KR20010114145A - Method for the production of glass substrates for magnetic recording mediums - Google Patents

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KR20010114145A
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푸지무라아키오
쿠로다에이이치
호사카토시오
나가시마유지
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미야무라 신페이
미츠이 긴조쿠 고교 가부시키가이샤
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Abstract

자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법은 원반 가공, 연삭 가공, 연마 가공 및 세정 단계를 포함하며, 본 방법은 연마 그레인(grains)을 함유한 박판형의 비철 금속-결합된(nonferrous metal-bonded) 연삭 휠, 수지-결합된(resin-bonded) 연삭 휠 또는 유리-결합된 연삭 휠(vitrified-bonded grinding wheel)이 장치의 상부 및 하부 표면 테이블의 표면에 접착된, 자기 기록 매체용 글라스 기판의 연마를 위한 양면 연삭 장치 및 냉각액을 이용하여 연삭 가공을 실시하는 것을 특징으로 한다. 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법은 간단하고 효율적인 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조를 가능하게 하며, 이 방법은 초음파 적용하의 어떠한 다단계 세정 공정 및 산-세정 공정을 요구하지 않으며, 따라서 어떠한 오염의 가능성을 제거할 수 있다.The method of manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium includes disk processing, grinding processing, polishing processing and cleaning steps, and the method includes thin nonferrous metal-bonded grinding containing abrasive grains. Wheel, resin-bonded grinding wheel or vitrified-bonded grinding wheel bonded to the surface of the upper and lower surface tables of the apparatus, for polishing the glass substrate for magnetic recording media. It is characterized by performing a grinding process using a double-sided grinding device and a cooling liquid for. The method of manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium enables a simple and efficient production of a glass substrate for a magnetic recording medium, which does not require any multi-stage cleaning process and an acid-cleaning process under ultrasonic application, and thus does not require any contamination. This can eliminate the possibility.

Description

자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법{Method for the production of glass substrates for magnetic recording mediums}Method for the production of glass substrates for magnetic recording mediums

본 발명은 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 특히 원반 가공, 연삭 가공, 연마 가공 및 세정 단계를 포함하며 연삭 가공 동안에 Fe 이온과 같은 이온 및/또는 연마 그레인에 의한 글라스 기판의 오염도 억제하여 오염이 잘 억제된 자기 기록 매체용 글라스 기판을 쉽게 그리고 효율적으로 형성할 수 있는 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium, and more particularly to a process of disc processing, grinding, polishing and cleaning, wherein the glass substrate is formed by ions such as Fe ions and / or abrasive grains during grinding. A method of manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium capable of easily and efficiently forming a glass substrate for a magnetic recording medium in which contamination is also suppressed and contamination is well suppressed.

자기 디스크 기록 장치의 저장 용량이 더욱 더 커짐에 따라 자기 기록 디스크의 기록 밀도를 향상시키기 위하여 자기 디스크 기록 장치의 자기 헤드 부상 높이(flying height)의 감소가 바람직하여져 왔다. 헤드의 부상 높이를 감소시키기 위하여 표면 편활성(smoothness)이 우수하고, 그 표면 상에 적은 양의 부착물을 가지며 실질적으로 적은 양의 표면 결함을 갖는 자기 기록 매체용 기판의 개발이 요구되어져 왔다.As the storage capacity of the magnetic disk recording apparatus becomes larger and larger, it has been desirable to reduce the flying head height of the magnetic disk recording apparatus in order to improve the recording density of the magnetic recording disk. In order to reduce the floating height of the head, development of a substrate for a magnetic recording medium having excellent surface smoothness, having a small amount of deposit on the surface, and having a substantially small surface defect has been required.

표면 편활성이 우수한 일반적인 자기 기록 매체용 기판으로서 Ni-P로 알루미늄 합금 플레이트를 도금하고 플레이트의 도금된 주 표면을 다단계 공정으로 연마함으로서 제조된 기판들이 주로 이용되어져 왔다.As a substrate for a general magnetic recording medium having excellent surface smoothness, substrates prepared by plating an aluminum alloy plate with Ni-P and polishing the plated main surface of the plate by a multi-step process have been mainly used.

그러나, 자기 디스크 기록 장치는 최근에 노트북 규격의 개인용 컴퓨터와 같은 휴대용 개인용 컴퓨터 내에 채용되어져 왔으며, 자기 디스크 기록 장치의 응답 속도를 향상시키기 위하여 자기 기록 매체는 거의 10,000 rpm 이상의 고속으로 회전하여야 한다. 이러한 이유로 인하여 이러한 가혹 조건을 견딜 수 있는 고강도를 갖는 자기 디스크 기록 매체용 기판의 개발이 요청되었다. 상술한 요구 조건들을 만족할 수 있는 이러한 기판으로서 글라스 기판이 채택되어 왔다.However, magnetic disk recording apparatuses have recently been employed in portable personal computers, such as notebook standard personal computers, and in order to improve the response speed of the magnetic disk recording apparatus, the magnetic recording medium must rotate at a high speed of almost 10,000 rpm or more. For this reason, development of a substrate for a magnetic disk recording medium having a high strength capable of withstanding such harsh conditions has been required. Glass substrates have been adopted as such substrates capable of satisfying the above-mentioned requirements.

이러한 주로 채택된 자기 기록 매체용 글라스 기판은 예를 들어, 화학 강화 처리에 의하여 강도가 향상된 화학 강화 글라스 기판 또는 글라스 기판을 부여하기 위하여 글라스를 용융 및 성형하고 또한 글라스 기판을 600 내지 800℃의 고온에서 장시간 동안 유지시켜 기판 내에 결정상을 부분적으로 석출(separate out)하여 제조된 결정화 글라스 기판을 포함한다.This mainly adopted glass substrate for magnetic recording media melts and molds the glass in order to give a chemically strengthened glass substrate or glass substrate having improved strength by, for example, a chemical strengthening process, and the glass substrate is heated at a high temperature of 600 to 800 ° C. It includes a crystallized glass substrate prepared by maintaining for a long time in the partially prepared (separate out) the crystal phase in the substrate.

