are as if volatile organic matter (VOCs) are rapidly oxidatively decomposed by anions in the air. Are quickly oxidatively decomposed.

이와 같은 사실은 높은 진동수를 가진 초음파가 앞에서 언급한 바와 같은 수화층 파괴로 인하여 수중에서 유사 기상반응(gas like reaction)을 일으키게 하고 동시에 물 속의 유기물, 착이온, 음이온 및 전자들을 더욱 높은 에너지 상태로 활성화시키기 때문에 가능하게 된다.This is due to the fact that high frequency ultrasonic waves can cause gas-like reactions in water due to the destruction of the hydration layer as mentioned above, while at the same time bringing the organics, complex ions, anions and electrons in the water to a higher energy state. It is possible because it is activated.

그리고 이와 같은 조건에서 양극과 음극 양쪽 전극을 모두 비활성 탄소전극으로 하고 일정한 주기로 극성을 바꾸면서 전기분해를 하면 본 발명자가 기 발명한 "산업폐수 연속전해 정화처리방법 및 그 장치(특허 제10-0188232호)" 보다 매우 신속하게 폐수를 정화 처리할 수 있다.Under these conditions, when both the anode and the cathode are inert carbon electrodes, and electrolysis is performed while changing polarity at regular intervals, the present inventors have already invented the "industrial wastewater continuous electrolytic purification method and apparatus thereof (Patent 10-0188232). Wastewater can be cleaned up much more quickly.

이때, 전극의 극성을 주기적으로 변경하는 것은 양극으로 달라붙는 수중의 분산 슬러지를 제거시켜 양극에서 발생되는 과전압을 방지함으로써 전해 정화처리효율을 상승시키기 위함이다.In this case, the polarity of the electrode is periodically changed to increase the efficiency of electrolytic purification by removing dispersed sludge in water adhering to the anode to prevent overvoltage generated at the anode.

이와 같은 폐수처리는 화학적 산소 요구량(COD), 생물학적 산소 요구량 (BOD), 슬러지의 제거는 물론 탈질, 탈인, 탈색 및 탈취에 특별한 효과를 나타내게 되므로 폐수 고도 정화처리에 가장 적합하고 경제적인 방법이다. 특히 전해장치가 부착된 이 폐수처리장치는 색도가 높은 염색폐수의 색도 제거효과가 매우 높은 장점을 지니고 있다.Such wastewater treatment is the most suitable and economical method for advanced wastewater purification because it has a special effect on the removal of chemical oxygen demand (COD), biological oxygen demand (BOD), sludge as well as denitrification, dephosphorization, decolorization and deodorization. In particular, this wastewater treatment device equipped with an electrolytic device has a very high color removal effect of the high color dye wastewater.

도 1 : 본 발명의 단면 구성도.1 is a cross-sectional configuration of the present invention.

도 2 : 본 발명 다른 실시 예의 평면도.2 is a plan view of another embodiment of the present invention.

도 3 : 본 발명의 반응기 부분 단면도.3: Reactor partial cross section of the present invention.

도 4 : 본 발명 고밀도 플라즈마 발생장치 부분 단면도.4 is a partial cross-sectional view of the present invention high density plasma generator.

도 5 : 본 발명 고밀도 플라즈마 발생장치의 전극 부분 단면도.5 is a partial cross-sectional view of the electrode of the high-density plasma generator of the present invention.

도 6 : 본 발명 고밀도 플라즈마 발생장치의 음극관 부분 사시도.6 is a partial perspective view of the cathode tube of the high-density plasma generator of the present invention.

도 7 : 본 발명 고밀도 플라즈마 발생장치의 전극 다른 실시 예 사시도.7 is a perspective view of another embodiment of the electrode of the high-density plasma generator of the present invention.

도 8 : 본 발명 고밀도 플라즈마 발생장치의 2중 구조 단면도.8 is a double structure cross-sectional view of the high-density plasma generator of the present invention.

도 9 : 본 발명 고밀도 플라즈마 발생장치의 다른 실시 예의 단면도.9 is a cross-sectional view of another embodiment of the present invention high density plasma generator.

도 10 : 본 발명 도 1의 다른 실시 예 단면도.10 is a cross-sectional view of another embodiment of the present invention.

도 11 : 본 발명 도 1의 다른 실시 예 단면도.11 is a cross-sectional view of another embodiment of the present invention.

도 12 : 본 발명 도 11에서 전해전극의 고정부분 단면도.12 is a cross-sectional view of the fixing part of the electrolytic electrode of the present invention FIG.

도 13 : 본 발명 예비 분해조의 사시도.13 is a perspective view of the preliminary decomposition tank of the present invention.

도 14 : 본 발명 도 13에서 슬러지 제거용 스크레이퍼의 단면도.14 is a cross-sectional view of the sludge removal scraper in the present invention FIG.

도 15 : 본 발명 연속형 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치의 밀집 구성도.15 is a dense configuration diagram of a continuous high density plasma wastewater treatment apparatus of the present invention.

도 16 : 본 발명 도 15의 단면 구성도.FIG. 16 is a cross-sectional configuration of the present invention FIG. 15.

도 17 : 본 발명 고밀도 플라즈마 발생장치의 다른 실시 예의 단면도.17 is a sectional view of another embodiment of the present invention high density plasma generator.

도 18 : 본 발명 수위 조절장치의 단면 구성도.18 is a cross-sectional view of the water level adjusting apparatus of the present invention.

도 19 : 본 발명 폐수 처리장치의 흐름도.19 is a flow chart of the wastewater treatment apparatus of the present invention.

도 20 : 본 발명 폐수 처리장치의 다른 실시 예 흐름도.20 is a flow chart of another embodiment of the wastewater treatment apparatus of the present invention.

< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>

(2)--분해조 (3)(3a)--삼발이(2)-Splitting Tank (3) (3a)-Tribal

(4)--폐수 (6)--반응기(4)-waste water (6)-reactor

(8)--급수관 (10)--출수관(8)-Water Pipe (10)-Water Pipe

(12)(94)--케이스 (14)--반응실(12) (94)-Case (14)-Reaction Chamber

(16)--유입관 (18)--배출관(16)-inlet pipe (18)-outlet pipe

(20)--필터 (22)--펌프(20)-Filter (22)-Pump

(24)--출구 (26)--보조 반응실(24)-Exit (26)-Secondary Reaction Chamber

(28)(128)--초음파 진동자 (30)--보호 케이스(28) (128)-Ultrasonic Oscillator (30)-Protective Case

(32)--초음파 밴드 (34)--고밀도 플라즈마 발생장치(32)-Ultrasonic Band (34)-High Density Plasma Generator

(36)--급기관 (38)--급기팬(36)-Supply Pipe (38)-Supply Fan

(40)--체크밸브 (42)--집진필터(40)-check valve (42)-dust collection filter

(44)--걸림부 (46)(64)(76)--통기공(44)-Hanging Part (46) (64) (76)-Aerator

(48)--하우징 (50)(52)(54)(56)--세라믹 절연링(48)-Housing (50) (52) (54) (56)-Ceramic Insulation Ring

(58)--예비 분해조 (60)--덮개링(58)-Spare Disassembly (60)-Cover Ring

(62)--음극판 (66)--양극판(62)-cathode plate (66)-anode plate

(68)(70)--급전선 (72)--음극관(68) (70)-Feeder Wire (72)-Cathode

(74)양극봉 (78)(84)--방전칩(74) Anode Bars (78) (84)-Discharge Chips

(80)(80a)(86)--방전홀 (82)--방전홀의 방전부분(80) (80a) (86)-discharge hole (82)-discharge portion of discharge hole

(88)--제습장치 (90)--전열히터(88)-Dehumidifier (90)-Electric Heater

(92)--온도스위치 (96)--격리조(92)-Temperature Switch (96)-Isolator

(98)(100)--드레인 밸브 (102)--전해전원(98) (100)-Drain Valve (102)-Electro-Power

(104)--양극 (106)--음극(104)-anode (106)-cathode

(108)--극성 교번장치 (110)(124)--너트(108)-Polar Alternator (110) (124)-Nut

(112)(118)--오링 (114)--플렌지부(112) (118)-O-Ring (114)-Flange Section

(116)--절연너트 (120)--나사봉(116)-Insulated Nut (120)-Screw Rod

(122)--급전와셔 (126)--스크레이퍼(122)-Feeding Washer (126)-Scraper

(130)--버브링 장치 (132)(134)(136)(138)--체인기어(130)-Burbing Device (132) (134) (136) (138)-Chain Gear

(140)(142)--축봉 (144)--축 베어링(140) (142)-Shaft Bar (144)-Shaft Bearing

(146)(148)--체인 (150)--감속모터(146) (148)-Chain (150)-Reduction Motor

(152)--연결봉 (154)(156)--체인 어태치먼트(152)-Connecting Rod (154) (156)-Chain Attachment

(156)--상수면 (160)-- 슬러지(156)-Water Surface (160)-Sludge

(162)-- 슬러지 저장조 (164)--분사공(162)-Sludge Reservoir (164)-Injector

(166)--관체 (168)--연결관체(166)-Conduit (168)-Connect

(170)--급기팬 (172)--오존발생장치(170)-Air Supply Fan (172)-Ozone Generator

(HV)--고전압부 (P)--플라즈마(HV)-High Voltage Part (P)-Plasma

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부한 도면에 따라 상세히 설명하고자 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명은 폐수가 담수되는 분해조(2)와, 분해조(2)의 폐수(4)를 순환시키면서 정화 처리하는 반응기(6)로 구성되며, 상기 반응기(6)는 폐수(4)를 정화 처리하는 반응실과 보조 반응실과, 폐수(4)를 분해조(2)와 반응실로 순환시키는 순환장치와, 폐수(4)를 초음파로 진동시키는 초음파 진동장치와, 음이온 및 오존을 폐수(4) 중으로 용존시켜 정화 처리하는 음이온 및 오존 발생장치와, 전해장치로 구성된다.The present invention comprises a decomposing tank (2) in which wastewater is dehydrated and a reactor (6) for circulating and treating the wastewater (4) of the decomposing tank (2), wherein the reactor (6) purifies the wastewater (4). A reaction chamber to be treated, an auxiliary reaction chamber, a circulator for circulating the waste water 4 into the decomposition tank 2 and the reaction chamber, an ultrasonic vibrator for vibrating the waste water 4 ultrasonically, and anion and ozone into the waste water 4 It consists of an anion and ozone generator which dissolves and purifies, and an electrolytic apparatus.

도 1은 본 발명의 단면 구성도로, 폐수(4)가 담수되는 분해조(2)는 처리용량에 따라 적당한 크기의 콘크리트 구조물 또는 철 구조물로 구성되며, 분해조(2)의 양측으로 밸브를 갖는 폐수 급수관(8)과 밸브를 갖는 폐수 출수관(10)이 설치된다.1 is a cross-sectional configuration of the present invention, the waste water tank 4 is desalination tank 2 is composed of a concrete structure or steel structure of a suitable size according to the treatment capacity, having a valve on both sides of the decomposition tank (2) A wastewater feedwater pipe 10 having a wastewater feedwater pipe 8 and a valve is provided.

반응기(6)는 도 1과 같이 한 쌍의 삼발이(3)(3a)를 이용하여 분해조(2)에 반 잠수식으로 설치하거나 도 2와 같이 분해조(2)의 바깥 측에 설치하도록 하고, 원통형상이나 다각형상으로 구성되는 반응기(6)의 케이스(12)는 내식성과 내화학성을 갖는 금속재질로 형성하여 내구성을 갖도록 한다.Reactor (6) is installed in a semi-submersible in the digestion tank (2) using a pair of trivets (3) (3a) as shown in FIG. 1 or installed on the outer side of the digestion tank (2) as shown in FIG. , The case 12 of the reactor 6 composed of a cylindrical or polygonal shape is formed of a metal material having corrosion resistance and chemical resistance to have durability.

