KR20010062892A - 반도체 제조 장비의 부산물 누적 방지장치 - Google Patents

반도체 제조 장비의 부산물 누적 방지장치 Download PDF

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KR20010062892A
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Abstract

본 발명은 반도체 제조 장비의 부산물 누적 방지장치에 관한 것으로, 종래의 부산물이 많이 발생되는 반도체 제조 장비에 설치되어 사용되는 배기 파이프는 상부에 가열 밴드를 부착하여 사용하였으나, 전체적인 가열이 균형있게 이루어지지 않으므로 인해 배기 파이프의 내부에 부산물이 누적되고, 배기 파이프의 누설이 발생되었을 경우 이를 확인하기가 어려우며, 배기 파이프를 정기적으로 청소해야 하는 불편함을 초래하게 되고, 가열로 인한 인화가 발생될 우려가 있는 등의 많은 문제점이 있었던 바, 본 발명은 외부관과 부산물의 이동 통로로 사용되는 내부관의 사이에 진공 상태를 유지하도록 밀폐되어 일정 온도로 가열된 질소 가스가 충진되는 이중관으로 된 배기 파이프와, 상기 내부관의 외주면에 부착되는 가열용 히팅 코일과, 상기 배기 파이프의 외부관 상부에 설치되어 질소 가스 공급용 밸브가 구비되며 외부관과 내부관 사이의 밀폐 공간으로 질소 가스를 공급하기 위한 질소 공급라인과, 상기 배기 파이프의 외부관 상부에 각각 설치되어 외부관과 내부관의 사이에 충진된 질소 가스의 압력을 측정하기 위한 압력 게이지 및 질소 가스의 온도를 측정하기 위한 온도 측정 게이지로 구성되어 배기 파이프의 내부에 누적되는 부산물을 완벽하게 제거할 수 있을 뿐만 아니라, 배기 파이프의 누설 발생시 정밀하게 확인할 수 있어서 안전한 상태에서 사용할 수 있게 된다.

