KR20010081612A - 이동식 광헤드를 가지는 레이저 장치의 광 전송시스템 - Google Patents

이동식 광헤드를 가지는 레이저 장치의 광 전송시스템 Download PDF

Info

Publication number
KR20010081612A
KR20010081612A KR1020000007514A KR20000007514A KR20010081612A KR 20010081612 A KR20010081612 A KR 20010081612A KR 1020000007514 A KR1020000007514 A KR 1020000007514A KR 20000007514 A KR20000007514 A KR 20000007514A KR 20010081612 A KR20010081612 A KR 20010081612A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
plate
supporting
mirror
position adjusting
adjusting unit
Prior art date
Application number
KR1020000007514A
Other languages
English (en)
Inventor
이선필
최이호
권택열
정동희
Original Assignee
성규동
주식회사 이오테크닉스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 성규동, 주식회사 이오테크닉스 filed Critical 성규동
Priority to KR1020000007514A priority Critical patent/KR20010081612A/ko
Publication of KR20010081612A publication Critical patent/KR20010081612A/ko

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/03—Observing, e.g. monitoring, the workpiece
    • B23K26/032—Observing, e.g. monitoring, the workpiece using optical means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

이동식 광헤드를 가지는 레이저 장치의 광 전송시스템에 관해 개시된다.
광 전송시스템은 위치고정된 레이저 발진장치로 부터의 이동식 광헤드로 진행하는 레이저 빔의 진행경로를 정확히 조절하기 위하여, 레이저 빔을 광헤드로 반사하는 미러를 5 축방향으로 조절한다. 광헤드를 향하는 레이저 빔의 진행경로에 나란한 제1방향과, 미러로 입사하는 레이저 진행 경로에 나란한 제2방향과, 제1방향과 제2방향이 위치하는 평면에 수직인 제3방향을 조절하고, 입사 레이저 빔에 대한 2 개 방향에 대한 입사및 반사각을 조절할 수 있는 구조를 가진다. 따라서, 이동식 광헤드로 광을 반사하는 미러의 자세조정이 용이하여 이동식 광헤드에 대한 레이저 빔의 정밀한 입사가 가능하게 된다.