상기에서 삼발이(3)(3a)를 이용하여 반응기(6)를 반 잠수식으로 설치하는 경우 급수관(8)의 말단부와 출수관(10)의 말단부는 분해조(2)의 바닥으로부터 10㎝ 가량 이격시켜 기계적인 충격을 방지하도록 하고, 반응기(6)의 무게중심을 낮추거나 체결수단을 이용하여 삼발이(3)(3a)에 고정함으로써 반응기(6)의 회전이나 유동을 방지하도록 한다.In the case where the reactor 6 is semi-submerged using the trivets 3 and 3a, the distal end of the water supply pipe 8 and the distal end of the discharge pipe 10 are about 10 cm from the bottom of the digester 2. Spaced apart to prevent mechanical shock, and by lowering the center of gravity of the reactor (6) or by using a fastening means to the trivet (3) (3a) to prevent rotation or flow of the reactor (6).

또한, 도 2와 같이 반응기(6)를 분해조(2)의 바깥에 설치하는 경우 분해조 (2)의 상부에 이동식 스크레이퍼를 설치하여 슬러지를 제거하도록 한다.In addition, when the reactor 6 is installed outside the digestion tank 2 as shown in FIG. 2, a removable scraper is installed on the upper portion of the digestion tank 2 to remove sludge.

반응기(6)의 반응실(14) 양측에는 처리대상 폐수(4)가 유입되는 유입관(16)과 정화처리 된 폐수(4)가 배출되는 배출관(18)을 분해조(2)에 잠기거나 연결되도록 설치하고, 반응기(6)와 반응실(12)의 양측은 유입관(16)과 유출관(18)으로 향할수록 점차적으로 좁아지게 형성한다.On both sides of the reaction chamber 14 of the reactor 6, the inlet pipe 16 into which the wastewater 4 to be treated is introduced and the discharge pipe 18 through which the purified wastewater 4 is discharged are immersed in the decomposition tank 2, It is installed to be connected, and both sides of the reactor 6 and the reaction chamber 12 is formed to gradually narrow toward the inlet pipe 16 and the outlet pipe 18.

상기 유입관(16)과 유출관(18)은 금속튜브 보다는 나이론과 같은 합성수지로 형성하여 음이온의 파괴나 수명단축을 방지하도록 하고, 유입관(16)에는 에어스톤 필터(20)와 펌프(22)를 설치하여 분해조(2)의 폐수(4)가 여과된 다음 펌프(22)에 의해 반응실(14)로 유입되어 정화 처리되고, 정화 처리된 폐수(4)는 분해조(2)로 배출되는 과정을 반복하면서 순환되도록 하고, 반응실(12)의 입구 부분에는 복수 개의 경사판(22)을 고정시켜 유입되는 폐수(4)가 소용돌이형으로 와류(준 폭기 상태)되게 함으로써 효과적인 반응이 이루어지도록 한다.The inlet tube 16 and the outlet tube 18 are formed of a synthetic resin such as nylon rather than a metal tube to prevent the destruction of negative ions or shorten the life, and the inlet tube 16 has an air stone filter 20 and a pump 22. ), The wastewater 4 of the digestion tank 2 is filtered and then introduced into the reaction chamber 14 by the pump 22 for purification, and the purified wastewater 4 is transferred to the digestion tank 2. The discharge process is repeated and circulated, and the inlet portion of the reaction chamber 12 fixes a plurality of inclined plates 22 so that the incoming wastewater 4 vortex vortex (quasi-aeration state) to make an effective reaction. To lose.

점차적으로 좁아지는 반응기(6)의 출구(24)와 출수관(16) 사이에는 반응실 (12)보다 작은 크기의 보조 반응실(26)을 형성하여 고밀도의 음이온이 잠시동안 체류되게 함으로써 반응실(14)에서 정화 처리된 폐수(4)가 보조 반응실(26)로 이동하여 또 한번의 반응에 의해 충분히 정화될 수 있도록 한다.A secondary reaction chamber 26 having a smaller size than the reaction chamber 12 is formed between the outlet 24 and the outlet pipe 16 of the reactor 6 that gradually narrows to allow the high density of anions to stay for a while. The wastewater 4 treated in 14 is transferred to the auxiliary reaction chamber 26 so that it can be sufficiently purified by another reaction.

상기에서 출구(24) 부분의 크기가 보조 반응실(26)에 비하여 협소하므로 반응실(14)로부터 유입되는 폐수(4)가 와류되어 폭기되며, 반응기(6)의 케이스(12) 단면 형상은 초음파의 손실없이 고정할 수 있으면 원통형이더라도 상관없으나 원통형에 가까운 다각형 예컨데, 도 2와 같이 초음파 진동자(28)를 평면적으로 밀착시켜 고정할 수 있는 12각형 전ㆍ후의 다각형 구조로 형성함이 바람직하다.Since the size of the outlet 24 is narrower than that of the auxiliary reaction chamber 26, the wastewater 4 flowing from the reaction chamber 14 is vortexed and aerated, and the cross-sectional shape of the case 12 of the reactor 6 is If it can be fixed without the loss of ultrasonic waves, it may be a cylindrical shape. For example, as shown in FIG. 2, it is preferable to form a polygonal structure before and after the octagonal shape that can be fixed by being in close contact with the ultrasonic vibrator 28 in a planar manner.

다각형 케이스(12)의 외면마다 20,000Hz~40,000Hz의 초음파가 발생되는 복수 개의 초음파 진동자(28)를 고정한 다음 보호케이스(30)를 덮어씌워 초음파 밴드 (32)를 구성하도록 하고, 초음파 밴드(32)는 반응기(6)의 길이나 크기를 감안하여 2개 이상의 복수 개로 설치하도록 한다.Fixing a plurality of ultrasonic vibrator 28, which generates 20,000Hz ~ 40,000Hz ultrasonic waves for each outer surface of the polygonal case 12, and then cover the protective case 30 to form an ultrasonic band 32, ultrasonic band 32 In consideration of the length and size of the reactor (6) is to be installed in a plurality of two or more.

상기에서 초음파 진동자(24)는 다각형 케이스(12) 구조에 의해 도 3과 같이 반응실(14)의 중심점(O)을 향하여 초음파가 집중되므로 중앙으로 갈수록 밀도가 높아지고 진동효과가 증폭되며, 20,000Hz~40,000Hz의 초음파에 의해 폐수(4)가 극렬하게 진동하면서 준 분자 상태로 분리된다.Since the ultrasonic vibrator 24 is focused on the ultrasonic wave toward the center point O of the reaction chamber 14 by the polygonal case 12 structure as shown in FIG. 3, the density increases and the vibration effect is amplified toward the center, 20,000 Hz. Ultrasonic waves of ˜40,000 Hz separate the semi-molecular state while vibrating the waste water 4 violently.

따라서, 폐수(4) 중에 용해 및 수화되어 있는 유기물이나 중금속 착이온 (complexion)들과 라디컬ㆍ전자ㆍ음이온들은 수화된 물층(hydration seath)을 벗어나 마치 공기 중에서 휘발성 유기물(VOC)이 음이온에 의하여 순식간에 산화 분해되는 것과 같이 폐수(4) 중의 유기물이나 착이온들이 신속히 산화ㆍ분해되므로 폐수 (4)가 깨끗이 정화된다.Therefore, organic matter, heavy metal complexes and radicals, electrons, and anions dissolved and hydrated in the wastewater 4 escape the hydrated water seam, and the volatile organic matter (VOC) in the air As the organic matter and complex ions in the wastewater 4 are rapidly oxidized and decomposed like oxidatively decomposed in an instant, the wastewater 4 is purified cleanly.

한편, 반응기(6)의 케이스(12) 상부에는 고밀도 플라즈마 발생장치(34)를 설치하여 대량의 음이온과 소량의 오존이 폐수(4) 중으로 용존되게 함으로써 폐수(4)가 효과적으로 정화 처리되도록 한다.On the other hand, the high density plasma generator 34 is installed on the case 12 of the reactor 6 so that a large amount of anions and a small amount of ozone are dissolved into the waste water 4 so that the waste water 4 can be effectively purified.

상기 고밀도 플라즈마 발생장치(34)의 입구 부분에는 도 1과 같이 급기관 (36)을 설치하고, 급기관(36)에는 2 ~ 5기압으로 불어넣는 공기의 급기량을 조정할 수 있는 급기팬(38)과, 공기의 역류를 방지하는 체크밸브(40)와, 불순물 유입을 방지하는 전기집진 또는 바이오 집진필터(42)를 설치하여 여과된 공기가 역류없이 공급되면서 고밀도의 음이온과 소량의 오존이 발생되어 폐수(4) 중으로 용존되게 한다.An air supply pipe 36 is provided at the inlet portion of the high-density plasma generator 34, as shown in FIG. 1, and the air supply amount of air supplied to the air supply pipe 36 at 2 to 5 atmospheres can be adjusted. ), A check valve 40 to prevent backflow of air, and an electrostatic precipitating or biodusting filter 42 to prevent impurity inflow, and the filtered air is supplied without a backflow to generate high density of anions and a small amount of ozone. To be dissolved in the waste water 4.

상기에서 고밀도 플라즈마 발생장치(34)는 폐수(4)의 상수면으로부터 다소 높게 설치하여 절연을 유지하도록 한다.The high-density plasma generator 34 is installed somewhat higher from the constant surface of the wastewater 4 to maintain insulation.

도 4는 상기 고밀도 플라즈마 발생장치(34)의 단면 구성도로, 걸림부(44)와 큰 직경의 통기공(46)을 갖는 하우징(48)을 케이스(12)에 끼워 고정하고, 하우징 (48)의 내부에 복수 개의 세라믹 절연링(50)(52)(54)(56)을 적층시킨 다음 덮개링 (60)으로 덮어 고정시키고, 하부 절연링(52)의 단턱부에 복수 개의 음극관(72)이 체결되는 음극판(62)을 끼워 설치하고, 또 다른 절연링(56)의 단턱부에 복수 개의 통기공(64)이 형성되고 또한 복수 개의 양극봉(74)이 체결되는 양극판(66)을 끼워 양극판(66)과 음극판(62)이 하우징(48)내에서 간격과 절연이 유지되도록 한다.4 is a cross-sectional configuration diagram of the high-density plasma generator 34, in which a housing 48 having a catching portion 44 and a large diameter vent hole 46 is inserted into and fixed to a case 12, and the housing 48 is fixed. A plurality of ceramic insulating rings 50, 52, 54, 56 are laminated in the inside of the cover, and then covered with a cover ring 60, and fixed, and a plurality of cathode tubes 72 at the stepped portions of the lower insulating ring 52. The negative electrode plate 62 to be fastened is installed, and a plurality of vent holes 64 are formed in the stepped portion of the insulating ring 56, and the positive electrode plate 66 to which the positive electrode rods 74 are fastened. The positive electrode plate 66 and the negative electrode plate 62 maintain the spacing and insulation in the housing 48.

음극판(62)과 양극판(66)에는 고전압부(HV)가 연결된 급전선(68)(70)을 접속하고, 음극관(72)의 내부에는 음극관(72)의 내경보다 비교적 작은 외경을 갖는 양극봉(74)을 결합하되 양극봉(74)과 음극관(72)이 서로 접촉하지 않도록 이격 설치하여 그 사이에 통기공(76)을 형성하고, 고전압부(HV)는 상용전원을 3,000V∼ 25,000V 전압과 수 μA에서 수 A의 전류로 승압한 다음 양극판(66)과 음극판(62)으로 각각 공급시켜 코로나 방전에 의한 플라즈마(P)가 발생되도록 한다.A cathode rod 62 and a cathode plate 66 are connected to a feed line 68 and 70 to which a high voltage portion HV is connected, and an anode rod having an outer diameter relatively smaller than an inner diameter of the cathode tube 72 inside the cathode tube 72. 74), but the anode rod 74 and the cathode tube 72 is spaced apart so as not to contact each other to form a ventilation hole therebetween, the high voltage portion (HV) is a commercial power supply voltage of 3,000V ~ 25,000V After boosting with a current of several A at several μA and then supplying to the positive electrode plate 66 and the negative electrode plate 62, plasma P by corona discharge is generated.

