KR200156802Y1 - A protection device for blocking exhausting gas inlet of scrubber uesd in semiconductor fabrication - Google Patents
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Abstract
본 고안은 반도체 제조 장비에 연결, 설치되어 배기 가스 중에 포함된 유해가스를 제거하여 정화시키는 스크러버의 동작 중, 반응 생성물의 고착 현상으로 발생하는 배기 가스 인입구의 막힘 현상을 방지하여 배기계의 안정화 및 이에 따른 공정 안정화에 기여토록 한 반도체 제조 장비용 스크러버의 배기 가스 인입구 막힘 방지장치에 관한 것으로, 스크러버 몸체(5)의 반응 생성물 인입구(6)를 상측으로 연장하여 구성한 에어 실린더(21)와, 상기 에어 실린더(21) 내에 상, 하 직선 왕복 이동 가능하게 설치되어 인입구 내에 끼이는 반응 생성물을 긁어 내어 제거하는 피스톤(22)과, 상기 피스톤(22)의 구동을 주기적으로 제어함과 아울러 자동, 또는 수동으로 전환시키기 위한 구동 회로가 내장된 조작반(23)을 구비하여 스크러버의 반응 생성물 인입구에 끼이는 반응 생성물을 제거함으로써 반응 생성물로 인한 스크러버 입구부의 막힘 현상을 방지할 수 있도록 구성한 것이다. 이와 같은 본 고안에 의하면 배기계 및 공정 안정화로 인한 생산 효율의 향상이 기대 된다.The present invention is connected to and installed in semiconductor manufacturing equipment to remove the harmful gases contained in the exhaust gas during the operation of the scrubber, to prevent clogging of the exhaust gas inlet caused by the reaction product stuck phenomenon to stabilize the exhaust system and The present invention relates to an apparatus for preventing clogging of an exhaust gas inlet of a scrubber for semiconductor manufacturing equipment, which contributes to stabilization of the process, and includes an air cylinder (21) configured to extend the reaction product inlet (6) of the scrubber body (5) upwards, and the air The piston 22 is installed in the cylinder 21 so as to be able to reciprocate linearly, and scrapes and removes the reaction product stuck in the inlet. The piston 22 periodically controls the driving of the piston 22 and automatically or manually. Control panel 23 with a built-in drive circuit for switching over to pinch at reaction product inlet of scrubber By removing the reaction product is configured to prevent clogging scrubber inlet portion, caused by the reaction product. According to the present invention is expected to improve the production efficiency due to the stabilization of the exhaust system and the process.
Description
제1도는 일반적인 반도체 제조 장비의 배기계 구성도.1 is an exhaust system configuration diagram of a general semiconductor manufacturing equipment.
제2도는 일반적인 반도체 제조 장비에 사용되는 스크러버의 구조를 상세하게 보인 단면도.2 is a cross-sectional view showing in detail the structure of the scrubber used in the general semiconductor manufacturing equipment.
제3도는 본 고안 장치가 적용된 스크러버의 배기계통 연결도.3 is a connection diagram of the exhaust system of the scrubber to which the device of the present invention is applied.
제4도는 본 고안 장치의 구성을 상세하게 보인 제3도의 A부 상세도.Figure 4 is a detailed view of the portion A of Figure 3 showing the configuration of the device of the present invention in detail.
제5도는 본 고안 장치의 구동 회로도.5 is a drive circuit diagram of the device of the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
5 : 스크러버 몸체 6 : 반응 생성물 인입구5: scrubber body 6: reaction product inlet
21 : 에어 실린더 22 : 피스톤21: air cylinder 22: piston
23 : 조작반23: operation panel
본 고안은 반도체 제조 장비에 연결, 설치되어 배기 가스 중에 포함된 유해 가스를 제거하여 정화시키는 스크러버의 동작 중, 반응 생성물의 고착 현상으로 발생하는 배기 가스 인입구의 막힘 현상을 방지하여 배기계의 안정화 및 이에 따른 공정 안정화에 기여토록 한 반도체 제조 장비용 스크러버의 배기 가스 인입구 막힘 방지장치에 관한 것이다.The present invention is connected to and installed in semiconductor manufacturing equipment to prevent harmful gases contained in the exhaust gas scrubber during the operation of the exhaust gas inlet caused by the plugging of the reaction product to prevent clogging phenomenon to stabilize the exhaust system and The present invention relates to an apparatus for preventing clogging of exhaust gas inlets of a scrubber for semiconductor manufacturing equipment, which contributes to stabilization of the process.
