KR200176969Y1 - 압력계포트의막힘방지를위한가스배출관 - Google Patents

압력계포트의막힘방지를위한가스배출관 Download PDF

Info

Publication number
KR200176969Y1
KR200176969Y1 KR2019940012326U KR19940012326U KR200176969Y1 KR 200176969 Y1 KR200176969 Y1 KR 200176969Y1 KR 2019940012326 U KR2019940012326 U KR 2019940012326U KR 19940012326 U KR19940012326 U KR 19940012326U KR 200176969 Y1 KR200176969 Y1 KR 200176969Y1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pressure gauge
gas
pipe
discharge pipe
purge gas
Prior art date
Application number
KR2019940012326U
Other languages
English (en)
Other versions
KR950034361U (ko
Inventor
황두환
유순포
문현명
Original Assignee
김영환
현대전자산업주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김영환, 현대전자산업주식회사 filed Critical 김영환
Priority to KR2019940012326U priority Critical patent/KR200176969Y1/ko
Publication of KR950034361U publication Critical patent/KR950034361U/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR200176969Y1 publication Critical patent/KR200176969Y1/ko

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)

Abstract

본 고안은 가스를 배출하기 위한 배출관(10)와, 상기 배출관의 압력값을 나타내는 압력계(20)와, 일측은 상기 배출관(10)에 연결되고 타측은 압력계에 연결되는 압력계 연결관(20')을 구비하는 가스배출관에 있어서; 상기 압력계 연결관(20')으로부터 배출관(10) 쪽으로 N2가스를 불어 주도록 상기 압력계 연결관(20')에 연결되는 N2공급수단(30,40) 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 가스 배출관에 관한 것으로, 압력계 포트 부위가 가스 배출관 이물질에 의해 막히는 현상을 방지하여 압력측정의 신뢰성 향상을 가져오는 효과가 있다.

Description

압력계 포트의 막힘 방지를 위한 가스배출장치
제1도는 종래기술에 따라 압력계가 형성된 가스 배출관 시스템의 일예를 나타내는 블럭도.
제2도는 본 고안에 따른 가스 배출 장치를 나타내는 개략도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10 : 배출관 20 : 압력계
20' : 압력계 연결관 30 : 분말 찌꺼기
40 : N2가스관 50 : 플로우메타
본 고안은 반도체 제조 시스템의 가스 배출 장치에 관한 것으로, 특히 압력계와 가스 배출관이 연결되는 포트(port)부위의 막힘을 방지하는 가스 배출 장치에 관한 것이다.
반도체 장치 및 그 이외의 장치에 형성된 가스 배출관은 배출되는 가스의 압력을 측정하려 할 경우 배출관에 압력계를 연결 사용하고 있다.
제1도는 종래기술에 따라 압력계가 형성된 가스 배출관 시스템의 일예를 나타내는 블럭도로서, 반도체 공정 장비(1)에 진공관(2')을 통해 연결된 진공펌프(2)와 배출 가스 세정기(3) 사이에는 배출관(10)이 형성되어 있으며, 진공펌프(2)로부터 배출가스 세정기(3) 사이의 압력을 측정하여 그 상태에 따라 예방정비 주기를 결정할 목적으로 배출관(10)에 압력계(20)를 설치 사용하고 있다.
즉, 도면에 도시된 바와 같이 진공펌프(2)로부터 배출되는 가스가 분말 찌꺼기(30)를 배출관(10) 내벽에 형성하여 배출관(10)의 막힘 현상으로 가스 배출에 지장을 주는 상태가 되기 때문에 그 상태를 파악하기 위해 압력계(20)를 사용하여 가스 배출 상태를 파악한다.
그러나, 이러한 분말 찌꺼기 등의 이물질이 압력계와 가스 배출관과 연결되는 포트(port)부위(제1도의 a)에 유입되어 정체됨으로써, 압력계의 기능은 상실되고 있으며, 어떤 경우에는 계속해서 양호한 압력으로 잘못 읽혀져 크고 작은 사고를 유발시킨다.
따라서, 본 고안은 압력계 포트 부위가 막히는 원인에 있어서 분말과 같은 이 물질의 발생을 완전히 해결할 수는 없는 것이므로, 압력계 포트 부위에 N2가스와 같은 퍼지 가스를 불어넣어 정상적으로 배출관의 압력을 측정할 수 있는 가스 배출 장치를 제공함을 그 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 고안은, 가스를 배출하기 위한 배출관과, 상기 배출관의 압력값을 나타내는 압력계와, 일측은 상기 배출관에 연결되고 타측은 압력계에 연결되는 압력계 연결관을 구비하는 가스 배출 장치에 있어서, 상기 압력계 연결관으로부터 상기 배출관 쪽으로 퍼지 가스를 불어 주도록 상기 압력계의 연결관에 연결되는 퍼지가스공급수단을 구비하며, 상기 퍼지가스공급수단은 일측이 압력계 연결관에 연결되고 타측은 퍼지 가스가 유입되는 퍼지 가스관; 및 상기 퍼지 가스관에 흐르는 퍼지 가스의 흐름양을 조절하는 플로우메타를 포함하여 이루어진 가스배출장치를 제공한다.
이하, 첨부된 도면 제2도를 참조하여 본 고안을 상세히 설명한다.
제2도는 본 고안에 따른 가스 배출관을 나타내는 개략도로서, 도면에 도시된 바와 같이 배출관(10)에 연결된 압력계 연결관(20')에 퍼지가스인 N2가스관(40)을 연결하여 가스 배출관(10)으로 부터 압력계(20) 포트 부위(도면의a)로 이 물질이 유입되지 못하도록 압력계 연결관(20')에서 배출관(10) 쪽으로 N2가스를 불어주는 것이다.
이때, N2가스의 흐름 양에 따라 실질적인 배출관(10)의 압력과는 달리 압력계(20)에 나타나는 압력 값은 달라질 수 있으나, N2가스관(40)에 플로우메타(flow meter, 50)와 같은 흐름양 조절기를 장착하여 적당량의 가스를 불어주면 된다.
만약, 배출관(10) 내벽에 분말 찌꺼기(30)와 같은 이물질 형성되고 배출 상태가 불량할 경우에는 압력계(20)의 눈금을 올라가고 N2플로우메타(50)값은 떨어지게 된다.
이상, 상기와 같은 본 고안은 압력계 포트 부위가 가스 배출관·이물질에 의해 막히는 현상을 방지하여 압력측정의 신뢰성 향상을 가져오며, 반도체 등의 제품생산시 대형 사고가 발생되는 것을 방지하는 효과가 있다.