한편, 양극봉(74)의 끝 단부는 도 5와 같이 끝이 첨예하게 뽀족한 침 형상의 플라즈마 방전칩(78)을 형성하도록 하고, 방전칩(78)이 위치하는 음극관(72)의 하부에는 도 5, 도 6과 같이 복수 개의 방전홀(80)을 좁은 간격으로 빙둘러 형성하고, 음극관(72)의 하단부는 양극봉(74)보다 다소 하향 돌출시켜 가운데 부분에 위치하는 방전홀(80a)을 중심하여 상ㆍ하로 코로나 방전이 발생되게 함으로써 고밀도의 플라즈마(P)와 플라즈마의 작용에 의한 고밀도의(대량의) 음이온 및 소량의 오존 (O3)을 얻을 수 있도록 한다.On the other hand, the end of the anode rod 74 to form a needle-shaped plasma discharge chip 78 with a sharp tip as shown in Figure 5, the lower portion of the cathode tube 72 where the discharge chip 78 is located As shown in FIGS. 5 and 6, a plurality of discharge holes 80 are formed at narrow intervals, and the lower end portion of the cathode tube 72 protrudes slightly downward from the anode rod 74 to be positioned at the center portion of the discharge hole 80a. By generating the corona discharge up and down around the center, high density plasma (P) and high density (large amount) of anion and small amount of ozone (O 3 ) caused by the action of the plasma can be obtained.

상기의 경우 종래 방법에 비하여 30% 이상 효율이 향상된다.방전홀(80)은 음극관(72)에 전체적으로 설치할 수 있으나 전하(電荷)의 집중이 분산되어 방전효율이 떨어질 수 있으므로 방전전하(放電電荷)가 집중 분포되는 방전칩(78)의 주변에 설치하도록 한다.In this case, the efficiency is improved by 30% or more as compared with the conventional method. The discharge hole 80 may be installed in the cathode tube 72 as a whole, but the discharge efficiency may be reduced because the concentration of charge is dispersed and the discharge efficiency may be reduced. ) Is installed around the discharge chip 78 which is concentrated.

또한, 방전홀(80)의 방전부분(82)은 90°전후의 각도를 이루는 모서리 구조이므로 이 또한 방전전하가 집중 분포하게되며, 따라서 코로나 방전효율이 극대화되고 이에 따라 고밀도(高密度)의 플라즈마(P)가 발생되며, 플라즈마의 작용에 의해 공기가 음 이온화 및 오존화 되면서 배출된다.In addition, since the discharge portion 82 of the discharge hole 80 has a corner structure forming an angle of about 90 °, the discharge charges are also concentrated, and thus the corona discharge efficiency is maximized and accordingly, the plasma of high density is high. (P) is generated and is discharged as air is anionized and ozoneized by the action of plasma.

상기에서 2기압 내지 5기압의 압송공기에 의해 강력한 코로나 방전과 폐수 (4)의 폭기가 이루어지며, 끝 부분이 첨예하게 가공되는 방전칩(78)은 석출(용출) 및 마모에 의해 수명이 짧아질 수 있으므로 플라즈마 방전칩(78) 부분은 도전성 산화방지 물질로 형성하거나 또는 그 표면에 도포하여 산화피막을 형성함으로써 플라즈마 방전칩(78)의 수명을 연장시키도록 한다.In the above, a strong corona discharge and aeration of the wastewater 4 are made by the pressurized air of 2 to 5 atm, and the discharge chip 78 having a sharp end portion has a short life due to precipitation (elution) and abrasion. Since the plasma discharge chip 78 may be formed of a conductive anti-oxidation material or coated on the surface thereof to form an oxide film, the life of the plasma discharge chip 78 may be extended.

또한, 코로나 방전에 의해 방전열이 발생되더라도 도시안된 공기압 공급원에 의해 통기공(46)(64)(76)으로 다량의 공기가 공급되므로 양극봉(74)과 음극관(72)의 과열이 방지되며, 또한 통기공(76)을 흐르는 공기의 유속에 의해 음극관(72)의 내ㆍ외부간에 기압차가 발생하므로 양극봉(74)의 외부에 위치하는 공기가 방전홀 (80)을 통하여 통기공(76)의 내부로 유입되므로 양극봉(74)과 음극관(72)의 방열이 이루어진다.In addition, even if discharge heat is generated by the corona discharge, a large amount of air is supplied to the vent holes 46, 64, 76 by the air pressure source (not shown), thereby preventing overheating of the anode rod 74 and the cathode tube 72. In addition, since an air pressure difference occurs between the inside and the outside of the cathode tube 72 due to the flow rate of the air flowing through the vent hole 76, the air located outside the anode rod 74 is discharged through the discharge hole 80. Since it is introduced into the inside of the anode rod 74 and the cathode tube 72 is made of heat radiation.

도 7은 고밀도 플라즈마 발생장치(34)에 사용되는 전극의 다른 실시 예로 도시한 분해 사시도로, 양극봉(74)의 외면에 피라미드(사각뿔) 형상의 방전칩(84)을 조밀한 간격으로 길이방향과 원주방향으로 빙둘러 형성하되 상기 방전칩(84)과 1:1로 대응하는 위치의 음극관(72)에 방전홀(86)을 각각 형성하여 코로나 방전이 전면적으로 발생되도록 한 것이다.7 is an exploded perspective view showing another embodiment of the electrode used in the high-density plasma generator 34, in the longitudinal direction of the pyramid (square pyramid) -shaped discharge chip 84 on the outer surface of the anode rod 74 at a tight interval And circumferentially formed in the circumferential direction, and the discharge hole 86 is formed in the cathode tube 72 at the position corresponding to the discharge chip 84 1: 1, so that corona discharge is generated entirely.

양극봉(74), 음극관(72), 양극판(66), 음극판(62) 및 방전칩(78)(84)의 재료로는 몰리브덴, 텅스텐, 니켈, 백금 또는 니켈, 몰리브텐, 구리 등과 같이 내열성과 내산성 및 도전성이 우수한 합금으로 형성하도록 하고, 양극봉(74)과 음극관 (72)이 고정되는 양극판(66) 및 음극판(62) 또한 상기와 같은 재질로 형성하여 내열성, 내산성 및 도전성(導電性)이 우수하면서 열팽창 계수가 같도록 한다.Materials of the anode rod 74, the cathode tube 72, the anode plate 66, the cathode plate 62, and the discharge chips 78, 84 may be molybdenum, tungsten, nickel, platinum or nickel, molybdenum, copper, or the like. The positive electrode plate 66 and the negative electrode plate 62 to which the positive electrode rod 74 and the negative electrode tube 72 are fixed are also formed of the same material as that of the alloy having excellent heat resistance, acid resistance, and conductivity. The thermal expansion coefficient is the same while the resistance is excellent.

상기 고밀도 플라즈마 발생장치(34)는 처리용량이나 반응실(14)의 크기에 따라 도 8과 같이 1개 이상 복수 개로 설치할 수 있다.The high-density plasma generator 34 may be installed in one or more, as shown in Figure 8 depending on the processing capacity and the size of the reaction chamber (14).

한편, 고밀도 플라즈마 발생장치(34)는 체크밸브(40)에 의해 반응실(14)의 폐수역류가 방지되지만 증발수 및 습기에 의해 양극봉(74)과 음극관(72)이 전기적으로 단락(short circuit)될 수 있으므로 도 9와 같은 류의 제습장치(88)를 설치하도록 한다.On the other hand, the high density plasma generator 34 prevents the wastewater backflow of the reaction chamber 14 by the check valve 40, but the positive electrode 74 and the cathode tube 72 are electrically shorted by evaporated water and moisture. The dehumidifier 88 of the same type as shown in FIG. 9 may be installed.

즉, 양극봉(74)과 음극관(72)이 위치하는 부분의 케이스(12) 외면에 절연이 유지되는 전열히터(90)를 빙둘러 감고, 케이스(12)의 표면에 온도스위치(92)를 설치한 다음 도시안된 스위치에 의해 전원이 공급되는 전열히터(90)를 직렬로 연결하여 고밀도 플라즈마 발생장치(34)를 초기 동작시킬 때 고밀도 플라즈마 발생장치 (34)를 150℃~300℃로 가열시킬 수 있도록 함으로써 양극봉(74)과 음극관(72) 사이로 침투하거나 침투한 증발수 및 습기를 제거시켜 고밀도 플라즈마 발생장치(34)의 전기적인 단락(short)이나 고장을 방지하도록 하고, 전열히터(90)와 온도스위치 (92)는 케이스 (94)로 감싸 보호하도록 한다.That is, the electric heat heater 90 in which insulation is maintained is wound around the outer surface of the case 12 at the portion where the anode rod 74 and the cathode tube 72 are positioned, and the temperature switch 92 is placed on the surface of the case 12. After installation, the heat transfer heaters 90, which are powered by an unillustrated switch, are connected in series to heat the high density plasma generator 34 to 150 ° C to 300 ° C when the high density plasma generator 34 is initially operated. By removing the evaporated water and moisture that penetrates or penetrates between the anode rod 74 and the cathode tube 72 to prevent electrical short or breakdown of the high-density plasma generator 34, the electric heater 90 ) And the temperature switch 92 is wrapped in a case 94 to protect.

도 10은 본 발명 다른 실시 예의 단면도로, 반응실(14)의 내부에 원통형이나 다각형 구조의 격리조(96)를 설치하여 고밀도 플라즈마 발생장치(34)에 의해 발생되는 음이온 및 오존이 출구(24) 부분에서 폐수와 용존되게 함으로써 고밀도 플라즈마 발생장치(34)의 전기적인 단락을 효과적으로 방지할 수 있으며, 이때 초음파 밴드(32)는 격리조(96)의 외면에 설치함이 바람직하다.10 is a cross-sectional view of another embodiment of the present invention, in which an anion and ozone generated by the high-density plasma generator 34 is formed by installing an isolation tank 96 having a cylindrical or polygonal structure inside the reaction chamber 14. By dissolving with the waste water in the) portion it can effectively prevent the electrical short circuit of the high-density plasma generator 34, wherein the ultrasonic band 32 is preferably installed on the outer surface of the isolation tank (96).

본 발명에서 케이스(12)와 케이스(12), 케이스(12)와 고밀도 플라즈마 발생장치(34)는 플렌지 구조로 연결하여 수리나 이동 및 분해ㆍ조립할 수 있도록 하고, 반응실(14)과 보조 반응실(26)의 하부에 드레인 밸브(98)(100)를 설치하여 침전물이나 청소 할 때 이용할 수 있도록 한다.In the present invention, the case 12, the case 12, the case 12 and the high-density plasma generator 34 are connected in a flange structure to repair, move, disassemble and assemble, and react with the reaction chamber 14. Drain valves 98 and 100 are installed at the lower part of the seal 26 so that they can be used when depositing or cleaning.

도 11은 본 발명 또 다른 실시 예의 단면도로, 반응실(14)의 내부에 전해전원(102)이 공급되는 양극(104)과 음극(106)으로 구성되는 한 쌍 이상의 전해전극을 설치하여 폐수(4)를 전해 처리할 수 있도록 한 것이다.11 is a cross-sectional view of another embodiment of the present invention, in which a pair of electrolytic electrodes composed of a positive electrode 104 and a negative electrode 106 to which an electrolytic power source 102 is supplied is disposed inside a reaction chamber 14 to treat wastewater ( 4) can be electrolytically treated.

상기에서 양극(104)과 음극(106)은 모두 비활성 탄소전극으로 하고 급전선의 중간에 극성 교번장치(108)를 설치하여 일정한 주기마다 극성을 바꾸어 주면서 전기 분해하면 본 발명자가 기 발명한 "산업폐수 연속전해 정화처리방법 및 그 장치(특허 제10-0188232호)" 보다 매우 신속하게 폐수를 정화 처리할 수 있다.In the above, both the anode 104 and the cathode 106 are inert carbon electrodes, and a polarity alternating device 108 is installed in the middle of the feeder, and the electrolysis is performed while changing the polarity at regular intervals. It is possible to purify wastewater much more quickly than the continuous electrolytic purification method and apparatus (Patent No. 10-0188232).