일반적인 반도체 제조 장비의 배기계는 제1도에 도시한 바와 같이, 장비 본체(1)에 연결된 배기 덕트(2a)와, 상기 배기 덕트(2a)에 연결되는 진공 펌프(3)와, 상기 진공 펌프(3)에 연결 덕트(2b)로 연결되어 장비 본체(1)에서 배기되는 가스중에 포함된 유해 가스를 제거하여 정화시키는 스크러버(4)와, 상기 스크러버(4)에 잠긴 상태로 설치되어 흡습성 물질(HUME)를 외부로 배기시키는 배출 덕트(2c)로 구성된다.As shown in FIG. 1, the exhaust system of the general semiconductor manufacturing equipment includes an exhaust duct 2a connected to the equipment main body 1, a vacuum pump 3 connected to the exhaust duct 2a, and the vacuum pump ( 3) a scrubber (4) connected to the connecting duct (2b) to remove and purify the harmful gas contained in the gas exhausted from the equipment main body (1); And a discharge duct 2c for exhausting the HUME to the outside.
이와 같이 구성된 배기계는 장비내에서 에칭된 반응 생성물이 진공 펌프(3)에 의해 펌핑되어 스크러버(4)로 흘러 들어가 그 내부에서 물에 의해 중화되고, 중화된 물은 드레인 되어 나가며, 이때 발생한 흡습성 물질(HUME)은 배출 덕트(2c)로 빨려 나가는 시스템을 이루게 된다.The exhaust system configured as described above has the reaction product etched in the equipment pumped by the vacuum pump 3 and flowed into the scrubber 4 to be neutralized by water therein, and the neutralized water is drained out. HUME constitutes a system that is sucked into the exhaust duct 2c.
상기 스크러버(4)는 주지한 바와 같이, 공정시 발생한 배기 가스를 중화시켜 배기시키기 위한 것으로, 제2도에 그의 구조가 상세하게 도시되어 있는 바, 이를 참조하여 구성 및 작용을 보다 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.As is well known, the scrubber 4 is for neutralizing and exhausting the exhaust gas generated during the process, and the structure thereof is shown in detail in FIG. 2. Same as
도시한 바와 같이 일반적인 스크러버(4)는 내저부에 소정량의 물이 채워지는 박스형 몸체(5)의 상부에는 반응 생성물 인입구(6)가 형성되어 이에는 워터 라인(7)이 연결되어 있고, 상기 인입구(6)의 하부에는 들어 오는 배기 가스와 물을 혼합하기 위한 혼합부(8)가 설치되어 있다.As shown in the drawing, a general scrubber 4 has a reaction product inlet 6 formed at an upper portion of a box-shaped body 5 in which a predetermined amount of water is filled in an inner bottom thereof, and a water line 7 is connected thereto. In the lower part of the inlet 6, the mixing part 8 for mixing incoming exhaust gas and water is provided.
그리고, 상기 혼합부(8)의 하부에는 물과 반응한 반응 생성물을 2차로 희석시키는 디퓨져(10)가 회전가능하게 설치되어 있고, 상기 디퓨져(10)의 하부에는 물과 섞인 반응 생성물을 3차로 희석시키기 위한 필터(11)가 설치되어 있다.In addition, a lower part of the mixing unit 8 is rotatably provided with a diffuser 10 for diluting the reaction product reacted with water in a second direction, and a lower part of the diffuser 10 carries a reaction product mixed with water in a third direction. The filter 11 for dilution is provided.
