KR20010111846A - Method for the low temperature vacuum in-line frit sealing of flat panel display device using an auxiliary heat line - Google Patents

Method for the low temperature vacuum in-line frit sealing of flat panel display device using an auxiliary heat line Download PDF

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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
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Abstract

본 발명은 전면판과 배면판으로 구성되는 평판표시소자를 제작하는 방법에 대하여 개시한다.The present invention discloses a method of manufacturing a flat panel display device composed of a front plate and a back plate.

본 방법은, 전면판과 배면판 각각의 일면상에 소정 패턴의 전극군을 형성하는 단계, 전면판과 배면판중 적어도 하나의 상기 전극군이 형성된 면상의 가장자리에 PbO, ZnO, B2O3를 주 성분으로 하고 SiO2, BaO, SnO2를 추가로 포함하는 페이스트 상태의 봉착용 결정질 제1 프릿트(frit)를 인쇄법(screen printing) 또는 디스펜싱법(dispensing)으로 형성하되 모서리 부분을 라운드(round)지게 형성하는 단계, 상기 제1 프릿트를 가열하여 가소시키는 단계, 'Ag, Cu, Pt, Ni, W 등을 주성분으로하는 전기전도성(또는 방사열 흡수성) 파우더 혹은 RuO2와 금속원소(Ag 등)를 혼합한 저항성 파우더'를 '프릿트와 비클(vehicle)'에 혼합하여 만든 페이스트(이하 "보조열선" 이라함)를 인쇄법 또는 디스펜싱법으로 상기 제1 프릿트상에 형성하되 제1 프릿트의 폭보다 좁거나 같은 폭을 가지며, 직선형태 혹은 지그재그 형태로 모서리 부분을 라운드지게 형성하는 단계, 상기 보조열선을 가열하여 가소시키는 단계, 상기 보조열선상에 상기 제1 프릿트보다 가소온도가 낮은 PbO, B2O3, SiO2를 주 성분으로 하고 ZnO, BaO, SnO2, Fe2O3를 추가로 포함하는 페이스트 상태의 봉착용 유리질 제2 프릿트를 인쇄법 또는 디스펜싱법으로 형성하되 상기 보조열선의 폭보다 크게하거나 같게하여 보조열선을 모두 덮거나 보조열선과 동일하게 하고, 모서리 부분을 라운드지게 형성하는 단계, 상기 제2 프릿트를 가열하여 가소시키는 단계, 상기 전면판과 배면판을 진공챔버내에 장착하되 전극군이 형성된 면이 서로 마주보며 소정거리 이격되도록 장착한후 소정의 진공도를 유지하기 위해 펌핑하는 단계, 상기 진공챔버내에 상기 전면판과 배면판의 둘레에 장착된 열 발생장치를 통해 상기 전면판 및 배면판에 형성된 제1 및 제2 프릿트, 보조열선을 가열하되 승온속도는 분당 3내지 5℃ 로 하여 최종 도달온도를 200내지 300℃로 가열하여 소성하는 단계, 상기 열 발생장치에 의한 소성단계와 동시에 상기 보조열선에 전기를 가하여 주울열에 의해 제1 및 제2 프릿트, 보조열선을 추가로 가열하는 단계, 상기 소성단계 및 추가가열 단계시 발생하는 불순물 개스에 의해 낮아진 진공도를 상기 소정의 진공도로 향상시키기 위해 펌핑하는 단계, 상기 소정의 진공도가 달성된 후 상기 열 발생장치 및 추가가열에 의한 열이 공급되는 상태에서 전면판과 배면판을 얼라인(align)하여 접합시키는 단계, 전면판과 배면판이 접합된후 상기 열 발생장치에 의한 가열정도와 추가 가열정도를 조절하여 분당 3내지 5℃ 의 속도로 온도를 내리는 단계를 포함하여 이루어진다.The method comprises the steps of forming an electrode group of a predetermined pattern on one surface of each of the front plate and the back plate, the main component of PbO, ZnO, B2O3 at the edge of the surface on which at least one electrode group of the front plate and the back plate is formed The first crystalline frit for sealing in a paste state further comprising SiO 2, BaO, SnO 2 is formed by screen printing or dispensing, but the corners are rounded. Forming, heating and calcining the first frit, 'electrically conductive (or radiant heat-absorbing) powder or RuO2 and a metal element (Ag, etc.) based on' Ag, Cu, Pt, Ni, W and the like as a main component A resist powder is formed on the first frit by printing or dispensing a paste made by mixing a frit and a vehicle (hereinafter referred to as "auxiliary heating wire") with the width of the first frit. Have a narrower or the same width, Forming rounded corners in a shape or zigzag shape, heating and calcining the auxiliary heating wire, and ZnO having PbO, B2O3, and SiO2 having a lower plastic temperature than the first frit on the auxiliary heating wire. Forming a second sealing glass frit in a paste state further comprising BaO, SnO2, and Fe2O3 by printing or dispensing, and covering or subtracting all the auxiliary heating wires by making them larger than or equal to the width of the auxiliary heating wires. In the same manner, forming a rounded corner portion, heating and calcining the second frit, and mounting the front plate and the back plate in the vacuum chamber, wherein the surfaces on which the electrode group is formed face each other and are spaced apart from each other by a predetermined distance. After mounting, pumping to maintain a predetermined degree of vacuum, a heat generating field mounted around the front plate and the back plate in the vacuum chamber Heating the first and second frits and auxiliary heating wires formed on the front plate and the rear plate through a heating temperature of 3 to 5 ° C. per minute and heating the final achieved temperature to 200 to 300 ° C. Simultaneously heating the first and second frits and the auxiliary heating wire by applying Joule heat by applying electricity to the auxiliary heating wire at the same time as the firing step by the generator, lowered by impurity gas generated during the firing step and the additional heating step. Pumping to improve the degree of vacuum to the predetermined degree of vacuum, and after the predetermined degree of vacuum is achieved, the front plate and the rear plate are aligned and bonded in a state in which heat by the heat generating device and the additional heating is supplied. Step of lowering the temperature at a rate of 3 to 5 ℃ per minute by adjusting the heating degree and the additional heating degree by the heat generating device after the front plate and the back plate is bonded It is made, including.

Description

보조열선을 이용한 평판표시소자의 저온 진공 인-라인 프릿 실장방법{Method for the low temperature vacuum in-line frit sealing of flat panel display device using an auxiliary heat line}Method for the low temperature vacuum in-line frit sealing of flat panel display device using an auxiliary heat line}

본 발명은 전자빔이나 프라즈마를 이용하여 화상신호를 표시하는 평판 표시 장치(flat panel display)와 관련되는 것으로 특히 보조열선을 이용한 평판표시소자의 저온 진공 인-라인 프릿 실장방법에 대한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a flat panel display for displaying an image signal using an electron beam or plasma, and more particularly, to a low temperature vacuum in-line frit mounting method of a flat panel display device using an auxiliary heating line.

Plasma display panel(PDP), field emission display(FED) 및 vacuum fluorescent display(VFD) 등 평판(flat panel) 형태의 미세전자(microelectronic) 표시장치를 제조하는데 있어서 중요한 요소기술 중의 하나가 패널(panel) 내부의 초기 고진공 상태를 확보(form)하는 것이다. 특히 FED나 VFD는 초기 확보된 고진공을 영구히 유지(maintenance)하는 것도 매우 중요하다. 그러나 표시장치들을 사용하는 동안 패널 내부의 형광 스크린(phosphorscreen)이나 glass barrier ribs 혹은 spacers 및 frit들과 같은 여러 구성 요소들로부터 H2, O2, CO, CO2및 N2와 같은 불순물들이 out-gassing됨으로 인하여 불순물들의 양이 점차 증가하게된다. 이와같은 불순물들은 PDP의 경우 방전 개시 전압(starting voltage)을 높이게 되고 발광효율을 저하시키는 요인으로 작용한다. FED의 경우는 에미터(emitter)로부터 전자들을 방출시키기 위한 동작전압을 높이고 아크(arc) 현상 등으로 인해 수명시간을 단축시키는 요인이 된다. 특히 O2나 H2O와 같은 불순물들은 음극(cathodes) 금속물질을 산화시킬 수도 있다.One of the key element technologies in manufacturing flat panel type microelectronic displays such as plasma display panel (PDP), field emission display (FED) and vacuum fluorescent display (VFD) is inside the panel. It is to ensure the initial high vacuum state of the (form). In particular, it is also very important for the FED or VFD to maintain a permanently high vacuum. However, while using displays, impurities such as H 2 , O 2 , CO, CO 2 and N 2 are out- of the various components such as phosphor screens, glass barrier ribs or spacers and frits inside the panel. Due to gassing, the amount of impurities gradually increases. Such impurities increase the starting voltage of the PDP and lower the luminous efficiency. In the case of FED, the operating voltage for emitting electrons from the emitter is increased and the life time is shortened due to the arc phenomenon. In particular, impurities such as O 2 and H 2 O may oxidize cathode metal materials.

이와같이 미세 공간영역 및 복잡한 기하학적 구조를 갖는 평판표시장치(flat panel display)의 패널(panel) 내부의 초기 진공을 고진공 상태로 확보할 수 있는 가장 확실한 방법이 두 장의 유리판(glass plates)을 진공 챔버 내부에서 실장시키는 '진공 인-라인 실장(vacuum in-line packaging)' 기술이다. 또한 가능한 저온 공정에서 짧은 시간에 실장공정을 완료하는 것이 열변형에 의한 문제를 없애거나 제조 단가를 낮추는데 절대적으로 필요하다.In this way, the most reliable way to ensure the initial vacuum in the panel of a flat panel display having a micro space area and a complicated geometry in a high vacuum state is to mount two glass plates inside the vacuum chamber. Vacuum in-line packaging technology. In addition, completing the mounting process in a short time in a low temperature process is absolutely necessary to eliminate the problems caused by thermal deformation or to lower the manufacturing cost.

종래 기술의 한가지 사례는, 전면판(상판) 및 배면판(하판)에 해당하는 두 장의 유리판(혹은 두 유리판 중의 하나의 유리판) 상의 둘레 가장자리를 따라 Frit Paste를 가늘게 도포(dispensing)한 다음 420oC 정도의 온도에서 가소(pre-baking)시킨후 전면판에 형성된 픽셀(pixels)과 배면판에 형성된 픽셀들 끼리 정렬(align)시킨 다음 다시 420-450oC의 온도 범위에서 소성(post-baking)함으로써 두장의 유리판을 용융부착(melt sealing) 시킨다. 다음, 배면판의 한쪽 구석에 미리 만들어진 구멍(hole) 둘레로 배기관(exhast tube)으로 이용될 유리대롱을 앞에서와 동일한 방법으로 용융부착 시킨다. 다음 유리관의 열린 부분을 배기장치(pumping system)의 배기구(pumping port)에 연결한 다음 진공펌프를 이용해 표시장치(display apparatus) 패널 내부를 가열배기시킨다. 최종의 진공도가 얻어지면 토치(torch)나 가열기(thermal heater)를 이용해 유리관의 중간부분을 녹여 잘라(tip off) 패널을밀봉(packaging)시킨다.One example of the prior art is to dispense Frit Paste along the perimeter edge on two glass plates (or one of two glass plates) corresponding to the front plate (top plate) and the back plate (bottom plate) and then 420 o. After pre-baking at a temperature of about C, the pixels formed on the front plate and the pixels formed on the back plate are aligned, and then back-baked at a temperature range of 420-450 o C. The two glass plates are melt sealed. Next, the glass cupboard to be used as an exhaust tube around the previously made hole in one corner of the back plate is melt-bonded in the same manner as before. The open part of the glass tube is then connected to the pumping port of the pumping system and then heated and evacuated inside the display apparatus panel using a vacuum pump. Once the final vacuum is obtained, the middle part of the glass tube is melted using a torch or a thermal heater to package the tip off panel.

상기 기술 사례에서 발생할 수 있는 문제점들은 다음과 같다. 유리관을 통해 배기시키기 때문에 배기 전도도(conductivity)에 있어서 제한을 받게되며 따라서 패널 내부의 진공도가 챔버 내부의 진공도보다 100배 이상 낮게된다. 또한 일반적으로 사용되는 소다 유리를 400oC 이상으로 소성하는 동안 대형 유리의 경우 열변형 및 점성변화가 발생하는 문제점이 있다.Problems that may occur in the technical case are as follows. Exhaust through the glass tube limits the exhaust conductivity, so that the vacuum inside the panel is more than 100 times lower than the vacuum inside the chamber. In addition, there is a problem that heat deformation and viscosity change occurs in the case of large glass while firing soda glass generally used at 400 ° C or more.

본 발명은 패널 내부의 진공도를 향상시키기 위한 봉착 방법으로서 대기 중에서 frit paste 형태의 실장재와 'Ag, Cu, Ni, W, Mo, Pt 등의 전기전도성(혹은 방사열 흡수성) 파우더 혹은 RuO2와 금속원소(Ag 등)를 혼합한 저항성 파우더'와 frit를 주성분으로하여 만든 paste 형태의 보조열선을 전면 유리판 혹은 배면 유리판의 둘레에 screen printing이나 dispensing 방법에 의해 각각 100㎛ 이내의 두께로 도포시키고 가소(pre-baking) 공정을 거친 다음 두 장의 유리판을 진공 챔버 내에 장착시킨후 패널 주변에 설치된 방사열에 의해 1차 가열시키고 유리판 둘레에 프릿트와 함께 도포된 보조열선에 의한 추가 발생열을 이용해 실장재를 최종 용융시킴으로써 봉착공정을 수행하는 진공 인-라인 프릿 실장방법을 제공하는 것이다.The present invention is an encapsulation method for improving the degree of vacuum inside the panel, frit paste-type mounting material in the air and 'electrically conductive (or radiant heat absorbing) powders such as Ag, Cu, Ni, W, Mo, Pt, or RuO2 and metal elements. Resistant powder mixed with Ag, etc. and the auxiliary auxiliary wire in the form of frit are applied to the periphery of the front glass plate or the back glass plate with screen printing or dispensing method to the thickness of less than 100㎛, respectively. After the baking process, the two glass plates are mounted in a vacuum chamber, and the sheet is finally heated by radiant heat installed around the panel, and the final melting of the mounting material is performed by using additional heat generated by an auxiliary heating wire coated with frit around the glass plate. By providing a vacuum in-line frit mounting method to perform the sealing process.

본 발명의 다른 목적은, 가소성(vitreous type)과 경화성(crystalline type)의 frit를 적정 비율(50:50 혹은 60:40)로 섞어 바인더 및 용제와 혼합하여 페이스트를 만든 다음 진공 인-라인 실장재로 적용함으로써 bubbles와 crack이 발생하지 않게하며, 보조열선의 발생열에 의해 유리기판의 온도를 200-300oC 범위로 유지가능하며, 진공 챔버 내에서 소성(post-baking) 공정함으로써 frit 용융 온도를 300-350oC 범위의 저온에서 가능하게 할 수 있는 공정기술을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to form a paste by mixing a frit of a vitreous type and a crystalline type in an appropriate ratio (50:50 or 60:40) to form a paste, followed by vacuum in-line mounting material. It is possible to keep bubbles and cracks in the range of 200-300 o C by heat generated from auxiliary heating wire, and to reduce frit melting temperature by post-baking process in vacuum chamber. It provides a process technology that can be enabled at low temperatures in the 300-350 o C range.

도 1은 평판표시소자중 하나인 PDP 및 FED 패널 구성도.1 is a configuration diagram of a PDP and FED panel which is one of flat panel display elements.

도 2는 본 발명에 의한 프릿트 페이스트 및 보조열선을 형성하여 봉착 및 봉지된 패널의 평면도 및 단면도.2 is a plan view and a cross-sectional view of a panel sealed and encapsulated by forming a frit paste and an auxiliary heating wire according to the present invention.

도 3은 본 발명에 의한 일 실시예로서 프릿트 페이스트 및 보조열선이 직선 및 곡선 형태로 도포된 상태를 나타낸 평면도.Figure 3 is a plan view showing a state in which the frit paste and the auxiliary heating wire is applied in a straight line and curved form as an embodiment according to the present invention.

도 4는 본 발명에 의한 일 실시예로서 프릿트 페이스트 및 보조열선이 지그재그(zigzag) 형태로 도포된 상태를 나타낸 평면도.Figure 4 is a plan view showing a state in which the frit paste and the auxiliary heating wire is applied in a zigzag form as an embodiment according to the present invention.

도 5는 본 발명에 의한 프릿트 페이스트 및 보조열선을 형성하는 공정 흐름도.5 is a process flowchart of forming the frit paste and the auxiliary heating wire according to the present invention.

도 6은 도 5와 같은 공정을 통해 봉지용 구멍 둘레에 프릿트 페이스트 및 보조열선을 형성한 상태를 보여주는 평면도 및 단면도.FIG. 6 is a plan view and a cross-sectional view showing a state in which a frit paste and an auxiliary heating line are formed around a hole for encapsulation through a process as illustrated in FIG.

도 7은 본 발명에 의해 두장의 유리판을 진공 인-라인 봉착하는 공정 흐름도.7 is a process flow diagram of vacuum in-line sealing two glass plates according to the present invention.

도 8은 본 발명에 의해 진공 인-라인 봉지하는 공정 흐름도.8 is a process flow diagram of vacuum in-line encapsulation by the present invention.

본 발명은 전면판과 배면판으로 구성되는 평판표시소자를 제작하는 방법에 관한 것으로서,The present invention relates to a method of manufacturing a flat panel display device consisting of a front plate and a back plate,

전면판과 배면판 각각의 일면상에 소정 패턴의 전극군을 형성하는 단계와,Forming an electrode group having a predetermined pattern on one surface of each of the front plate and the back plate;

전면판과 배면판중 적어도 하나의 상기 전극군이 형성된 면상의 가장자리에 페이스트 상태의 봉착용 제1 프릿트(frit)를 인쇄법 또는 디스펜싱법으로 형성하는 단계,Forming a sealing first frit in a paste state on the edge of a surface on which at least one electrode group of the front plate and the back plate is formed by a printing method or a dispensing method,

상기 제1 프릿트를 가열하여 가소시키는 단계,Heating and calcining the first frit,

전기전도성(혹은 방사열 흡수성) 페이스트 또는 저항성 페이스트(이하 "보조열선" 이라함)를 인쇄법 또는 디스펜싱법으로 상기 제1 프릿트상에 형성하되 제1 프릿트의 폭보다 좁거나 같은 폭을 갖도록 형성하는 단계,An electrically conductive (or radiant heat absorbing) paste or resistive paste (hereinafter referred to as "auxiliary heating wire") is formed on the first frit by printing or dispensing, but is formed to have a width that is narrower than or equal to the width of the first frit. Steps,

상기 보조열선을 가열하여 가소시키는 단계,Heating and calcining the auxiliary heating wire,

상기 보조열선상에 상기 제1 프릿트보다 가소온도가 낮은 페이스트 상태의 봉착용 제2 프릿트를 인쇄법 또는 디스펜싱법으로 형성하되 상기 보조열선의 폭보다 크게하거나 같게하여 보조열선을 모두 덮거나 보조열선과 동일하게 형성하는 단계,On the auxiliary heating wire, a sealing second frit having a plasticity temperature lower than that of the first frit is formed by a printing method or a dispensing method, which covers all the auxiliary heating wires by making them larger than or equal to the width of the auxiliary heating wires. Forming the same as the auxiliary heating wire,

상기 제2 프릿트를 가열하여 가소시키는 단계,Heating and calcining the second frit,

상기 전면판과 배면판을 진공챔버내에 장착하되 전극군이 형성된 면이 서로 마주보며 소정거리 이격되도록 장착한후 소정의 진공도를 유지하기 위해 펌핑하는 단계,Mounting the front plate and the back plate in the vacuum chamber, but the surface formed with the electrode group facing each other and mounted so as to be spaced apart by a predetermined distance and pumped to maintain a predetermined degree of vacuum,

상기 진공챔버내에 상기 전면판과 배면판의 둘레에 장착된 열 발생장치를 통해 상기 전면판 및 배면판에 형성된 제1 및 제2 프릿트, 보조열선을 가열하여 소성하는 단계,Heating and firing the first and second frits and auxiliary heating wires formed in the front plate and the back plate through a heat generating device mounted around the front plate and the back plate in the vacuum chamber;

상기 열 발생장치에 의한 소성단계와 동시에 상기 보조열선에 전기를 가하여 주울열에 의해 제1 및 제2 프릿트, 보조열선을 추가로 가열하는 단계,Simultaneously heating the first and second frits and the auxiliary heating wire by Joule heat by applying electricity to the auxiliary heating wire at the same time as the firing step by the heat generator;

상기 소성단계 및 추가가열 단계시 발생하는 불순물 개스에 의해 낮아진 진공도를 상기 소정의 진공도로 향상시키기 위해 펌핑하는 단계,Pumping the vacuum degree lowered by the impurity gas generated during the firing step and the additional heating step to improve the predetermined vacuum degree,

상기 소정의 진공도가 달성된후 상기 열 발생장치 및 추가가열에 의한 열이 공급되는 상태에서 전면판과 배면판을 얼라인하여 접합시키는 단계,After the predetermined degree of vacuum is achieved, aligning and bonding the front plate and the back plate in a state where heat is supplied by the heat generator and additional heating,

전면판과 배면판이 접합된후 상기 열 발생장치에 의한 가열정도와 추가 가열정도를 조절하여 서서히 온도를 내리는 단계를 포함한다.After the front plate and the back plate is bonded to include a step of gradually lowering the temperature by adjusting the heating degree and the additional heating degree by the heat generating device.

이때 상기 제1 프릿트는 결정질 프릿트이며, 상기 제2 프릿트는 유리질 프릿트인 것이 바람직하다. 상기 결정질 프릿트는 PbO, ZnO, B2O3를 주 성분으로 하고 SiO2, BaO, SnO2를 추가로 포함하며, 상기 유리질 프릿트는 PbO, B2O3, SiO2를 주성분으로 하고 ZnO, BaO, SnO2, Fe2O3를 추가로 포함한다.In this case, the first frit is crystalline frit, and the second frit is preferably glassy frit. The crystalline frit contains PbO, ZnO, B2O3 as a main component, and further includes SiO2, BaO, SnO2, and the glassy frit contains PbO, B2O3, SiO2 as a main component, and further includes ZnO, BaO, SnO2, Fe2O3. .

또한 상기 제1 프릿트 및 제2 프릿트, 보조열선은 균일한 온도형성을 위해 모서리 부분을 라운드지게 형성하는 것이 바람직하다.In addition, the first frit and the second frit, the auxiliary heating wire is preferably formed to round the corner portion for uniform temperature formation.

또한 보다 바람직하게는 상기 보조열선은 효율적인 열 발생 및 접착강도를 강화하기 위해 상기 제1 프릿트상에 지그재그 형태로 형성한다.More preferably, the auxiliary heating wire is formed in a zigzag shape on the first frit to enhance efficient heat generation and adhesion strength.

상기 제1 프릿트는 10내지 100 마이크로미터의 두께와 3내지 10 밀리미터의 폭을 가지며, 상기 보조열선은 10내지 100 마이크로미터의 두께와 2내지 8 밀리미터의 폭을 가지며, 상기 제2 프릿트는 100내지 500 마이크로미터의 두께와 2내지 10 밀리미터의 폭을 가지도록 형성하는 것이 바람직하다.The first frit has a thickness of 10 to 100 micrometers and a width of 3 to 10 millimeters, the auxiliary heating wire has a thickness of 10 to 100 micrometers and a width of 2 to 8 millimeters, and the second frit is 100 to 100 micrometers. It is desirable to have a thickness of 500 micrometers and a width of 2 to 10 millimeters.

또한 상기 보조열선의 전기전도성(또는 방사열 흡수성) 혹은 저항성 페이스트는 Ag, Cu, Pt, Ni, Mo, W, RuO2 등의 성분을 주성분으로 포함한다.In addition, the electrically conductive (or radiant heat absorbing) or resistive paste of the auxiliary heating wire contains components such as Ag, Cu, Pt, Ni, Mo, W, RuO2 as main components.

또한 상기 열 발생장치를 통한 가열시 승온속도는 분당 3내지 5℃ 로 하여 최종 도달온도를 200내지 300℃로 하며, 진공챔버내에서 전면판과 배면판을 접합시킨후 온도를 내리는 속도를 분당 3내지 5℃ 로 낮추는 것이 바람직하다.In addition, the heating rate during the heating by the heat generating device is 3 to 5 ℃ per minute and the final achieved temperature is 200 to 300 ℃, the rate of lowering the temperature after joining the front plate and the back plate in the vacuum chamber 3 per minute It is preferable to lower it to -5 degreeC.

또한 봉지를 위해 전면판 또는 배면판상에 상기 제1 및 제2 프릿트와 보조열선을 형성시 전면판 또는 배면판의 적어도 일부분에 관통되어 형성된 봉지용 구멍의 둘레에도 제1 및 제2 프릿트와 보조열선을 동일한 방법 및 형태로 형성하고, 상기 가소단계 및 소성단계에 대한 열처리시 봉지용 구멍의 둘레에 형성된 제1 및 제2 프릿트와 보조열선에 대해서도 동일한 방법으로 열처리한후, 상기 봉지용 구멍의 하단부 진공챔버내에 설치된 지지부에 의해 지지되는 밀봉재를 상기 봉지용 구멍 둘레에 형성된 제1 및 제2 프릿트와 보조열선에 접착시켜 봉지하는 단계를 추가로 포함하는 것도 가능하다.In addition, the first and second frits and the first frit and the second frit are formed on the front plate or the back plate for encapsulation. After forming the auxiliary heating wire in the same method and shape, and heat-treated in the same manner for the first and second frit and the auxiliary heating wire formed in the periphery of the sealing hole during the heat treatment for the calcining step and the firing step, It is also possible to further include the step of sealing the sealing material supported by the support portion provided in the lower end of the hole vacuum chamber to the first and second frits and the auxiliary heating wire formed around the sealing hole.

이하 본 발명에 의한 평판표시소자 제조공정을 단계적으로 설명하고자 한다.Hereinafter, a step of manufacturing a flat panel display device according to the present invention will be described.

1. Frit paste의 제조1. Preparation of frit paste

1-1) 파우더 : PbO, ZnO, SiO2, B2O3, BaO, SnO2를 주성분으로 하는 고체 분말1-1) Powder: Solid powder mainly containing PbO, ZnO, SiO2, B2O3, BaO, SnO2

1-2) 페이스트 제조 : frit 파우다와 vehicle(NC와 BCA가 혼합된 용제)를 6:1에서 12:1 정도의 중량비로 혼합하여 ball miller로 수시간 이상 milling시켜 고르게 혼합하여 만든 점성이 있는 액체성 페이스트 물질1-2) Paste Preparation: Viscous liquid made by mixing frit powder and vehicle (solvent mixed with NC and BCA) in a weight ratio of about 6: 1 to 12: 1 and milling more than several hours with a ball miller. Sex paste material

2. 보조열선(Auxiliary Heat Line) paste의 정의2. Definition of Auxiliary Heat Line paste

2-1) 파우더의 종류2-1) Types of Powder

'Ag, Cu, Pt, Ni, Mo, W 등의 전기전도성(혹은 방사열 흡수성) 금속원소의 파우더 혹은 RuO2와 금속원소(Ag 등)를 혼합한 저항성 파우더' 및 프릿트를 주성분으로 하는 고체 분말Powders of electrically conductive (or radiant heat absorbing) metal elements such as Ag, Cu, Pt, Ni, Mo, and W, or resistive powders containing RuO 2 and metal elements (Ag, etc.) and solid powders based on frits

2-2) 페이스트의 제조2-2) Preparation of Paste

상기 파우다를 유기 비클(organic vehicle) 및 바인다(binder) 혹은 첨가제(additives)가 함유된 용제에 혼합하여 고르게 ??어 만든 점성이 있는 액체성 페이스트 물질A viscous liquid paste material made by mixing the powder in an organic vehicle and a solvent containing binders or additives.

3. 1차 Frit paste line 형성3. Primary frit paste line formation

전면 혹은 배면 유리 기판상의 가장자리를 따라 상기 혼합된 frit 페이스트를 screen printing 혹은 dispensing 방법에 의해 3-10mm 폭, 100㎛ 이하의 두께로 균일하게 도포시킨다.The mixed frit paste is uniformly applied to a thickness of 3-10 mm wide and 100 μm or less by screen printing or dispensing method along the edge on the front or back glass substrate.

4. 금속 paste 혹은 방사열 흡수물질 paste의 line 형성4. Formation of metal paste or paste of radiation heat absorbing material

상기 도포된 frit paste의 line 상을 따라 screen printing 혹은 dispensing 방법에 의해 2-8mm 폭, 100㎛ 이하의 두께로 균일하게 도포시킨다.Along the line of the applied frit paste is uniformly applied to a thickness of 2-8mm width, 100㎛ or less by screen printing or dispensing method.

5. 2차 Frit paste line 형성5. Second Frit Paste Line Formation

전면판과 배면판 간의 간격을 충분히 유지시키기 위해 상기 도포된 'frit paste line/보조막(전기전도성 혹은 방사열 흡수성 물질의 paste) 상을 따라 dispensing 방법에 의해 2-10mm 폭, 100㎛ 이상의 두께로 균일하게 도포시킨다.In order to sufficiently maintain the gap between the front plate and the back plate, uniformly to a thickness of 2-10 mm width and 100 μm or more by dispensing along the applied 'frit paste line / auxiliary film (paste of electrically conductive or radiation absorbing material). To apply.

6. 가소(pre-baking) 공정6. Pre-baking Process

페이스트에 함유되어 있는 솔벤트류를 태워 없애기 위해 도포된 유리기판을 전기로 속에서 열처리 한다. 이때의 온도는 400oC 이상에서 수 십분간 진행한다.The coated glass substrate is heat-treated in an electric furnace to burn off the solvents contained in the paste. At this time, the temperature is carried out for several minutes at 400 ° C or more.

7. 전면 유리판과 배면 유리판을 진공 챔버 속으로 장착 시킨다.7. Place the front and back glass plates into the vacuum chamber.

이전 챔버에서 in-line 방식으로 이송되어 장착될 수도 있다.It may also be transported and mounted in-line from the previous chamber.

8. 진공도를 10-6torr 이상 확보하기 위한 배기공정을 수행한다.8. Carry out the evacuation process to secure the vacuum level of 10 -6 torr or more.

9. 소성(Post-baking)공정9. Post-baking process

유리판을 가열하기 위한 패널주변 열원(적외선(infrared), 할로겐 램프, 아크램프 등)의 온도를 상승시킨다. 이때 승온속도는 3-5oC/min 정도, 최종 도달 온도는 200oC에서 300oC 정도로 한다. 이때, 보조열선에 전류를 인가하거나 방사열 흡수에 의한 국부적 보조열에 의해 frit의 온도를 추가적으로 상승시킨다. 소성 온도에서 진공도가 10-6torr 범위로 다시 회복될 때까지 기다린다. 전면판 혹은 배면판을 이동시켜 두장의 유리판을 실장 시킨다. 충분한 실장을 위해 약간의 압력(press)을 가한다. 그런 다음 온도를 승하 시킨다. 승하속도는 분당 -3oC에서 -5oC 범위로 한다.The temperature of the heat source (infrared, halogen lamp, arc lamp, etc.) around the panel for heating the glass plate is raised. At this time, the temperature increase rate is about 3-5 o C / min, the final achieved temperature is about 200 o C to 300 o C. At this time, the temperature of the frit is further increased by applying a current to the auxiliary heating wire or by local auxiliary heat by radiation absorption. Wait for the vacuum to return to the 10 -6 torr range at the firing temperature. Move the front plate or the back plate to mount two glass plates. Apply a little press for sufficient mounting. Then raise the temperature. The ascent speed is in the range -3 o C to -5 o C per minute.

10. 패널의 이송10. Transfer of Panel

봉착된 패널의 봉입을 위해 봉입챔버로 이송시킨다.Transfer to sealed chamber for sealing of sealed panel.

11. 봉지공정11. Encapsulation Process

방법-1)Method-1)

PDP의 경우, 개스 주입구(패널의 하부에 형성된 구멍)을 통해 개스를 채운 다음, 구멍 아래에 따로 설치된 작은 밀봉재(kovar류의 금속판 혹은 유리 판) 상에 도포된 프릿을 국부적 가열히터에 의해 350-450oC 온도조건으로 소성시키고 가열기 상에 놓여진 밀봉재를 구멍에 밀착시켜 1분 이내의 단시간에 봉입을 수행한다.In the case of the PDP, the gas is filled through a gas inlet (hole formed in the lower part of the panel), and then a frit applied on a small sealing material (kovar-type metal plate or glass plate) installed under the hole by a local heating heater. Firing is carried out at a temperature of 450 ° C., and the sealing material placed on the heater is brought into close contact with the hole and the filling is performed in a short time within 1 minute.

방법-2)Method-2)

상기 두장의 유리판 봉착시와 동일한 방법으로 봉착된 패널의 구멍을, 하부에 따로 설치된 국부적 밀봉재로 봉입시킨다. 즉, 패널하부의 구멍 둘레에 도포된 frit 및 보조열선에 의해 frit를 용융시키고 그 아래의 밀봉재를 밀착시켜 봉입을 수행한다.The hole of the panel sealed by the same method as the case of sealing the two glass plates is sealed with a local sealing material provided separately in the lower part. That is, frit is melted by the frit and auxiliary heating wire applied around the hole in the lower part of the panel, and sealing is performed by bringing the sealing material beneath it into close contact.

12. 실장된 패널을 탈착(unloading) 시킨다.12. Unload the mounted panel.

다음 챔버 속으로 in-line 방식으로 이송시킬 수도 있다.It can also be transferred in-line into the next chamber.

결정질(crystalline) 프릿트와 유리질(vitreous) 프릿트를 혼합한 프릿트를 사용함으로써 일반 실링용 프릿트를 진공챔버내에서 사용하는 경우 생기는 bubbles와 crack이 발생하지 않게하며, 보조열선의 발생열에 의해 유리기판의 온도를 200-300oC 범위로 유지가능하며, 진공 챔버 내에서 소성(post-baking) 공정함으로써 frit 용융 온도를 300-350oC 범위의 저온에서 가능하게 할 수 있다.By using a frit mixed with crystalline frit and vitreous frit, bubbles and cracks generated when using a general sealing frit in a vacuum chamber are not generated. The temperature of the glass substrate can be maintained in the range of 200-300 ° C., and the frit melting temperature can be made at a low temperature in the range of 300-350 ° C. by post-baking process in the vacuum chamber.

Claims (12)

전면판과 배면판으로 구성되는 평판표시소자를 제작하는 방법에 있어서,In the method for manufacturing a flat panel display device consisting of a front plate and a back plate, 전면판과 배면판 각각의 일면상에 소정 패턴의 전극군을 형성하는 단계와,Forming an electrode group having a predetermined pattern on one surface of each of the front plate and the back plate; 전면판과 배면판중 적어도 하나의 상기 전극군이 형성된 면상의 가장자리에 페이스트 상태의 봉착용 제1 프릿트(frit)를 인쇄법 또는 디스펜싱법으로 형성하는 단계,Forming a sealing first frit in a paste state on the edge of a surface on which at least one electrode group of the front plate and the back plate is formed by a printing method or a dispensing method, 상기 제1 프릿트를 가열하여 가소시키는 단계,Heating and calcining the first frit, 전기전도성(혹은 저항성) 페이스트 또는 방사열 흡수성 페이스트(이하 "보조열선" 이라함)를 인쇄법 또는 디스펜싱법으로 상기 제1 프릿트상에 형성하되 제1 프릿트의 폭보다 좁거나 같은 폭을 갖도록 형성하는 단계,An electrically conductive (or resistive) paste or radiation absorbing paste (hereinafter referred to as "auxiliary heating wire") is formed on the first frit by printing or dispensing, but is formed to have a width that is narrower than or equal to the width of the first frit. Steps, 상기 보조열선을 가열하여 가소시키는 단계,Heating and calcining the auxiliary heating wire, 상기 보조열선상에 상기 제1 프릿트보다 가소온도가 낮은 페이스트 상태의 봉착용 제2 프릿트를 인쇄법 또는 디스펜싱법으로 형성하되 상기 보조열선의 폭보다 크게하거나 같게하여 보조열선을 모두 덮거나 보조열선과 동일하게 형성하는 단계,On the auxiliary heating wire, a sealing second frit having a plasticity temperature lower than that of the first frit is formed by a printing method or a dispensing method, which covers all the auxiliary heating wires by making them larger than or equal to the width of the auxiliary heating wires. Forming the same as the auxiliary heating wire, 상기 제2 프릿트를 가열하여 가소시키는 단계,Heating and calcining the second frit, 상기 전면판과 배면판을 진공챔버내에 장착하되 전극군이 형성된 면이 서로 마주보며 소정거리 이격되도록 장착한후 소정의 진공도를 유지하기 위해 펌핑하는 단계,Mounting the front plate and the back plate in the vacuum chamber, but the surface formed with the electrode group facing each other and mounted so as to be spaced apart by a predetermined distance and pumped to maintain a predetermined degree of vacuum, 상기 진공챔버내에 상기 전면판과 배면판의 둘레에 장착된 열 발생장치를 통해 상기 전면판 및 배면판에 형성된 제1 및 제2 프릿트, 보조열선을 가열하여 소성하는 단계,Heating and firing the first and second frits and auxiliary heating wires formed in the front plate and the back plate through a heat generating device mounted around the front plate and the back plate in the vacuum chamber; 상기 열 발생장치에 의한 소성단계와 동시에 상기 보조열선에 전기를 가하여 주울열에 의해 제1 및 제2 프릿트, 보조열선을 추가로 가열하는 단계,Simultaneously heating the first and second frits and the auxiliary heating wire by Joule heat by applying electricity to the auxiliary heating wire at the same time as the firing step by the heat generator; 상기 소성단계 및 추가가열 단계시 발생하는 불순물 개스에 의해 낮아진 진공도를 상기 소정의 진공도로 향상시키기 위해 펌핑하는 단계,Pumping the vacuum degree lowered by the impurity gas generated during the firing step and the additional heating step to improve the predetermined vacuum degree, 상기 소정의 진공도가 달성된후 상기 열 발생장치 및 추가가열에 의한 열이 공급되는 상태에서 전면판과 배면판을 얼라인하여 접합시키는 단계,After the predetermined degree of vacuum is achieved, aligning and bonding the front plate and the back plate in a state where heat is supplied by the heat generator and additional heating, 전면판과 배면판이 접합된후 상기 열 발생장치에 의한 가열정도와 추가 가열정도를 조절하여 서서히 온도를 내리는 단계를 포함하는, 평판표시소자 제작방법.And a step of gradually lowering the temperature by controlling the heating degree and the additional heating degree by the heat generating device after the front plate and the back plate are bonded. 제 1 항에 있어서, 상기 제1 프릿트는 결정질 프릿트이며, 상기 제2 프릿트는 유리질 프릿트인 것을 특징으로 하는, 평판표시소자 제작방법.The method of claim 1, wherein the first frit is a crystalline frit and the second frit is a glass frit. 제 2 항에 있어서, 상기 결정질 프릿트는 PbO, ZnO, B2O3를 주 성분으로 하고 SiO2, BaO, SnO2를 추가로 포함하며, 상기 유리질 프릿트는 PbO, B2O3, SiO2를 주 성분으로 하고 ZnO, BaO, SnO2, Fe2O3를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, 평판표시소자 제작방법.The method of claim 2, wherein the crystalline frit is PbO, ZnO, B2O3 as a main component and further comprises SiO2, BaO, SnO2, the glassy frit is PbO, B2O3, SiO2 as a main component ZnO, BaO, SnO2 And Fe2O3, further comprising a flat panel display device manufacturing method. 제 1 항에 있어서, 상기 제1 프릿트 및 제2 프릿트, 보조열선은 균일한 온도형성을 위해 모서리 부분을 라운드지게 형성하는 것을 특징으로 하는, 평판표시소자 제작방법.The method of claim 1, wherein the first frit, the second frit, and the auxiliary heating wire are formed to round the corners to form a uniform temperature. 제 1 항에 있어서, 상기 보조열선은 효율적인 열 발생 및 접착강도를 강화하기 위해 상기 제1 프릿트상에 지그재그 형태로 형성하는 것을 특징으로 하는, 평판표시소자 제작방법.The method of claim 1, wherein the auxiliary heating wire is formed in a zigzag shape on the first frit to efficiently generate heat and enhance adhesive strength. 제 1 항에 있어서, 상기 제1 프릿트는 10내지 100 마이크로미터의 두께와 2내지 10 밀리미터의 폭을 가지며, 상기 보조열선은 10내지 100 마이크로미터의 두께와 2내지 8 밀리미터의 폭을 가지며, 상기 제2 프릿트는 100내지 500 마이크로미터의 두께와 2내지 10 밀리미터의 폭을 가지는 것을 특징으로 하는, 평판표시소자 제작방법.The method of claim 1, wherein the first frit has a thickness of 10 to 100 micrometers and a width of 2 to 10 millimeters, and the auxiliary heating wire has a thickness of 10 to 100 micrometers and a width of 2 to 8 millimeters. The second frit has a thickness of 100 to 500 micrometers and a width of 2 to 10 millimeters. 제 1 항에 있어서, 상기 보조열선은 'Ag, Pt, Ni, W, Cu, Mo 등의 금속성분의 파우더 혹은 RuO2가 금속원소(Ag 등)와 혼합된 저항성 파우더'를 'frit를 주성분으로 하여 바인더(binder 혹은 additives)가 함유된 용제'에 섞어서 만든 점성이 있는 페이스트 형태인 것을 특징으로 하는, 평판표시소자 제작방법.According to claim 1, wherein the auxiliary heating wire is a metal powder such as Ag, Pt, Ni, W, Cu, Mo, or a resistive powder in which RuO2 is mixed with a metal element (Ag, etc.) as a 'frit as a main component A method of manufacturing a flat panel display device, characterized in that it is in the form of a viscous paste made by mixing with a solvent containing a binder or additives. 제 1 항에 있어서, 상기 열 발생장치를 통한 가열시 승온속도는 분당 3내지5℃ 로 하여 최종 도달온도를 200내지 300℃로 하며, 진공챔버내에서 전면판과 배면판을 접합시킨후 온도를 내리는 속도를 분당 3내지 5℃ 로 낮추는 것을 특징으로 하는, 평판표시소자 제작방법.The method of claim 1, wherein the heating rate during heating through the heat generating device is 3 to 5 ℃ per minute, the final temperature reached 200 to 300 ℃, the temperature after the front plate and the back plate bonded in a vacuum chamber A method of manufacturing a flat panel display device, characterized in that the speed of lowering is lowered to 3 to 5 캜 per minute. 전면판과 배면판으로 구성되는 평판표시소자를 제작하는 방법에 있어서,In the method for manufacturing a flat panel display device consisting of a front plate and a back plate, 전면판과 배면판 각각의 일면상에 소정 패턴의 전극군을 형성하는 단계와,Forming an electrode group having a predetermined pattern on one surface of each of the front plate and the back plate; 전면판과 배면판중 적어도 하나의 상기 전극군이 형성된 면상의 가장자리에 PbO, ZnO, B2O3를 주 성분으로 하고 SiO2, BaO, SnO2를 추가로 포함하는 페이스트 상태의 봉착용 결정질 제1 프릿트(frit)를 인쇄법 또는 디스펜싱법으로 형성하되 모서리 부분을 라운드지게 형성하는 단계,At least one crystalline first frit for sealing in a paste state including PbO, ZnO, and B2O3 as main components and SiO2, BaO, SnO2 as main components at the edges on the surface where at least one of the electrode groups is formed. ) To form a printing method or a dispensing method to form a rounded corner portion, 상기 제1 프릿트를 가열하여 가소시키는 단계,Heating and calcining the first frit, 'Ag, Pt, Ni, Cu, Mo, W 등의 전기전도성(또는 방사열 흡수성) 금속 파우더 나 RuO2와 금속원소(Ag 등)를 혼합하여 만든 저항성 파우더'를 'frit, vehicle 및 additives'와 섞어서 만든 페이스트(이하 "보조열선" 이라함)를 인쇄법 또는 디스펜싱법으로 상기 제1 프릿트상에 형성하되 제1 프릿트의 폭보다 좁거나 같은 폭을 가지며, 지그재그 형태로 모서리 부분을 라운드지게 형성하는 단계,Created by mixing electrically conductive (or radiant heat-absorbing) metal powders such as Ag, Pt, Ni, Cu, Mo, and W or resistive powders made by mixing RuO2 and metal elements (Ag, etc.) with 'frit, vehicle and additives' Paste (hereinafter referred to as "auxiliary heating wire") is formed on the first frit by a printing method or a dispensing method, the width of which is narrower than or equal to the width of the first frit, and rounded corners in a zigzag form. step, 상기 보조열선을 가열하여 가소시키는 단계,Heating and calcining the auxiliary heating wire, 상기 보조열선상에 상기 제1 프릿트보다 가소온도가 낮은 PbO, B2O3, SiO2를 주 성분으로 하고 ZnO, BaO, SnO2, Fe2O3를 추가로 포함하는 페이스트 상태의 봉착용 유리질 제2 프릿트를 인쇄법 또는 디스펜싱법으로 형성하되 상기 보조열선의 폭보다 크게하거나 같게하여 보조열선을 모두 덮거나 보조열선과 동일하게 하고, 모서리 부분을 라운드지게 형성하는 단계,Printing method of sealing second frit for sealing in paste state containing PbO, B2O3, SiO2, which has lower plastic temperature than the first frit, and further comprising ZnO, BaO, SnO2, Fe2O3 on the auxiliary heating wire Or forming by dispensing method to cover the auxiliary heating wires to be larger than or equal to the width of the auxiliary heating wires, or to make them the same as the auxiliary heating wires, and to form corners rounded. 상기 제2 프릿트를 가열하여 가소시키는 단계,Heating and calcining the second frit, 상기 전면판과 배면판을 진공챔버내에 장착하되 전극군이 형성된 면이 서로 마주보며 소정거리 이격되도록 장착한후 소정의 진공도를 유지하기 위해 펌핑하는 단계,Mounting the front plate and the back plate in the vacuum chamber, but the surface formed with the electrode group facing each other and mounted so as to be spaced apart by a predetermined distance and pumped to maintain a predetermined degree of vacuum, 상기 진공챔버내에 상기 전면판과 배면판의 둘레에 장착된 열 발생장치를 통해 상기 전면판 및 배면판에 형성된 제1 및 제2 프릿트, 보조열선을 가열하되 승온속도는 분당 3내지 5℃ 로 하여 최종 도달온도를 200내지 300℃로 가열하여 소성하는 단계,The first and second frits and auxiliary heating wires formed on the front plate and the back plate are heated by a heat generator mounted around the front plate and the back plate in the vacuum chamber, and the temperature increase rate is 3 to 5 ° C. per minute. Firing by heating the final achieved temperature to 200 to 300 ℃, 상기 열 발생장치에 의한 소성단계와 동시에 상기 보조열선에 전기를 가하여 주울열에 의해 제1 및 제2 프릿트, 보조열선을 추가로 가열하는 단계,Simultaneously heating the first and second frits and the auxiliary heating wire by Joule heat by applying electricity to the auxiliary heating wire at the same time as the firing step by the heat generator; 상기 소성단계 및 추가가열 단계시 발생하는 불순물 개스에 의해 낮아진 진공도를 상기 소정의 진공도로 향상시키기 위해 펌핑하는 단계,Pumping the vacuum degree lowered by the impurity gas generated during the firing step and the additional heating step to improve the predetermined vacuum degree, 상기 소정의 진공도가 달성된후 상기 열 발생장치 및 추가가열에 의한 열이 공급되는 상태에서 전면판과 배면판을 얼라인하여 접합시키는 단계,After the predetermined degree of vacuum is achieved, aligning and bonding the front plate and the back plate in a state where heat is supplied by the heat generator and additional heating, 전면판과 배면판이 접합된후 상기 열 발생장치에 의한 가열정도와 추가 가열정도를 조절하여 분당 3내지 5℃ 의 속도로 온도를 내리는 단계를 포함하는, 평판표시소자 제작방법.After the front plate and the back plate is bonded, the step of adjusting the heating degree and the additional heating degree by the heat generating device comprising the step of lowering the temperature at a rate of 3 to 5 ℃ per minute, flat panel display device manufacturing method. 제 1 항 또는 제 9 항중 어느 한 항에 있어서, 전면판 또는 배면판상에 상기 제1 및 제2 프릿트와 보조열선을 형성시 전면판 또는 배면판의 적어도 일부분에 관통되어 형성된 봉지용 구멍의 둘레에도 제1 및 제2 프릿트와 보조열선을 동일한 방법 및 형태로 형성하는 단계를 추가로 포함하는, 평판표시소자 제작방법.10. The perimeter of the sealing hole according to any one of claims 1 to 9, wherein the first and second frits and the auxiliary heating wire are formed through the at least part of the front plate or the back plate when the first and second frits are formed on the front plate or the back plate. The method further comprises the step of forming the first and second frit and the auxiliary heating wire in the same method and shape. 제 10 항에 있어서, 상기 가소단계 및 소성단계에 대한 열처리시 봉지용 구멍의 둘레에 형성된 제1 및 제2 프릿트와 보조열선에 대해서도 동일한 방법으로 열처리하는 것을 특징으로 하는, 평판표시소자 제작방법.The method of manufacturing a flat panel display device according to claim 10, wherein the first and second frits and auxiliary heating wires formed around the hole for encapsulation during the heat treatment for the calcining step and the firing step are heat-treated in the same manner. . 제 11항에 있어서, 상기 봉지용 구멍의 하단부 진공챔버내에 설치된 지지부에 의해 지지되는 밀봉재를 상기 봉지용 구멍 둘레에 형성된 제1 및 제2 프릿트와 보조열선에 접착시켜 봉지하는 것을 특징으로 하는, 평판표시소자 제작방법.The sealing material supported by the support part installed in the lower end vacuum chamber of the said sealing hole is sealed by adhering to the 1st and 2nd frit and the auxiliary heating wire which were formed around the said sealing hole, Manufacturing method of flat panel display device.
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