상기에서 탄소전극은 봉형상으로 구성할 수도 있으나 표면적이 넓은 평면형상으로 구성하여 전해효율을 향상시키도록 한다.The carbon electrode may be configured in the shape of a rod, but in a planar shape having a large surface area to improve the electrolytic efficiency.

이때, 극성 교번장치(108)를 이용하여 전극(104)(106)의 극성을 2분 내지 10분 주기로 주기적으로 변경하는 것은 양극(104)으로 달라붙는 수중의 슬러지를 제거하고 양극(104)에서 발생되는 과전압을 방지함으로써 전해 정화 처리효율을 상승시키기 위함이며, 상기의 경우 초음파에 의해서도 슬러지가 전극(104)(106)으로 달라붙는 현상이 상당히 억제된다.At this time, periodically changing the polarity of the electrodes 104 and 106 using the polarity alternating device 108 in a period of 2 to 10 minutes removes the sludge in the water that adheres to the anode 104 and at the anode 104. This is to increase the electrolytic purification treatment efficiency by preventing the generated overvoltage, and in this case, the phenomenon that the sludge adheres to the electrodes 104 and 106 even by ultrasonic waves is significantly suppressed.

도 12는 케이스(12)에 고정되는 상기 전해전극(104)(106)을 절연 유지하면서 고정할 수 있는 구조를 도시한 도면이다.FIG. 12 is a view showing a structure in which the electrolytic electrodes 104 and 106 fixed to the case 12 can be fixed while being insulated.

즉, 케이스(12)에 통공을 형성한 다음 그 외면에 너트(110)를 접촉시켜 수밀유지되게 용접하고, 상기 너트(110)에 오링(112)이 끼워지고 플렌지부(114)가 형성된 베이클 라이트와 같은 재질의 절연너트(116)를 체결시켜 너트(110)와 절연너트 (116) 사이에 수밀이 유지되도록 하고, 절연너트(116)의 내부 통공에 탄소 전해전극(104)(106)이 체결되고 외면에 오링(118)이 결합된 나사봉(120)을 끼우고, 바깥으로 돌출된 나사봉(120)의 외면에 급전와셔(122)를 끼운 다음 너트(124)로 체결시켜 탄소 전해전극(104)(106)이 수밀유지되게 고정한 것이다.That is, a through hole is formed in the case 12, and then the nut 110 is brought into contact with the outer surface to be welded in a watertight manner, and the o-ring 112 is fitted to the nut 110 and the flange portion 114 is formed therein. The insulating nut 116 of the same material as the light is fastened so that the watertightness is maintained between the nut 110 and the insulating nut 116, and the carbon electrolytic electrodes 104 and 106 are disposed in the inner hole of the insulating nut 116. Insert the screw rod 120 is fastened and the O-ring 118 is coupled to the outer surface, the feed washer 122 is inserted into the outer surface of the screw rod 120 protruding outward and then fastened with a nut 124 to the carbon electrolytic electrode (104) (106) is fixed to be kept watertight.

상기에서 케이스(12)와 탄소 전해전극(104)(106) 사이에는 절연거리를 유지하여 불요성 방전을 방지하도록 하고, 오링(112)(118)이 직접적으로 접촉하는 너트 (110), 플렌지부(114), 탄소 전해전극(104)(106), 절연너트(116) 부분에는 오링 (112)(118)의 일부가 들어갈 수 있는 안착홈을 각각 형성하여 너트(124)로 죄임할 때 오링(112)(114)의 어긋남이나 위치이탈 등을 방지하도록 한다.In this case, the insulating distance is maintained between the case 12 and the carbon electrolytic electrodes 104 and 106 to prevent the undesired discharge, and the nuts 110 and the flange portions directly contacting the O-rings 112 and 118. (114), the carbon electrolytic electrodes 104, 106, the insulating nut 116 is formed in each of the mounting grooves into which a portion of the O-rings 112, 118 can be inserted to tighten the nut (124) O-ring ( To prevent the misalignment or deviation of the 112, 114.

도 13은 본 발명 예비 분해조(58)의 다른 실시 예 사시도로, 슬러지 제거장치와 초음파 진동장치와 버브링 장치를 설치하여 폐수(4)를 정화 처리할 때 부유하는 슬러지나 거품 등을 경사 상태의 스크레이퍼(126)를 이용하여 쉽게 제거할 수 있도록 하고, 예비 분해조(58)의 내측벽에는 복수 개의 초음파 진동자(128)를 고정시켜 폐수(4)를 진동시킬 수 있도록 하고, 예비 분해조(58)의 바닥에는 버브링 장치(130)를 설치하여 폐수(4) 중으로 음이온과 오존이 공급되게 한 것이다.13 is a perspective view illustrating another embodiment of the preliminary digestion tank 58 of the present invention, in which a sludge removal device, an ultrasonic vibration device, and a bubbling device are installed to incline sludge or foam floating when the wastewater 4 is purified. The scraper 126 can be easily removed, and a plurality of ultrasonic vibrators 128 are fixed to the inner wall of the preliminary digestion tank 58 so that the wastewater 4 can be vibrated, and the preliminary digestion tank ( 58 is installed at the bottom of the bubbling device 130 to supply anion and ozone to the waste water (4).

슬러지 제거장치의 경우, 도 13과 같이 예비 분해조(58)의 상부 양측에 한 쌍의 체인기어(132)(134)(136)(138)를 축봉(140)(142)과 축 베어링(144)으로 축 설치한 다음 체인(146)(148)을 걸어 평행하도록 하고, 일측 축봉(142)의 단부에 감속모터(150)의 회전축봉을 연결시켜 체인(146)(148)이 연동 회전하도록 하고, 체인 (146)(148)의 안쪽면에는 연결봉(152)의 양단부가 고정되는 체인 어태치먼트 (154) (156)를 고정시켜 체인(146)(148)을 따라 순환 회전하도록 하고, 연결봉(152)에는 도 14와 같이 가볍고 질긴 내화학성 재질의 스크레이퍼(126)를 경사지게 고정시켜 예비 분해조(58)의 상수면(158)으로 부유하는 슬러지(160)이나 거품 등을 슬러지 침전조(162)로 이동시킬 수 있게 한 것이다.In the case of the sludge removal apparatus, as shown in FIG. 13, a pair of chain gears 132, 134, 136 and 138 are arranged on both sides of the upper part of the preliminary digester 58, and the shaft 140, 142 and the shaft bearing 144. After installing the shaft to the chain (146) (148) by hanging the parallel to the end, one side of the shaft 142 by connecting the rotating shaft of the reduction motor 150 to the chain 146 (148) to rotate the interlocking The chain attachments 154 and 156 fixed to both ends of the connecting rods 152 are fixed to the inner surfaces of the chains 146 and 148 so as to circulate and rotate along the chains 146 and 148 and the connecting rods 152. 14, the sludge 126 of the light and durable chemical resistant material is fixed to the slant to move the sludge 160 or foam floating on the constant surface 158 of the preliminary digestion tank 58 to the sludge settling tank 162. It was made possible.

상기에서 스크레이퍼(126)는 체인 어태치먼트(154)(156)에 고정시켜 하부 체인에 위치할 때에는 폐수(4) 중으로 들어가게 함으로써 체인을 따라 이동하면서 슬러지 및 거품을 슬러지 침전조(162)로 걷어내도록 하고, 상부 체인에 위치할 때에는 공중에 들려 이동하도록 함으로써 슬러지나 거품 등이 역방향으로 이동하지 않도록 한다.In the above, the scraper 126 is fixed to the chain attachments 154 and 156 so as to enter the wastewater 4 when located in the lower chain to move the sludge and foam to the sludge settling tank 162 while moving along the chain. When it is located in the upper chain, it moves in the air so that sludge or foam does not move in the reverse direction.

버브링 장치(130)는, 양측면과 상부면으로 좁은 간격의 분사공(164)이 형성된 관체(166)를 예비 분해조(58)의 바닥에 설치하고 연결관체(168)의 단부에는 급기팬(170)과 오존발생장치(172)를 설치하여 산소와 오존이 폐수(4) 중으로 버블링되게 한 것이다.The bubbling device 130 is installed at the bottom of the preliminary disassembly tank 58, the pipe body 166 is formed at both sides and the upper surface of the injection hole 164 with a narrow gap, and an air supply fan at the end of the connecting pipe 168. 170 and an ozone generator 172 are installed to allow oxygen and ozone to bubble into the wastewater 4.

도 15 및 도 16은 본 발명 다른 실시 예로 제시한 연속형 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치(174)의 밀집 구성도로, 반응기(2)를 삭제하는 대신 도 13과 같이 감속모터(150)에 의해 회전하는 체인(146)(148)과, 체인(146)(148)을 따라 이동하는 스크레이퍼(126) 구조에 의해 슬러지가 제거되는 슬러지 제거장치가 설치되는 예비 분해조(58)와, 도 17과 같은 고밀도 플라즈마 발생장치(34)의 배기구(176)가 투입 설치되고 상ㆍ하 한 쌍의 초음파 밴드(178)(180)와 전해전원(182)과 극성 교번장치 (184)(186)를 갖는 한 쌍의 전해전극(188)(190)(192)(194)이 설치되는 1, 2차 분해조(2)(2a)와, 응집제 자동 투입기(196)와 급기팬(198)을 갖는 버블링 장치(200)가 설치된 응집조(202)와, 산 또는 알칼리 투입조(204)와 드레인 밸브 (206)와 배출관 (208)을 갖는 pH 저장조(210)를 단일구조의 셀(방)별로 구분하도록 하고, 예비 분해조(58)와 1, 2차 분해조(2)(2a)와 응집조(202)와 pH 저장조(210)는 절곡형 배수관(212)(214)(216)(218)을 이용하여 폐수(4)가 옆에 위치하는 셀로 이동되게 한 것으로 제작비를 줄이고, 최소공간을 점유할 수 있도록 한 것이다.뿐만 아니라 이 장치는 연속적으로 폐수 처리가 가능한 연속형 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치이므로 불연속적인 배지형(badge type) 장치보다 폐수처리 효과가 매우 높고 자동화가 가능한 장치이다.15 and 16 are dense configurations of the continuous high-density plasma wastewater treatment apparatus 174 shown in another embodiment of the present invention. Instead of deleting the reactor 2, the chain rotated by the reduction motor 150 as shown in FIG. 13. 146, 148, a preliminary digestion tank 58 in which a sludge removal apparatus for removing sludge is installed by the scraper 126 structure moving along the chain 146, 148, and a high density plasma as shown in FIG. An exhaust port 176 of the generator 34 is supplied and installed, and has a pair of upper and lower ultrasonic bands 178 and 180, an electrolytic power source 182, and a pair of polarity alternating devices 184 and 186. Bubbling device 200 having primary and secondary digestion tanks 2 and 2a on which electrodes 188, 190, 192 and 194 are installed, a coagulant automatic injector 196 and an air supply fan 198. So that the pH storage tank 210 having the coagulation tank 202, the acid or alkali inlet tank 204, the drain valve 206, and the discharge pipe 208 is installed in the unit cell (room). In addition, the preliminary digestion tank 58, the primary and secondary digestion tanks (2) (2a), the coagulation tank (202), and the pH storage tank (210) are each connected to the bent drainage pipes (212) (214) (216) (218). The wastewater 4 is moved to a cell located next to it, thereby reducing the production cost and occupying the minimum space. In addition, the device is a continuous high density plasma wastewater treatment device capable of continuously treating wastewater. Wastewater treatment effect is very high and automation is possible than conventional bad type device.

