KR20000010321A - Wafer detector fixed in a body with robot arm - Google Patents

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KR20000010321A
KR20000010321A KR1019980031192A KR19980031192A KR20000010321A KR 20000010321 A KR20000010321 A KR 20000010321A KR 1019980031192 A KR1019980031192 A KR 1019980031192A KR 19980031192 A KR19980031192 A KR 19980031192A KR 20000010321 A KR20000010321 A KR 20000010321A
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wafer detector
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백기정
최규섭
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윤종용
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Abstract

PURPOSE: The wafer detector can detect the presence of a wafer in a reactor without mis-operation of a sensor when proceeding the process without a cassette in a wet station. CONSTITUTION: The wafer detector detects the presence of the wafer using a robot arm transferring the wafer in the wet station. The wafer detector is characterized by including; the sensor comprising one light acceptance part(112) and one light transmission part(114); a pair of sensor fixing prolonged part(130a, 130b) fixing the light acceptance part and the light transmission part as separated; and a sensor fixing plate(130) having a sensor fixing part(130c) to fix the sensor fixing prolonged part in a body with the robot arm. The wafer detector minimizes the error generation due to the vibration in up and down operation of the robot arm because the sensor is connected with the robot arm in a body.

Description

로봇 암에 일체로 고정된 웨이퍼 검출기Wafer detector integrally fixed to the robot arm

본 발명은 반도체 제조 설비에 관한 것으로, 특히 웨트 스테이션(wet station)에서의 반도체 제조 공정시 웨이퍼의 유무 상태를 검출하는 웨이퍼 검출기에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor manufacturing equipment, and more particularly, to a wafer detector for detecting the presence or absence of a wafer during a semiconductor manufacturing process at a wet station.

웨트 스테이션에서 진행되는 반도체 제조 공정에서, 반응조 내에서 카세트를 사용하지 않고 해당 공정을 진행할 때 반응조 내에서의 웨이퍼의 유무 상태를 검출하기 위하여, 종래에는 웨이퍼를 이송하는 데 사용되는 로봇에 착탈 가능하게 설치된 와이드 센서를 사용하였다.In the semiconductor manufacturing process performed at the wet station, in order to detect the presence or absence of the wafer in the reaction tank when the process is performed without using a cassette in the reaction tank, it is conventionally detachable to a robot used to transport the wafer. The installed wide sensor was used.

도 1은 종래의 웨이퍼 검출기인 와이드 센서의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.1 is a view schematically showing the configuration of a wide sensor which is a conventional wafer detector.

도 1에 도시한 바와 같이, 종래의 웨이퍼 센서로 사용된 와이드 센서(10)는 복수의 수광 소자(12a, 12b, 12c, 12d, 12e, 12f, ㆍㆍㆍ)로 이루어지는 수광부(12)와, 복수의 투광 소자(14a, 14b, 14c, 14d, 14e, 14f, ㆍㆍㆍ)로 이루어지는 투광부(14)로 이루어진다.As shown in FIG. 1, the wide sensor 10 used as a conventional wafer sensor includes a light receiving unit 12 including a plurality of light receiving elements 12a, 12b, 12c, 12d, 12e, 12f,. It consists of the light transmission part 14 which consists of several light transmission elements 14a, 14b, 14c, 14d, 14e, 14f, ...

상기와 같이 구성된 종래의 웨이퍼 검출기에서는 각 웨이퍼(20)에 대하여 각각의 수광 소자 및 투광 소자를 사용하여 개별적으로 검출을 행하는 개별 검출 방식을 이용한다. 이와 같은 구성에서는 통상적으로 50개 이상의 수광 소자 및 투광 소자를 사용하므로, 공정시 사용되는 화학 증기 또는 물방울 맺힘, 로봇의 업(up) 동작 및 다운(down) 동작시 발생되는 진동에 의한 센서의 고정 상태 불량 등과 같은 원인에 의하여 각 수광 소자 또는 투광 소자로 이루어지는 센서의 오동작이 빈번하게 발생된다.In the conventional wafer detector configured as described above, a separate detection method is used in which each of the wafers 20 is individually detected by using each light receiving element and the light transmitting element. In such a configuration, since 50 or more light receiving elements and light transmitting elements are typically used, the sensor is fixed by vibration generated during chemical vapor or water condensation, robot up and down operations. Malfunctions of the sensor composed of each light receiving element or light transmitting element frequently occur due to a cause such as a defective state.