또한 상기 몸체(5)의 내저부에는 하부의 물을 펌핑하는 펌프(12)가 설치되어 있는 바, 이 펌프(12)는 네가티브 라인(13)에 의해 워터 라인(7)과 연결되어 하부의 물을 워터 라인(7)과 디퓨져(10)에 반복적으로 공급하도록 되어 있다.In addition, the inner bottom of the body 5 is provided with a pump 12 for pumping the water of the lower bar 12, the pump 12 is connected to the water line 7 by a negative line 13, the lower water To the water line 7 and the diffuser 10 repeatedly.
또한 몸체(5)의 하부 일측에는 하부의 물을 드레인 시키기 위한 드레인 라인(14)이 연결, 설치되어 있고, 타측에는 물과 반응시 발생하는 흡습성 물질이 배기되는 배기 라인(15)이 설치되어 외부의 연결 덕트(2b)로 연결되어 있다.In addition, a drain line 14 for draining water from the lower side is connected and installed at one lower side of the body 5, and an exhaust line 15 at which the hygroscopic material generated when reacting with water is exhausted is installed at the other side. Is connected to the connecting duct 2b.
이와 같은 일반적인 스크러버는 반응 생성물이 진공 펌프(3)로부터 배출되어 반응 생성물 인입구(6)로 들어 오면, 워터 라인(7)으로 물이 들어와 혼합부(8)에서 물과 섞여 아래로 떨어지고, 이와 같이 하부로 떨어진 물과 반응한 반응 생성물은 디퓨져(10)에 의해 2차로 희석됨과 동시에 하부로 다시 떨어져 필터(11)를 통과하면서 3차로 희석된 후, 몸체(5)의 내저부로 떨어져 모이게 된다.The general scrubber is such that when the reaction product is discharged from the vacuum pump 3 and enters the reaction product inlet 6, water enters the water line 7 and mixes with water in the mixing section 8 and falls down. The reaction product reacted with the water dropped to the bottom is secondly diluted by the diffuser 10 and at the same time it is again dropped to the bottom and passed through the filter 11 to be diluted third, and then collected to fall to the inner bottom of the body (5).
이와 같은 과정으로 배기 가스중의 유해 가스는 물과 반응하여 중화되고, 이때 발생한 흡습성 물질은 배기 라인(15)을 통해 외부의 덕트로 배기 되며, 하부의 수위가 높아지면, 드레인 라인(14)을 통해 하부의 물이 드레인된다.In this process, the harmful gas in the exhaust gas is neutralized by reacting with water, and the hygroscopic material generated at this time is exhausted through the exhaust line 15 to the outside duct, and when the water level in the lower portion becomes high, the drain line 14 is opened. Through the bottom of the water is drained.
이와 같은 동작을 하면서 공정 중 발생하는 배기 가스를 정화시켜 배출시키는 것이다.During this operation, the exhaust gas generated during the process is purified and discharged.
그러나, 상기한 바와 같은 일반적인 스크러버에 있어서는, 반응 생성물 인입구(6)에서 반응 생성물과 물이 혼합될 때, 화학적 반응에 의해 고체화된 반응 생성물이 인입구(6)의 가장자리에 부착되어 누적됨으로써 인입구(6)를 막아 버리는 문제가 발생되었다.However, in the general scrubber as described above, when the reaction product and the water are mixed at the reaction product inlet 6, the reaction product solidified by the chemical reaction adheres to the edges of the inlet 6 and accumulates in the inlet 6. A problem that prevents).
이에 따라 진공 펌프(3)에서 배출된 반응 생성물이 펌프 뒷단과 스크러버의 인입구(6) 내에 고여 빠져나가지 못함으로써 내부의 압력이 상승하여 펌프 에러 및 트립을 발생시키고, 장비내에서는 배기 불량에 따른 파티클 발생, 공정 파라메타의 이상, 장비 에러등을 유발시킴으로써 수율 저하 및 장비 가동율의 저하를 초래하는 문제가 있었다.As a result, the reaction product discharged from the vacuum pump 3 does not collect in the rear end of the pump and the inlet 6 of the scrubber, causing the internal pressure to rise, causing pump error and tripping, and causing particles in the equipment due to poor exhaust. There has been a problem of causing a decrease in yield and equipment operation rate by causing occurrence, abnormal process parameters, and equipment error.