1, 2차 분해조(2)(2a)는 셀의 하단부(바닥에서 약 300㎜~500㎜ 올라간 지점)와 셀 상단부(셀 상단부에서 아랫쪽으로 약 300㎜~500㎜ 내려간 지점)에 빙둘러 복수 개의 초음파 진동자와 보호 케이스로 구성되는 초음파 밴드(178)(180)를 2줄로 빙둘러 설치하고, 그 중앙에 한 쌍의 탄소전극(188)(190)(192)(194)으로 되고 전극교번장치(184)(186)를 갖는 전해장치를 설치하도록 한다.A plurality of primary and secondary disassembling tanks (2) (2a) are circumscribed to the lower end of the cell (about 300 mm to 500 mm from the bottom) and the upper part of the cell (about 300 mm to 500 mm down from the top of the cell). Ultrasonic bands 178, 180 consisting of two ultrasonic vibrators and protective cases are installed in two rows, and a pair of carbon electrodes 188, 190, 192, 194 are disposed at the center thereof, and an electrode alternating device is provided. An electrolytic device having (184) (186) is provided.

그리고 응집조(202)에는 무기 응집제(황산 알미늄, 염화제2철, PAC)와 유기 응집제(음이온 또는 양이온 유기 응집제)를 적당량 가하여 급기팬(198)을 이용하여 가압 부상시킨 다음 예비 분해조(58)와 같은 방법으로 스크레이퍼(126)에 의해 슬러지가 제거되는 슬러지 제거장치를 설치하여 슬러지를 걷어내도록 한다.In addition, an appropriate amount of an inorganic flocculant (aluminum sulfate, ferric chloride, PAC) and an organic flocculant (anionic or cationic organic flocculant) is added to the flocculation tank 202, and the pressure flotation is carried out using the air supply fan 198. In such a manner as to install a sludge removal device to remove the sludge by the scraper 126 to remove the sludge.

또한, 상기 응집조(202)에는 슬러지 제거장치와 초음파 진동장치와 버브링 장치를 설치하여 폐수(4)를 정화 처리할 때 슬러지를 경사 상태의 스크레이퍼(126)로 쉽게 제거할 수 있도록 한다.In addition, the sludge removal device, the ultrasonic vibrator and the bubbling device is installed in the coagulation tank 202 so that the sludge can be easily removed by the inclined scraper 126 when the wastewater 4 is purified.

슬러지 제거장치의 경우, 도 13과 같이 예비 분해조(58)의 상부 양측에 한 쌍의 체인기어(132)(134)(136)(138)를 축봉(140)(142)과 축 베어링(144)으로 축 설치한 다음 체인(146)(148)을 걸어 평행하도록 하고, 일측 축봉(142)의 단부에 감속모터(150)의 회전축봉을 연결시켜 체인(146)(148)이 연동 회전하도록 하고, 체인 (146)(148)의 안쪽면에는 연결봉(152)의 양단부가 고정되는 체인 어태치먼트 (154) (156)를 고정시켜 체인(146)(148)을 따라 순환 회전하도록 하고, 연결봉(152)에는 도 14와 같이 가볍고 질기면서 내화학성 재질의 스크레이퍼(126)를 경사지게 고정시켜 예비 분해조(58)의 상수면(158)으로 부유하는 슬러지(160)나 거품 등을 슬러지 침전조(162)로 이동시킬 수 있게 한 것이다.In the case of the sludge removal apparatus, as shown in FIG. 13, a pair of chain gears 132, 134, 136 and 138 are arranged on both sides of the upper part of the preliminary digester 58, and the shaft 140, 142 and the shaft bearing 144. After installing the shaft to the chain (146) (148) by hanging the parallel to the end, one side of the shaft 142 by connecting the rotating shaft of the reduction motor 150 to the chain 146 (148) to rotate the interlocking The chain attachments 154 and 156 fixed to both ends of the connecting rods 152 are fixed to the inner surfaces of the chains 146 and 148 so as to circulate and rotate along the chains 146 and 148 and the connecting rods 152. As shown in FIG. 14, the sludge 126 of the chemically resistant and light-resistant material is inclined to move the sludge 160 or foam floating on the constant surface 158 of the preliminary digestion tank 58 to the sludge settling tank 162. It was made possible.

상기에서 스크레이퍼(126)는 체인 어태치먼트(154)(156)에 고정시켜 하부 체인에 위치할 때에는 폐수(4) 중으로 들어가게 함으로써 체인을 따라 이동하면서 슬러지 및 거품을 슬러지 침전조(162)로 걷어내도록 하고, 상부 체인에 위치할 때에는 공중에 들려 이동하도록 함으로써 부유하는 슬러지나 거품 등이 역방향으로 이동하지 않도록 한다.In the above, the scraper 126 is fixed to the chain attachments 154 and 156 so as to enter the wastewater 4 when located in the lower chain to move the sludge and foam to the sludge settling tank 162 while moving along the chain. When it is located in the upper chain, it is lifted by the air so that floating sludge or foam does not move in the reverse direction.

버브링 장치(130)는, 양측면과 상부면으로 좁은 간격의 분사공(164)이 형성된 관체(166)를 예비 분해조(58)의 바닥에 설치하고 연결관체의 단부에는 급기팬과 공기가 폐수(4) 중으로 버블링되게 함으로써 가압 부상하는 슬러지를 스크레이퍼 (126)로 제거하도록 한다.The bubbling device 130 is installed in the bottom of the preliminary digestion tank 58, the pipe 166 formed with a narrow spaced injection hole 164 on both sides and the top surface, the air supply fan and air at the end of the connecting pipe body By bubbling in (4), it is possible to remove the pressure-floating sludge with the scraper 126.

또한, pH 조정조(210)에서는 산(HCℓ, H2SO4), 알칼리(NaOH 가성소다)를 사용하여 pH를 7~8로 조정한다. 이렇게 처리한 처리수는 배출관(208)을 통하여 미생물 반응조로 이송시켜 연계 처리한 다음 방류하면 된다.In addition, pH-adjusting tank 210, the Adjust the pH using an acid (HCℓ, H 2 SO 4) , alkali (sodium hydroxide NaOH) in 7-8. The treated water is transferred to the microbial reaction tank through the discharge pipe 208, and then discharged.

도 15, 도 16에서 예비 분해조(58)와 응집조(202)에는 스크레이퍼(126)를 갖는 슬러지 제거장치가 설치되어 있다.In FIG. 15, FIG. 16, the sludge removal apparatus which has the scraper 126 is provided in the preliminary | decomposition tank 58 and the coagulation tank 202. As shown in FIG.

따라서, 스크레이퍼(126)를 이용하여 슬러지나 거품 등을 효과적으로 걷어내기 위해서는 수위조절이 정확해야 한다.Therefore, in order to effectively remove the sludge or foam using the scraper 126, the water level control must be accurate.

그러므로 예비 분해조(58)와 응집조(202)의 절곡형 배수관(212)(218)에 도 18과 같은 구성의 수위조절장치(220)를 설치하여 예비 분해조(58)와 응집조(202)의 수위를 슬러지의 상태 및 높이 등에 따라 정확히 조절할 수 있게 한다.Therefore, the preliminary digestion tank 58 and the coagulation tank 202 are installed in the bend-type drain pipes 212 and 218 of the preliminary digestion tank 58 and the coagulation tank 202, as shown in FIG. ), The water level can be precisely adjusted according to the sludge condition and height.

상기 수위조절장치(220)는 도 18과 같이 예비 분해조(58)와 응집조(202)의 출구(222)에 상부로 개방된 드레인관(224)이 상승 돌출되고, 드레인관(224)의 외부에는 드레인관(224)보다 많이 상승되는 집수관체(226)가 설치되며, 상부로 개방된 집수관체(226)의 일측 하부에 1차 분해조(2)와, pH 저장조(210)에 담기는 출수관 (212)(218)이 연결된다.As for the water level control device 220, the drain pipe 224 opened upward to the outlet 222 of the preliminary digestion tank 58 and the coagulation tank 202 as shown in FIG. The water collecting pipe 226 which is raised more than the drain pipe 224 is installed on the outside, the first decomposition tank 2 and the pH reservoir 210 in one lower portion of the water collecting pipe 226 open to the upper The outlet pipes 212 and 218 are connected.

드레인관(224)의 내부에는 한 개 이상의 오링(228)과 수위 조절관(230)이 승강할 수 있게 헐겁게 끼워져 설치되며, 드레인관(224)과 수위 조절관(230) 사이에 위치하는 오링(228)은 수밀을 유지하게 된다.One or more O-rings 228 and the water level control pipe 230 are loosely installed in the drain pipe 224 so that the water level control pipe 230 can be elevated, and positioned between the drain pipe 224 and the water level control pipe 230 ( 228 maintains watertightness.

수위 조절관(230)의 상부에는 3개 전후의 지지봉(232)이 고정되고, 지지봉 (232)의 상부면에 핸들(234)을 갖는 나사봉(236)이 고정되고, 상기 나사봉(236)은 집수관체(226) 또는 여타의 고정수단에 연결봉(238)고정되는 너트(240)에 나사 결합되며, 따라서 핸들(234)의 회전 방향에 따라 수위 조절관(230)의 상승 또는 하강이 달성되므로 슬러지 제거장치가 설치된 예비 분해조(58)와 응집조(202)의 수위를 정밀하게 조정할 수 있다.Three upper and lower support rods 232 are fixed to the upper part of the water level control tube 230, and a screw rod 236 having a handle 234 is fixed to an upper surface of the support rod 232, and the screw rods 236 are fixed. Is screwed to the nut 240 is fixed to the connecting rod 238 to the collecting pipe 226 or other fixing means, so that the rise or fall of the water level control pipe 230 is achieved according to the rotation direction of the handle 234 The water level of the preliminary digestion tank 58 and the flocculation tank 202 provided with the sludge removal apparatus can be adjusted precisely.

도 19는 본 발명 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치의 폐수처리 흐름도이다. 여기서 예비 분해조는 오존 발생기, 초음파 발생기와 스크레이퍼 (scraper)(126)가 부착되어 있다.19 is a wastewater treatment flow chart of the ultrasonically coupled high density plasma wastewater treatment apparatus. Here, the preliminary decomposition tank is attached with an ozone generator, an ultrasonic generator and a scraper 126.

이 예비 분해조에서는 앞에서 언급한 바와 같이 초음파에 의하여 폐수 중에 용해되어 있는 유기화합물, 중금속 착이온과 오존분자들이 수화층을 벗게되고, 동시에 높은 에너지 상태로 활성화되므로 오존에 의한 유기분자와 착이온 산화 분해되는 효과가 크므로 쓰레기 매립장 침출수와 고농도 축산폐수 등의 COD, BOD, SS, T-N, T-P 저감율이 양호하고 탈색과 탈취 효과가 매우 높다.In this preliminary decomposition tank, as mentioned above, organic compounds, heavy metal complex ions and ozone molecules dissolved in the waste water by ultrasonic are removed from the hydration layer and activated at a high energy state. Thus, organic molecules and complex ion oxidation by ozone are activated. Due to the large decomposing effect, COD, BOD, SS, TN, TP reduction rate of landfill leachate and high concentration livestock wastewater is good and decolorization and deodorization effect is very high.

그리고 스크레이퍼(126)로 슬러지를 걷어내므로 앞의 분자 분해 잔유물이 응집하여 발생되는 SS의 저감율도 큰 편이다. 1차 분해조는 음이온 발생기와 초음파 발생기가 부착되어 있으므로 예비 분해조와 같은 효과를 나타내고 있으나 라디컬을 포함한 음이온이 폐수중의 유기물과 착이온을 공격하여 산화 분해시키는 점만 다를 뿐이다.Since the sludge is removed by the scraper 126, the reduction rate of SS generated by the aggregation of the preceding molecular decomposition residues is also large. The primary digester has the same effect as the preliminary digester because it is attached with an anion generator and an ultrasonic generator, but the only difference is that the anion including radicals oxidize and decompose organic matter and complex ions in the wastewater.

1차 분해조에서 생성되는 슬러지는 예비 분해조와는 달리 황산 알미늄, 염화 제 2철, PAC와 같은 무기 응집제 또는 이온성 유기 응집제 등으로 응집 침전시키거나 가압 부상시킨다. 2차 분해조는 1차 분해조와 같은 구조를 하고 있다.따라서, 그 기능도 1차 분해조와 동일 하나 다만 같은 분해과정을 한번 더 반복하여 폐수 처리효율을 증가시키는데 그 목적이 있다.Unlike the preliminary digestion tank, sludge produced in the primary digestion tank is coagulated or precipitated with an inorganic flocculant such as aluminum sulfate, ferric chloride, PAC, or an ionic organic flocculant. The secondary digestion tank has the same structure as the primary digestion tank. Therefore, the function of the secondary digestion tank is the same as that of the primary digestion tank, but its purpose is to increase the wastewater treatment efficiency by repeating the same decomposition process once more.

