KR200162278Y1 - Alignment apparatus of optical axis of steep illumination system - Google Patents
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Abstract
본 고안은 스테퍼 조명계의 광축 얼라인장치에 관한 것으로, 종래에는 렌즈의 위치별 조도분포를 램프의 위치조정으로 조절하는 것이었으나, 이는 램프의 과도한 이동시 조도분포가 불량해지고, 패턴노광시 수율저하 및 생산성 저하를 유발하게 되며, 조명계 자체의 변형을 인식하지 못하여 결국 장비가 파손되는 문제점도 있었던 바, 본 고안에서는 스테퍼의 조명계 광원으로 레이저 빔을 사용하고, 그 빔이 일차적으로 도착 완료되는 웨이퍼 스테이지에 소정형상의 측정미러 슬릿을 설치하며, 그 측정미러 슬릿의 형상대로 상기 빔이 구획 반사되어 모니터에 화상처리 되도록 하는 한편, 상기 레이저 빔과의 비교광원인 LED의 빛을 구획하는 별도의 기준마킹 슬릿을 설치하여 상기 측정미러 슬릿의 형상과 화면상에 오버랩 되도록 함으로써, 그 오버랩 되는 두 화상을 비교 수정하면서 원하는 광축을 추출하도록 하여 패턴 노광시 조도분포의 불량으로 발생되는 수율저하 및 생산성 저하는 물론, 상기 스테퍼 조명계 자체의 파손을 미연에 방지할 수 있다.The present invention relates to an optical axis aligning device of a stepper illumination system. In the related art, the illumination intensity distribution for each position of the lens was adjusted by adjusting the position of the lamp. In the present invention, the laser beam is used as a light source of the stepper, and the beam is first applied to the wafer stage. A separate reference marking slit for providing a measurement mirror slit of a predetermined shape and partitioning the beam in the shape of the measurement mirror slit so as to be imaged on the monitor while partitioning the light of the LED which is a comparison light source with the laser beam. By installing the overlapping on the screen and the shape of the measurement mirror slit, the overlap The yield is reduced, and productivity degradation are caused by defects of the light intensity distribution in the pattern exposure so as to extract a desired optical axis and comparing the two corrected images as well, it is possible to prevent the breakage of the stepper illumination system itself in advance.
Description
제1도는 종래의 기술에 따른 광축 얼라인 장치를 보인 구성도.1 is a block diagram showing an optical axis alignment device according to the prior art.
제2도는 종래의 기술에 따른 램프위치 조절기의 구성을 보인 사시도.Figure 2 is a perspective view showing the configuration of the lamp position adjuster according to the prior art.
제3도는 본 고안에 의한 광축 얼라인 장치를 보인 구성도.Figure 3 is a block diagram showing an optical axis alignment device according to the present invention.
제4도는 본 고안에 의한 각각의 슬릿과 오버랩 상태를 보인 것으로,4 is a view showing an overlap state with each slit according to the present invention,
(a)는 측정미러 슬릿을 보인 사시도,(a) is a perspective view showing a measurement mirror slit,
(b)는 기준마크 슬릿을 보인 평면도,(b) is a plan view showing a reference mark slit,
(c)는 (a)와 (b)의 오버랩 형상을 보인 상태도.(c) is the state figure which showed the overlap shape of (a) and (b).
〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉<Explanation of symbols for main parts of drawing>
10 : 레이저 발생장치 20 : 반사경부10: laser generator 20: reflector
30 : 셔터부 40 : 편광부30: shutter portion 40: polarization portion
50 : 렌즈부 61 : 기준마킹 슬릿50: lens 61: reference marking slit
71 : 빔 벤더 72 : 직진렌즈71: beam bender 72: straight lens
73 : 씨씨디 카메라 74 : 모니터73: CD camera 74: Monitor
110 : 엘이디 120 : 투과 미러110: LED 120: transmission mirror
130 : 제1반사경 140 : 기준미러 슬릿130: first reflecting mirror 140: reference mirror slit
본 고안은 스테퍼 장비의 조명계에 관한 것으로, 특히 스테퍼 장비의 조명계 광축 얼라인 정도(程度)를 검출하여 웨이퍼에 적당한 노광을 가하도록한 스테퍼 조명계의 광축 얼라인 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an illumination system of stepper equipment, and more particularly, to an optical axis alignment apparatus of a stepper illumination system which detects an illumination system optical axis alignment degree of a stepper equipment and applies an appropriate exposure to a wafer.
