KR200156158Y1 - Wet station for semiconductor process - Google Patents

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Abstract

본 고안은 반도체의 웨트 스테이션 장치에 관한 것으로, 종래에는 포토센서를 사용하여 케리어의 유무를 판단하였기 때문에 케미칼(chemical)이 담겨져 있는 베스에서는 기포 및 베스의 온도 등의 영향으로 사용이 극히 제한될 뿐만 아니라, 포토 광선 수신부의 감도 불량등으로 인한 에러가 발생할 경우 공정 중단 등의 인터로크(inter lock)기능이 없으므로 케리어의 겹침 등의 사고가 발생할 가능성이 있는 문제점이 있었던바, 본 고안의 반도체의 웨트 스테이션 장치는 세정 및 식각 공정을 수행하는베스와, 상기 베스의 양측에 설치되어 베스내 케리어의 유무를 감지하는 포토센서와, 케리어를 운반하는 암과, 상기 암의 내부에 설치되어 케리어의 무게를 감지하는 무게 감지부를 포함하여 구성됨으로써, 공정 중단 등의 인터로크(inter lock)가 가능하여 케리어의 유무를 감지하는 포토 센서의 감도 불량이나 암의 에러로 인한 케리어의 겹침 등을 방지할 수 있고, 케미칼이 담겨져 있는 베스에서도 사용할 수 있으므로 사용범위가 넓게 한 것이다.The present invention relates to a wet station device of a semiconductor. In the prior art, since the presence or absence of a carrier is determined using a photosensor, the use of the chemical is limited to the use of bubbles and the temperature of the bath. In addition, when an error due to a poor sensitivity of the photo-beam receiving unit occurs, there is a problem that an accident such as overlapping of carriers may occur since there is no interlock function such as interrupting the process. The station apparatus includes a bath for performing a cleaning and etching process, a photosensor installed at both sides of the bath to detect the presence of a carrier in the bath, an arm for carrying the carrier, and an inside of the arm to weigh the carrier. It is configured to include a weight sensing unit to detect, interlock (inter lock) such as process interruption is possible It is possible to prevent the overlapping of the carrier due to the poor sensitivity of the photo sensor that detects the presence of a fish or the error of the arm, and can be used in the bath containing the chemical, thereby increasing the range of use.

Description

반도체의 웨트 스테이션 장치Semiconductor wet station device

본 고안은 반도체의 웨트 스테이션 장치에 관한 것으로, 특히 케리어의 무게를 감지하는 무게 감지부를 설치함으로써, 베스내에 케리어의 유무를 감지하여 케리어의 겹침 등의 사고를 방지할 수 있는 반도체의 웨트 스테이션 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a wet station device of a semiconductor, and more particularly, to a wet station device of a semiconductor that can detect an existence of a carrier in a bath to prevent an accident such as overlapping a carrier by installing a weight sensing unit that detects the weight of the carrier. It is about.

일반적으로 반도체의 웨트 스테이션 장치는 웨이퍼의 세정이나 식각을 위한 공정을 수행하는 장치로서, 3~5개의 베스(bath)와 웨이퍼 건조장치로 구성되고, 웨이퍼가 담긴 케리어(carrier)가 암(arm)에 의해 해당되는 공정으로 운반되어 주어진 공정을 진행하는 것이다.Generally, the wet station device of a semiconductor is a device for performing a process for cleaning or etching a wafer. The wet station device is composed of three to five baths and a wafer drying device, and a carrier containing a wafer is armed. It is carried to the corresponding process by to proceed with the given process.

종래의 반도체의 웨트 스테이션 장치는 각각의 베스마다 케리어의 유무를 감지하는 센서가 베스의 양측에 장착되어 베스내 케리어의 유무를 감지함으로써, 공정 시간의 시작과 끝을 판단하는 역할을 한다.Conventional wet station apparatus of the semiconductor serves to determine the start and end of the process time by detecting the presence or absence of the carrier in the bath is mounted on both sides of the bath sensors for detecting the presence of the carrier for each bath.

즉, 베스내에 케리어가 없으며, 도1a에 도시한 바와 같이, 포토 센서의 포토 광선 발신부(10)에서 조사된 포토 광선이 포토 광선 수신부(11)에서 감지되므로 베스(20)내에 케리어가 없다고 판단한다.That is, there is no carrier in the bath, and as shown in FIG. 1A, since the photo light beam radiated from the photo beam transmitting unit 10 of the photo sensor is detected by the photo beam receiving unit 11, it is determined that there is no carrier in the bath 20. do.