1차 분해조와 2차 분해조를 거치는 동안 고농도 침출수나 축산폐수 중에 포함된 미생물에 극히 유해한 페놀과 그 유도체, 중금속 이온 등은 70%~90% 이상 제거되므로 염산과 가성소다 등의 산, 알카리를 투입하는 PH 조정조에서 pH를 7~8로 맞춘 다음 고 다공성 메디아에 미생물을 고밀도로 착생시킨 고밀도 미생물 반응조를 거치면 95% 이상의 정화 효과를 나타내게 된다.During the first and second digestion tanks, 70% to 90% or more of phenol, its derivatives, and heavy metal ions, which are extremely harmful to microorganisms contained in high concentration leachate or livestock wastewater, are removed, thus removing acids and alkalis such as hydrochloric acid and caustic soda. The pH is adjusted to 7-8 in the pH control tank to be injected, and then the high-density microbial reaction tank in which high-density microorganisms are grafted to the high-porous media shows 95% or more purification effect.

이 고밀도 미생물 반응조를 거친 처리수에 1차 침전조에서 사용하는 약품들을 투입하여 침전 후 활성탄 흡착조에서 SS를 흡착 처리하고 다음 단계로 중공사막 필터나 RO(역삼투) 극미세 여과를 거치면 폐수처리의 궁극적인 목적인 폐수를 처리하여 재사용할 수 있으며, 오로지 증발이나 손실되는 양의 물만 보충하고 폐수 처리수를 전혀 방류하지 않는 소위 무방류 폐수처리가 가능하게 된다.Chemicals used in the primary sedimentation tank are added to the treated water that has passed through the high-density microbial reaction tank. After precipitation, SS is adsorbed in the activated carbon adsorption tank and the next step is a hollow fiber membrane filter or RO (reverse osmosis) ultrafiltration. The ultimate purpose is to treat and reuse the wastewater, so that it is possible to so-called undischarged wastewater treatment that only replenishes evaporated or lost water and does not discharge the wastewater at all.

도 20은 도 19의 흐름도 과정에서 2차 분해조를 생략하고 고밀도 미생물 반응조를 일반 미생물 반응조로 대체한 것으로, 활성탄 흡착조를 거친 처리수를 방류시키도록 한다. 이 경우 방류수의 수질은 매우 양호하며 무색, 무취 및 탈질(탈질소)과 탈인도가 95% 이상인 방류수가 된다.FIG. 20 omits the secondary decomposition tank in the flow chart of FIG. 19 and replaces the high-density microbial reactor with the general microbial reactor, to discharge the treated water passing through the activated carbon adsorption tank. In this case, the water quality of the discharged water is very good and it becomes colorless, odorless and denitrification (denitrification) and discharged water with dephosphorization of 95% or more.

본 발명은 도 19와 도 20에서 고밀도 미생물 처리와 일반 미생물 처리의 전처리에서 현재까지 가장 효과가 뛰어난 물리 화학적 폐수처리 방법으로 그 시험결과는 다음 표 1과 같다.The present invention is the most effective physicochemical wastewater treatment method up to now in the pre-treatment of high-density microbial treatment and general microbial treatment in Figure 19 and 20, the test results are shown in Table 1 below.

표 1 축산폐수 파일롯트 시험 결과표Table 1 Livestock Wastewater Pilot Test Results Table

(단위 :㎎/ℓ)(Unit: mg / l)

구 분 항 목Category Item C O DC O D B O DB O D S SS S (총질소)T-N(Total nitrogen) T-N (총-인)T-P(Total-in) T-P 원 수enemy 9,875.09,875.0 7,520.87,520.8 23,505.023,505.0 2,475.02,475.0 185.2185.2 예비분해처리수Pre-decomposition water 977.6977.6 3,008.33,008.3 1,104.71,104.7 1,064.31,064.3 9.49.4 제 거 율 (%)Removal rate (%) 90.190.1 60.060.0 95.395.3 57.057.0 94.994.9 1차분해처리수1st decomposition water 404.9404.9 473.8473.8 517.1517.1 740.0740.0 4.14.1 제 거 율 (%)Removal rate (%) 95.995.9 93.793.7 97.897.8 70.170.1 97.897.8 2차분해처리수Secondary decomposition treatment water 167.9167.9 293.3293.3 117.5117.5 49.149.1 0.90.9 제 거 율 (%)Removal rate (%) 98.398.3 96.196.1 99.599.5 80.280.2 99.599.5

상기 표 1에서 보는 바와 같이 COD=9,875.0ppm, BOD=7,520.8ppm, SS=23,505.0ppm, T-N=2,475.0ppm, T-P=185.2ppm인 침출수를 예비분해 처리한 후의 제거율은 COD=90.1%, BOD=60.0%, SS=95.3%, T-N=57.0%, T-P=94.9%이다.As shown in Table 1, the removal rate after preliminary treatment of leachate having COD = 9,875.0ppm, BOD = 7,520.8ppm, SS = 23,505.0ppm, TN = 2,475.0ppm, TP = 185.2ppm was COD = 90.1%, BOD = 60.0% , SS = 95.3%, TN = 57.0%, TP = 94.9%.

그러나 1차 분해 처리수는 T-N의 제거율 70.1%를 제외한 나머지 수 처리항목의 데이터는 93.7%에서 97.8%에 이른다. 그런데 2차분해 처리수의 제거율은 T-N=80.2%를 제외하고 모든 수 처리 항목의 데이터는 96%를 상회하고 있다.However, except for the 70.1% removal rate of T-N from the primary cracked treated water, the data from the water treatment items ranged from 93.7% to 97.8%. However, except for T-N = 80.2%, the removal rate of the secondary cracked water exceeds 96%.

T-N=80.2%는 현재까지 실행되고 있는 모든 폐수 처리 가운데서 가장 제거율이 높은 수치이다. 여기서 우리는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수처리 방법의 장점과 우수성을 입증하게 된다. 뿐만 아니라 이 장치는 운전이 매우 간단하고 계절에 따른 온도의 영향도 받지 않는 장점을 지니고 있다.T-N = 80.2% is the highest removal rate of all wastewater treatments to date. Here we demonstrate the advantages and superiority of the ultrasonically coupled high density plasma wastewater treatment method. In addition, the device has the advantage of being very simple to operate and unaffected by seasonal temperatures.

한편, 고밀도 플라즈마 발생장치(34)로부터 발생 공급되는 라디칼과 전자를 포함하는 음이온 및 오존을 폐수 속으로 버브링시키면서 20,000Hz~40,000Hz의 초음파를 이용하여 폐수(4)를 준 분자수준으로 마이크로 믹싱(micro mixing)시키면 폐수 중에 용해하여 수화되어 있는 유기물이나 중금속 착이온(complex ion)들과 라디컬, 전자, 음이온들이 수화된 물층(hydration seath)을 벗어나게 된다.On the other hand, while mixing the anion and ozone containing radicals and electrons generated from the high density plasma generator 34 into the wastewater, using the ultrasonic wave of 20,000Hz to 40,000Hz, micromixing the wastewater 4 to the molecular level. (Micro mixing) leaves organic and heavy metal complex ions, radicals, electrons and anions hydrated in the waste water out of the hydration seath.

따라서, 마치 공기 중에서 휘발성 유기물(VOC)이 음이온에 의하여 순식간에 산화 분해되는 것과 같이 물 속에서 유기물이나 착이온들이 신속하게 산화 분해된다.이와 같은 사실은 높은 진동수를 가진 초음파가 앞에서 언급한 바와 같은 수화층 파괴로 인하여 수중에서 유사 기상 반응(gas like reaction)을 일으키게 하고 동시에 물 속의 유기물, 착이온, 음이온 및 전자들을 더욱 높은 에너지 상태로 활성화시키기 때문에 가능하게 된다.Therefore, organic matter or complex ions are rapidly oxidatively decomposed in water as if volatile organic matter (VOC) is rapidly oxidatively decomposed by anion in the air. The breakdown of the hydration layer makes it possible to cause a gas-like reaction in water and at the same time activate organic matter, complex ions, anions and electrons in the water to a higher energy state.

그리고 이와 같은 조건에서 양극과 음극 양쪽 전극을 모두 비활성 탄소전극으로 하고 일정한 시간으로 극성을 바꾸면서 전기분해하면 본 발명자가 기 발명한 "산업폐수 연속 전해정화 처리방법 및 그 장치(특허 제10-0188232호)" 보다 매우 신속하게 폐수를 정화 처리할 수 있다.Under these conditions, both the positive electrode and the negative electrode are inert carbon electrodes, and electrolysis is performed by changing the polarity at a predetermined time, and the present inventors invented the "industrial wastewater continuous electrolytic purification treatment method and apparatus thereof (Patent 10-0188232). Wastewater can be cleaned up much more quickly.

이때, 극성을 교대로 변경하는 것은 수중에 분산된 슬러지 중 양극으로 달라붙은 슬러지를 제거시킴으로써 양극에서 발생되는 과전압을 방지하여 전해 정화 처리효율을 상승시키기 위함이다.At this time, the alternating polarity is to increase the electrolytic purification treatment efficiency by preventing overvoltage generated at the anode by removing the sludge stuck to the anode among the sludge dispersed in the water.

이와 같은 폐수처리는 COD, BOD, SS의 제거는 물론 탈질, 탈인, 탈색 및 탈취에 특별한 효과를 나타내므로 폐수 고도 정화처리에 가장 적합하고 가장 경제적인 방법이다.Such wastewater treatment is the most suitable and most economical method for advanced wastewater purification because it shows special effects on the removal of COD, BOD, SS, as well as denitrification, dephosphorization, decolorization and deodorization.

본 발명에서 고도 정화 처리하고자 하는 경우 여러 개의 폐수 처리장치를 직렬로 연결하면 되며, 처리용량을 늘리고자 하는 경우 폐수 처리장치를 병렬로 연결하면 될 것이다.In the present invention, if the high purification treatment is to be connected in series with a plurality of wastewater treatment device, if you want to increase the treatment capacity may be connected in parallel to the wastewater treatment device.

또한, 폐수(4)를 연속적으로 처리하고자 하는 경우 A, B 2개의 폐수 처리장치를 병렬로 연결한 다음, A 폐수 처리장치를 가동하는 경우 B 폐수 처리장치는 처리된 폐수(4)를 방류시키고, 반대로 B 폐수 처리장치가 가동하는 경우 A 폐수 처리장치가 처리된 폐수(4)를 방류시키는 방법으로 교대로 가동시키면 폐수(4)를 연속적으로 처리할 수 있으므로 폐수(4) 정화처리 능력을 배가시킬 수 있다.In addition, when the waste water 4 is to be treated continuously, A and B waste water treatment devices are connected in parallel, and when the A waste water treatment device is operated, the B waste water treatment device discharges the treated waste water 4 and On the contrary, when the B wastewater treatment system is operated, when the A wastewater treatment system is alternately operated by discharging the treated wastewater 4, the wastewater 4 can be continuously treated, thereby doubling the wastewater 4 purification capacity. You can.