본 발명의 목적은 상기한 바와 같은 종래의 문제를 해결하기 위한 것으로서, 웨트 스테이션에서 카세트 없이 공정을 진행할 때 반응조 내에서 웨이퍼의 유무 상태를 센서의 오동작 없이 검출할 수 있는 웨이퍼 검출기를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to solve the conventional problems as described above, to provide a wafer detector that can detect the presence or absence of a wafer in the reaction tank without a malfunction of the sensor when the process in the wet station without the cassette.

도 1은 종래의 웨이퍼 검출기인 와이드 센서의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.1 is a view schematically showing the configuration of a wide sensor which is a conventional wafer detector.

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 검출기의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.2 is a view schematically showing the configuration of a wafer detector according to a preferred embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

112 : 수광부, 114 ; 투광부112: light receiver, 114; Floodlight

120 : 웨이퍼, 130 : 센서 고정용 플레이트120: wafer, 130: sensor fixing plate

130a, 130b : 센서 고정용 연장부, 130c : 센서 고정부130a, 130b: extension part for fixing the sensor, 130c: sensor fixing part

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는 웨트 스테이션(wet station)에서 웨이퍼를 이송하는 로봇 암을 이용하여 반응조 내에서 웨이퍼의 유무 상태를 검출하기 위한 웨이퍼 검출기에 있어서, 1개의 수광부와 1개의 투광부로 이루어지는 센서와, 상기 수광부 및 투광부를 일정 거리 이격된 상태로 고정시키는 한 쌍의 센서 고정용 연장부와, 상기 센서 고정용 연장부를 상기 로봇 암에 일체로 고정시키기 위한 센서 고정부를 갖춘 센서 고정용 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 검출기를 제공한다.In order to achieve the above object, in the present invention, in the wafer detector for detecting the presence or absence of the wafer in the reaction tank by using a robot arm for transporting the wafer in a wet station, one light receiving unit and one light transmitting unit And a pair of sensor fixing extensions for fixing the light receiving portion and the light transmitting portion at a predetermined distance from each other, and a sensor fixing portion for fixing the sensor fixing extensions integrally to the robot arm. Provided is a wafer detector comprising a plate.

상기 센서는 상기 로봇 암이 업(up) 동작 상태에 있을 때에만 검출 가능 상태로 되도록 구성된다.The sensor is configured to be in a detectable state only when the robot arm is in an up operating state.

본 발명에 의하면, 반도체 제조 설비의 반응조 내에서 웨이퍼의 유무 상태를 검출할 때 공정 사고 및 설비에 기인하는 오동작 문제를 방지할 수 있으며, 반응조 내에서는 센서가 작동하지 않으므로 화학 약품에 의한 공정 사고를 방지할 수 있다.According to the present invention, when detecting the presence or absence of a wafer in a reaction tank of a semiconductor manufacturing facility, it is possible to prevent a process accident and a malfunction problem caused by the facility.As a sensor does not operate in a reaction tank, a process accident caused by chemicals is prevented. You can prevent it.

다음에, 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Next, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 검출기의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.2 is a view schematically showing the configuration of a wafer detector according to a preferred embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 웨이퍼 검출기는 웨트 스테이션(wet station)에서 웨이퍼(120)를 이송하는 로봇 암(도시 생략)을 이용하여 반응조 내에서 웨이퍼(120)의 유무 상태를 검출하는 것으로서, 1개의 수광부(112)와 1개의 투광부(114)로 이루어지는 센서를 포함한다. 상기 센서는 상기 수광부(112) 및 투광부(114)가 일정 거리 이격된 상태로 센서 고정용 플레이트(130)에 포함된 한 쌍의 센서 고정용 연장부(130a, 130b)에 고정되어 있다. 상기 센서 고정용 연장부(130a, 130b)는 각각 상기 센서 고정용 플레이트(130)의 센서 고정부(130c)를 통하여 로봇 암에 일체로 고정되어 있다.Referring to FIG. 2, the wafer detector according to the present invention detects the presence or absence of the wafer 120 in a reaction tank by using a robot arm (not shown) that transfers the wafer 120 from a wet station. And a sensor including one light receiving unit 112 and one light transmitting unit 114. The sensor is fixed to the pair of sensor fixing extensions 130a and 130b included in the sensor fixing plate 130 with the light receiving unit 112 and the light emitting unit 114 spaced apart from each other by a predetermined distance. The sensor fixing extension parts 130a and 130b are integrally fixed to the robot arm through the sensor fixing part 130c of the sensor fixing plate 130, respectively.