케리어가 베스로 삽입되면, 도1b에 도시한 바와 같이, 포토 센서의 포토 광선 발신부(10)에서 조사된 포토 광선이 케리어(30)에 의해 차단되어 포토 광선 수신부(11)에서 감지되지 못하므로 베스(20)내에 케리어(30)가 있는 것으로 판단한다.When the carrier is inserted into the bath, as shown in FIG. 1B, since the photo beam irradiated from the photo beam transmitter 10 of the photo sensor is blocked by the carrier 30 and thus cannot be detected by the photo beam receiver 11. It is determined that there is a carrier 30 in the bath 20.

이와 같이 포토 센서(10,11)가 베스(20)내 케리어(30)를 감지함과 동시에 공정 시간이 시작되고, 일정 공정이 진행한 후 다음 공정의 베스로 케리어(30)가 이동한다.As described above, the photo sensor 10, 11 detects the carrier 30 in the bath 20, and at the same time, the process time starts, and after the predetermined process proceeds, the carrier 30 moves to the bath of the next process.

그러나, 상기와 같은 종래의 반도체의 웨트 스테이션 장치는 포토 센서(10,11)를 사용하여 케리어(30)의 유무를 판단하였기 때문에 케미칼(chemical)이 담겨져 있는 베스(20)에서는 기포 및 베스(20)의 온도 등의 영향으로 사용이 극히 제한될 뿐만 아니라, 포토 광선 수신부(11)의 감도 불량등으로 인한 에러가 발생할 경우 공정중단 등의 인터로크(interlock) 기능이 없으므로 케리어(30)의 겹침 등의 사고가 발생할 가능성이 있는 문제점이 있었다.However, since the wet station apparatus of the conventional semiconductor as described above uses the photo sensors 10 and 11 to determine the presence or absence of the carrier 30, the bubbles 20 and the bubbles 20 may be used in the bath 20 in which the chemical is contained. In addition, the use is extremely limited due to the temperature, etc., and when an error occurs due to poor sensitivity of the photo ray receiver 11, there is no interlock function such as interruption of the process. There was a problem that could cause an accident.

또한, 케리어(30)를 운반하는 암(arm)의 오동작 또는 에러로 인하여 2개의 케리어(30)중 1개만 이동시켜도 센서(10,11)는 케리어(30)를 감지하게 되므로 정상적으로 작동하여 사고의 발생가능성이 높은 문제점이 있었던바, 이에 대한 보완이 요구 되어 왔다.In addition, the sensor 10, 11 detects the carrier 30 even if only one of the two carriers 30 is moved due to a malfunction or an error of the arm that carries the carrier 30. There was a problem that is likely to occur, and a supplement has been required.

따라서, 본 고안은 상기와 같은 문제점을 감안하여 안출한 것으로서, 케리어를 운반하는 암에 케리어의 무게를 감지할 수 있는 무게 감지부를 설치하여 케리어 이동시 케리어의 무게로 케리어의 유무를 감지하도록 하여 포토 센서와 함께 센서 에러로 인한 케리어 겹침 등을 방지할 수 있고, 케미칼 베스에도 사용할 수 있는 반도체의 웨트 스테이션 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.Therefore, the present invention has been devised in view of the above problems, by installing a weight sensing unit that can detect the weight of the carrier on the arm carrying the carrier to detect the presence or absence of the carrier by the weight of the carrier when moving the photo sensor In addition, it is an object of the present invention to provide a semiconductor wet station device which can prevent carrier overlap due to a sensor error and can also be used for a chemical bath.

도1a는 종래의 반도체 웨트 스테이션 장치를 도시한 것으로, 베스내 케리어가 없을 경우 포토 센서가 감지하는 것을 도시한 개략도.Figure 1a shows a conventional semiconductor wet station device, a schematic diagram showing that the photo sensor detects when there is no carrier in the bath.

도1b는 종래의 반도체의 웨트 스테이션 장치를 도시한 것으로, 베스내 케리어가 있을 경우 포토 센서가 감지하는 것을 도시한 개략도.FIG. 1B illustrates a conventional wet station device of a semiconductor, illustrating a photo sensor detecting when there is a carrier in a bath. FIG.

도2는 본 고안의 반도체의 웨트 스테이션 장치에 사용되는 암(arm)을 도시한 사시도.Fig. 2 is a perspective view showing an arm used in the wet station apparatus of the semiconductor of the present invention.