이상과 같이 본 발명은 염색폐수, 피혁폐수, 석유화학폐수, 제지폐수와 같은 산업폐수와 축산폐수 및 생활폐수와 같은 각종 폐수 중으로 라디칼과 전자를 포함하는 음이온과 오존을 버브링시키면서 20,000Hz~40,000Hz의 초음파로 극렬하게 진동시켜 준 분자 수준으로 마이크로 믹싱(micro mixing)시킴으로써 폐수 중에 용해하여 수화되어 있는 유기물이나 중금속 착이온(complexion)들과 라디컬, 전자, 음이온들은 수화된 물층(hydration seath)을 벗어나게 되므로 마치 공기 중에서 휘발성 유기물(VOC)이 음이온에 의하여 순식간에 산화 분해되는 것과 같이 물 속에서 유기물이나 착이온 들을 신속하게 산화ㆍ분해시켜 깨끗이 정화되는 효과가 있어서 배출 폐수로 야기되는 각종 환경오염을 현격히 줄일 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention is capable of bubbling anion and ozone containing radicals and electrons into various wastewaters such as industrial wastewater, livestock wastewater, and domestic wastewater, such as dyeing wastewater, leather wastewater, petrochemical wastewater, and paper wastewater. Micro mixing at the molecular level that vibrates violently with ultrasonic waves at Hz to hydrate organic or heavy metal complex ions and radicals, electrons, and anions that are dissolved and hydrated in waste water. As volatile organic matter (VOC) is rapidly oxidized and decomposed in air by anion, it quickly cleanses and decomposes organic matter and complex ions in water, thereby causing various environmental pollutions caused by discharged wastewater. There is an effect that can be significantly reduced.

Claims (20)