Description

이동식 광헤드를 가지는 레이저 장치의 광 전송시스템{Light transmitting system of laser device with moving optical head}
본 발명은 이동식 광 헤드를 가지는 레이저 장치의 광 전송시스템에 관한 것으로서, 광헤드에 대한 레이저 빔의 진행 경로 보정수단을 가지는 광 전송시스템에 관한 것이다.
일반적으로 전자제품 제작용 스텐실을 가공하는 레이저 장치는 제1방향으로 왕복이동되는 베드와 상기 베드의 상방에서 제1방향에 직교하는 제2방향으로 이동하는 광헤드를 구비한다.
상기 베드에는 가공대상이 스텐실이 놓이며, 상기 헤드는 레이저 광을 상기 스텐실에 집중시켜 스텐실을 목적하는 형상으로 가공한다. 스텐실을 가공함에 있어서, 가공위치는 상기 베드와 헤드 간의 상대 위치 변화에 따라 얻어진다.
상기 헤드는 상기 베드의 상방에 위치 고정된 제2방향의 빔의 전방에 장착되어 빔을 따라 제2방향을 왕복이동하도록 되어 있다. 상기 헤드의 후방에는 상기 헤드로 레이저 광을 제공하는 레이저 발진장치가 마련되어 있다. 한편, 상기 빔의 전방 일측에는 상기 레이저 발진장치로 부터 전달된 레이저 빔을 상기 헤드로 전달하는 미러장치가 마련되어 있다. 상기 미러장치는 상기 헤드를 향하는 레이저 광의 진행경로와 동축으로 마련되는 미러와 이 미러를 지지하는 지지체를 구비한다.
이러한 레이저 장치에서, 상기 미러와 헤드간의 상대 위치는 스텐실 가공의 성패 및 정밀도와 밀접한 관계를 맺는다. 예를 들어 미러로 부터 반사된 레이저 빔이 헤드에 대해 주어진 축상으로 진행하지 못하면, 위치가 이동되는 헤드에 대한 레이저 빔의 입사 불량이 발생되고 결과적으로 헤드로 부터 스텐실로 목적하는 위치에 전자빔을 랜딩시키지 못하게 된다.
따라서, 레이저 장치의 조립이 완료된 후에는 상기 레이저 발진 장치와 헤드사이의 광학적 경로 상에 위치하는 상기 미러장치의 미세조정이 요구된다. 미러장치를 미세조정함에 있어서는, 상기 레이저 발진 장치와 헤드 양 측에 대해 상기 미러의 수평방향 및 수직방향의 위치 및 레이저 빔의 반사각 등이 조절된다.
그러나, 종래 레이저 장치는 상기와 같이 미러의 위치 및 자세를 정밀하게 조절하기에 매우 까다로운 문제를 가지고 있다. 종래의 미러장치는 구조적으로 레이저 빔이 헤드로 정밀하게 입사될 수 있도록 레이저 광 진행축 방향을 포함하는 모든 방향에 대한 위치 및 자세 조정이 가능한 구조를 가지고 있지 못하다.
본 발명의 제 1 의 목적은 이동식 광헤드에 대한 레이저 빔의 정밀한 입사가 가능하도록 구성된 이동식 광 헤드를 가지는 레이저 장치의 광 전송시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 제 2 의 목적은 이동식 광헤드로 광을 전달하는 미러의 자세조정이 용이한 이동식 광 헤드를 가지는 레이저 장치의 광 전송시스템을 제공하는 것이다.
도 1은 본 발명의 광전송 시스템이 적용되는 스텐실 가공장치의 개력적 정면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 스텐실 가공장치에서 본 발명에 따른 레이저 빔 반사장치의 평면도이다.
도 3은 도 1에 도시된 스텐실 가공장치에서 본 발명에 따른 레이저 빔 반사장치의 정면도이다.
도 4는 도 1에 도시된 스텐실 가공장치에서 본 발명에 따른 레이저 빔 반사장치의 우측면도이다.
도 5는 본 발명에 따른 레이저 빔 반사장치에서 미러 각도 조정장치의 개략적 분해사시도이다.