도3은 본 고안에 따른 무게 감지부를 도시한 암의 종단면도.Figure 3 is a longitudinal sectional view of the arm showing a weight sensing unit according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 암 2 : 암척(arm chuck)1 arm 2 arm chuck

3 : 피스톤 4 : 오링(O-ring)3: Piston 4: O-ring

5 : 한계 플렌지 6 : 압력 게이지5: limit flange 6: pressure gauge

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 고안은 세정 및 식각 공정을 수행하는 베스와, 상기 베스의 양측에 설치되어 베스내 케리어의 유무를 감지하는 포토 센서와, 케리어를 운반하는 암과, 상기 암의 내부에 설치되어 케리어의 무게를 감지하는 무게 감지부를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 반도체의 웨트 스테이션 장치가 제공된다.In order to achieve the above object, the present invention provides a bath for performing a cleaning and etching process, a photo sensor installed at both sides of the bath to detect the presence of a carrier in the bath, an arm for carrying a carrier, and There is provided a wet station device of a semiconductor, characterized in that it comprises a weight sensing unit installed inside to sense the weight of the carrier.

이하, 본 고안의 반도체의 웨트 스테이션 장치를 첨부한 도면을 참조로 하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the wet station apparatus of the semiconductor of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 고안의 반도체의 웨트 스테이션 장치는 세정 및 식각 공정을 수행하는 베스의 양측에 베스내 케리어의 유무를 감지하는 포토 센서가 설치되고, 케리어를 운반하는 암의 내부에 케리어의 무게를 감지하는 무게 감지부가 설치된다.In the semiconductor wet station apparatus of the present invention, a photo sensor for detecting the presence or absence of a carrier in the bath is installed on both sides of the bath performing the cleaning and etching process, and the weight sensing for detecting the weight of the carrier inside the arm that carries the carrier. The unit is installed.

상기 무게 감지부는, 도3에 도시한 바와 같이, 암(1)의 내부에 형성된 밀폐 공간부(7)와, 상기 밀폐 공간부(7)의 상하이동 가능하게 삽입된 피스톤(3)과, 상기 피스톤(3)과, 상기 피스톤(3)과 연결된 암척(arm chuck)(2)과, 상기 밀폐 공간부(7)의 하부에 형성되어 상기 피스톤(3)의 하방향 이동을 제한하는 한계 플렌지(5)와, 상기 밀폐 공간부(7)의 하부 압력을 읽어 피 엘 시(PLC)로 압력값을 보내는 압력 게이지(6)로 구성된다.As shown in FIG. 3, the weight sensing unit includes a sealed space 7 formed inside the arm 1, a piston 3 inserted into the sealed space 7 so as to be movable; A piston 3, an arm chuck 2 connected to the piston 3, and a limit flange formed under the sealed space 7 to limit downward movement of the piston 3 ( 5) and a pressure gauge 6 which reads the lower pressure of the sealed space 7 and sends a pressure value to the PLC.

상기 피스톤(3)의 외주면에는 오링(O-ring)(4)이 설치되는 것이 바람직하다.O-ring (4) is preferably provided on the outer circumferential surface of the piston (3).

상기 암척(2)은 베스(20)내로 케리어(30)를 운반하는 경우 케리어(30)를 받치는 부분으로, 암(10)의 개폐 동작에 의해 케리어(30)를 적재하거나 베스(20)내로 내려놓게 된다.The arm chuck 2 is a portion that supports the carrier 30 when carrying the carrier 30 into the bath 20, and loads the carrier 30 or lowers the inside of the bath 20 by the opening and closing operation of the arm 10. Will be released.

상기와 같은 구성의 반도체의 웨트 스테이션 장치의 작용을 설명하면 다음과 같다.The operation of the wet station apparatus of the semiconductor having the above configuration will be described as follows.

본 고안에 따른 반도체의 웨트 스테이션 장치의 피스톤(3)은 암척(2)이 케리어(30)의 운반을 위해 케리어(30)를 베스(20)에서 집어올렸을 경우 케리어(30)의 무게에 의해 하방향으로 이동하게 된다.The piston 3 of the wet station apparatus of the semiconductor according to the present invention is loaded by the weight of the carrier 30 when the arm chuck 2 picks up the carrier 30 from the bath 20 for transport of the carrier 30. Will be moved in the direction.

상기 피스톤(3)은 밀폐 공간부(7)내에 삽입되어 있으므로 피스톤(3)이 하방향으로 이동하면 밀폐 공간부(7) 하부의 압력이 증가하고, 압력 게이지(6)가 증가된 압력의 수치를 읽게 된다.Since the piston 3 is inserted into the sealed space 7, when the piston 3 moves downward, the pressure in the lower portion of the sealed space 7 increases, and the pressure gauge 6 increases the value of the pressure. You will read

상기 압력 게이지(6)는 피 엘 시와 연결되어 있으므로 상기 압력 게이지(6)가 읽은 압력값이 일정압 이상일 경우 피 엘 시에 이 압력값이 보내지고, 케리어(30)를 감지하게 되는 것이다.Since the pressure gauge 6 is connected to the PSI, when the pressure reading by the pressure gauge 6 is greater than or equal to the predetermined pressure, the PSI is sent to the PSI, and the carrier 30 is detected.