일반적인 스테퍼의 조명계는 제1도 및 제2도에 도시된 바와 같이, 광을 발산하는 발산부(1)와, 그 집광된 광을 반사시켜 주는 반사부(2)와, 그 반사된 빛을 선택적으로 통과시키는 셔터부(3)와, 그 셔터부(3)를 통과한 광을 집적, 축소하는 렌즈부(4)와, 그 렌즈부(4)를 통과한 광에 의해 노광되는 웨이퍼를 탑재하는 스테이지부(5)로 구성되어 있다.As shown in FIGS. 1 and 2, a general stepper illumination system selectively selects a diverging part 1 for emitting light, a reflecting part 2 for reflecting the focused light, and the reflected light. Mounting the shutter unit 3 to pass through, the lens unit 4 for accumulating and reducing the light passing through the shutter unit 3, and the wafer exposed by the light passing through the lens unit 4 It is comprised by the stage part 5.
상기 발산부(1)는, 일단부가 위치 조정축(1a)에 일체되고 그 타단부에는 빛을 발산하는 램프(통상 수은램프)(1b)가 부착되며, 그 램프(1b)의 주변에는 상기 램프(1b)에서 발생되는 광을 모아주는 집광경(1c)(1c)이 형성되어 있다.The diverter 1 has a lamp (normally a mercury lamp) 1b having one end integrated with the positioning shaft 1a and emitting light to the other end thereof, and the lamp around the lamp 1b. Condensing mirrors 1c and 1c for collecting light generated in (1b) are formed.
상기 반사부(2)는, 상기 집광경(1c)(1c)의 하측에 경사지게 설치되어 광을 1차 반사시켜 주는 제1반사경(2a)과, 그 제1반사경(2a)에 반사된 광을 틀어주기 위하여 상기 제1반사경(2a)과 동일한 각도로 경사지게 설치되는 제2반사경(2b)으로 형성되어 있다.The reflector 2 is provided with a first reflector 2a that is inclined under the condensing mirrors 1c and 1c to reflect light primarily, and the light reflected by the first reflector 2a is turned on. It is formed as a second reflecting mirror (2b) is installed to be inclined at the same angle as the first reflecting mirror (2a) to give.
상기 셔터부(3)는, 2개의 셔터날개로 형성되어 open/close를 반복하면서 제1반사경으로부터 반사된 광을 받아들이는 프리-셔터(3a)와, 그 프리-셔터(3a)를 통해 입사된 빛 중에서 일정 대역폭의 빛만을 투과시키는 비.피.에프(Band Pass Filter, 이하, BPF로 통칭함)(3b)와, 그 BPF(3b)를 투과한 빛을 중첩, 밀집화시키는 인터그레이터(Intergrator)(3c)와, 그 인터그레이터(3c)에 의해 밀집된 빛 중에서도 일정폭의 빛만을 투과하도록 그 중앙에 홀이 뚫린 에퍼추어(Aperture)(3d)와, 그 에퍼추어(3d)를 통과한 빛을 제2반사경으로 보내기 위하여 open/close를 반복하는 메인셔터(3e)로 형성되어 있다.The shutter unit 3 is formed of two shutter blades, which is a pre-shutter 3a that receives light reflected from the first reflecting mirror while repeating open / close and incident through the pre-shutter 3a. An integrator that superimposes and densifies the B.P.F (3B) that transmits only a certain bandwidth of light (hereinafter, referred to as BPF) 3B and the light transmitted through the BPF 3b. (3c), an aperture (3d) having a hole in the center thereof so as to transmit only a certain width of light among the light concentrated by the integrator (3c), and the light passing through the aperture (3d) It is formed of a main shutter 3e which repeats open / close to send to the second reflecting mirror.
상기 렌즈부(4)는, 상기 제2반사경으로부터 반사되는 빛을 다시 고밀도화하기 위한 콘덴서 렌즈(4a)와, 그 콘덴서 렌즈(4a)를 투과한 빛 중에서 일정부분만을 통과시키기 위해 4개의 블래이드(Blade)로 되는 메이킹 블래이드(Marking Blade)(4b)와, 레티클(Reticle)(4c)과, 그 레티클(4c)을 투과한 상이 일정비율로 축소되도록 하는 축소렌즈(4d)로 형성되어 있다.The lens unit 4 has four blades for passing only a portion of the condenser lens 4a for densifying the light reflected from the second reflecting mirror and the light transmitted through the condenser lens 4a. Is formed of a marking blade 4b, a reticle 4c, and a reduction lens 4d for reducing the image passing through the reticle 4c at a constant ratio.