Description

반도체 제조 장비의 부산물 누적 방지장치{BY-PRODUCTS STACK INTERRUPTION DEVICE FOR SEMICONDUCTOR}
본 발명은 반도체 제조 장비의 부산물 누적 방지장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반도체 제조 장비에서 공정을 수행한 후 배기 파이프의 내부에 누적되는 부산물을 완벽하게 제거할 수 있도록 한 것이다.
일반적으로, 저압 화학 기상 증착장비, 건식각 장비, 플라즈마 화학 기상 증착장비 등에서 공정을 진행한 후, 부산물을 제거하기 위한 이동 통로로서 배기 파이프가 설치되는 데, 종래의 공정 챔버에서 웨이퍼의 가공이 이루어지면서 발생되는 부산물을 처리할 때에는 도 1에 도시한 바와 같이, 공정 챔버(11)에서 웨이퍼의 가공이 이루어지면서 발생되는 부산물들은 배기 파이프(12)를 통과한 다음, 진공 펌프(13)를 거쳐 최종적으로 1차 부산물 처리 장치인 스크러버(14)를 통과하여 2차 부산물 처리 장치로 배기된다.
이때, 상기 공정 챔버(11)와 진공 펌프(13) 사이의 배기 파이프(12)에는 공정 챔버(11)에서 발생되는 부산물들의 일부가 내부에 누적되므로 누적된 부산물들은 배기 청소를 하여 제거하는 작업을 시행하게 된다.
또한, 상기 공정 챔버(11)의 진공 및 부산물의 배기 통로로서 사용되고 있는 배기 파이프(12)는 스테인레스 재질의 두께는 대략 1.5 ㎜ 정도의 관으로 제작된다.
상기한 부산물이 많이 발생되는 반도체 제조 장비에 설치되어 사용되는 배기파이프(12)는 상부에 가열 밴드(도시는 생략함)를 부착하여 사용하였으나, 전체적인 가열이 균형있게 이루어지지 않으므로 인해 배기 파이프(12)의 내부에 부산물이 누적되고, 배기 파이프(12)의 누설이 발생되었을 경우 이를 확인하기가 어려우며, 배기 파이프(12)를 정기적으로 청소해야 하는 불편함을 초래하게 되고, 가열로 인한 인화가 발생될 우려가 있는 등의 많은 문제점이 있었다.
따라서, 본 발명은 상기한 제반 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 반도체 제조 장비에서 공정을 수행한 후 배기 파이프의 내부에 누적되는 부산물을 완벽하게 제거할 수 있을 뿐만 아니라, 배기 파이프의 누설 발생시 정밀하게 확인할 수 있어서 안전한 상태에서 사용할 수 있는 반도체 제조 장비의 부산물 누적 방지장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.
도 1은 종래의 장치를 나타낸 정면도
도 2는 본 발명을 나타낸 종단면도
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
1; 배기 파이프 2; 외부관
3; 내부관 4; 히팅 코일
5; 질소 가스 공급라인 6; 질소 가스 공급용 밸브
7; 압력 게이지 8; 온도 측정 게이지
상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명은 외부관과 부산물의 이동 통로로 사용되는 내부관의 사이에 진공 상태를 유지하도록 밀폐되어 일정 온도로 가열된 질소 가스가 충진되는 이중관으로 된 배기 파이프와, 상기 내부관의 외주면에 부착되는 가열용 히팅 코일과, 상기 배기 파이프의 외부관 상부에 설치되어 질소 가스 공급용 밸브가 구비되며 외부관과 내부관 사이의 밀폐 공간으로 질소 가스를 공급하기 위한 질소 공급라인과, 상기 배기 파이프의 외부관 상부에 각각 설치되어 외부관과 내부관의 사이에 충진된 질소 가스의 압력을 측정하기 위한 압력 게이지 및 질소 가스의 온도를 측정하기 위한 온도 측정 게이지로 구성된 것을 특징으로 하는반도체 제조 장비의 부산물 누적 방지장치가 제공된다.
이하, 상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 2는 본 발명을 나타낸 종단면도로서, 본 발명은 저압 화학 기상 증착장비, 건식각 장비, 플라즈마 화학 기상 증착장비 등에 설치되는 배기 파이프(1)가 이중관으로 되어 외부관(2)과 부산물의 이동 통로로 사용되는 내부관(3)의 사이에는 진공 상태를 유지하도록 밀폐되어 일정 온도로 가열된 질소 가스가 충진되며, 상기 내부관(3)의 외주면에는 가열용 히팅 코일(4)이 부착되고, 상기 배기 파이프(1)의 외부관(2) 상부에는 상기 외부관(2)과 내부관(3) 사이의 밀폐 공간으로 질소 가스를 공급하기 위한 질소 공급라인(5)이 연통되도록 설치되며, 질소 가스 공급라인(5)에는 질소 가스의 공급시 개방되고 공급되지 않을 때에는 폐쇄시키기 위한 질소 가스 공급용 밸브(6)가 설치된다.
또한, 상기 배기 파이프(1)의 외부관(2) 상부에는 외부관(2)과 내부관(3)의 사이에 충진된 질소 가스의 압력을 측정하기 위한 압력 게이지(7) 및 질소 가스의 온도를 측정하기 위한 온도 측정 게이지(8)가 각각 설치되어 구성된다.
상기와 같이 구성된 본 발명은 도 2에 도시한 바와 같이, 저압 화학 기상 증착장비, 건식각 장비, 플라즈마 화학 기상 증착장비 등에 설치되는 배기 파이프(1)가 외부관(2)과 내부관(3)으로 구성되는 이중관으로 설치되어 상기 외부관(2)과 내부관(3)의 사이는 진공 상태를 유지하고, 내부관(3)의 내부를 통해 공정후 발생되는 부산물이 통과하게 되는 데, 상기 배기 파이프(1)의 동작은 내부관(3)의 외주면에 부착된 히팅 코일(4)에서 1차 히팅을 실시하여 배기 파이프(1) 전체로 열전도가 될 수 있도록 하면 상기 외부관(2)과 내부관(3) 사이의 밀폐 공간에 2차적으로 질소 가스의 온도를 더욱 균일하게 가열할 수 있게 되므로 부산물을 완벽하게 제거할 수 있게 된다.
또한, 상기 배기 파이프(1)의 외부관(2) 상부에는 질소 가스 공급용 밸브(6)가 구비된 질소 가스 공급라인(5)이 설치되어 있으므로 질소 가스를 보충하고자 할 때에는 상기 질소 가스 공급용 밸브(6)를 개방시켜 질소 가스 공급라인(5)에 의해 상기 외부관(2)과 내부관(3) 사이의 밀폐 공간으로 질소 가스를 공급할 수 있게 된다.
또한, 상기 배기 파이프(1)의 외부관(2) 상부에는 각각 외부관(2)과 내부관(3)의 사이에 충진된 질소 가스의 압력을 측정하기 위한 압력 게이지(7) 및 질소 가스의 온도를 측정하기 위한 온도 측정 게이지(8)가 각각 설치되어 있으므로 질소 압력이 낮아져 누설이 발생되는 여부를 상기 압력 게이지(7)에 의해 정밀하게 확인할 수 있으며, 상기 히팅 코일(4)이 고장시에도 상기 질소 온도 측정 게이지(8)가 외부관(2)과 내부관(3) 사이에 충진된 질소 가스의 온도를 항상 측정할 수 있어서 용이하게 대응할 수 있게 된다.
이상에서 상술한 바와 같이, 본 발명은 반도체 제조 장비에서 공정을 수행한 후 배기 파이프의 내부에 누적되는 부산물을 완벽하게 제거할 수 있으며, 배기 파이프의 누설 발생시 정밀하게 확인할 수 있어서 안전한 상태에서 사용할 수 있고,히팅 코일의 고장시에도 용이하게 대응할 수 있는 등의 많은 장점이 구비된 매우 유용한 발명이다.

Claims (1)

  1. 외부관과 부산물의 이동 통로로 사용되는 내부관의 사이에 진공 상태를 유지하도록 밀폐되어 일정 온도로 가열된 질소 가스가 충진되는 이중관으로 된 배기 파이프와, 상기 내부관의 외주면에 부착되는 가열용 히팅 코일과, 상기 배기 파이프의 외부관 상부에 설치되어 질소 가스 공급용 밸브가 구비되며 외부관과 내부관 사이의 밀폐 공간으로 질소 가스를 공급하기 위한 질소 공급라인과, 상기 배기 파이프의 외부관 상부에 각각 설치되어 외부관과 내부관의 사이에 충진된 질소 가스의 압력을 측정하기 위한 압력 게이지 및 질소 가스의 온도를 측정하기 위한 온도 측정 게이지로 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장비의 부산물 누적 방지장치.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200447890Y1 (ko) * 2007-11-07 2010-03-03 조수홍 폐가스 처리용 가열 장치
KR101401853B1 (ko) * 2012-11-07 2014-05-29 최성귀 반도체 제조장치의 히팅 파이프
KR102248241B1 (ko) 2019-12-06 2021-05-06 (주)리잰 Ｐｔ 센서 포트의 막힘을 방지하기 위한 배관키트

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