상기 피 엘 시로 인하여 암(1)의 오작동이나 에러가 발생하면 공정 중단 등의 인터로크 기능이 가능하므로 사고 발생의 위험을 방지할 수 있게 된다.If a malfunction or an error of the arm (1) occurs due to the PLS, it is possible to prevent the risk of accidents because the interlock function, such as process interruption is possible.

상기 한계 플렌지(5)는 상기와 같이 피스톤(3)이 하방향으로 이동할 경우 피스톤(3)의 움직임을 제한하여 발생할 수 있는 암(1)의 파손을 방지하게 된다.The limit flange 5 is to prevent damage to the arm (1) that can occur by limiting the movement of the piston (3) when the piston (3) moves downward as described above.

상기 피스톤(3)의 외주면에는 오링(4)이 설치되어 있어 피스톤(3)이 상하로 이동할 경우 공기가 새지 않도록 한다.O-ring (4) is installed on the outer circumferential surface of the piston (3) so that the air does not leak when the piston (3) moves up and down.

본 고안의 반도체의 웨트 스테이션 장치는 무게 감지부(100)와 포토 센서(10,11)를 동시에 사용하므로 베스 내 케리어(30)의 유무 감지에 정확성을 기할 수 있게 된다.Since the wet station device of the semiconductor of the present invention uses the weight sensor 100 and the photo sensors 10 and 11 at the same time, it is possible to ensure accuracy in detecting the presence or absence of the carrier 30 in the bath.

베스(20)내에 케리어(30)가 없을 경우 상기 밀폐 공간부(7)가 일정한 압력을 유지하게 되고, 이 압력값을 압력 제이지(6)가 읽어 피 엘 시에 보내므로 케리어(30)의 부재를 인식할 수 있게 된다.If there is no carrier 30 in the bath 20, the sealed space 7 maintains a constant pressure, and the pressure gauge 6 reads the pressure value and sends the pressure to the cylinder so that the carrier 30 is not present. Can be recognized.

본 고안의 반도체의 웨트 스테이션 장치에 의하면 공정 중단 등의 인터로크(interlock)기능이 가능하므로 케리어의 유무를 감지하는 포토센서의 감도 불량이나 암의 에러로 인한 케리어의 겹침 등을 방지할 수 있는 효과가 있다.According to the wet station apparatus of the semiconductor of the present invention, the interlock function such as interruption of the process is possible, and thus the effect of preventing the overlap of the carrier due to the poor sensitivity of the photosensor detecting the presence of the carrier or the error of the arm can be prevented. There is.

또한, 케미칼이 담겨져 있는 베스에서도 사용할 수 있으므로 사용범위가 넓은 효과가 있다.In addition, since it can be used in the bath containing the chemical, there is a wide range of effects.

Claims (3)

세정 및 식각 공정을 수행하는 베스와, 상기 베스의 양측에 설치되어 베스내 케리어의 유무를 감지하는 포토 센서와, 케리어를 운반하는 암과, 상기 암의 내부에 설치되어 케리어의 무게를 감지하는 무게 감지부를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 반도체의 웨트 스테이션 장치.A bath for cleaning and etching, a photo sensor installed at both sides of the bath to detect the presence of a carrier in the bath, an arm for carrying the carrier, and a weight installed at the inside of the arm for sensing the weight of the carrier. Wet station device of the semiconductor, characterized in that comprising a sensing unit. 제1항에 있어서, 상기 무게 감지부는 암의 내부에 형성된 밀폐 공간부와, 상기 밀폐 공간부에 상하이동 가능하게 삽입된 피스톤과, 상기 피스톤과 연결된 암척과, 상기 밀폐공간부의 하부에 형성되어 상기 피스톤의 하방향 이동을 제한하는 한계 플렌지와, 상기 밀폐공간부의 하부 압력을 읽어 피 엘 시(PLC)로 압력값을 보내는 압력 게이지로 구성된 것을 특징으로 하는 반도체의 웨트 스테이션 장치.The method of claim 1, wherein the weight sensing unit is a sealed space formed in the interior of the arm, the piston is inserted into the sealed space so as to move, the chuck connected to the piston, and formed in the lower portion of the sealed space A limiting flange for restricting the downward movement of the piston, and a pressure gauge for reading the lower pressure of the sealed space portion and sending a pressure value to the PLC (PLC). 제2항에 있어서, 상기 피스톤의 외주면에는 오링(O-ring)이 설치되는 것을 특징으로 하는 반도체의 웨트 스테이션 장치.3. The wet station apparatus for semiconductors according to claim 2, wherein an O-ring is provided on an outer circumferential surface of the piston.
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