예를 들어, 화학 강화 글라스 기판은 글라스 재료를 용융하고 용융된 재료를 화학 강화 글라스 기판용 글라스 기판으로 성형하고, 그후 글라스 기판을 연삭 및 연마 처리를 실시하고, 예를 들어 질산 나트륨 또는 질산 칼륨의 용융염 내에 기판을 침지함으로서 얻어지며 기판 표면 상에 압축 응력층이 형성되어 기판의 파괴 강도가 개선된 화학 강화 글라스 기판이다. 결정화 글라스 기판은 40 내지 80%의 결정 글라스 상과 20 내지 60%의 비결정 글라스 상을 포함하며 그 강도가 결정상의 작용에 의하여 향상된 글라스 기판이다.For example, a chemically strengthened glass substrate melts a glass material and molds the molten material into a glass substrate for a chemically strengthened glass substrate, and then the glass substrate is subjected to grinding and polishing treatment, for example, of sodium nitrate or potassium nitrate. A chemically strengthened glass substrate obtained by immersing a substrate in a molten salt and having a compressive stress layer formed on the surface of the substrate to improve the breaking strength of the substrate. The crystallized glass substrate is a glass substrate containing 40 to 80% of the crystalline glass phase and 20 to 60% of the amorphous glass phase, the strength of which is improved by the action of the crystal phase.

일반적으로, 원반 가공, 연삭 가공, 연마 가공 및 세정 공정을 포함하는 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법에서, 상술한 글라스 기판은 이들 가공 공정 중에 다양한 오염 물질에 노출된다. 특히, 글라스 재료(블란크(blank))의 두께를 감소시키기 위한 공정(연삭 가공)에서는, 카보런덤, 알루미나 또는 지르코니아와 같은 연마 그레인을 함유한 연마액을 이용하여 연마액을 순환시키면서 공정이 실시되며, 따라서 글라스 기판의 표면 상에 일부 연마 그레인들이 잔류한다. 더욱이, 연삭 가공에 사용된 표면 테이블이 주철(cast iron)로 만들어지고 연삭 공정 동안에 연마액이 순환되기 때문에 글라스 표면이 예를 들어, Fe로 오염되는 심각한 문제가 발생한다.Generally, in the manufacturing method of the glass substrate for a magnetic recording medium including the disk processing, the grinding processing, the polishing processing, and the cleaning process, the above-described glass substrate is exposed to various contaminants during these processing processes. In particular, in the step (grinding processing) for reducing the thickness of the glass material (blank), the step is carried out while circulating the polishing liquid using a polishing liquid containing abrasive grains such as carborundum, alumina or zirconia. Therefore, some abrasive grains remain on the surface of the glass substrate. Moreover, a serious problem arises in that the glass surface is contaminated with Fe, for example, because the surface table used in the grinding process is made of cast iron and the polishing liquid is circulated during the grinding process.

연마 그레인들이 글라스 기판 상에 잔류되면, 후속 연마 가공에서 글라스 기판 상에 스크래치 마크(scratch mark)가 형성되며, 따라서 발생된 스크래치 마크가 연마 가공 동안에 제거되지 않는다면 스크래치 마크는 글라스 기판 상에 표면 결함으로 남게 된다.If abrasive grains remain on the glass substrate, scratch marks are formed on the glass substrate in a subsequent polishing process, so that the scratch marks are formed into surface defects on the glass substrate if the generated scratch marks are not removed during the polishing process. Will remain.

또한, 상부에 최종 제품인 자기 기록 매체를 구비한 자기 디스크에 까지 Fe를 함유한 오염 물질이 잔류한다면, 자기 디스크는 고온 및 다습 환경에서의 신뢰성을 위한 디스크 검사를 위한 가속 시험 조건하에서 오염된 부분에 부풀림 (blisters)이 형성되는 심각한 문제를 겪게 될 것이다.Also, if Fe-containing contaminants remain on the magnetic disk with the final product magnetic recording medium thereon, the magnetic disk may be exposed to contaminated parts under accelerated test conditions for disk inspection for reliability in high temperature and high humidity environments. You will have serious problems with the formation of blisters.

이러한 오염 물질을 제거하기 위하여, 연마 가공을 다단계로 실시하여야 하며, 연삭 공정 후에, Fe로 인한 오염을 방지하기 위한 조치로서 초음파를 가하면서 염산, 황산, 질산, 또는 인산 등과 같은 무기산 또는 포름산, 옥살산, 구연산, 타르타르산 또는 하이드록시아세틱산(hydroxyacetic acid)과 같은 유기산 내에 글라스 기판을 침지시킴으로서 충분하게 세정하여야 한다. 이는 큰 규격의 장치 사용을 초래한다. 또한, 효과적인 산 세정은 고온 및 고 산농도와 같은 매우 가혹한 조건을 요구한다. 이러한 이유로, 이러한 산 세정 공정은 높은 내산성을 갖는 고가의 장치 사용을 필요로 하며, 안전 및 위생을 보장하기 위하여 충분한 주위를 기울여야 한다.In order to remove such contaminants, the polishing process should be performed in multiple stages. After the grinding process, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, or phosphoric acid, or formic acid, oxalic acid, etc., may be applied with ultrasonic waves as a measure to prevent contamination by Fe. It should be sufficiently cleaned by immersing the glass substrate in an organic acid such as citric acid, tartaric acid or hydroxyacetic acid. This leads to the use of devices of large specifications. In addition, effective acid cleaning requires very harsh conditions such as high temperature and high acid concentration. For this reason, such acid cleaning processes require the use of expensive equipment with high acid resistance and due care should be taken to ensure safety and hygiene.

따라서, 본 발명의 목적은 초음파의 적용 및 어떠한 산 세정 단계 하에서 다단계 세정 공정 사용이 요구되지 않으며 어떠한 오염의 가능성도 제거할 수 있는 자기 기록 매체용 글라스 기판을 용이하고 효율적으로 생산할 수 있는 방법을 제공하는데 있다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method capable of easily and efficiently producing a glass substrate for a magnetic recording medium that does not require application of ultrasonic waves and use of a multistage cleaning process under any acid cleaning step and can eliminate any possibility of contamination. It is.