상기 1개의 수광부(112)와 1개의 투광부(114)로 이루어지는 센서는 상기 로봇 암이 업(up) 동작 상태에 있을 때에만 검출 가능 상태로 되도록 구성되어 있다. 따라서, 상기 로봇 암이 반응조 내의 웨이퍼를 집기 위하여 다운(down) 상태로 되어 있는 경우에는 상기 센서는 작동되지 않는다. 상기 센서는 상기 센서 고정용 플레이트(130)를 통하여 로봇 암과 일체로 고정되어 있으므로, 로봇 암에서 웨이퍼가 검출되었을 때에는 오프로 되고, 로봇 암에서 웨이퍼가 검출되지 않았을 때에는 온으로 된다.The sensor consisting of the one light receiving unit 112 and one light transmitting unit 114 is configured to be in a detectable state only when the robot arm is in an up operation state. Therefore, the sensor does not operate when the robot arm is in the down state to pick up the wafer in the reactor. Since the sensor is fixed integrally with the robot arm through the sensor fixing plate 130, the sensor is turned off when the wafer is detected by the robot arm, and turned on when the wafer is not detected by the robot arm.

상기한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 따른 웨이퍼 검출기에 따르면, 웨이퍼의 유무 상태를 검출하는 센서가 센서 고정용 플레이트를 통하여 로봇 암에 일체로 연결되어 있어서, 로봇 암의 업 또는 다운 동작시의 진동에 따른 불량 발생을 최소화할 수 있다.According to the wafer detector according to the present invention having the configuration as described above, the sensor for detecting the presence or absence of the wafer is integrally connected to the robot arm through the sensor fixing plate, the vibration during the up or down operation of the robot arm It is possible to minimize the occurrence of defects.

또한, 반도체 제조 설비의 반응조 내에서 웨이퍼의 유무 상태를 검출할 때 공정 사고 및 설비에 기인하는 오동작 문제를 방지할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 웨이퍼 검출기를 웨트 스테이션에서 사용할 때 반응조 내에서는 센서가 작동하지 않으므로 화학 약품에 의한 공정 사고를 방지할 수 있다.In addition, when detecting the presence or absence of the wafer in the reaction tank of the semiconductor manufacturing equipment, it is possible to prevent the problem of malfunction due to the process accident and the equipment. In addition, when the wafer detector according to the present invention is used in the wet station, the sensor does not operate in the reaction tank, thereby preventing an accident due to chemicals.

이상, 본 발명을 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러가지 변형이 가능하다.The present invention has been described in detail with reference to preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made by those skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention. Do.

Claims (2)

웨트 스테이션(wet station)에서 웨이퍼를 이송하는 로봇 암을 이용하여 반응조 내에서 웨이퍼의 유무 상태를 검출하기 위한 웨이퍼 검출기에 있어서,A wafer detector for detecting the presence or absence of a wafer in a reactor by using a robot arm for transporting a wafer at a wet station, 1개의 수광부와 1개의 투광부로 이루어지는 센서와,A sensor comprising one light receiving unit and one light transmitting unit, 상기 수광부 및 투광부를 일정 거리 이격된 상태로 고정시키는 한 쌍의 센서 고정용 연장부와, 상기 센서 고정용 연장부를 상기 로봇 암에 일체로 고정시키기 위한 센서 고정부를 갖춘 센서 고정용 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 검출기.And a sensor fixing plate having a pair of sensor fixing extensions for fixing the light receiving portion and the light transmitting portion at a predetermined distance from each other, and a sensor fixing portion for fixing the sensor fixing extensions integrally to the robot arm. Wafer detector, characterized in that. 제1항에 있어서, 상기 센서는 상기 로봇 암이 업(up) 동작 상태에 있을 때에만 검출 가능 상태로 되도록 구성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 검출기.The wafer detector of claim 1, wherein the sensor is configured to be detectable only when the robot arm is in an up operation state.
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