또, 상기와 같은 문제를 해소하기 위한 잦은 세정 작업으로 유지 관리 비용의 증가 원인이 되고 있으며, 세정시 발생하는 흄으로 인한 횝 환경의 오염을 초래하는 문제도 있었다.In addition, the frequent cleaning operation to solve the above problems is causing the increase in maintenance costs, there was also a problem that causes contamination of the environment due to the fume generated during the cleaning.
이를 감안하여 안출한 본 고안의 목적은, 스크러버의 배기 가스 인입구에 고체화되어 부착되는 반응 생성물을 주기적으로 제거하여 반응 생성물로 인한 배기 가스 인입구의 막힘을 방지함으로써 배기계의 안정화 및 이에 따른 공정 안정화를 기할 수 있도록 한 반도체 제조 장비용 스크러버의 배기 가스 인입구 막힘 방지장치를 제공함에 있다.In view of this, the object of the present invention is to stabilize the exhaust system and thereby process stabilization by periodically removing the reaction product solidified and attached to the exhaust gas inlet of the scrubber to prevent clogging of the exhaust gas inlet due to the reaction product. The present invention provides a device for preventing clogging of exhaust gas inlets of a scrubber for semiconductor manufacturing equipment.
상기와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여, 스크러버 몸체의 반응 생성물 인입구를 상측으로 연장하여 구성한 실린더와, 상기 실린더 내에 상, 하 직선 왕복 이동 가능하게 설치되어 인입구 내에 끼이는 반응 생성물을 긁어 내어 제거하는 피스톤과, 상기 피스톤의 구동을 주기적으로 제어함과 아울러 자동, 또는 수동으로 전환시키기 위한 구동 회로가 내장된 조작반으로 구성함을 특징으로 하는 반도체 제조 장비용 스크러버의 배기 가스 인입구 막힘 방지장치가 제공된다.In order to achieve the object of the present invention as described above, the cylinder formed by extending the reaction product inlet of the scrubber body to the upper side, and the upper and lower linear reciprocating movement is installed in the cylinder to scrape off the reaction product stuck in the inlet And a control panel having a built-in piston and a driving circuit for controlling the driving of the piston periodically and automatically or manually switching the exhaust gas inlet blockage preventing device of the scrubber for semiconductor manufacturing equipment. do.
상기와 같은 본 고안에 의하면, 주기적으로 피스톤이 작동하여 스크러버의 반응 생성물 인입구에 끼이는 반응 생성물을 제거함으로써 반응 생성물로 인한 스크러버 입구부의 막힘을 방지할 수 있으므로 배기계의 안정화 및 이에 따른 공정 안정화를 기할 수 있다는 효과가 있으며, 배기계의 안정화에 따른 장비 가동율 향상, 횝 환경 오염 예방, 일드 안정화 및 공정 파라메타 안정을 통한 생산효율의 극대화 효과등이 있다.According to the present invention as described above, it is possible to prevent the clogging of the scrubber inlet due to the reaction product by periodically operating the piston to remove the reaction product caught in the reaction product inlet of the scrubber to stabilize the exhaust system and thereby to stabilize the process It can improve the operation rate of equipment by stabilizing the exhaust system, prevent environmental pollution, stabilize the yield, and maximize the production efficiency through stabilization of process parameters.
이하, 상기한 바와 같은 본 고안에 의한 반도체 제조 장비용 스크러버의 배기 가스 인입구 막힘 방지장치를 첨부도면에 의거하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the exhaust gas inlet blockage preventing device of the scrubber for semiconductor manufacturing equipment according to the present invention as described above will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.