본 발명의 발명자들은 상기 목적을 이루기 위하여 여러 가지 연구를 실시하여 오염 물질을 제거하는 방법을 개선하기보다는 연삭 가공 동안에 Fe 이온과 같은 이온 및/또는 연마 그레인에 의한 글라스 기판의 오염을 억제하는 것이 가장 효과적이라는 것을 인지하였으며, 따라서 일반적으로 사용된 연삭 공정용 주철 표면 테이블 및 연마 그레인을 함유한 연마액 대신에 연마 그레인을 함유한 박판형(thin plate-like) 비철 연마석(nonferrous grindstones)이 상부 및 하부 표면 테이블의 표면에 접착된 양면 연삭 장치 및 냉각액을 사용함으로서 상술한 목적을 달성할 수 있다는 것을 밝혀내고 본 발명을 완성하였다.In order to achieve the above object, the inventors of the present invention are most concerned with suppressing contamination of the glass substrate by ions such as Fe ions and / or abrasive grains during grinding, rather than improving the method of removing contaminants. It was found to be effective, so that the upper and lower surfaces of thin plate-like nonferrous grindstones containing abrasive grains instead of the commonly used cast iron surface tables and grinding liquids containing abrasive grains were used. The present invention has been accomplished by discovering that the above-described object can be achieved by using a double-side grinding apparatus and a cooling liquid adhered to the surface of the table.

본 발명의 태양에 따르면, 원반 가공, 연삭 가공, 연마 가공 및 세정 공정을 포함하는 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법에 있어서, 본 방법은 연마 그레인(grains)을 함유한 박판형의 비철 금속-결합된(nonferrous metal-bonded) 연삭 휠, 수지-결합된(resin-bonded) 연삭 휠 또는 유리-결합된 연삭 휠(vitrified-bonded grinding wheel)이 상부 및 하부 표면 테이블의 표면에 접착된 양면 연삭 장치 및 냉각액를 이용하여 연삭 가공을 실시하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, in the method for producing a glass substrate for a magnetic recording medium including disk processing, grinding processing, polishing processing and cleaning process, the method comprises a thin plate-shaped non-ferrous metal-bonding containing abrasive grains. Double-sided grinding device in which a nonferrous metal-bonded grinding wheel, a resin-bonded grinding wheel or a glass-bonded grinding wheel is bonded to the surface of the upper and lower surface tables, and It is characterized by performing a grinding process using a cooling liquid.

이하에서 본 발명에 따른 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium according to the present invention will be described in more detail.

본 발명의 제조 방법은 연마 그레인을 함유한 박판형(thin plate-like)의 비철 금속-결합된 연삭 휠, 수지-결합된 연삭 휠 또는 유리-결합된 연삭 휠을 이용한다. 이러한 점에서, 연마 그레인들은 어떤 특정한 것에 제한되지는 않으나 예를 들어, 다이아몬드 그레인, 큐빅 보론 나이트라이드 그레인, 보론 카바이드 그레인, 실리콘 카바이드 그레인, 지르코니아 그레인 또는 알루미나 그레인을 포함한 연마 그레인들을 사용하는 것이 바람직하며, 다이아몬드를 함유한 연마 그레인이 특히 바람직하다.The production process of the present invention utilizes thin plate-like nonferrous metal-bonded grinding wheels, resin-bonded grinding wheels or glass-bonded grinding wheels containing abrasive grains. In this respect, abrasive grains are not limited to any particular one, but it is preferable to use abrasive grains including, for example, diamond grains, cubic boron nitride grains, boron carbide grains, silicon carbide grains, zirconia grains or alumina grains. Particular preference is given to abrasive grains containing diamond.

본 발명에 따른 제조 방법에 사용할 수 있는 비철 금속-결합된 연삭 휠은 예를 들어, 니켈계 재료-결합된, 텅스텐계 재료-결합된, 코발트계 재료-결합된, 동(bronze)계 재료-결합된 및 그 혼합물의 재료-결합된 휠일 수 있다. 또한, 본 발명에서 사용할 수 있는 수지-결합 연삭 휠은 예를 들어, 페놀 수지-결합된 및 폴리이미드 수지-결합된 연삭 휠일 수 있다. 또한, 유리-결합된 연삭 휠은 예를 들어, 유리질 재료-결합된 및 세라믹 재료-결합된 연삭 휠일 수 있다.Non-ferrous metal-bonded grinding wheels that can be used in the production process according to the invention are, for example, nickel-based materials-bonded, tungsten-based materials-bonded, cobalt-based materials-bonded, bronze-based materials- It can be a material-bound wheel of combined and mixtures thereof. In addition, the resin-bonded grinding wheels that can be used in the present invention can be, for example, phenolic resin-bonded and polyimide resin-bonded grinding wheels. Also, the glass-bonded grinding wheels can be, for example, glassy material-bonded and ceramic material-bonded grinding wheels.

본 발명에 따른 제조 방법에서, 연마 그레인의 그레인 크기는 약 5 내지 30㎛가 바람직하며, 연삭 휠 내의 연마 그레인 함량은 바람직하게는 0.5 내지 3 용적 % 범위이다. 더욱이, 연삭 휠은 박판 형상을 가지며, 예를 들어 두께가 2 내지 7mm 범위 및 직경이 5 내지 30mm 범위의 원판형을 갖는 것이 실용적이다.In the production process according to the invention, the grain size of the abrasive grains is preferably about 5 to 30 μm, and the abrasive grain content in the grinding wheel is preferably in the range of 0.5 to 3 volume%. Moreover, the grinding wheel has a thin plate shape, for example, it is practical to have a disc shape with a thickness in the range of 2 to 7 mm and a diameter in the range of 5 to 30 mm.

본 발명의 제조 방법에서는 예를 들어, 일본특허공보 소 60-21942호, 소 61-33890호, 소 61-33891호 및 평 1-33309호에 개시된 금속-결합 다이아몬드 그레인 함유 연삭 휠이 특히 바람직하게 사용되었다.In the production method of the present invention, for example, metal-bonded diamond grain-containing grinding wheels disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open Nos. 60-21942, 61-33890, 61-33891 and 1-33309 are particularly preferred. Was used.

본 발명의 제조 방법에서, 위에서 설명된 바와 같은 박판형 연삭 휠은 자기 기록 매체용 글라스 기판을 연삭하기 위한 양면 연삭 장치의 상부 및 하부 표면 테이블의 표면에 이들을 접착함으로서 이용된다. 이와 관련하여, 박판형 연삭 휠은, 예를 들어 의장등록 제 770,021호 및 일본특허공보 평 6-22790호에 개시된 바와 같이 표면 테이블 상에 배열되고 접착되며, 드레싱(dressing)이 실시되면서 연삭 가공이 실시된다.In the manufacturing method of the present invention, the thin grinding wheel as described above is used by adhering them to the surfaces of the upper and lower surface tables of the double-side grinding apparatus for grinding the glass substrate for the magnetic recording medium. In this regard, the thin grinding wheel is arranged and adhered to a surface table as disclosed in, for example, design registration No. 770,021 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-22790, and grinding is performed while dressing is performed. do.

본 발명의 제조 방법에서, 연삭 가공 동안에 글라스 기판으로부터 벗겨진 글라스 성분은 순환된 냉각액 중에 축적되며 마찬가지로 소량의 연삭 휠 성분도 냉각액 중에 축적되어 글라스 기판을 오염시킨다. 따라서, 순환 도중에 순환 냉각액 중에 축적된 이들 성분들을 연속적으로 제거하거나 또는 소정 시간마다 순환 냉각액 중에 존재하는 성분을 간헐적으로 제거하는 것이 바람직하다.In the production method of the present invention, the glass component peeled off from the glass substrate during the grinding process accumulates in the circulated coolant and likewise a small amount of the grinding wheel component accumulates in the coolant to contaminate the glass substrate. Therefore, it is preferable to continuously remove these components accumulated in the circulating cooling liquid during the circulation or to remove the components present in the circulating cooling liquid intermittently every predetermined time.

따라서, 본 발명에 따른 제조 방법에서, 연삭 가공에 사용된 냉각액 내에 존재하는 고체 성분을 제거하고 그 후 냉각액을 재순환시키는 것이 바람직하다.Therefore, in the production method according to the present invention, it is preferable to remove the solid components present in the cooling liquid used for the grinding process and then recycle the cooling liquid.

연삭 가공에서 사용된 냉각액 중에 존재하는 고체 성분을 제거하기 위한 수단으로서 예를 들어, 규조토(diatomaceous earth), 종이(paper) 또는 포(cloth)와 같은 여과 매체를 통한 여과 분리; 원심 분리; 및 침강 분리로 나열될 수 있다. 원심 분리와 비교할 때 침강 분리의 효율은 상당히 낮다. 여과 부재로서의 종이 또는 포를 통한 여과 분리는 규조토를 통한 여과 분리와 비교하여 낮은 미세 입자 분리 능력을 갖는다. 한편, 다량의 고체 성분을 제거하여야 한다면, 규조토를 통한 여과 분리는 상당히 낮은 여과율을 갖는다. 따라서, 전술한 사실들을 고려하면, 원심 분리를 통하여 큰 입자 규격을 갖는 입자 대부분을 먼저 제거하고 그후 고효율의 규조토를 통한 여과에 의하여 미세 입자들을 제거하는 것이 바람직하다. 만일, 연속적으로 배열된 원심 분리기와 규조토 여과 장치를 포함하는 분리 시스템을 이용하여 연삭 공정에 사용된 냉각액 내에 존재하는 고체 성분을 제거한다면, 처리된 냉각 액 내에 존재하는 고체 성분의 양은 0.2g/L 이하의 수준으로 감소될 수 있다.As means for removing solid components present in the coolant used in the grinding process, for example, filtration separation through a filtration medium such as diatomaceous earth, paper or cloth; Centrifugation; And sedimentation separation. Compared to centrifugation, the efficiency of sedimentation separation is quite low. Filtration separation through paper or cloth as a filtration member has a low fine particle separation ability compared to filtration separation through diatomaceous earth. On the other hand, if large amounts of solid components have to be removed, filtration separation through diatomaceous earth has a significantly lower filtration rate. Therefore, in view of the foregoing, it is preferable to first remove most of the particles having a large particle size through centrifugation and then to remove the fine particles by filtration through diatomaceous earth of high efficiency. If a solid component present in the coolant used in the grinding process is removed using a separation system comprising a continuously arranged centrifuge and a diatomaceous earth filtration device, the amount of solid component present in the treated coolant is 0.2 g / L. It can be reduced to the following levels.

상술한 연삭 가공 처리된 글라스 기판을 예를 들어, 초음파 세정조(cleaning bath) 내에 2분 침지시키고, 기판을 청결하게 유지시키기 위한 방안을 고려하면서 건조시킨다. 만일, 글라스 기판이 상술한 연마 가공 처리되었다면, 글라스 기판의 오염은 단일 단계의 초음파 세정 단계만으로도 충분히 억제될 수 있다. 다시 말해, 후속 공정(연마 공정)에서 어떠한 문제점을 야기하지 않고 오염이 충분하게 억제된 글라스 기판을 쉽게 제조할 수 있다.The above-described ground glass substrate is immersed in, for example, 2 minutes in an ultrasonic cleaning bath and dried while considering a method for keeping the substrate clean. If the glass substrate has been subjected to the above-described polishing processing, contamination of the glass substrate can be sufficiently suppressed by only a single ultrasonic cleaning step. In other words, it is possible to easily produce a glass substrate in which contamination is sufficiently suppressed without causing any problem in a subsequent process (polishing process).

상술한 연삭 가공으로 글라스 재료를 처리하고 뒤이어 세정시킨 후 글라스 기판의 일반적인 제조 방법에 따라 글라스 재료를 연마 가공하고 세정시킴으로서자기 기록 매체용 글라스 기판을 제조할 수 있다.A glass substrate for a magnetic recording medium can be produced by treating and cleaning the glass material by the above-described grinding process and then polishing and cleaning the glass material according to a general manufacturing method of the glass substrate.

이하에서 다음의 실시예들과 비교예를 참고하여 본 발명을 보다 상세히 설명하기로 하나, 본 발명은 이들 특정 실시예들에 한정되지는 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these specific embodiments.

실시예 1.Example 1.

자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조를 위한 일반적인 제조 순서에 따라, 리튬 실리케이트 결정화 글라스 플레이트(케이. 케이. 오하라사 제 TS-10SX; 70 내지 80%의 석영-크리스토발라이트 및 나머지의 비정질 글라스 상 포함)를 내경 및 외경 가공하여 65mm의 외경, 20mm의 내경 및 1.2mm의 두께를 갖는 다수의 도너츠형 기판을 제공하였다.Lithium silicate crystallized glass plate (TS-10SX manufactured by K. K. Oharasa; 70-80% quartz-cristobalite and the remaining amorphous glass phase) was prepared according to a general manufacturing procedure for the production of a glass substrate for a magnetic recording medium. Inner and outer diameter processing provided a number of donut-shaped substrates having an outer diameter of 65 mm, an inner diameter of 20 mm and a thickness of 1.2 mm.

연마 그레인이 #1000 다이아몬드 그레인, 금속 본드 성분이 Ni-15Cu-15Sn-0.5P, 두께가 5mm, 직경이 15mm인 다수의 원형 디스크형 금속-결합 다이아몬드 그레인 함유 연삭 휠들을 제조하였다. 제조된 금속-결합 다이아몬드 그레인 함유 연삭 휠 3,000개를 양면 연삭 장치(스피드팜사 제의 16B-5L-Ⅲ)의 상부 및 하부 표면 테이블(surface table)의 각 표면에 부착하였다. 상술한 양면 연삭 장치 및 냉각액으로서 노리타케 쿨 CG-250MD(노리타케사 제)를 이용하고 냉각수를 공급하면서 상부 및 하부 표면 테이블을 반대 방향으로 회전시켜 1.2mm의 두께를 갖는 상술한 도너츠형 기판을 연삭 가공하였다. 연삭 가공을 다음 조건하에서 실시하였다.: 150g/cm2의 연삭 압력; 30rpm의 상부 및 하부 표면 테이블 회전수; 15분의 연삭 시간 및 10L/분의 냉각액 유량. 이 1차 연삭 공정은 0.85mm의 두께를 각각 갖는 도너츠형 기판들을 제공하였다. 부수적으로, 연삭 장치 외부에서 원심 분리기 CF-150(토토 세퍼레이터사 제)와 규조토 여과 장치 RRF-20TA(미타카 인더스트리사 제)를 이용하여 냉각액을 여과시켰으며, 이후 여과된 냉각액을 재순환시켰다.A number of circular disc-shaped metal-bonded diamond grain-containing grinding wheels with abrasive grain # 1000 diamond grain, metal bond component Ni-15Cu-15Sn-0.5P, thickness 5mm and diameter 15mm were prepared. 3,000 grinding wheels containing metal-bonded diamond grains prepared were attached to each surface of the upper and lower surface tables of the double-side grinding device (16B-5L-III manufactured by Speed Palm). Grinding the above-mentioned donut-shaped substrate having a thickness of 1.2 mm by using the Noritake Cool CG-250MD (manufactured by Noritake Co., Ltd.) as the above-described double-sided grinding device and the coolant and rotating the upper and lower surface tables in opposite directions while supplying cooling water. Processed. Grinding was carried out under the following conditions: grinding pressure of 150 g / cm 2 ; Upper and lower surface table revolutions of 30 rpm; Grinding time of 15 minutes and coolant flow rate of 10 L / min. This primary grinding process provided donut shaped substrates each having a thickness of 0.85 mm. Incidentally, the coolant was filtered using a centrifuge CF-150 (manufactured by Toto Separator Co., Ltd.) and a diatomaceous earth filter device RRF-20TA (manufactured by Mitaka Industries Co., Ltd.) outside the grinding device, and then the filtered coolant was recycled.

연마 그레인이 #1500 다이아몬드 그레인, 금속 본드 성분이 Ni-15Cu-15Sn-0.5P, 두께가 5mm 및 직경이 15mm인 다수의 원형 디스크형 금속-결합 다이아몬드 그레인 함유 연삭 휠들을 제조하였다. 제조된 금속-결합 다이아몬드 그레인 함유 연삭 휠 3,000개를 양면 연삭 장치(스피드팜사 제의 16B-5L-Ⅲ)의 상부 및 하부 표면 테이블의 각 표면에 부착하였다. 상술한 양면 연삭 장치 및 냉각액으로서 노리타케 쿨 CG-250MD(노리타케사 제)를 이용하고 냉각수를 공급하면서 상부 및 하부 표면 테이블을 반대 방향으로 회전시켜 0.85mm의 두께를 갖는 상술한 도너츠형 기판을 연삭하였다. 연삭 가공은 다음 조건하에서 실시되었다.: 100g/cm2의 연삭 압력; 30rpm의 상부 및 하부 표면 테이블의 회전수; 12분의 연삭 시간 및 10L/분의 냉각액 유량. 이 2차 연삭 공정은 0.67mm의 두께를 각각 갖는 도너츠형 기판들을 제공하였다. 부수적으로, 연삭 장치 외부에서 원심 분리기 CF-150(토토 세퍼레이터사 제)와 규조토 여과 장치 RRF-20TA(미타카 인더스트리사 제)를 이용하여 냉각액을 여과시켰으며, 이후 여과된 냉각액을 재순환시켰다.A number of circular disc-shaped metal-bonded diamond grain-containing grinding wheels with abrasive grains of # 1500 diamond grains, Ni-15Cu-15Sn-0.5P with metal bond components, 5 mm thick and 15 mm diameter were produced. 3,000 grinding wheels containing metal-bonded diamond grains prepared were attached to each surface of the upper and lower surface tables of the double-side grinding device (16B-5L-III manufactured by Speed Palm Co.). Grinding the above-mentioned donut-shaped substrate having a thickness of 0.85 mm by rotating the upper and lower surface tables in the opposite direction while using Noritake Cool CG-250MD (manufactured by Noritake Co., Ltd.) as the above-described double-sided grinding device and the coolant, and supplying cooling water. It was. Grinding was carried out under the following conditions: grinding pressure of 100 g / cm 2 ; Rotational speed of the upper and lower surface tables of 30 rpm; 12 min grinding time and 10 L / min coolant flow rate. This secondary grinding process provided donut shaped substrates each having a thickness of 0.67 mm. Incidentally, the coolant was filtered using a centrifuge CF-150 (manufactured by Toto Separator Co., Ltd.) and a diatomaceous earth filter device RRF-20TA (manufactured by Mitaka Industries Co., Ltd.) outside the grinding device, and then the filtered coolant was recycled.

상술한 2차 연삭 공정 후에 얻어진 0.67mm의 두께를 갖는 도너츠형 글라스 기판을 28KHz의 초음파를 인가하면서 유량이 2L/분인 초음파 세정조에 2분 동안 침지시켜 세정하였다. 그 후, 기판의 어떠한 오염도 억제할 수 있는 조건하에서 이들 기판들을 건조시켰다.A donut-shaped glass substrate having a thickness of 0.67 mm obtained after the secondary grinding step was washed by immersing for 2 minutes in an ultrasonic cleaning tank having a flow rate of 2 L / min while applying ultrasonic waves of 28 KHz. Thereafter, these substrates were dried under conditions capable of suppressing any contamination of the substrates.

그후, 상술한 2차 연삭 공정 후에 얻어진 도너츠형 기판(100매)을 16B 양면 연마 장치(하마이사 제)에 고정하고 연마 재료로서 미렉 801(CeO2-함유 연마 재료; 평균 그레인 크기 D50=1.5㎛; 미츠이 고교 가부시키가이샤 제)과 연마포로서 MHC15A (발포 우레탄; 로델 니타사 제)를 이용하여 글라스 기판의 감소된 두께가 면당 15㎛에 달하도록 이들 글라스 기판들을 연마하였다(1차 연마 가공).Thereafter, 100 donut-shaped substrates (100 sheets) obtained after the above-described secondary grinding process were fixed to a 16B double-side polishing apparatus (manufactured by Hamai Corporation), and Mirek 801 (CeO 2 -containing abrasive material; average grain size D 50 = 1.5) as an abrasive material. These glass substrates were polished so that the reduced thickness of the glass substrates reached 15 µm per surface using MHC15A (foaming urethane; manufactured by Rodel Nitta) as a polishing cloth and manufactured by Mitsui Kogyo Co., Ltd. (primary polishing) ).

상술한 1차 연마 가공 후에 얻어진 글라스 기판(100매)을 마찬가지로 하마이사 제의 16B 양면 연마 장치에 고정시키고 연마재로서 CEP(미츠이 고교 가부시키가이샤 제; 세리움 옥사이드 100 중량부와 실리콘 옥사이드 1 중량부를 포함하는 고용체; 평균 입자 크기 D50=0.2㎛) 0.5 중량%를 함유한 연마액과 연마포로서 로델 니타사제의 MHC 14E(발포 우레탄)를 이용하여 연마 압력 60g/cm2, 회전수 30rpm 및 연마 시간 20분의 조건하에서 기판의 양면을 연마하였다(2차 연마 가공). 2차 연마 가공의 결과로서 0.638mm의 두께를 갖는 도너츠형 글라스 기판들이 제조되었다.The glass substrate (100 sheets) obtained after the primary polishing process described above was similarly fixed to a 16B double-side polishing apparatus manufactured by Hama Corporation, and 100 parts by weight of CEP (manufactured by Mitsui Kogyo Co., Ltd .; cerium oxide and 1 part by weight of silicon oxide) as an abrasive. Solid solution comprising; polishing liquid containing 0.5% by weight of average particle size D 50 = 0.2 μm) and polishing cloth using MHC 14E (foamed urethane) manufactured by Rodel Nitta, polishing pressure 60g / cm 2 , rotation speed 30rpm and polishing Both surfaces of the substrate were polished under the condition of 20 minutes (secondary polishing). As a result of the secondary polishing, donut-shaped glass substrates having a thickness of 0.638 mm were produced.

연마된 글라스 기판들을 스피드팜사 제의 글라스 기판용 세정 장치 및 카네보사 제 스펀지 디스크를 이용하여 3 단계(단계당 3분 동안)에 걸쳐 스크러브 (scrub) 세정 처리하였다. 그후, 이들 세정제로서 쿄도 팻 & 오일사 제의 SPC 397(약 알칼리 세정제)을 이용하여 글라스 기판들을 침지(dip) 세정하고 후에 초순수를 이용한 초음파 조건하의 5개의 조(bath) 내에서 순차적으로 세척하였다. 그후, 기판들을 이소프로필 알코올 내에 침지시키고, 그후 이소프로필 알코올 증기 중에서 건조하였다.The polished glass substrates were scrubbed in three steps (for 3 minutes per step) using a speed palm glass cleaner and a Kanebo sponge disk. Thereafter, the glass substrates were dip-cleaned using SPC 397 (weak alkaline cleaner) from Kyoto Pat & Oil Co., Ltd. as these cleaners, and then sequentially washed in five baths under ultrasonic conditions using ultrapure water. It was. The substrates were then immersed in isopropyl alcohol and then dried in isopropyl alcohol vapor.

연삭 가공 공정에서 글라스 기판의 표면상에 형성되고 그 위에 잔류하는 스크래치 마크(scratch marks)와 관련하여, 얕은 스크래치 마크는 연마 가공을 통하여 소멸되지만, 깊은 스크래치 마크는 연마 가공 후일지라도 요부(pit) 형태로 잔류하였다. 또한, 이들 요부들은 점선 형태로 연결되는 경향을 갖는다. 상술한 1차 연마 가공 공정 후에 얻어진 100매의 글라스 기판 중에서 임의로 선택된 20매의 글라스 기판 표면을 125배의 배율을 갖는 미분 간섭 현미경을 이용하여 관찰하였다. 그러나, 본 실시예에서는 어떠한 결함도 관찰되지 않았다.In relation to the scratch marks formed on and remaining on the surface of the glass substrate in the grinding process, the shallow scratch marks disappear through the polishing process, but the deep scratch marks form the pit even after the polishing process. Remained. In addition, these recesses tend to be connected in a dotted line shape. The surface of 20 glass substrates arbitrarily selected from the 100 glass substrates obtained after the above-mentioned primary polishing processing process was observed using the differential interference microscope which has the magnification of 125 times. However, no defect was observed in this example.

건조된 글라스 기판의 표면 상에 잔류하는 미세 부착물과 관련하여, 레이저형 표면 결함 검사기 RZ-3000(히타치 전자 엔지니어링사 제)을 이용하여 1 내지 2㎛의 직경을 갖는 부착물의 수를 계산하였다. 상술한 1차 연마 가공 공정 후에 얻어진 100매의 글라스 기판들 중에서 임의로 선택된 20매의 글라스 기판을 이용하여 계측을 실시하였다. 1 내지 2㎛ 범위의 직경을 갖는 부착물의 수가 전체적으로 68개가 관측되었다(평균하여 1개의 글라스 기판당 3.4개). 더욱이, 이들 68개의 부착물을 SEM-EDS로 분석하였으며, 그 결과 어떠한 Fe 이온도 감지되지 않는 것으로 나타났다.Regarding the fine deposits remaining on the surface of the dried glass substrate, the number of deposits having a diameter of 1 to 2 µm was calculated using a laser type surface defect inspector RZ-3000 (manufactured by Hitachi Electronics Engineering). Measurement was performed using 20 glass substrates arbitrarily selected from 100 glass substrates obtained after the above-mentioned primary polishing process. A total of 68 deposits with diameters ranging from 1 to 2 μm were observed (average 3.4 per glass substrate). Moreover, these 68 deposits were analyzed by SEM-EDS, and the results indicated that no Fe ions were detected.

상술한 방법에 따라 제조된 글라스 기판은 Fe 이온과 같은 이온에 의한 어떠한 오염이 없었으며 연마 그레인에 의한 오염도 또한 극히 낮게 관찰되었다. 따라서, 글라스 기판은 자기 기록 매체용 글라스 기판으로서 매우 유용한 것으로 밝혀졌다.The glass substrate prepared according to the above-described method was free of any contamination by ions such as Fe ions, and contamination by abrasive grains was also extremely low. Therefore, the glass substrate was found to be very useful as the glass substrate for the magnetic recording medium.

비교예 1.Comparative Example 1.

자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조를 위한 일반적인 제조 순서에 따라, 리튬 실리케이트 결정화 글라스 플레이트(케이. 케이. 오하라사 제 TS-10SX; 70 내지 80%의 석영-크리스토발라이트 및 나머지의 비정질 글라스 상 포함)를 내경 및 외경 가공하여 65mm의 외경, 20mm의 내경 및 1.2mm의 두께를 갖는 다수의 도너츠형 기판을 제공하였다.Lithium silicate crystallized glass plate (TS-10SX manufactured by K. K. Oharasa; 70-80% quartz-cristobalite and the remaining amorphous glass phase) was prepared according to a general manufacturing procedure for the production of a glass substrate for a magnetic recording medium. Inner and outer diameter processing provided a number of donut-shaped substrates having an outer diameter of 65 mm, an inner diameter of 20 mm and a thickness of 1.2 mm.

본 비교예에서, 연마기로서 주철제의 상부 및 하부 표면 테이블을 구비한 16B-5L-Ⅲ 양면 연삭 장치(스피드팜사 제) 및 연마액으로서 #400 SiC 연마 그레인을 150g/L 함유한 액체를 이용하였다. 상술한 연마액을 공급하면서 상부 및 하부 표면 테이블을 반대 방향으로 회전시켜 1.2mm의 두께를 갖는 상술한 도너츠형 기판을 연삭 처리하였다. 연삭 가공은 다음 조건하에서 실시되었다.: 200g/cm2의 연삭 압력; 30rpm의 상부 및 하부 표면 테이블의 회전수; 25분의 연삭 시간 및 5L/분의 연마액 유량(1차 연삭 가공). 이 1차 연삭 공정은 0.85mm의 두께를 각각 갖는 도너츠형 기판들을 제공하였다. .In this comparative example, a 16B-5L-III double-sided grinding apparatus (manufactured by Speed Palm Co., Ltd.) having an upper and lower surface table made of cast iron as a polishing machine and a liquid containing 150 g / L of # 400 SiC abrasive grain as polishing liquid were used. The above-mentioned donut-shaped substrates having a thickness of 1.2 mm were ground by rotating the upper and lower surface tables in opposite directions while supplying the above-described polishing liquid. Grinding was carried out under the following conditions: grinding pressure of 200 g / cm 2 ; Rotational speed of the upper and lower surface tables of 30 rpm; 25 min grinding time and 5 L / min abrasive liquid flow (primary grinding). This primary grinding process provided donut shaped substrates each having a thickness of 0.85 mm. .

그후, 연삭기로서 주철제의 상부 및 하부 표면 테이블을 구비한 양면 연삭 장치 16B-5L-Ⅲ(스피드팜사 제) 및 연마액으로서 #1500 Al2O3연마 그레인 100g/L을 함유한 액체를 이용하였다. 상기 연마액을 공급하면서 상부 및 하부 표면 테이블을반대 방향으로 회전시켜 0.85mm의 두께를 갖는 상술한 도너츠형 기판을 연삭 처리하였다. 연삭 가공은 다음 조건하에서 실시되었다.: 100g/cm2의 연삭 압력; 30rpm의 상부 및 하부 표면 테이블의 회전수; 30분의 연삭 시간 및 5L/분의 냉각액 유량 (2차 연삭 공정). 이 2차 연삭 공정은 0.67mm의 두께를 각각 갖는 도너츠형 기판들을 제공하였다.Thereafter, a liquid containing a double-side grinding device 16B-5L-III (manufactured by Speed Palm Co., Ltd.) having a cast iron upper and lower surface table as a grinding machine and 100 g / L of # 1500 Al 2 O 3 abrasive grain was used as the polishing liquid. The upper and lower surface tables were rotated in opposite directions while feeding the polishing liquid, thereby grinding the above-described donut-shaped substrate having a thickness of 0.85 mm. Grinding was carried out under the following conditions: grinding pressure of 100 g / cm 2 ; Rotational speed of the upper and lower surface tables of 30 rpm; 30 min grinding time and 5 L / min coolant flow rate (secondary grinding process). This secondary grinding process provided donut shaped substrates each having a thickness of 0.67 mm.

상술한 2차 연삭 공정 후에 얻어진 0.67mm의 두께를 갖는 도너츠형 글라스 기판을 28KHz의 초음파를 인가하면서 유량이 2L/분인 초음파 세정조에 2분 동안 침지시켜 세정하였다. 그 후, 기판의 어떠한 오염도 억제할 수 있는 조건하에서 이들 기판들을 건조시켰다.A donut-shaped glass substrate having a thickness of 0.67 mm obtained after the secondary grinding step was washed by immersing for 2 minutes in an ultrasonic cleaning tank having a flow rate of 2 L / min while applying ultrasonic waves of 28 KHz. Thereafter, these substrates were dried under conditions capable of suppressing any contamination of the substrates.

그후, 상술한 2차 연삭 공정 후에 얻어진 0.67mm 두께의 도너츠형 기판들을 실시예 1에서 사용된 동일한 절차에 따라서 1차 연마, 2차 연마, 세정 및 건조 처리하였다. 상술한 1차 연마 가공 공정 후에 얻어진 100매의 글라스 기판 중에서 임의로 선택된 20매의 글라스 기판 표면을 125배의 배율을 갖는 미분 간섭 현미경을 이용하여 관찰하였다. 그 결과로서, 선택된 20매의 글라스 기판 중에서 8매의 글라스 기판에서 연삭 공정 동안의 글라스 기판의 표면 상에 형성되고 잔류하는 스크래치 마크로부터 시작된 결함의 발생이 관찰되었다.Thereafter, the 0.67 mm thick donut-shaped substrates obtained after the above-described secondary grinding process were subjected to primary polishing, secondary polishing, cleaning and drying treatment according to the same procedure used in Example 1. The surface of 20 glass substrates arbitrarily selected from the 100 glass substrates obtained after the above-mentioned primary polishing processing process was observed using the differential interference microscope which has the magnification of 125 times. As a result, occurrence of defects starting from scratch marks formed and remaining on the surface of the glass substrate during the grinding process in eight glass substrates among the selected 20 glass substrates was observed.

건조된 글라스 기판의 표면 상에 잔류하는 미세 부착물과 관련하여, 실시예 1에서 사용된 동일한 절차에 의하여 1 내지 2㎛ 범위의 직경을 갖는 부착물의 수를 계산하였다. 상술한 1차 연마 가공 공정 후에 얻어진 100매의 글라스 기판들 중에서 임의로 선택된 20매의 글라스 기판을 이용하여 계측을 실시하였다. 1 내지 2㎛ 범위의 직경을 갖는 부착물의 수가 전체적으로 104개가 관측되었다(평균적으로 1개의 글라스 기판당 5.2개). 더욱이, 이들 104개의 부착물을 SEM-EDS로 분석하였으며, 그 결과로서 104개의 부착물 중 32개의 부착물에서 Fe 이온이 발견되었다.Regarding the fine deposits remaining on the surface of the dried glass substrate, the number of deposits having a diameter in the range of 1 to 2 μm was calculated by the same procedure used in Example 1. Measurement was performed using 20 glass substrates arbitrarily selected from 100 glass substrates obtained after the above-mentioned primary polishing process. A total of 104 deposits with diameters ranging from 1 to 2 μm were observed (on average 5.2 per 1 glass substrate). Moreover, these 104 deposits were analyzed by SEM-EDS, as a result of which Fe ions were found in 32 of the 104 deposits.

상술한 방법에 따라 제조된 글라스 기판은 Fe 이온과 같은 이온 및 연마 그레인에 의하여 오염되었다. 따라서, 제조된 자기 기록 매체용 글라스 기판은 자기 기록 매체용 글라스 기판으로서 반드시 유용한 것은 아니다.Glass substrates prepared according to the method described above were contaminated with abrasive grains and ions such as Fe ions. Therefore, the manufactured glass substrate for magnetic recording media is not necessarily useful as a glass substrate for magnetic recording media.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법은 자기 기록 매체용 글라스 기판의 용이하고 효율적인 제조를 가능하게 하며, 이 방법은 초음파 적용하의 어떠한 다단계 세정 공정 및 산-세정 공정을 요구하지 않으며, 따라서 어떠한 오염의 가능성도 제거할 수 있다.As described in detail above, the method of manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium according to the present invention enables easy and efficient manufacture of the glass substrate for a magnetic recording medium, which method can be used for any multi-stage cleaning process and acid-supply under ultrasonic application. No cleaning process is required, thus eliminating the possibility of any contamination.

Claims (5)

원반 가공, 연삭 가공, 연마 가공 및 세정 단계를 포함하는 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법에 있어서,In the method of manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium, which comprises disk processing, grinding processing, polishing processing and cleaning steps, 연마 그레인(grains)을 함유한 박판형의 비철 금속-결합된(nonferrous metal-bonded) 연삭 휠, 수지-결합된(resin-bonded) 연삭 휠 또는 유리-결합된 연삭 휠 (vitrified-bonded grinding wheel)이 상부 및 하부 표면 테이블의 표면에 접착된, 자기 기록 매체용 글라스 기판의 연마를 위한 양면 연삭 장치 및 냉각액를 이용하여 상기 연삭 가공을 실시하는 것을 특징으로 하는 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법.Laminated, nonferrous metal-bonded grinding wheels, resin-bonded grinding wheels or glass-bonded grinding wheels containing abrasive grains A method of manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium, characterized in that said grinding process is carried out using a double-side grinding apparatus and a coolant for polishing a glass substrate for a magnetic recording medium adhered to surfaces of upper and lower surface tables. 제 1 항에 있어서, 상기 연마 그레인은 다이아몬드, 큐빅 보론 나이트라이드, 보론 카바이드, 실리콘 카바이드, 지르코니아 또는 알루미나 그레인인 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법The method of manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the abrasive grain is diamond, cubic boron nitride, boron carbide, silicon carbide, zirconia or alumina grain. 제 2 항에 있어서, 상기 연마 그레인은 다이아몬드 그레인인 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법The method of manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium according to claim 2, wherein the abrasive grain is diamond grain. 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한항 에 있어서, 연삭 공정에서 사용된 냉각액 내에 존재하는 고형체를 제거한 다음 장치로 재순환하는 자기 기록 매체용 글라스기판의 제조 방법The method for manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 3, wherein the solid bodies existing in the cooling liquid used in the grinding process are removed and then recycled to the apparatus. 제 4 항에 있어서, 냉각액 내에 존재하는 고형체는 여과 매체로서 규조토를 통한 여과에 의하여 제거되는 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법The method for producing a glass substrate for a magnetic recording medium according to claim 4, wherein the solids present in the cooling liquid are removed by filtration through diatomaceous earth as a filtration medium.
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