KR20010018724A - Composition for enhancing adhesion of multilayer printed circuit, inner circuitry substrate for multilayer printed circuit formed using the same and surface-treating method of the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: Provided is composition for multilayer printed circuit, which doesn't occur phenomenon of pink ring and improves adhesive strength of copper foil of multilayer printed circuit with polymer resin matrix. CONSTITUTION: The composition is characterized by containing a solvent and a silane compound of formula: (Si(X)3(Y), wherein, X is one selected from halogen atom, C1-C5 alkyl group and C1-C5 alkoxy group; Y is one selected from the group consisting of C1-C5 alkyl, C1-C5 alkoxy, vinyl, allyl, cyanoalkyl group, -(CH2)m-NH-CO-NH2, -(CH2)m-O-C(CH3)=CH2, -(CH2)m-NH2, -(CH2)m-SH, -(CH2)m-Cl, -(CH2)mN-(CH2)n-NH2, , , and the following formula; and m and n are independently integer of 1-5).

Description

다층 인쇄 회로용 접착성 향상 조성물, 이를 이용하여 형성된 내층 회로 기판 및 이의 표면처리 방법{Composition for enhancing adhesion of multilayer printed circuit, inner circuitry substrate for multilayer printed circuit formed using the same and surface-treating method of the same}Composition for enhancing adhesion of multilayer printed circuit, inner circuitry substrate for multilayer printed circuit formed using the same and surface-treating method of the same }

본 발명은 다층 인쇄 회로용 접착성 향상 조성물, 이를 이용하여 형성된 내층 회로 기판 및 이 내층 회로 기판의 표면 처리 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하기로는 다층 인쇄 회로 기판의 동박과 고분자 수지 기재간의 접착력을 개선시킬 수 있는 접착성 향상 조성물, 이를 이용하여 형성된 다층 인쇄 회로의 내층 회로 기판 및 이의 표면처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an adhesive improving composition for a multilayer printed circuit, an inner layer circuit board formed using the same, and a surface treatment method of the inner layer circuit board, and more particularly, to improve adhesion between copper foil and a polymer resin substrate of a multilayer printed circuit board. It relates to an adhesive improving composition, an inner layer circuit board of a multilayer printed circuit formed using the same, and a surface treatment method thereof.

인쇄 회로는 텔레비젼, 라디오, 컴퓨터, 전화교환기, 무선송수신기 등과 같은 각종 전기 및 전자 통신기기의 정밀제어회로로서 널리 이용되고 있다.Printed circuits are widely used as precision control circuits of various electric and electronic communication devices such as televisions, radios, computers, telephone exchanges, and wireless transceivers.

인쇄 회로용 동장적층판(銅張積層板)은, 동박을 유리-에폭시 수지 함침 기재, 페놀 수지, 에폭시 수지, 폴리이미드, 폴리에스테르 등과 같은 고분자 수지 기재에 가열, 가압하여서 적층하고, 이를 에칭하여 회로망을 형성한 다음, 여기에 반도체 장치 등의 소자를 탑재함으로써 만들어진다.Copper-clad laminate for printed circuit is a copper foil is laminated on a glass-epoxy resin-impregnated substrate, a phenol resin, an epoxy resin, polyimide, polyester, and the like by heating, pressing and laminating it, and etching it. After the formation, the semiconductor device is fabricated by mounting an element such as a semiconductor device thereon.

상술한 인쇄 회로용 동박의 통상적인 제조과정을 살펴보면, 먼저, 전기분해방법으로 구리 이온을 금속으로 환원시키는 과정을 거쳐 동박을 얻은 다음, 이를 수세 및 건조한다. 그리고 나서, 동박의 절연 기재와의 접촉면 즉, 비광택면상에 돌기상 처리 공정을 실시한다. 여기에서 돌기상 처리 공정은 산화동 분말을 이용하여 동박의 표면상에 돌기상을 형성하여 동박과 절연 기재와의 표면적을 증대시킴으로써 동박과 절연기판의 접착력을 향상시키는 과정이다.Looking at the conventional manufacturing process of the copper foil for a printed circuit described above, first, a copper foil is obtained through a process of reducing copper ions to a metal by an electrolysis method, and then washed with water and dried. Then, a processus | protrusion process is performed on the contact surface with the insulating base material of copper foil, ie, a non-gloss surface. Here, the projection process is a process of improving the adhesion between the copper foil and the insulating substrate by forming a projection on the surface of the copper foil using copper oxide powder to increase the surface area of the copper foil and the insulating substrate.