각종 폐수 중으로 라디칼과 전자를 포함하는 음이온과 오존을 버브링시키면서 20,000Hz~40,000Hz의 초음파로 극렬하게 진동시켜 준 분자 수준으로 마이크로 믹싱(micro mixing)시켜 폐수 중의 유기물이나 중금속 착이온(comple- xion)들과 라디컬, 전자, 음이온들이 수화된 물층(hydration seath)을 벗어나게 하여 마치 공기 중에서 휘발성 유기물(VOC)이 음이온에 의하여 순식간에 산화 분해되는 것과 같이 물 속에서 유기물이나 착이온 들을 신속히 산화ㆍ분해시켜 깨끗이 정화하도록 한 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리방법.While mixing anions and ozone containing radicals and electrons in various wastewaters, micro-mixing them to the molecular level that vibrated violently with ultrasonic waves of 20,000Hz to 40,000Hz, resulting in organic or heavy metal complex ions in the wastewater. ) Radicals, radicals, electrons, and negative ions out of the hydration seath, quickly oxidizing organic matters or complex ions in water, just as volatile organic matter (VOC) in the air is rapidly oxidatively decomposed by negative ions. Ultrasonic coupled high density plasma wastewater treatment method for decomposition and purification. 양측으로 밸브를 갖는 폐수 급수관(8)과 밸브를 갖는 폐수 출수관(10)이 설치되고 폐수가 담수용 분해조(2)와, 분해조(2)의 폐수(4)를 정화 처리하는 반응기 (6)로 구성하고, 상기 반응기(6)는 폐수(4)를 정화 처리하는 반응실과, 폐수(4)를 분해조(2)와 반응실로 순환시키는 순환장치와, 폐수(4)를 초음파로 진동시키는 초음파 진동장치와, 음이온 및 오존을 폐수(4) 중으로 용존시켜 정화 처리하는 고밀도 플라즈마 발생장치로 구성함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.A reactor for installing a wastewater feedwater pipe (8) having a valve and a wastewater discharge pipe (10) having a valve on both sides and treating the wastewater with a desalination tank (2) for desalination and the wastewater (4) of the decomposing tank (2) 6), the reactor (6) comprises a reaction chamber for purifying the waste water (4), a circulating device for circulating the waste water (4) into the decomposition tank (2) and the reaction chamber, and the waste water (4) by vibrating ultrasonically. Ultrasonic-coupled high-density plasma wastewater treatment apparatus characterized in that it comprises a ultrasonic vibrating device and a high-density plasma generator for dissolving anion and ozone in the wastewater (4). 제 2 항에 있어서, 반응기(6)의 반응실 내부에 극성이 주기적으로 교번되는 전해전극을 부가 설치함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.3. The ultrasonic coupled high density plasma wastewater treatment apparatus according to claim 2, wherein an electrolytic electrode having periodic polarity is alternately installed in the reaction chamber of the reactor (6). 청구항 4(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 4 was abandoned upon payment of a set-up registration fee. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 유입관(16)과 유출관(18)은 합성수지로 형성하여 음이온과 오존의 파괴나 수명단축을 방지하고, 유입관(16)에는 필터(20)와 펌프(22)를 설치하여 분해조(2)의 폐수(4)가 여과된 다음 펌프(22)에 의해 반응실 (14)로 유입되어 정화 처리면서 순환하도록 하고, 반응실(12)의 입구 부분에 복수 개의 경사판(22)을 고정시켜 유입되는 폐수(4)가 와류되게 함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.4. The inlet pipe 16 and the outlet pipe 18 are made of synthetic resin to prevent the destruction of anions and ozone or to shorten the life of the inlet pipe 16, and the inlet pipe 16 has a filter 20 and a pump. (22) is installed so that the wastewater (4) of the digestion tank (2) is filtered and then introduced into the reaction chamber (14) by the pump (22) to circulate while purifying, and at the inlet of the reaction chamber (12). Ultrasonic coupled high-density plasma wastewater treatment apparatus characterized in that the waste water (4) is introduced by fixing the plurality of inclined plates (22). 청구항 5(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 5 was abandoned upon payment of a set-up fee. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 반응기(6)의 출구(24)와 출수관(16) 사이에 반응실(12)보다 작은 크기의 보조 반응실(26)을 형성하여 반응실(14)에서 정화 처리된 폐수(4)가 보조 반응실(26)에서 정체되면서 충분히 정화될 수 있도록 함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.4. The reaction chamber (14) according to claim 2 or 3, wherein an auxiliary reaction chamber (26) of smaller size than the reaction chamber (12) is formed between the outlet (24) of the reactor (6) and the outlet pipe (16). Ultrasonic combined high-density plasma wastewater treatment apparatus characterized in that the purified wastewater (4) in the stagnant in the auxiliary reaction chamber (26) can be sufficiently purified. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 반응기(6) 케이스(12)의 단면은 다각형 구조로 형성하고, 다각형 케이스 외면마다 복수 개의 초음파 진동자(28)를 고정한 다음 보호케이스(30)를 덮어씌운 초음파 밴드(32)를 구성하여 반응실(14)의 중심점 (O)으로 초음파가 집중되게 함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.The ultrasonic wave according to claim 2 or 3, wherein the cross section of the reactor 6 casing 12 is formed in a polygonal structure, and the plurality of ultrasonic vibrators 28 are fixed on each outer surface of the polygon casing and then covered with the protective case 30. Ultrasonic coupled high-density plasma wastewater treatment apparatus characterized in that the ultrasonic wave is concentrated to the center point (O) of the reaction chamber 14 by configuring the band (32). 청구항 7(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 7 was abandoned upon payment of a set-up registration fee. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 반응기(6)의 케이스(12) 상부에 설치하는 고밀도 플라즈마 발생장치(34)의 급기관(36)에 공기의 역류를 방지하는 체크밸브 (40)와, 불순물 유입을 방지하는 집진필터(42)를 설치하여 다량의 음이온과 소량의 오존이 폐수(4) 중으로 용존되게 함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.4. The check valve (40) according to claim 2 or 3, further comprising: a check valve (40) for preventing backflow of air to the air supply pipe (36) of the high-density plasma generator (34) installed above the case (12) of the reactor (6); Ultrasonic coupled high-density plasma wastewater treatment apparatus characterized in that a dust collecting filter (42) to prevent the introduction of impurities to dissolve a large amount of negative ions and a small amount of ozone into the waste water (4). 청구항 8(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 8 has been abandoned upon payment of a registration fee. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 걸림부(44)와 큰 직경의 통기공(46)을 갖는 하우징(48)을 케이스(12)에 끼워 고정하고, 하우징(48)의 내부에 복수 개의 세라믹 절연링(50)(52)(54)(56)을 적층시킨 다음 덮개링(60)으로 덮어 고정시키고, 하부 절연링(52)의 단턱부에 복수 개의 음극관(72)이 체결되는 음극판(62)을 끼워 설치하고, 또 다른 절연링(56)의 단턱부에 복수 개의 통기공(64)이 형성되고 또한 복수 개의 양극봉(74)이 체결되는 양극판(66)을 끼워 설치하고, 음극판(62)과 양극판 (66)에는 고전압부(HV)가 연결된 급전선(68)(70)을 접속하고, 음극관(72)의 내부에는 음극관(72)의 내경보다 비교적 작은 외경을 갖는 양극봉(74)을 끼워 사이에 통기공(76)을 형성하고, 양극봉(74)의 끝 단부에 침상의 플라즈마 방전칩(78)을 형성하고, 방전칩(78)이 위치하는 음극관(72)의 하부에 복수 개의 방전홀(80)을 좁은 간격으로 빙둘러 형성함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.The housing 48 having the locking portion 44 and the large-diameter vent hole 46 is fixed to the case 12, and a plurality of ceramics are provided inside the housing 48. Insulating rings 50, 52, 54, and 56 are laminated, and then covered with a cover ring 60 to fix them, and a cathode plate 62 in which a plurality of cathode tubes 72 are fastened to the stepped portions of the lower insulating ring 52. ), A plurality of vent holes 64 are formed in the stepped portion of the other insulating ring 56, and a cathode plate 66 in which a plurality of anode rods 74 are fastened is installed. ) And the positive electrode plate 66 are connected to the feed lines 68 and 70 to which the high voltage portion (HV) is connected, and the positive electrode rod 74 having an outer diameter relatively smaller than the inner diameter of the cathode tube 72 is connected to the inside of the cathode tube 72. A vent hole 76 is formed between the pins, a needle-shaped plasma discharge chip 78 is formed at the end of the anode rod 74, and a plurality of holes are provided in the lower portion of the cathode tube 72 in which the discharge chip 78 is located. Of ultrasonic bonding to the discharge holes 80, characterized in that the ice formed around the narrow high-density plasma gap waste water treatment apparatus. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 양극봉(74)의 외면에 피라미드(사각뿔) 형상의 방전칩(84)을 조밀한 간격으로 길이방향과 원주방향으로 빙둘러 형성하고, 상기 방전칩(84)과 1:1로 대응하는 위치의 음극관(72)에 방전홀(86)을 각각 형성하여 코로나 방전이 전면적으로 발생하도록 함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.4. The discharge chip 84 according to claim 2 or 3, wherein a pyramid-shaped discharge chip 84 is formed on the outer surface of the anode rod 74 in the longitudinal direction and the circumferential direction at close intervals. Ultrasonic coupled high density plasma wastewater treatment apparatus, characterized in that to form a discharge hole (86) in the cathode tube 72 at a position corresponding to 1: 1) so that corona discharge occurs entirely. 청구항 10(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 10 was abandoned upon payment of a set-up fee. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 고밀도 플라즈마 발생장치(34)의 외면에 전열히터(90)에 의한 제습장치(88)를 설치함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.The ultrasonic coupled high density plasma wastewater treatment apparatus according to claim 2 or 3, characterized in that a dehumidifier (88) is formed by an electrothermal heater (90) on an outer surface of the high density plasma generator (34). 청구항 11(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 11 was abandoned upon payment of a set-up fee. 제 10 항에 있어서, 양극봉(74)과 음극관(72)이 위치하는 부분의 케이스(12) 외면에 절연이 유지되는 전열히터(90)를 빙둘러 감고, 케이스(12)의 표면에 온도스위치(92)를 설치한 다음 전열히터(90)를 직렬 연결하여 고밀도 플라즈마 발생장치 (34)를 초기 동작시킬 때 150℃~300℃로 가열시켜 제습할 수 있도록 함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.The method according to claim 10, wherein the heat transfer heater 90 is insulated around the outer surface of the case 12 at the portion where the anode rod 74 and the cathode tube 72 are positioned, and the temperature switch is placed on the surface of the case 12. Ultrasonic coupled high-density plasma wastewater, characterized in that after the installation of the 92, the heat transfer heaters 90 are connected in series so that the high-density plasma generator 34 can be dehumidified by heating to 150 ° C to 300 ° C. Processing unit. 청구항 12(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 12 was abandoned upon payment of a set-up fee. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 반응실(14)의 내부에 전해전원(102)이 공급되는 양극(104)과 음극(106)으로 구성되는 한 쌍 이상의 전해전극을 설치하고, 급전선의 중간에 극성 교번장치(108)를 설치하여 극성을 주기적으로 교번할 수 있도록 함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.The method according to claim 2 or 3, wherein a pair of one or more electrolytic electrodes composed of a positive electrode 104 and a negative electrode 106 to which the electrolytic power source 102 is supplied is provided inside the reaction chamber 14, Ultrasonic coupled high-density plasma wastewater treatment apparatus, characterized in that the polarity alternating device 108 is installed in the periodically alternating polarity. 청구항 13(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 13 was abandoned upon payment of a set-up fee. 제 12 항에 있어서, 케이스(12)의 통공 외면에 너트(110)를 수밀 유지되게 용접하고, 너트(110)에 오링(112)이 끼워지고 플렌지부(114)가 형성된 절연너트 (116)를 체결시켜 너트(110)와 절연너트(116) 사이에 수밀이 유지되도록 하고, 절연너트(116)의 내부 통공에 탄소 전해전극(104)(106)이 체결되고 오링(118)이 끼워진 나사봉(120) 끼우고, 나사봉(120)의 외면에 급전와셔(122)를 끼운 다음 너트 (124)로 체결시켜 탄소 전해전극(104)(106)의 수밀이 유지되게 고정하고, 케이스 (12)와 탄소 전해전극(104)(106) 사이에 절연거리를 유지하여 불요성 방전을 방지하도록 함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.The insulating nut 116 of claim 12, wherein the nut 110 is welded to the outer surface of the case 12 in a watertight manner, and the o-ring 112 is fitted to the nut 110 and the flange 114 is formed. The watertightness is maintained between the nut 110 and the insulating nut 116 to be fastened, and the carbon rods 104 and 106 are fastened to the inner through holes of the insulating nut 116 and the O-ring 118 is fitted with a screw rod ( 120, the feed washer 122 is inserted into the outer surface of the screw rod 120 and then fastened with a nut 124 to secure the watertightness of the carbon electrolytic electrodes 104 and 106, and the case 12 and Ultrasonic coupled high density plasma wastewater treatment apparatus, characterized in that to prevent the undesired discharge by maintaining an insulating distance between the carbon electrode (104) (106). 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 예비 분해조(2)의 상부에 슬러지 제거장치와 초음파 진동장치와 버브링 장치를 설치하여 폐수(4)를 정화 처리할 때 부유하는 슬러지나 거품등을 이동식 스크레이퍼(126)로 제거하고, 분해조(2)의 내측벽에 복수 개의 초음파 진동자(128)를 고정시켜 폐수(4)를 진동시키고, 분해조(2)의 바닥에 버브링 장치(130)를 설치함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.The sludge removal device, the ultrasonic vibration device, and the bubbling device are installed on the upper part of the preliminary digestion tank 2, and the sludge or foam floating during the purification process of the wastewater 4 is removable. The scraper 126 is removed, the plurality of ultrasonic vibrators 128 are fixed to the inner wall of the decomposition tank 2 to vibrate the wastewater 4, and the bubbling device 130 is placed at the bottom of the decomposition tank 2. Ultrasonic coupled high density plasma wastewater treatment apparatus, characterized in that the installation. 청구항 15(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 15 was abandoned upon payment of a set-up fee. 제 14 항에 있어서, 슬러지 제거장치는 예비 분해조(2)의 상부 양측에 한 쌍의 체인기어(132)(134)(136)(138)를 축봉(140)(142)을 축 설치한 다음 체인기어 걸어 평행하도록 하고, 일측 축봉(142)의 단부에 감속모터(150)의 회전축봉을 연결시켜 체인(146)(148)이 연동 회전하도록 하고, 체인(146)(148)의 안쪽면에 연결봉 (152)의 양단부가 고정되는 체인 어태치먼트(154)(156)를 고정하고, 연결봉(152)에 스크레이퍼(126)를 경사지게 고정시켜 분해조(2)의 상수면(158)으로 부유하는 슬러지(160)나 거품 등을 슬러지 저장조(162)로 이동시킬 수 있게 함을 특징으로 하는 용존되게 함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.15. The sludge removal apparatus of claim 14, wherein a pair of chain gears 132, 134, 136, 138 is installed on both sides of the upper part of the preliminary digester 2, and then the shafts 140, 142 are mounted. Hook the chain gears to be parallel, and connect the rotary shaft of the reduction motor 150 to the end of one shaft 142 so that the chain 146, 148 rotates interlocked, and the inner surface of the chain 146, 148 Sludge that floats on the constant surface 158 of the digestion tank 2 by fixing the chain attachments 154 and 156 on which both ends of the connecting rod 152 are fixed and inclinedly fixing the scraper 126 to the connecting rod 152 ( Ultrasonically coupled high density plasma wastewater treatment apparatus characterized in that the dissolution characterized in that it is possible to move 160 or the like to the sludge storage tank (162). 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 오존 발생기, 초음파 발생기와 스크레이퍼가 설치된 예비 분해조와, 음이온 발생기와 초음파 발생기가 부착되는 1차 분해조와, 약품투입수단을 갖는 침전조와, 1차 분해조와 같은 구조의 2차 분해조와, 산ㆍ알칼리 투입조 수단을 갖는 pH 조정조와, 고밀도 미생물 반응조와, 침전제를 투입수단을 갖는 침전조와, 활성탄 흡착조와, 중공사막 필터 및/또는 역삼투(RO)필터로 구성하여 폐수를 무방류 처리할 수 있게 함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.4. The structure according to claim 2 or 3, wherein a preliminary digestion tank provided with an ozone generator, an ultrasonic generator and a scraper, a primary digestion tank to which the anion generator and the ultrasonic generator are attached, a precipitation tank having chemical injection means, and a primary digestion tank A secondary digestion tank, a pH adjusting tank having acid and alkali injecting means, a high density microbial reaction tank, a settling tank having a precipitating agent, activated carbon adsorption tank, hollow fiber membrane filter and / or reverse osmosis (RO) filter Ultrasonic combined high-density plasma wastewater treatment apparatus characterized in that the wastewater can be discharged. 청구항 17(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 17 was abandoned upon payment of a set-up fee. 제 16 항에 있어서, 2차 분해조를 생략하고 고밀도 미생물 반응조를 일반 미생물 반응조로 대체하고 활성탄 흡착조를 거쳐 처리수를 방류하도록 함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.The ultrasonic coupled high density plasma wastewater treatment apparatus according to claim 16, wherein the secondary decomposition tank is omitted, and the high density microbial reactor is replaced with a general microbial reactor, and the treated water is discharged through the activated carbon adsorption tank. 청구항 18(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 18 was abandoned upon payment of a set-up fee. 예비 분해조(58)의 상부에 감속모터(150)에 의해 회전하는 체인(146)(148)과, 체인(146)(148)을 따라 이동하는 스크레이퍼(126) 구조에 의해 슬러지가 제거되는 슬러지 제거장치를 설치하고, 예비분해조(58)의 내부에 상ㆍ하 한 쌍의 초음파 밴드(178)(180)와 극성교번장치(184)(186)를 갖는 전해전원(182)과 고밀도 플라즈마 발생장치(34)의 배기구(176)가 투입 설치하고, 한 쌍의 전해전극(188)(190) (192)(194)이 설치되는 1, 2차 분해조(2)(2a)와, 응집제 투입기(196)와 슬러지 제거장치와 급기팬(198)을 갖는 버블링 장치(200)가 설치된 응집조(202)와, 산/알칼리 투입조(204)와 드레인 밸브 (206)와 배출관(208)을 갖는 pH 저장조(210)를 단일구조의 셀(방)별로 구분하고, 예비 분해조(58)와 1, 2차 분해조(2)(2a)와 응집조 (202)와 pH 저장조(210)는 절곡형 배수관 (212)(214)(216)(218)을 이용하여 폐수 (4)가 옆에 위치하는 셀로 이동되게 하여 미생물 폐수처리의 전처리 장치로 사용하도록 함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.Sludge from which sludge is removed by the chain 146, 148 rotating by the reduction motor 150, and the scraper 126 moving along the chain 146, 148 in the upper part of the preliminary digestion tank 58. Electrolysis power supply 182 and high-density plasma generation having a removal device and having a pair of upper and lower ultrasonic bands 178 and 180 and a polarity alternating device 184 and 186 inside the preliminary digester 58. The exhaust port 176 of the apparatus 34 is installed and installed, and the primary and secondary decomposition tanks 2 and 2a, in which a pair of electrolytic electrodes 188, 190, 192, 194 are provided, and a coagulant injector. Agglomeration tank 202 provided with a bubbling device 200 having a 196 and a sludge removal device and an air supply fan 198, an acid / alkali injection tank 204, a drain valve 206, and a discharge pipe 208 The pH storage tank 210 having a single structure is divided into cells (rooms), and the preliminary digestion tank 58, the primary and secondary digestion tanks 2, 2a, the coagulation tank 202, and the pH storage tank 210 are Bent drain pipes 212,214,216 and 218 Ultrasonic coupled high-density plasma wastewater treatment apparatus characterized in that it is moved to the cell located next to be used as a pretreatment device for microbial wastewater treatment. 청구항 19(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 19 was abandoned upon payment of a set-up fee. 제 18 항에 있어서, 예비 분해조(58)와 응집조(202)의 배수관(212)(218)에 수위조절장치(220)를 설치하여 예비 분해조(58)와 응집조(202)의 수위를 슬러지의 상태 및 높이 등에 따라 정확히 조절할 수 있도록 함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.19. The water level of the preliminary digestion tank 58 and the coagulation tank 202 is provided by installing a water level adjusting device 220 in the preliminary digestion tank 58 and the drain pipes 212 and 218 of the coagulation tank 202. Ultrasonic coupled high-density plasma wastewater treatment apparatus characterized in that it can be precisely adjusted according to the state and height of the sludge. 청구항 20(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 20 was abandoned upon payment of a set-up fee. 제 19 항 또는 제 19 항에 있어서, 수위조절장치(220)는 예비 분해조(58)와 응집조(202)의 출구(222)에 상부로 개방된 드레인관(224)을 설치하고, 드레인관 (224)의 외부에 드레인관(224)보다 많이 상승되는 집수관체(226)을 설치하고, 집수관체(226)의 일측 하부에 1차 분해조 (2)와, pH 저장조(210)에 담기는 출수관 (212)(218)을 연결하고, 드레인관(224)의 내부에 한 개 이상의 오링(228)이 끼워진 수위 조절관(230)을 승강할 수 있게 결합하고, 수위 조절관(230)의 상부에 지지봉 (232)과 핸들(234)을 갖는 나사봉(236)을 고정하고, 나사봉(236)은 고정수단에 고정된 너트(240)에 나사 결합되여 핸들(234)의 회전 방향에 따라 수위 조절관(230)이 상승 또는 하강으로 예비 분해조(58)와 응집조(202)의 수위를 정밀하게 조정할 수 있도록 함을 특징으로 하는 초음파 결합 고밀도 플라즈마 폐수 처리장치.According to claim 19 or 19, the water level control device 220 is installed in the preliminary digestion tank 58 and the outlet 222 of the flocculation tank 202, the drain pipe 224 open to the top, the drain pipe A water collecting pipe 226 is installed on the outside of the drain pipe 224 to the outside of the 224, and the primary decomposition tank 2 and the pH reservoir 210 in one lower portion of the water collecting pipe 226 Connect the water outlet pipes (212, 218), coupled to lift the water level control pipe 230, the one or more O-rings (228) fitted inside the drain pipe (224), A screw rod 236 having a support rod 232 and a handle 234 at the top thereof is fixed, and the screw rod 236 is screwed to a nut 240 fixed to the fixing means, according to the rotation direction of the handle 234. Ultrasonic coupled high-density plasma wastewater, characterized in that the water level control pipe 230 to adjust the level of the preliminary digestion tank 58 and the flocculation tank 202 precisely by rising or falling Lee device.
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