도 6은 본 발명에 따른 레이저 빔 반사장치에서 미러 위치조정장치의 개략적 사시도이다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따르면,
제 1 방향으로 연장되어 있는 소정 길이의 지지빔과;
상기 지지빔의 일측에 마련되어 소정 방향으로 레이저 빔을 진행시키는 레이저 발진장치와;
상기 지지빔의 타측에 마련되어 제 1 방향으로 왕복 이동 가능하게 설치되는 광 헤드와;
상기 레이저 발진장치로 부터의 레이저 빔의 진행 경로 상에 마련되어 상기 제 1 방향의 광 헤드로 전달하는 미러와;
상기 제 1 방향으로 상기 미러를 소정 거리왕복 운동가능하게 지지하는 제1위치조정부, 상기 제1방향에 직교하는 제 2 방향으로 상기 미러를 소정 거리 왕복 운동가능하게 지지하는 제2위치조정부, 상기 제 1 방향과 제 2 방향이 이루는 평면에 대해 수직인 제 3 방향으로 상기 미러를 소정 거리 왕복 운동가능하게 지지하는 제3위치조정부, 상기 제 1 방향과 제 3 방향이 이루는 평면에 대한 상기 미러 평면의 제1방향의 기울기를 조정하는 제1기울기 조정부, 상기 제 1 방향과 제 2 방향이 이루는 평면에 대한 상기 미러의 평면의 제2방향의 기울기를 조정하는 제2기울기 조정부를 포함하는 미러 지지장치를; 구비하는 이동식 광 헤드를 가지는 레이저 장치의 광 전송시스템이 제공된다.
상기 제1기울기 조정부와 제2기울기 조정부는: 상기 미러가 결합되는 고정판과; 상기 고정판과 일정한 간격을 유지하는 지지판과; 상기 지지판과 고정판 사이의 일측에 개입되는 볼조인트와; 상기 지지판에 대한 고정판의 경사 각도를 2개의 방향에서 조절하는 제1, 제2조절볼트와; 상기 지지판에 대한 고정판의 경사각도를 고정하는 고정볼트를; 구비하는 것이 바람직하다.
상기 제1, 제2조절볼트에는 상기 지지판에 나사결합되며, 그 선단부는 상기 고정판의 내면에 접촉되는 것이 바람직하다.
상기 제1조절볼트와 상기 볼조인트가 위치하는 임의 직선이 상기 제1방향이 위치하는 제1의 임의평면에 위치하며, 상기 제2조절볼트와 상기 볼조인트가 위치하는 임의 직선은 상기 제1의 임의 평면에 수직인 제2의 평면에 위치하는 것이 바람직하다.
상기 제1위치조정부는; 상기 제1방향으로 왕복이동하는 제1위치이동판과, 이를 하부에서 지지하는 제1위치지지판을 구비하며, 상기 제1위치지지판의 일측에는 제1위치조절부재가 설치되며, 상기 제1위치이동판에는 상기 제1위치조절부재에 의해 간섭되는 간섭부재가 설치되어 있는 것이 바람직하다.
상기 제2위치조정부는; 상기 제2방향으로 왕복이동하는 제2위치이동판과, 이를 하부에서 지지하는 제2위치지지판을 구비하며, 상기 제2위치지지판의 일측에는 제2위치조절부재가 설치되며, 상기 제2위치이동판에는 상기 제2위치조절부재에 의해 간섭되는 간섭부재가 설치되어 있는 것이 바람직하다.
상기 제1위치조정부의 하부에 상기 제2위치조정부가 위치하며, 상기 제1위치조정부의 제1위치지지판과 상기 제2위치조정부의 제2위치이동판이 하나로 결합되어 있는 것이 바람직하며, 상기 제2위치조정부의 제2위치지지판의 저부에, 상기 제3위치조정부가 위치하며, 상기 제3위치조정부는: 상기 제2위치지지판의 하부에 나란하게 직립으로 설치되는 한쌍의 승하강 부재와; 상기 승하강 부재의 제3방향으로의 운동을 지지하는 수직지지부재와; 수직지지부재를 지지하는 베이스와; 상기 제2위치지지판을 제3방향으로 승하강시키는 제3위치조절부재를; 구비하는 것이 바람직하다.