그 후, 거침처리 공정을 거친 동박상에 금속 장벽층을 형성하여 구리 이온의 확산을 방지한 다음, 방청처리를 실시한다.Thereafter, a metal barrier layer is formed on the copper foil that has undergone the roughening step to prevent diffusion of copper ions, and then antirust treatment is performed.

마지막으로, 동박과 절연기판과의 접착력을 향상시키기 위하여 화학결합제를 이용한 화학적 접착력 향상 처리를 실시한다(일본 특개소 제63-183178호 및 일본 특개평 제2-26097호).Finally, in order to improve the adhesive force between the copper foil and the insulating substrate, chemical adhesion improving treatment using a chemical binder is carried out (Japanese Patent Laid-Open No. 63-183178 and Japanese Patent Laid-Open No. 2-26097).

한편, 최근에는 인쇄회로 기판의 고품질화에 따라 기판의 회로가 점차 미세화, 고집적화 및 소형화되면서, 다층 인쇄 회로 기판에 대한 수요가 점차적으로 증가하고 있는 추세이다.On the other hand, in recent years, as the circuit of the substrate is gradually miniaturized, highly integrated and miniaturized according to the high quality of the printed circuit board, the demand for the multilayer printed circuit board is gradually increasing.

다층 인쇄 회로 기판의 경우, 내부 회로 기판의 동박 표면과 고분자 기재와의 접착력을 향상시키기 위하여 통상적으로 소위 "블랙 옥사이드(black oxide) 처리"라고 불리우는 산화동 처리를 실시한다.In the case of a multilayer printed circuit board, in order to improve the adhesive force between the copper foil surface of the internal circuit board and the polymer substrate, a so-called copper oxide treatment commonly referred to as "black oxide treatment" is performed.

그런데, 이와 같이 산화동 처리를 하는 경우에는 동박과 고분자 수지 기재간의 접착력이 향상되지만 강알칼리성 용액을 이용하면서 고온에서 이루어지므로 작업자의 건강 및 안전성면에서 바람직하지 못하다. 이밖에도 산화동 처리로 얻어진 동박 표면에 검은 반점, 먼지 등과 같은 이물질이 잔류하며, 표면 평활성이 불량해진다. 이밖에도 과다 처리시 산화물이 부스러져 수지층과의 접착력이 저하되는 문제점이 있다.By the way, when the copper oxide treatment is performed in this way, the adhesion between the copper foil and the polymer resin substrate is improved, but it is not preferable in terms of health and safety of the worker because it is made at a high temperature while using a strong alkaline solution. In addition, foreign matters such as black spots and dust remain on the surface of the copper foil obtained by the copper oxide treatment, and the surface smoothness becomes poor. In addition, there is a problem in that the oxide is deteriorated during the overtreatment, the adhesive strength with the resin layer is lowered.

다층 인쇄 회로는, 각 층의 회로들이 서로 전기적으로 연결될 수 있도록 도금처리된 쓰루홀(through-hole)을 가지고 있다. 이러한 쓰루홀의 도금 공정은 홀 표면으로부터 수지를 제거하는 단계, 촉매를 이용한 활성화 단계, 무전해 구리 도금, 전해 구리 도금 등의 도금 단계를 포함한다. 그런데, 이러한 도금 공정에서는 무기산(inorganic acid)을 빈번하게 사용하게 되는데, 이 무기산이 쓰루홀이나 그 근처영역에 노출되어 있는 산화동과 같은 접착성 향상층을 일부 용해시키게 된다. 이와 같이 산화동 일부가 용해되는 현상을 핑크링(pink ring) 또는 할로잉(haloing)이라고 칭하는데, 하부층에 존재하는 구리 금속이 노출됨으로써 핑크색을 띠게 되고 이로써 국부적인 회로 박리가 유발된다.Multilayer printed circuits have plated through-holes so that the circuits of each layer can be electrically connected to one another. The through hole plating process includes a step of removing resin from the hole surface, an activation step using a catalyst, an electroless copper plating, an electrolytic copper plating, and the like. However, in such a plating process, an inorganic acid is frequently used, and the inorganic acid dissolves an adhesion improving layer, such as copper oxide, which is exposed to a through hole or a region near it. The dissolution of a part of copper oxide is called a pink ring or haloing, and the copper metal present in the lower layer is exposed to pink color, thereby causing local circuit peeling.

상술한 문제점을 해결하기 위하여 산화동의 두께를 두껍게 하는 방법이 제안되었지만, 오히려 두꺼운 산화동층이 동박과 고분자 수지 기재간의 접착력 개선 효과를 저하시키는 문제점이 있다.In order to solve the above problems, a method of increasing the thickness of copper oxide has been proposed, but there is a problem in that a thick copper oxide layer lowers the effect of improving adhesion between the copper foil and the polymer resin substrate.