첨부한 제3도는 본 고안 장치가 적용된 스크러버의 배기계통 연결도 이고, 제4도는 본 고안 장치의 요부를 보인 제3도의 A부 상세도 이며, 제5도는 본 고안 장치의 구동 회로도로서, 도시한 바와 같이, 본 고안에 의한 반도체 제조 장비용 스크러버의 배기 가스 인입구 막힘 방지장치는 스크러버 몸체(5)의 반응 생성물 인입구(6)를 상측으로 연장하여 구성한 실린더(21)와, 상기 실린더(21) 내에 상, 하 직선 왕복 이동 가능하게 설치되어 인입구 내에 끼이는 반응 생성물을 긁어 내어 제거하는 피스톤(22)과, 상기 피스톤(22)의 구동을 주기적으로 제어함과 아울러 자동, 또는 수동으로 전환시키기 위한 구동 회로가 내장된 조작반(23)으로 구성되어 있다.Attached FIG. 3 is an exhaust system connection diagram of the scrubber to which the present invention is applied, and FIG. 4 is a detailed view of the A part of FIG. 3 showing the main part of the present invention, and FIG. 5 is a driving circuit diagram of the present invention. As described above, the apparatus for preventing clogging the exhaust gas inlet of the scrubber for semiconductor manufacturing equipment according to the present invention includes a cylinder 21 formed by extending the reaction product inlet 6 of the scrubber body 5 upwards, and in the cylinder 21. The piston 22 is installed to be able to reciprocate up and down linearly and scrapes and removes the reaction product caught in the inlet, and the drive for switching the automatic and manually while periodically controlling the driving of the piston 22. The control panel 23 includes a circuit.
상기 장비 본체(1)와 진공 펌프(3)는 배기 덕트(2a)에 의하여 연결되며, 진공 펌프(3)와 스크러버(4)는 연결 덕트(2b)에 의하여 연결된다.The equipment main body 1 and the vacuum pump 3 are connected by an exhaust duct 2a, and the vacuum pump 3 and the scrubber 4 are connected by a connection duct 2b.
그외 스크러버(4)를 구성하는 여타 구성 및 배기계의 구성은 상술한 일반적인 구성과 동일하므로 동일한 부분에 대해서는 동일 부호를 부여하고 상세한 설명은 생략한다.The other configuration constituting the scrubber 4 and the configuration of the exhaust system are the same as those of the general configuration described above, so that the same parts will be denoted by the same reference numerals and detailed description thereof will be omitted.
한편, 상기 피스톤(22)은 작동 정지시, 실린더(21)와 연결 덕트(2b)와의 연결부보다 상부에 위치하여 배기시 간섭하지 않도록 되어 있으며, 동작시에는 상, 하 방향으로 왕복 이동 하면서 인입구(6)에 부착된 반응 생성물을 긁어 내어 제거하도록 되어 있다.On the other hand, the piston 22 is located above the connecting portion between the cylinder 21 and the connecting duct (2b) when the operation is stopped, so as not to interfere with the exhaust, and during operation, the inlet ( The reaction product attached to 6) is scraped off.
이하, 상기한 바와 같은 본 고안에 의한 반도체 제조 장비용 스크러버의 배기 가스 인입구 막힘 방지장치의 동작 및 그에 따르는 작용 효과를 살펴본다.Hereinafter, the operation of the apparatus for preventing the blockage of the exhaust gas inlet of the scrubber for the semiconductor manufacturing equipment according to the present invention as described above and the effects thereof will be described.
본 고안은 제5도의 구동 회로와 같이 구성되어 자동 및 수동의 2가지 방식으로 동작하는 바, 먼저 자동일 경우를 살펴보면 다음과 같다.The present invention is configured like the driving circuit of FIG. 5 and operates in two ways, automatic and manual. First, the automatic case is as follows.
파워 스위치(P)가 '온'되면 파워 램프(PL)가 동작하여 파워 공급 상태를 디스플레이 하게 되고, 동시에 T1에 전원이 인가 되어 미리 셋팅된 시간에 의해 T1-a접점이 동작하게 된다.When the power switch P is 'on', the power lamp PL operates to display the power supply state, and at the same time, power is applied to T1 to operate the T1-a contact point by a preset time.
이에 따라 솔레노이드 밸브(SOL)에 전원이 인가되어 실린더(21)에 에어가 공급됨으로써 내부의 피스톤(22)은 하강하게 된다.Accordingly, power is applied to the solenoid valve SOL, and air is supplied to the cylinder 21, thereby lowering the internal piston 22.