상기 스테이지부(5)는, 그 상단면에 광량측정용 조도센서(5a)가 장착되어 있다.The stage portion 5 is equipped with a light intensity measurement illuminance sensor 5a on its upper end surface.
도면중 미설명 부호인 (1d)는 램프 축이다.Reference numeral 1d in the drawing denotes a lamp axis.
이와 같이 구성되는 종래 스테퍼 조명계의 동작을 광의 경로를 통해 살펴보면 다음과 같다.Looking at the operation of the conventional stepper lighting system configured as described above through the path of light as follows.
상기 램프(1b)에서 발산된 광이 집광경(1c)에서 집광되어 제1반사경(2a)에서 반사되면, 프리-셔터(3a)가 오픈되어 BPF(3b)에서 필터링되고, 그 필터링된 빛은 다시 인터크레이터(3c)에서 집적되어 에퍼추어(3d)와 메인셔터(3e)를 통과하며, 그 통과한 빛은 제2반사경(2b)에 입사, 반사되어 콘덴서 렌즈(4a)에서 다시 한번 집광되고, 그 집광된 빛은 축소렌즈(4d)를 통해 스테이지(5)에 닿게 된다.When the light emitted from the lamp 1b is collected by the condenser 1c and reflected by the first reflector 2a, the pre-shutter 3a is opened and filtered by the BPF 3b, and the filtered light is again filtered. It is integrated in the integrator 3c and passes through the aperture 3d and the main shutter 3e, and the light passing through the second reflector 2b is reflected and collected by the condenser lens 4a. The condensed light reaches the stage 5 through the reduction lens 4d.
이때, 상기 스테이지의 조도센서(5a)는 상기 렌즈의 최초위치에서 X, Y 방향으로 피치(Pitch) 1.9mm로 이동하면서 광량을 측정하여 직경 1.6cm의 렌즈에 대해 조도분포를 측정한다. 이렇게 측정된 광량의 분포가 정해진 기준값에서 벗어난 경우 램프의 위치 조정축을 조정하여 분포도를 조정한다. 즉, 램프의 위치를 조정하여 전체적인 광축을 조정하는 것이었다.At this time, the illuminance sensor 5a of the stage measures the amount of light while moving from the initial position of the lens to a pitch of 1.9 mm in the X and Y directions to measure the illuminance distribution of the lens with a diameter of 1.6 cm. If the distribution of the measured light quantity deviates from the predetermined reference value, the distribution degree is adjusted by adjusting the position adjustment axis of the lamp. In other words, the overall optical axis was adjusted by adjusting the position of the lamp.
그러나, 상기와 같은 종래 스테퍼 조명계의 광축 얼라인장치는, 렌즈의 위치별 조도분포가 설정치 이상인 경우, 상기 램프(1b)의 위치 조절을 통해 상기 조도분포를 조정하는 것이었으나, 실제 램프의 빛을 직접 받는 집광경(1c)이나 반사경(2) 또는 렌즈(4) 등이 열화로 인하여 조도분포가 불량해지는 경우는 단순한 램프(1b)의 위치조정만으로는 상기 조도분포 조정에 무리가 따르는 한편 램프(1b)의 지나친 위치변경으로 상기 램프(1b)의 초기위치를 크게 벗어나므로 인해 웨이퍼의 패턴노광시 수율저하 및 생산성 저하를 유발하게 되는 문제점이 있었다.However, in the optical axis alignment device of the conventional stepper illumination system as described above, when the illuminance distribution for each lens position is greater than or equal to the set value, the illuminance distribution is adjusted by adjusting the position of the lamp 1b. If the illuminance distribution becomes poor due to deterioration of the light collecting mirror 1c, the reflecting mirror 2, or the lens 4, which are directly received, it is difficult to adjust the illuminance distribution simply by adjusting the position of the lamp 1b. Excessive position change of the lamp (1b) is greatly off the initial position due to the problem of causing a decrease in yield and productivity during pattern exposure of the wafer.
다른 문제점으로는, 상기 조도센서(5a)에 도달하는 조도와 설정된 조도 사이에 차이가 발생하더라도 상기 램프(1b)의 위치를 적절히 조절하여 보상하게 됨으로써 상기 조명계 자체가 열화에 의해 변형되었을 가능성을 인식하지 못하여 무리하게 램프위치를 변경하다가 결국 장비가 파손될 수도 있는 문제점도 있었다.As another problem, even if a difference occurs between the illuminance reaching the illuminance sensor 5a and the set illuminance, the position of the lamp 1b is properly adjusted to compensate for the possibility that the illumination system itself is deformed due to deterioration. If you do not change the position of the lamp forcibly, there was also a problem that can eventually be damaged.
따라서, 본 고안의 목적은 조명계의 전체적인 광축을 항상 일정하게 유지하여 그 조도분포를 충분히 측정함으로써, 패턴 노광시 조도분포의 불량으로 발생되는 수율저하 및 생산성 저하를 미연에 방지할 수 있는 스테퍼 조명계의 광축 얼라인 장치를 제공하는데 있다.Therefore, an object of the present invention is to maintain a constant optical axis of the illumination system at all times and to measure the illuminance distribution sufficiently, thereby reducing the yield and productivity degradation caused by poor illuminance distribution during pattern exposure. An optical axis alignment device is provided.
본 고안의 다른 목적은 상기 조도분포를 측정하기 위한 조명계의 각 부위들이 고열에 의한 변형유무를 용이하게 판단할 수 있는 스테퍼 조명계의 광축 얼라인 장치를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide an optical axis aligning device of a stepper illumination system that can easily determine the deformation of each part of the illumination system for measuring the illuminance distribution by high heat.
이와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여 웨이퍼의 노광공정을 위한 제1광축과, 그 제1광축과 오버랩되게 위한 제2광축과, 상기 제1광축과 제2광축을 검출하여 비교, 수정하기 위한 제1광축 검출수단과 제2광축 검출수단을 별도로 구비하는 것을 특징으로 하는 스테퍼 조명계의 광축 얼라인장치가 제공된다.In order to achieve the object of the present invention, the first optical axis for the exposure process of the wafer, the second optical axis for overlapping the first optical axis, and the first optical axis and the second optical axis for detecting, comparing and correcting An optical axis aligning device for a stepper illumination system is provided that includes first and second optical axis detecting means separately.
이하, 본 고안에 의한 스테퍼의 조명계를 첨부된 도면의 일실시예에 의거하여 상세히 설명한다.Hereinafter, the lighting system of the stepper according to the present invention will be described in detail with reference to an embodiment of the accompanying drawings.
본 고안에 의한 광축 얼라인 측정장치는, 노광용 광원을 측정하는 제1광축 검출수단 외에 그 제1광축 검출수단과는 별도로 제2광축 검출수단을 설치하고, 상기 제1, 제2광축 검출수단의 측정치가 오버랩되도록 하여 그 결과치에 따라 램프의 위치변경 및 렌즈, 미러 등을 조정하도록 구성하는 것을 기본으로 한다.In the optical axis alignment measuring apparatus according to the present invention, in addition to the first optical axis detecting means for measuring the exposure light source, a second optical axis detecting means is provided separately from the first optical axis detecting means, and the first and second optical axis detecting means Basically, the measurement values overlap and the lamp position, lens, mirror, etc. are adjusted according to the result value.
상기 제1광축 검출수단은 제3도 및 제4도에 도시된 바와 같이, 상기 노광용 광원의 위치에 설치되는 레이저 발생장치(10)와, 그 레이저 발생장치(10)를 반사하는 제1반사경(21)과 제2반사경(22)을 포함하는 반사부(20)와, 상기 제1,제2반사경(21)(22) 사이에 개재되며 프리-셔터(31)와 BPF(32)와 인터그레이터(33)와 어퍼쳐(34)와 메인셔터(35)를 포함하는 셔터부(30)와, 그 셔터부(30)를 차례로 통과한 빛의 편광각도를 회전시키는 λ/4 플레이트의 편광부(40)와, 그 편광부(40)를 거친 광을 집적시키기 위한 콘덴서 렌즈(51)와 메이킹 블래드(52)와 레티클(53)과 축소렌즈(54)를 포함하는 렌즈부(50)와, 그 렌즈부(50)의 하부에 설치되고 상단면에 측정마킹(61a)이 수평으로 형성되어 있는 측정미러 슬릿(61)이 얹혀지는 스테이지부(60)와, 상기 제2반사경(22)의 상부에 설치되고 상기 스테이지(60)상의 측정미러슬릿(61)에 의해 역반사되는 빛을 모니터하는 제1측정부(70)로 구성된다.As shown in FIGS. 3 and 4, the first optical axis detecting means includes a laser generator 10 provided at a position of the light source for exposure, and a first reflector reflecting the laser generator 10 ( A reflector 20 including a 21 and a second reflector 22, and interposed between the first and second reflectors 21 and 22 and an integrator with the pre-shutter 31 and the BPF 32. (33), the shutter portion 30 including the aperture 34 and the main shutter 35, and the polarization portion of the λ / 4 plate for rotating the polarization angle of the light passing through the shutter portion 30 in sequence ( 40, a lens unit 50 including a condenser lens 51, a making blade 52, a reticle 53, and a reduction lens 54 for integrating light having passed through the polarizer 40; A stage 60 mounted on the lower portion of the lens unit 50, on which the measurement mirror slit 61 is mounted, on which the measurement marking 61a is horizontally formed, and an upper portion of the second reflector 22; Installed in the above Page 60 is composed of a first determination unit 70 for monitoring the light that is reflected back by the measuring mirror slit 61 on.
상기 제1측정부는 상기 측정미러 슬릿(61)으로부터 반사되는 빛을 직각으로 꺾어주는 빔 벤더(Beam Bender)(71)와, 그 빔 벤더(71)와 일직선상에 설치되는 직진렌즈(72)와, 그 직진렌즈(72)의 일측에 설치되어 화상으로 보여주는 씨씨디 카메라(CCD Camera)(73)와 모니터(74)로 형성된다.The first measuring unit includes a beam bender 71 for bending the light reflected from the measuring mirror slit 61 at a right angle, and a straight lens 72 disposed in line with the beam bender 71. On one side of the straight lens 72, a CCD camera 73 and a monitor 74 are formed.
상기 제2광축 검출수단은 상기 제1광축 검출수단과는 별도의 광원인 엘이디(LED)(110)와, 그 LED(110)의 빛을 투과하는 투과 미러(120)와, 그 투과된 빛을 반사하는 제1반사경(130)과, 그 제1반사경(130)에 의해 반사되는 빛을 구획하는 마크공(140a)이 수직으로 형성되는 기준마크 슬릿(140)과, 그 기준마크 슬릿(정확하게는 마크공)(140)을 관통한 빛이 통과하는 제1측정부의 빔 벤더(71)와, 직진렌즈(72)와, CCD 카메라(73)와, 모니터(74)로 구성된다.The second optical axis detecting means includes an LED (LED) 110 which is a light source separate from the first optical axis detecting means, a transmission mirror 120 that transmits light of the LED 110, and the transmitted light. A reference mark slit 140 in which the first reflecting mirror 130 to reflect, the mark hole 140a for partitioning the light reflected by the first reflecting mirror 130 are formed vertically, and the reference mark slit (exactly, And the beam bender 71 of the first measurement unit, the straight lens 72, the CCD camera 73, and the monitor 74 through which the light passing through the mark hole 140 passes.
이와 같이 구성되는 본 고안의 광축 얼라인장치의 동작을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the optical axis aligning device of the present invention configured as described above are as follows.
상기 제1광축 검출수단의 레이저 발생장치(10)로부터 발진되는 빔은 제1반사경(21)에 반사되어 프리-셔터(31), BPF(32), 인터그레이터(33), 에퍼추어(34), 메인셔터(35) 등으로 이루어진 셔터부(30)를 거치고, 제2반사경(22)에 다시 반사되어 λ/4 플레이트부(40)를 통과하면서 광의 편광각도가 회전하여 S편광이 P편광으로 변화되며, 콘덴서 렌즈(51), 메이킹 블래드(52), 레티크(53), 축소렌즈(54) 등의 렌즈부(50)를 통해 측정미러 슬릿(61)의 형상대로 다시 재반사가 이루어지는 것이다. 상기 재반사가 이루어진 빔은 상기 렌즈부(50)와 λ/4 플레이트부(40)를 역순으로 통과하면서 광의 편광각도가 회전하여 P편광이 다시 S편광으로 변화되어 제2반사경(22)을 투과하고, 그 투과된 빔은 상기 빔 벤더(71)에서 직각으로 틀어져 직진렌즈(72), CCD 카메라(73)를 거쳐 모니터(74)에 상기 측정미러 슬릿(61)의 형상대로 화상처리가 되는 것이다.The beam oscillated from the laser generator 10 of the first optical axis detecting means is reflected by the first reflecting mirror 21 to pre-shutter 31, BPF 32, integrator 33, and aperture 34. After passing through the shutter unit 30 made of the main shutter 35 and the like, it is reflected back to the second reflecting mirror 22 and passes through the λ / 4 plate unit 40 while the polarization angle of the light is rotated so that the S polarized light becomes P polarized light. It is changed and re-reflected again in the shape of the measurement mirror slit 61 through the lens unit 50 such as the condenser lens 51, the making blade 52, the reticle 53, and the reduction lens 54. will be. The re-reflected beam passes through the lens portion 50 and the λ / 4 plate portion 40 in the reverse order, and the polarization angle of the light is rotated so that the P-polarized light is changed back to S-polarized light and transmitted through the second reflecting mirror 22. The transmitted beam is twisted at right angles in the beam bender 71 and subjected to image processing in the shape of the measurement mirror slit 61 on the monitor 74 via the straight lens 72 and the CCD camera 73. .
한편, 제2광축 검출수단의 LED(110)에서 투사되는 빛은 투과미러(120)를 거쳐 반사경(130)에 의해 직각으로 반사되고, 그 반사된 빛은 기준마크 슬릿(140)에 마킹된 형상대로 분리되어 빔 벤더(71), 직진렌즈(72), CCD 카메라(73)를 순차적으로 통과하면서 모니터(74)에 화상처리 된다.On the other hand, the light projected from the LED 110 of the second optical axis detection means is reflected at right angles by the reflector 130 through the transmission mirror 120, the reflected light is a shape marked on the reference mark slit 140 The image is separated and processed by the monitor 74 while sequentially passing through the beam bender 71, the straight lens 72, and the CCD camera 73.
이처럼 화상처리되는 LED 빛은 상술한 레이저 빔과 제4도의 (c)와 같이, 오버랩 되어 그 차이를 비교, 수정하면서 상기 조명계의 얼라인 상태를 점검하게 되는 것이다.As described above, the LED light to be processed is overlapped with the above-described laser beam as shown in (c) of FIG. 4 to check the alignment state of the illumination system while comparing and correcting the difference.
이상에서 설명한 바와 같이 본 고안에 의한 스테퍼 조명계의 광축 얼라인장치는, 그 광원으로 직진성과 비분산성을 지닌 레이저 빔이 일차적으로 도착 완료되는 웨이퍼 스테이지에 소정형상의 측정미러 슬릿을 설치하고, 그 측정미러 슬릿의 형상대로 상기 빔이 구획 반사되어 모니터에 화상처리 되도록 하는 한편, 상기 레이저 빔과의 비교광원이 되는 별도의 LED와, 그 LED의 빛을 구획하는 별도의 기준마킹 슬릿을 설치하여 상기 측정미러 슬릿의 형상과 화면상에 오버랩 되도록 함으로써, 그 오버랩되는 두 화상을 비교 수정하면서 원하는 광축을 추출하게 된다.As described above, in the optical axis alignment device of the stepper illumination system according to the present invention, a measurement mirror slit of a predetermined shape is provided on a wafer stage where a laser beam having linearity and non-dispersibility is first arrived as the light source, and the measurement is performed. The beam is partitioned and reflected on the monitor in the shape of a mirror slit, and a separate LED for the comparison light source with the laser beam and a separate reference marking slit for partitioning the light of the LED are installed to measure the measurement. By overlapping the shape of the mirror slit on the screen, a desired optical axis is extracted while comparing and correcting the two overlapping images.
이로써, 패턴 노광시 조도분포의 불량으로 발생되는 수율저하 및 생산성 저하는 물론 스테퍼 조명계 자체의 파손을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.As a result, there is an effect that it is possible to prevent the degradation of the stepper lighting system itself, as well as a decrease in yield and productivity, which are caused by poor illumination intensity distribution during pattern exposure.
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|---|---|---|---|
| KR2019960019629U KR200162278Y1 (en) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | Alignment apparatus of optical axis of steep illumination system |
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| KR2019960019629U KR200162278Y1 (en) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | Alignment apparatus of optical axis of steep illumination system |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR980009663U KR980009663U (en) | 1998-04-30 |
| KR200162278Y1 true KR200162278Y1 (en) | 1999-12-15 |
Family
ID=19460668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2019960019629U KR200162278Y1 (en) | 1996-07-02 | 1996-07-02 | Alignment apparatus of optical axis of steep illumination system |
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| Country | Link |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100817412B1 (en) * | 2003-12-24 | 2008-03-27 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | Apparatus for controlling lamps of flood exposure |
-
1996
- 1996-07-02 KR KR2019960019629U patent/KR200162278Y1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9690200B2 (en) | 2014-10-07 | 2017-06-27 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical apparatus and manufacturing method using the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR980009663U (en) | 1998-04-30 |
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