미국 특허 제4,775,44호에 따르면, 접착성 향상제인 산화동으로 표면처리된 내층 회로 기판사이에 반경화된(semi-cured) 비전도성 고분자 수지층인 프리프레그(pre-preg)층을 삽입함으로써 다층 인쇄 회로 기판을 완성하는데, 산화동으로 표면처리된 내층 회로 기판과 프리프레그층을 포함하여 된 인쇄 기판을 다층으로 적층하기 이전에 수용성 크롬산 용액에 접촉시키는 것을 특징으로 하는 방법이 공지되어 있다. 여기에서 수용성 크롬산 용액과 접촉하는 것은 산화동층이 산성 매질에 의하여 일부 용해되는 것을 억제하여 핑크링과 국부적인 회로 박리를 막고자 한 것이다.According to U.S. Patent No. 4,775,44, a multi-layer is formed by inserting a pre-preg layer, a semi-cured non-conductive polymer resin layer, between inner-layer circuit boards surface-treated with an adhesion promoter, copper oxide. A method of completing a printed circuit board is known, which comprises contacting an aqueous chromic acid solution prior to laminating a printed circuit board comprising a prepreg layer and an inner layer circuit board surface-treated with copper oxide. The contact with the aqueous chromic acid solution here is intended to prevent the copper oxide layer from partially dissolving by the acidic medium to prevent pink ring and local circuit peeling.

미국 특허 제 4,642,161호, 제 4,902,551호 및 제4,981,560호는 다층 인쇄 회로 기판을 구성하기 전에 접착성 향상제로 동박 표면에 산화동을 처리하는 방법을 개시하고 있는데, 이 내용에 의하면 동박 표면에 형성된 산화동은 환원제에 의하여 금속구리로 환원된다. 결과적으로 다층 인쇄 회로 기판의 내층회로에서 산화동의 용해에 기인한 핑크링 현상은 없으나 금속구리의 박리현상, 즉 산화동의 환원에 의한 구리와 전해 동박의 상분리 현상에 의해 상 경계면에서 박리가 쉽게 일어난다는 문제점이 있다.U.S. Patent Nos. 4,642,161, 4,902,551 and 4,981,560 disclose a method of treating copper oxide on the surface of copper foil with an adhesion enhancer before constructing a multilayer printed circuit board. To metal copper. As a result, there is no pinking phenomenon due to the dissolution of copper oxide in the inner layer circuit of the multilayer printed circuit board, but peeling occurs easily at the phase interface due to peeling of metal copper, that is, phase separation of copper and electrolytic copper foil by reduction of copper oxide. There is a problem.

WO 96/19097는 내부 회로 기판에 대한 고분자 수지 기재의 접착력을 향상시키기 위하여 금속 표면을 과산화수소, 무기산, 부식방지제 및 계면활성제인 4급 암모늄염을 함유하는 접착력 향상 조성물과 접촉시키는 방법을 공지하고 있다. 이 방법에 따르면, 종래기술에 비하여 핑크링 현상이 다소 감소되기는 하나, 핑크링 현상을 최소화시켜야 하고 경제성이 떨어지므로 개선의 여지가 많다.WO 96/19097 discloses a method of contacting a metal surface with an adhesion enhancing composition containing hydrogen peroxide, an inorganic acid, a preservative and a quaternary ammonium salt, which is a surfactant, in order to improve the adhesion of the polymeric resin substrate to the internal circuit board. According to this method, the pink ring phenomenon is slightly reduced compared with the prior art, but there is a lot of room for improvement because the pink ring phenomenon should be minimized and the economy is inferior.

또한, 미국 특허 제 5,869,130호에는 금속 표면을 산화제, 산(acid), 부식방지제, 염소 이온 공급원 및 수용성 고분자를 함유한 접착성 향상 조성물과 접촉시킨 다음, 이 금속 표면에 고분자 물질을 결합시키는 방법이 공지되어 있다. 이 방법에 따르면, 금속 특히, 구리 또는 구리 합금 표면에 대한 고분자 수지 기재의 접착력을 향상시킬 수는 있었지만, 동박의 표면상에 형성된 산화동층이 부식되는 현상 즉, 핑크링 현상을 완전히 제거할 수는 없었다.U.S. Patent 5,869,130 also discloses a method of contacting a metal surface with an adhesion enhancing composition containing an oxidizing agent, an acid, a corrosion inhibitor, a source of chlorine ions, and a water soluble polymer, and then bonding the polymeric material to the metal surface. Known. According to this method, the adhesion of the polymer resin substrate to the surface of the metal, in particular copper or copper alloy, can be improved, but the phenomenon that the copper oxide layer formed on the surface of the copper foil is corroded, that is, the pink ring phenomenon cannot be completely eliminated. There was no.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상기 문제점을 해결하여 핑크링 현상이 전혀 없고 동박과 고분자 수지 기재와의 접착력을 향상시킬 수 있는 다층 인쇄 회로용 접착성 향상 조성물을 제공하는 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is to solve the above problems and to provide an adhesive improving composition for a multilayer printed circuit that can improve the adhesion between the copper foil and the polymer resin substrate without any pinking phenomenon.