이어서, T2에 전원이 인가 되어 T2-b 접점이 동작하여 T1의 전원을 차단함으로써 T1-a 접점이 원위치로 돌아와 솔레노이드 밸브(SOL)에 공급되는 전원을 차단하게 된다.Subsequently, power is applied to T2, and the T2-b contact operates to cut off the power of T1, so that the T1-a contact returns to its original position to cut off the power supplied to the solenoid valve SOL.
이에 따라 실린더(21)에 공급되는 에어가 역으로 공급됨으로써 피스톤(22)은 원래의 위치, 상측으로 복귀하는 것이다.As a result, the air supplied to the cylinder 21 is supplied in reverse, so that the piston 22 returns to its original position and to the upper side.
여기서, 솔레노이드 밸브(SOL)의 동작 상태는 동작 램프(SL)에 의해 디스플레이 되고 있는 바, 피스톤(22)이 원래의 위치로 복귀하게 되면, 상기 동작 램프(SL)는 소등되며 카운터(C)에 의하여 동작 횟수가 표시된다.Here, the operation state of the solenoid valve SOL is displayed by the operation lamp SL. When the piston 22 returns to its original position, the operation lamp SL is turned off and the counter C is turned off. By the number of operations.
이러한 과정을 한 사이클로 반복하면서 스크러버 인입구(6)에 부착되는 반응 생성물을 제거하는 것이다.This process is repeated in one cycle to remove the reaction product attached to the scrubber inlet 6.
한편, 수동 동작시에는, 오토/매뉴얼 스위치를 매뉴얼에 놓고 스타트 스위치를 누르면, 솔레노이드 밸브(SOL)에 전원이 인가되어 실린더(21)에 에어가 공급됨으로써 피스톤(22)이 동작하게 되고, 스타트 스위치를 '오프'하게 되면 솔레노이드 밸브(SOL)의 전원이 차단되어 실린더(21) 내의 피스톤(22)은 초기의 위치로 복귀하는 것이다.On the other hand, during manual operation, when the auto / manual switch is set to the manual and the start switch is pressed, power is applied to the solenoid valve SOL and air is supplied to the cylinder 21 to operate the piston 22, thereby starting the start switch. When the 'off' is the power of the solenoid valve (SOL) is cut off and the piston 22 in the cylinder 21 is to return to the initial position.
즉, 본 고안은 자동으로 동작하면서 인입구(6)에 부착되는 반응 생성물을 주기적으로 제거하여 인입구(6)의 막힘을 방지하고, 또 필요시에는 수동으로 전환시켜 반응 생성물 제거 작업을 행할 수 있는 것이다.That is, the present invention can automatically remove the reaction product attached to the inlet 6 while operating automatically to prevent the blockage of the inlet 6, and if necessary, it can be manually switched to perform the reaction product removal operation. .
따라서, 반응 생성물로 인한 스크러버(4) 인입구(6)의 막힘 현상을 방지할 수 있는 것이다.Therefore, clogging of the inlet 6 of the scrubber 4 due to the reaction product can be prevented.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 고안에 의하면, 주기적으로 피스톤이 작동하여 스크러버의 반응 생성물 인입구에 끼이는 반응 생성물을 제거함으로써 반응 생성물로 인한 스크러버 입구부의 막힘을 방지할 수 있으므로 배기계의 안정화 및 이에 따른 공정 안정화를 기할 수 있다는 효과가 있으며, 배기계의 안정화에 따른 장비 가동율 향상, 외부 환경 오염 예방, 일드 안정화 및 공정 파라메타 안정을 통한 생산 효율의 극대화 효과등이 있다.As described in detail above, according to the present invention, it is possible to prevent the clogging of the scrubber inlet due to the reaction product by periodically operating the piston to remove the reaction product caught in the reaction product inlet of the scrubber, thereby stabilizing the exhaust system and It has the effect of stabilizing the process, and improves the operation rate of the equipment by stabilizing the exhaust system, prevents external environmental pollution, stabilizes yield, and maximizes production efficiency through stabilization of process parameters.
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Legal Events
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| A201 | Request for examination | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| REGI | Registration of establishment | ||
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