이하 첨부된 도면을 참조하면서, 본 발명의 이동식 광 헤드를 가지는 레이저 장치의 광 전송시스템의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 이동식 광 헤드를 가지는 레이저 장치의 광 전송시스템가 적용되는 스텐실 가공 장치의 주요 구성을 보인 개략적 정면도이다.
도 1을 참조하면, 스텐실이 장착되는 베드(11)가 왕복이동 가능하게 지지되는 하부 지지체(1)의 상방에 지지기둥(3)에 의해 수평인 제1방향으로 배열된 지지빔(2)이 위치한다. 상기 베드(11)에는 스텐실을 고정하는 클램프(12)가 설치되어 있다. 상기 지지빔(2)에는 수평방향의 레일(21)이 마련되어 있고, 이 레일(21)에 제1방향으로 왕복 이동하는 액튜에이터(23)가 지지된다. 상기 액튜에이터(23)에는 수직 하방으로 대물렌즈 장치(22)를 통해 레이저 빔을 조사하는 광 헤드(24)가 장착되어 있다.
상기 지지빔(2)의 일측에는 상기 지지빔(2)의 후방에 위치한 레이저 발생장치로 부터의 레이저 빔을 상기 액튜에이터(23)의 광 헤드(24)로 레이저 빔을 전달하는 레이저 빔 반사장치(24)가 위치한다. 레이저 빔 반사장치(24)와 상기 광 헤드(24)의 사이에는 레이저 빔을 평행광화하는 콜리메이팅 장치(25)가 위치한다.
상기 레이저 빔 반사장치(24)와 콜리메이팅 장치(25)는 하나의 프레임(26)에 장착되어 있으며, 이들 사이에는 상기 광 헤드(24)측으로 진행하는 레이저 빔의 경로를 보호하는 제1 빔보호관(27)이 위치한다.
상기 광 헤드(24)는 상기 액튜에이터(23)에 의해 제1방향으로 왕복이동하며, 상기 베드(11)는 제1방향에 직교하는 제2방향으로 왕복이동한다. 제2빔보호관(29)을 통해 입사하여 상기 레이저 빔 반사장치(24)에서 반사된 레이저 빔은 상기 빔 보호관(27)을 통해 상기 콜리메이팅 장치(25)로 입사되고, 콜리메이팅 장치(25)에서 평행광화된 후, 상기 광 헤드(24)의 상방에 위치한 광헤드 미러(28)로 입사한 후, 하부의 대물렌즈 장치(22)를 통해 그 하부의 베드(12)에 고정되어 있는 스텐실로 입사한다. 여기에서 상기 레이저 빔 반사장치(24)는 입사된 레이저 빔을 상기 광 헤드(24)의 이동 위치에 관계없이 항상 광헤드 미러(28)의 중심 부분에 정확하게 입사시켜야 한다. 즉, 상기 레일(21)을 따라 움직이는 액튜에이터(23)의 이동방향에 대해 레이저 빔은 평행해야 하며, 그리고 상기 대물렌즈 장치(22)를 통해 레이저 빔이 스텐실에 성공적으로 입사되어야 한다. 따라서, 상기 대물렌즈 장치(22)의 광진행 중심축에 대해 반사광의 진행 축이 동축으로 결정되어 있는 상기 광헤드 미러(28)의 광입사 중심축을 따라 상기 레이저 빔 반사장치(24)로 부터의 레이저 빔이 진행되도록 상기 레이저 빔 반사장치(24)가 레이저 빔의 진행 경로를 보정한다.
도 2는 본 발명을 특징지우는 상기 레이저 빔 반사장치(24)의 부분을 발췌 도시한 평면도이며, 도 3은 정면도, 도 4는 좌측면도이다.
도 2 내지 도 4를 참조하면, 상기 레이저 빔 반사장치(24)는 레이저 발생장치로 부터 빔입사관(29)을 통해 입사된 레이저 빔을 빔 보호관(27)을 통해 상기 콜리메이팅 장치(25)측으로 반사시키는 미러(241)를 구비한다. 상기 미러(241)를 이를 지지하는 각도조정장치(242)와 위치조정장치(243)에 의해 5축 방향으로 자세 및 위치가 보정된다.
상기 각도조정장치(242)와 위치조정장치(243)는 하나의 구조체로 결합되어 있는데, 먼저 개략적인 구조를 살펴본다.
각도 조정장치(242)는 미러(241)가 고정되는 고정판(242a)와 이를 지지하는 L 형 지지판(242b)을 구비한다. 상기 미러(241)는 고정판(242a)에 형성된 결합홈(242c)에 삽입된다. 도 5 에 도시된 바와 같이, 상기 고정판(242a)은 상기 지지판(242b)에 대해 제2, 제2고정볼트(242d, 242e)와 제1, 제2 조절볼트(242f, 242g)에 의해 결합된다. 상기 고정판(242a)과 지지판(242b)의 사이의 일측에는 볼조인트(242h)가 개입되어, 지지판(242b)에 대해 상기 제1, 제2 조절볼트(242f, 242g)에 의한 상기 고정판(242a)의 운동 중심점이 제공된다.
상기 제1조절볼트(242f)와 상기 볼조인트(242h)가 위치하는 임의 직선이 상기 제1방향이 위치하는 제1의 임의평면에 위치하며, 상기 제2조절볼트(242g)와 상기 볼조인트(242h)가 위치하는 임의 직선은 상기 제1의 임의 평면에 수직인 제2의 평면에 위치한다. 따라서, 상기 제1, 제2조절볼트(242f)는 상기 지지판(242b)에 대해 상기 고정판(242a)간의 간격을 조절하여, 상기 지지판(242b)에 대한 상기 고정판(242a)의 두 방향으로의 각도를 조절하여, 상기 고정판(242a)에 고정되어 있는 미러(241)에서 레이저 빔의 두 방향의 반사방향을 조절한다. 예를 들어 상기 제1조절볼트(242f)는 지지판(242b)의 평면이 위치하는 y-z 평면에 대한 상기 고정판(242a)의 제1기울기를 조절하며, 상기 제2조절볼트(242g)는 상기 지지판(242b)의 평면에 대해 수직, 즉 x-y 평면에 대한 상기 고정판(242a)의 제2기울기를 조절한다.
도 6에 도시된 바와 같이, 상기 지지판(242a)은 상기 위치조절장치(243)의 상부에 고정된다. 위치조절장치(243)는 상기 지지판(242a)을 상기 제 1 방향으로 상기 미러를 소정 거리왕복 운동가능하게 지지하는 제1위치조정부(244)와, 상기 제1방향에 직교하는 제 2 방향으로 상기 미러를 소정 거리 왕복 운동가능하게 지지하는 제2위치조정부(245), 상기 제 1 방향과 제 2 방향이 이루는 평면에 대해 수직인 제 3 방향으로 상기 미러를 소정 거리 왕복 운동가능하게 지지하는 제3위치조정부(246)를 구비한다.
제1위치조정부(244)는 상기 지지판(242a)이 고정되는 제1위치이동판(244a)와 이를 하부에서 지지하는 제1위치지지판(244b)를 구비한다. 상기 제1위치이동판(244a)은 제1위치지지판(244b)에 대해 제1방향으로 왕복이동이 가능하도록 설치되어 있다. 이들의 사이에는 일반적인 리니어 베어링 시스템과 제1방향의 어느 일측으로의 탄발력을 제공하는 복원 스프링 장치가 개입될 수 있다.
상기 제1위치지지판(244b)의 일측에 마이크로미터형 제1위치조정부재(244c)가 고정되는 제1위치조정부재 고정부재(244e)가 설치되어 있다. 상기 제1위치이동판(244a)의 일측에는 상기 제1위치조정부재(244c)에의해 가압되어 상기 제1위치지지판(244b)에 대해 상기 제1위치이동판(244a)이 제1방향으로 이동되게 하는 간섭부재(244d)가 설치된다.
제2위치조정부(245)는 상기 제1위치조정부(245)의 제1위치지지판(244b)가 하나로 결합되는 제2위치이동판(245a)와 이를 하부에서 지지하는 제2위치지지판(245b)를 구비한다. 상기 제2위치이동판(245a)은 제2위치지지판(245b)에대해 제1방향에 직교하는 제2방향으로 왕복이동이 가능하도록 설치되어 있다. 이들의 사이에는 제1위치조정부(244)에서와 같이 일반적인 리니어 베어링 시스템과 제1방향의 어느 일측으로의 탄발력을 제공하는 복원 스프링 장치가 개입될 수 있다.
상기 제2위치지지판(245b)의 일측에 마이크로미터형 제2위치조정부재(245c)가 고정되는 제2위치조정부재 고정부재(245e)가 설치되어 있다. 상기 제2위치이동판(245a)의 일측에는 상기 제2위치조정부재(245c)에 의해 가압되어 상기 제1위치지지판(245b)에 대해 상기 제2위치이동판(245a)이 제1방향으로 이동되게 하는 간섭부재(245d)가 설치된다.
상기 제1, 제2위치조정부재(245c)는 상기한 바와 같이 마이크로미터형으로서, 상기 간섭부재(244d, 245d)를 간섭하는 플런저(244f, 245f)를 구비한다.
상기 제2위치지지판(245b)의 하부에는 상기 제3위치조정부(246)의 한 요소인 한쌍의 승하강 부재(248a, 248b)가 설치된다. 제3위치조정부(246)는 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 제2위치지지판(245b)의 하부에 나란하게 직립으로 설치되는 한쌍의 승하강 부재(248a, 248b)와 이의 수직운동, 즉 제3방향으로의 운동을 지지하는 수직지지부재(246a, 246b), 상기 승하강부재(248a, 248b)와 수직지지부재(246a, 246b)들의 각 사이에 개재되어 수직지지부재(246a, 246b)에 대한 상기 승하강부재(248a, 248b)의 운동을 안내하는 리니어 베어링 장치(247a, 247b)가 개재된다. 상기 수직지지부재(246a, 246b)는 상기 제1, 제2, 제3위치조정부(244, 245, 246)의 전체를 지지하는 베이스(250)상에 수직으로 결합된다. 상기베이스(250)는 전술한 프레임(26)에 고정된다. 상기 제2위치지지판(245b)의 저면에는 하방으로 소정 길이 연장되는 수직 간섭부재(249)가 결합되어 있고, 상기 프레임(26)에는 베이스(250)를 관통하여 상기 수직간섭부재(249)을 간섭하는 플런저(250a)를 가지는 마이크로미터형 제3위치조정부재(246c)가 결합된다. 제2위치조정부재(246c)의 일측에는 상기 제3위치조정부재(246c)에 의해 위치가 조정된 상기 수직간섭부재(249)를 고정하는 록킹볼트(246k)가 설치된다. 이와 같은 록킹볼트는 전술한 상기 제1, 제2위치조정부(244, 245)에도 설치된다.
상기와 같은 본 발명의 광 전송시스템에 있어서, 미러(241)에 대한 레이저빔의 입사위치 및 반사 위치는 제1, 제2, 제3위치조정부재(244, 245, 246)에 의해 3방향으로 조정되며, 미러에 대한 레이저 빔의 입사 및 반사 각도는 각도조정장치(242)에 의해 조정된다.
이러한 일련의 조절시스템에 의하면, 콜리메이팅 장치(25) 및 광 헤드(24)의 상방에 위치한 광헤드 미러(28)에 대한 레이저 빔의 진행경로를 정밀하게 조정할 수 있게 된다. 따라서, 광헤드(24)의 위치에 관계없이 레이저 빔이 주어진 경로로 진행함으로써 광헤드(25)의 대물렌즈 장치(22)를 통해 스탠실에 정확하게 랜딩할 수 있게 된다.
상기와 같은 본 발명은 소면적의 스텐실에서 부터 대면적의 스텐실에 이르기까지 적용이 가능하여 양질의 스텐실을 가공할 수 있고, 특히 초 미세구조의 스텐실을 얻을 수 있게 된다.
이러한 본 발명의 광전송 장치는 스텐실 가공장치 뿐아니라 위치고정된 레이저 발생장치와 이동식 광 헤드를 가지는 레이저 장치에 적용이 가능하다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 한해서 정해져야 할 것이다.

Claims (10)

  1. 제 1 방향으로 연장되어 있는 소정 길이의 지지빔과;
    상기 지지빔의 일측에 마련되어 소정 방향으로 레이저 빔을 진행시키는 레이저 발진장치와;
    상기 지지빔의 타측에 마련되어 제 1 방향으로 왕복 이동 가능하게 설치되는 광 헤드와;
    상기 레이저 발진장치로 부터의 레이저 빔의 진행 경로 상에 마련되어 상기 제 1 방향의 광 헤드로 전달하는 미러와;
    상기 제 1 방향으로 상기 미러를 소정 거리왕복 운동가능하게 지지하는 제1위치조정부, 상기 제1방향에 직교하는 제 2 방향으로 상기 미러를 소정 거리 왕복 운동가능하게 지지하는 제2위치조정부, 상기 제 1 방향과 제 2 방향이 이루는 평면에 대해 수직인 제 3 방향으로 상기 미러를 소정 거리 왕복 운동가능하게 지지하는 제3위치조정부, 상기 제 1 방향과 제 3 방향이 이루는 평면에 대한 상기 미러 평면의 제1방향의 기울기를 조정하는 제1기울기 조정부, 상기 제 1 방향과 제 2 방향이 이루는 평면에 대한 상기 미러의 평면의 제2방향의 기울기를 조정하는 제2기울기 조정부를 포함하는 미러 지지장치를; 구비하는 이동식 광 헤드를 가지는 것을 특징으로 하는 레이저 장치의 광 전송시스템.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1기울기 조정부와 제2기울기 조정부는: 상기 미러가 결합되는 고정판과; 상기 고정판과 일정한 간격을 유지하는 지지판과; 상기 지지판과 고정판 사이의 일측에 개입되는 볼조인트와; 상기 지지판에 대한 고정판의 경사 각도를 2개의 방향에서 조절하는 제1, 제2조절볼트와; 상기 지지판에 대한 고정판의 경사각도를 고정하는 고정볼트를; 구비하는 것을 특징으로 하는 레이저 장치의 광 전송시스템.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 제1, 제2조절볼트에는 상기 지지판에 나사결합되며, 그 선단부는 상기 고정판의 내면에 접촉되는 것을 특징으로 하는 레이저 장치의 광 전송시스템.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 제1조절볼트와 상기 볼조인트가 위치하는 임의 직선이 상기 제1방향이 위치하는 제1의 임의평면에 위치하며, 상기 제2조절볼트와 상기 볼조인트가 위치하는 임의 직선은 상기 제1의 임의 평면에 수직인 제2의 평면에 위치하는 것을 특징으로 하는 레이저 장치의 광 전송시스템.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1위치조정부는; 상기 제1방향으로 왕복이동하는 제1위치이동판과, 이를 하부에서 지지하는 제1위치지지판을 구비하며,
    상기 제1위치지지판의 일측에는 제1위치조절부재가 설치되며, 상기 제1위치이동판에는 상기 제1위치조절부재에 의해 간섭되는 간섭부재가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 레이저 장치의 광 전송시스템.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제2위치조정부는; 상기 제2방향으로 왕복이동하는 제2위치이동판과, 이를 하부에서 지지하는 제2위치지지판을 구비하며,
    상기 제2위치지지판의 일측에는 제2위치조절부재가 설치되며, 상기 제2위치이동판에는 상기 제2위치조절부재에 의해 간섭되는 간섭부재가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 레이저 장치의 광 전송시스템.
  7. 제 5 항에 있어서,
    상기 제2위치조정부는; 상기 제2방향으로 왕복이동하는 제2위치이동판과, 이를 하부에서 지지하는 제2위치지지판을 구비하며,
    상기 제2위치지지판의 일측에는 제2위치조절부재가 설치되며, 상기 제2위치이동판에는 상기 제2위치조절부재에 의해 간섭되는 간섭부재가 설치되어 있는 것을특징으로 하는 레이저 장치의 광 전송시스템.
  8. 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,
    상기 제1위치조정부의 하부에 상기 제2위치조정부가 위치하며,
    상기 제1위치조정부의 제1위치지지판과 상기 제2위치조정부의 제2위치이동판이 하나로 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 레이저 장치의 광 전송시스템.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 제1위치조정부의 하부에 상기 제2위치조정부가 위치하며,
    상기 제1위치조정부의 제1위치지지판과 상기 제2위치조정부의 제2위치이동판이 하나로 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 레이저 장치의 광 전송시스템.
  10. 제 6 항, 제 7 항 및 제 9 항 중의 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2위치조정부의 제2위치지지판의 저부에, 상기 제3위치조정부가 위치하며,
    상기 제3위치조정부는: 상기 제2위치지지판의 하부에 나란하게 직립으로 설치되는 한쌍의 승하강 부재와; 상기 승하강 부재의 제3방향으로의 운동을 지지하는 수직지지부재와; 수직지지부재를 지지하는 베이스와; 상기 제2위치지지판을 제3방향으로 승하강시키는 제3위치조절부재를; 구비하는 것을 특징으로 하는 레이저 장치의 광전송 시스템.
KR1020000007514A 2000-02-17 2000-02-17 이동식 광헤드를 가지는 레이저 장치의 광 전송시스템 KR20010081612A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000007514A KR20010081612A (ko) 2000-02-17 2000-02-17 이동식 광헤드를 가지는 레이저 장치의 광 전송시스템