Claims (1)

  1. 가스를 배출하기 위한 배출관과, 상기 배출관의 압력값을 나타내는 압력계와, 일측은 상기 배출관에 연결되고 타측은 압력계에 연결되는 압력계 연결관을 구비하는 가스 배출 장치에 있어서,
    상기 압력계 연결관으로부터 상기 배출관 쪽으로 퍼지 가스를 불어 주도록 상기 압력계 연결관에 연결되는 퍼지가스공급수단을 구비하며,
    상기 퍼지가스공급수단은 일측이 상기 압력계 연결관에 연결되고 타측은 퍼지 가스가 유입되는 퍼지 가스관; 및
    상기 퍼지 가스관에 흐르는 퍼지 가스의 흐름양을 조절하기 위하여 상기 퍼지 가스관에 연결된 플로우메타
    를 포함하여 이루어지는 가스배출장치.
KR2019940012326U 1994-05-30 1994-05-30 압력계포트의막힘방지를위한가스배출관 KR200176969Y1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2019940012326U KR200176969Y1 (ko) 1994-05-30 1994-05-30 압력계포트의막힘방지를위한가스배출관

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2019940012326U KR200176969Y1 (ko) 1994-05-30 1994-05-30 압력계포트의막힘방지를위한가스배출관

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR950034361U KR950034361U (ko) 1995-12-18
KR200176969Y1 true KR200176969Y1 (ko) 2000-04-15

Family

ID=19384472

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2019940012326U KR200176969Y1 (ko) 1994-05-30 1994-05-30 압력계포트의막힘방지를위한가스배출관

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR200176969Y1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020046392A (ko) * 2000-12-13 2002-06-21 박신하 비접촉 자계센서를 이용한 브라운관의 하울링 측정장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR950034361U (ko) 1995-12-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6513542B1 (en) Liquid supply or drain pipe equipped with a leakage detector
JPS5793272A (en) Radioactivity monitor
JP2020091289A (ja) 半導体製造装置のパイプを通して流体の流れを測定するための装置
KR200176969Y1 (ko) 압력계포트의막힘방지를위한가스배출관
US4386531A (en) Method and apparatus for determining the injection pressure during injection operations during construction work
JP3742226B2 (ja) 液位計測装置を備えた液体タンク設備
EP0411119A4 (en) Semiconductor module, its cooling system and computer using the cooling system
JPH0355770B2 (ko)
JP3295235B2 (ja) フローセンサ付フルイディックガスメータを用いて行う内管からのガス漏れ判定方法
CN113107403A (zh) 一种钻井液溢流预警监测系统及预警监测方法
JPH07218316A (ja) 差圧式水位計測装置
CN206281835U (zh) 发电机氢气质量在线分析及采样系统
CN214667390U (zh) 一种烟气参数测量仪器的温压流测量结构
JPH03199973A (ja) 流量スイッチ
JP3878802B2 (ja) 試料採取装置
CN106990674A (zh) 一种光刻胶供应装置
KR100460658B1 (ko) 미분탄제조장치의 산소농도분석 및 조절장치
KR200243137Y1 (ko) 수봉설비의통수확인장치
RU2173813C1 (ru) Способ обнаружения повреждений трубопроводов при проведении операций налива сжиженных газов для предотвращения разливов
KR100247907B1 (ko) 반도체 웨이퍼 세정장치
KR0122609Y1 (ko) 반도체 제조용 로드락챔버의 대기압일치장치
KR19990034396U (ko) 반도체 에치 엠 디 에스 처리장비의 오작동검출장치
KR200152643Y1 (ko) 반도체 제조장비의 감광제 코팅장치
JPH042922A (ja) 差圧式ガス流量計
JPH1017911A (ja) 羽口の破損診断方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
REGI Registration of establishment
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20041220

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee