KR20010079881A - 배리스터 물질의 웨이퍼를 포함한 과전압 보호장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (50)
- 과전압 보호 장치에 있어서,a) 평탄한 제 1 접촉표면 및 측벽을 가지는 하우징을 포함하는데, 상기 하우징은 그 내부의 공동을 한정하고 상기 공동과 통하는 개구를 가지며;b) 상기 제 1 접촉표면과 면하는 평탄한 제 2 접촉표면을 구비하고 상기 공동내에 위치된 전극 부재를 포함하는데, 상기 전극의 일부는 상기 개구를 통해 상기 공동의 외부로 연장되며;c) 배리스터 물질로 형성되어, 평탄하고 대향된 제 1 및 제 2 웨이퍼 표면을 가지는 웨이퍼를 포함하며, 상기 웨이퍼는 상기 제 1 및 제 2 웨이퍼 표면이 상기 제 1 및 제 2 접촉표면에 각각 맞물려 상기 공동내에서 상기 제 1 및제 2 접촉표면 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 접촉표면은 상기 제 1 및 제 2 웨이퍼표면에 로드를 제공하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 2 항에 있어서, 상기 로드는 적어도 264lbs인 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 2 항에 있어서, 상기 로드는 528lbs 내지 1056lbs 사이인 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 2 항에 있어서, 상기 로드의 량이 선택적으로 조정될 수 있도록 상기 로드를 유지하는 조절가능한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 2 항에 있어서, 상기 로드를 유지하기 위한 바이어싱 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 6 항에 있어서, 상기 바이어싱 수단은 상기 제 1 및 제 2 전극 부재 중 적어도 하나를 상기 웨이퍼에 대하여 바이어싱하는 스프링 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 7 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 전극 부재 중 적어도 하나를 상기 웨이퍼에 대하여 바이어싱하는 다수의 스프링 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 7 항에 있어서, 상기 스프링 부재는 스프링 와셔를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 7 항에 있어서, 상기 스프링 부재는 벨레빌 와셔를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 2 항에 있어서, 상기 개구내에 위치된 종단캡을 포함하며, 상기 종단캡은 상기 로드를 유지하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 11 항에 있어서, 상기 로드를 유지하기 위하여 상기 종단 캡과 상기 하우징 사이의 변위를 한정하도록 작용하는 클립을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 12 항에 있어서, 상기 하우징은 그 내부에 형성된 슬롯을 포함하며, 상기 클립은 상기 슬롯에 맞물리는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 11 항에 있어서, 상기 하우징은 나사산 부분을 포함하고 상기 종단캡은 상기 하우징의 나사산 부분과 맞물리는 나사산 부분을 포함하며, 이에 의해 상기 종단캡은 상기 로드를 선택적으로 조정 및 유지하도록 작용가능함을 특징으로 하는 장치.
- 제 11 항에 있어서, 상기 종단캡과 상기 웨이퍼 사이에 개재된 스프링 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 접촉표면과 상기 개구 사이에 개재된 절연 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 개구내에 위치되고 그내부에 형성된 홀을 구비한 종단캡을 포함하며, 상기 전극 부재는 상기 종단캡과 상기 제 1 접촉표면 사이의 상기 공동 내에 위치된 헤드 및 상기 종단 캡의 홀을 통해 상기 공동 밖으로 연장된 샤프트를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 17 항에 있어서, 그내부에 형성된 홀을 구비한 절연링 부재를 포함하며, 상기 절연링 부재는 상기 헤드와 상기 종단캡 사이에 개재되며, 상기 샤프트는 상기 절연링 부재의 홀을 통해 연장되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 18 항에 있어서, 상기 절연링 부재는 주요 몸체 링 부분과 돌출된 칼라를 포함하며, 상기 돌출된 칼라는 상기 샤프트를 둘러싸고 상기 종단캡의 홀을 통해 연장되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 17 항에 있어서, 그 내부에 형성된 홀을 구비한 스프링 와셔를 포함하며, 상기 스프링 와셔는 상기 헤드와 상기 종단캡 사이에 개재되며, 상기 샤프트는 상기 스프링 와셔의 홀을 통해 연장되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 17 항에 있어서, 절연링 부재 및 스프링 와셔를 포함하며, 상기 절연링은 그 내부에 형성된 홀을 구비하고 상기 헤드와 상기 종단캡 사이에 개재되며, 상기스프링 와셔는 그내부에 형성된 홀을 구비하고 상기 헤드와 상기 절연링 부재 사이에 개재되며, 상기 샤프트는 상기 절연링 부재의 홀과 상기 스프링 와셔의 홀 각각을 통해 연장되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 하우징 및 상기 전극 부재는 상기 웨이퍼의 열적 용량보다 큰 조합된 열적 용량을 가지는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 22 항에 있어서, 상기 제 1 전극 부재는 중앙벽을 포함하고 상기 제 2 전극 부재는 헤드를 포함하며, 상기 중앙벽과 상기 헤드 각각은 상기 웨이퍼 표면 중 하나에 접촉하고 상기 웨이퍼 열적 용량보다 큰 열적 용량을 가지는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 23 항에 있어서, 상기 중앙벽 및 상기 헤드의 열적 용량 각각은 상기 웨이퍼 열적 용량의 적어도 2배가 되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 23 항에 있어서, 상기 중앙벽 및 상기 헤드의 열적 용량 각각은 상기 웨이퍼 열적 용량의 적어도 10배가 되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 하우징은 금속으로 형성되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 웨이퍼는 배리스터 물질의 로드를 슬라이스함으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 27 항에 있어서, 상기 로드는 돌출 성형 및 주조 중 적어도 하나에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 27 항에 있어서, 상기 배리스터 물질은 금속 산화 화합물 및 실리콘 카바이드로 이루어진 그룹에서 선택되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 27 항에 있어서, 상기 웨이퍼는 상기 제 1 및 제 2 웨이퍼 표면 중 적어도 하나의 상부에 도전성 금속의 코팅제를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 27 항에 있어서, 상기 웨이퍼는 환상의 주변 에지를 가지고, 상기 제 1 및 제 2 디스크 표면 각각은 상기 환상의 주변 에지와 같은 넓이를 가지는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 접촉표면 각각은 연속적이고 실질적으로 빈 공간이 없는 것을 특징으로 하는 장치.
- 과전압 보호장치에 있어서,a) 중앙벽과 측벽을 가지는 하우징을 포함하는데, 상기 중앙벽 및 상기 측벽은 공동 및 상기 공동과 통하는 개구를 한정하고, 상기 중앙벽은 열적 용량 및 평탄한 제 1 접촉표면을 가지며;b) 상기 공동내에 위치된 헤드 및 상기 개구를 통해 상기 공동의 외부로 연장되는 샤프트를 가지는 전극 부재를 포함하는데, 상기 헤드는 열적 용량 및 상기 제 1 접촉표면과 면하는 평탄한 제 2 접촉표면을 가지며;c) 배리스터 물질로 형성되어, 평탄하고 대향된 제 1 및 제 2 웨이퍼 표면을 가지는 웨이퍼를 포함하는데, 상기 웨이퍼는 상기 제 1 및 제 2 웨이퍼 표면이 상기 제 1 및 제 2 접촉표면에 각각 맞물려 상기 공동내에서 상기 제 1 및 제 2 접촉표면 사이에 위치되며, 상기 웨이퍼는 열적 용량을 가지며;d) 상기 개구내에 위치된 종단캡을 포함하는데, 상기 종단캡은 상기 샤프트가 연장되는 홀을 구비하며;e) 상기 종단캡과 상기 헤드 사이에 개재된 스프링 부재를 포함하며, 상기 스프링 부재는 상기 제 1 및 제 2 웨이퍼 표면에 로드를 제공하도록 상기 웨이퍼에 대하여 상기 제 1 및 제 2 전극 부재 중 적어도 하나를 바이어싱하며;f) 상기 헤드의 열적 용량과 중앙벽의 열적 용량 각각은 상기 웨이퍼의 열적 용량보다 큰 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 33 항에 있어서, 상기 로드는 적어도 264lbs인 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 33 항에 있어서, 상기 중앙벽 및 상기 헤드의 열적 용량 각각은 상기 웨이퍼 열적 용량의 적어도 10배가 되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 33 항에 있어서, 상기 웨이퍼는 배리스터 물질의 로드를 슬라이스함으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 17 항에 있어서, 클립을 포함하며, 상기 하우징은 그내부에 형성된 슬롯을 포함하고, 상기 클립은 상기 하우징과 관련하여 상기 종단캡의 변위를 한정하고상기 로드를 유지하기 위해 상기 슬롯과 협조하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 33 항에 있어서, 상기 하우징은 나사산 부분을 포함하고 상기 종단캡은 상기 하우징의 나사산 부분과 맞물리는 나사산 부분을 포함하며, 이에 의해 상기 종단캡은 상기 로드를 선택적으로 조정 및 유지하도록 작용가능함을 특징으로 하는 장치.
- 제 33 항에 있어서, 절연링 부재를 포함하며, 상기 절연링 부재는 그내부에 형성된 홀을 구비하고 상기 헤드와 상기 종단캡 사이에 개재되며, 상기 스프링 부재는 그내부에 형성된 홀을 구비하고 상기 헤드와 상기 절연링 부재사이에 개재되며, 이에 의해 상기 스프링 부재는 상기 웨이퍼에 대하여 상기 헤드를 바이어싱하며, 상기 샤프트는 상기 절연링 부재의 홀과 상기 스프링 부재의 홀 각각을 통해 연장되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 39 항에 있어서, 상기 절연링 부재는 주요 몸체 링 부분과 돌출된 칼라를 포함하며, 상기 돌출된 칼라는 상기 샤프트를 둘러싸고 상기 종단캡의 홀을 통해 연장되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 평탄하고 대향된 제 1 및 제 2 웨이퍼 표면을 가지는 배리스터 웨이퍼 타입을 사용하기 위한 과전압 보호 장치에 있어서,a) 평탄한 제 1 접촉표면 및 측벽을 가지는 하우징을 포함하는데, 상기 하우징은 그내부의 공동을 한정하고 상기 공동과 통하는 개구를 가지며;b) 상기 제 1 접촉표면과 면하는 평탄한 제 2 접촉표면을 구비하고 상기 공동내에 위치된 전극 부재를 포함하는데, 상기 전극의 일부는 상기 개구를 통해 상기 공동의 외부로 연장되며, 상기 하우징 및 상기 전극 부재는 상기 제 1 및 제 2 웨이퍼 표면이 상기 제 1 및 제 2 접촉표면에 각각 맞물려 상기 웨이퍼가 상기 제 1 및 제 2 접촉표면 사이에 위치되도록 상기 공동 내에 웨이퍼를 수용하기 위해 상관적으로 배열 및 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 과전압 보호장치에 있어서,a) 평탄한 제 1 접촉표면을 가지는 제 1 전극부재;b) 상기 제 1 접촉표면과 면하는 평탄한 제 2 접촉표면을 구비한 제 2 전극 부재;c) 배리스터 물질로 형성되고, 평탄하고 대향된 제 1 및 제 2 웨이퍼 표면을 가지는 웨이퍼를 포함하는데, 상기 웨이퍼는 상기 제 1 및 제 2 웨이퍼 표면이 상기 제 1 및 제 2 접촉표면에 각각 맞물려 상기 제 1 및 제 2 접촉표면 사이에 위치되며;d) 상기 제 1 및 제 2 웨이퍼 표면에 로드를 제공하기 위해 상기 제 1 및 제 2 전극 부재 중 적어도 하나를 상기 웨이퍼에 대하여 바이어싱하는 바이어싱 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 42 항에 있어서, 상기 로드는 적어도 264lbs인 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 42 항에 있어서, 상기 로드는 528lbs 내지 1056lbs 사이인 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 42 항에 있어서, 상기 바이어싱 수단은 상기 제 1 및 제 2 전극 부재 중 적어도 하나를 상기 웨이퍼에 대하여 바이어싱하는 스프링 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 42 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 전극 부재 중 적어도 하나를 상기 웨이퍼에 대하여 바이어싱하는 다수의 스프링 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 42 항에 있어서, 상기 스프링 부재는 스프링 와셔를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 47 항에 있어서, 상기 스프링 부재는 벨레빌 와셔를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 과전압 보호 장치를 어셈블링하기 위한 방법에 있어서,a) 평탄한 제 1 접촉표면을 가지는 제 1 전극 부재를 제공하는 단계;b) 상기 제 1 접촉표면과 면하는 평탄한 제 2 접촉표면을 구비한 제 2 전극 부재를 제공하는 단계;c) 바이어싱 수단을 제공하는 단계;d) 배리스터 물질로 형성되고 평탄하고 대향된 제 1 및 제 2 웨이퍼 표면을 가지는 웨이퍼를, 상기 제 1 및 제 2 웨이퍼 표면이 상기 제 1 및 제 2 접촉표면에 각각 맞물리도록 상기 제 1 및 제 2 접촉표면 사이에 위치하는 단계;e) 상기 제 1 및 제 2 접촉표면 사이에 상기 제 1 및 제 2 웨이퍼 표면에 대하여 로드를 제공하기 위해 상기 바이어싱 수단을 바이어싱하는 단계; 및f) 과전압이 발생한 동안 상기 로드를 유지하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 49 항에 있어서, 상기 바이어싱 수단은 스프링 부재를 포함하며, 상기 바이어싱하는 단계는 스프링 부재를 편향시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
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