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000007514A KR20010081612A (ko) 2000-02-17 2000-02-17 이동식 광헤드를 가지는 레이저 장치의 광 전송시스템

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20010081612A true KR20010081612A (ko) 2001-08-29

Family

ID=19647273

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020000007514A KR20010081612A (ko) 2000-02-17 2000-02-17 이동식 광헤드를 가지는 레이저 장치의 광 전송시스템

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20010081612A (ko)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4675501A (en) * 1983-10-29 1987-06-23 Trumpf Gmbh & Co. Laser apparatus with novel beam aligning means and method of laser processing of workpieces using same
KR940014853U (ko) * 1992-12-04 1994-07-16 금성전선 주식회사 레이저 가공기 빔전용 밴딩미러블럭(Bending Mirror Block)이동장치
JPH1190669A (ja) * 1997-09-16 1999-04-06 Amada Eng Center Co Ltd レーザ加工装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4675501A (en) * 1983-10-29 1987-06-23 Trumpf Gmbh & Co. Laser apparatus with novel beam aligning means and method of laser processing of workpieces using same
KR940014853U (ko) * 1992-12-04 1994-07-16 금성전선 주식회사 레이저 가공기 빔전용 밴딩미러블럭(Bending Mirror Block)이동장치
JPH1190669A (ja) * 1997-09-16 1999-04-06 Amada Eng Center Co Ltd レーザ加工装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101108368B1 (ko) 전자 빔 묘화 장치 및 전자 빔 묘화 방법
US6438856B1 (en) Apparatus for fine positioning of a component, and coordinate measuring machine having an apparatus for fine positioning of a component
JP3325077B2 (ja) 電磁式アライメント装置
KR950008022A (ko) 레이저 절단기
US6003828A (en) Means for supporting a mask
KR20180012270A (ko) 노광용 조명 장치, 노광 장치 및 노광 방법
KR20150067077A (ko) 노광 장치, 노광 방법 및 미러 휨 기구 부착 반사경
KR20080005067A (ko) 노광 장치
KR20010081612A (ko) 이동식 광헤드를 가지는 레이저 장치의 광 전송시스템
US4118869A (en) Device for positioning an object
JP2816272B2 (ja) 位置決め装置
KR20200060345A (ko) 노광용 조명 장치, 노광 장치 및 노광 방법
US4948243A (en) Mirror-angle adjusting arrangement
JPH04317Y2 (ko)
JP4489435B2 (ja) 測定システム
US6678443B2 (en) Apparatus for slewing a light beam
JP2709949B2 (ja) 走査式描画装置の描画面調整機構
JPH10502210A (ja) 電子ビームリトグラフ機械
JP7340761B2 (ja) 測定用プローブ
US4537501A (en) Apparatus for the attitude control of plate-form body
KR20160144385A (ko) 노광 장치용 반사경 유닛 및 노광 장치
CN105045043A (zh) 曝光装置和曝光方法
US3322481A (en) Positionally adjustable microscope illuminator
JPH0245957B2 (ko)
JPS6321648A (ja) 描画用感光基板の感光面位置保持装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application