본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상기 다층 인쇄 회로용 접착성 향상 조성물을 이용하여 얻어진 다층 인쇄 회로의 내층 회로 기판을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an inner circuit board of a multilayer printed circuit obtained by using the adhesion improving composition for multilayer printed circuits.

본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는 상기 내층 회로 기판의 표면 처리 방법을 제공하는 것이다.Another technical problem to be achieved by the present invention is to provide a surface treatment method of the inner circuit board.

상기 첫번째 기술적 과제를 이루기 위하여 본 발명에서는,In the present invention to achieve the first technical problem,

화학식 1의 실란 화합물과 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄 회로용 접착성 향상 조성물을 제공한다.It provides an adhesive improving composition for a multilayer printed circuit comprising a silane compound of Formula 1 and a solvent.

<화학식 1><Formula 1>

Si(X)3(Y)Si (X) 3 (Y)

상기식중, X는 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 및 탄소수 1 내지 5의 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되고,Wherein X is selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms,

Y는 탄소수 1 내지 5의 알킬기, 탄소수 1 내지 5의 알콕시기, 비닐기, 알릴기, 시아노알킬기,Y is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a vinyl group, an allyl group, a cyanoalkyl group,

로 이루어진 군으로부터 선택되고,Selected from the group consisting of

m과 n은 서로에 관계없이 1 내지 5의 정수이다.m and n are integers of 1 to 5 irrespective of each other.

본 발명의 두번째 과제는, 동박과 이들 사이에 삽입된 절연 기재를 포함하여 된 동박 적층 기판의 동박 표면에 산화동 처리 없이, 동박의 광택면에 방청막이 형성되어 있으며, 이 방청막 상부에 화학식 1의 실란 화합물 함유 조성물을 코팅 및 건조하여 된 표면 처리막이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 다층 회로용 내부 회로 기판에 의하여 이루어진다.A second object of the present invention is to form a rust-proof film on the glossy surface of the copper foil without copper oxide treatment on the surface of the copper foil laminated substrate including the copper foil and an insulating substrate interposed therebetween, It consists of the internal circuit board for multilayer circuits characterized by the surface treatment film formed by coating and drying a silane compound containing composition.

<화학식 1><Formula 1>

Si(X)3(Y)Si (X) 3 (Y)

상기식중, X는 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 및 탄소수 1 내지 5의 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되고,Wherein X is selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms,

Y는 탄소수 1 내지 5의 알킬기, 탄소수 1 내지 5의 알콕시기, 비닐기, 알릴기, 시아노알킬기,Y is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a vinyl group, an allyl group, a cyanoalkyl group,

로 이루어진 군으로부터 선택되고,Selected from the group consisting of

m과 n은 서로에 관계없이 1 내지 5의 정수이다.m and n are integers of 1 to 5 irrespective of each other.

상기 화학식 1의 실란 화합물은 특히, 비닐트리클로로실란(H2C=CHSiCl3), 비닐트리에톡시실란[H2C=CHSi(OC2H5)3], 비닐트리메톡시실란[H2C=CHSi(OCH3)3], 알릴트리에톡시실란[H2C=CHCH2Si(OC2H5)3], 알릴트리메톡시실란[H2C=CHCH2Si(OCH3)3], 시아노에틸트리에톡시실란[CNCH2CH2Si(OC2H5)3], 시아노메틸트리메톡시실란[CNCH2Si(OCH3)3], N-(트리에톡시실릴)프로필우레아[(C2H5O)3Si(CH2)3NHC(=O)NH2], 하기 구조식 (A)의 N-〔3-(트리에톡시실릴)-프로필-4,5-디하이드로이미다졸, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란[H2C=C(CH3)OCH2CH2CH2Si(OCH3)3] 하기 구조식 (B)의 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 하기 구조식 (C)의 ß-(3,4-에폭시시클로헥실)-에틸트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란[H2NCH2CH2N(CH2)3Si(OCH3)3], 3-아미노프로필트리에톡시실란[H2N(CH2)3Si(OCH2CH3)3], 3-메르캅토프로필트리메톡시실란[HS(CH2)3Si(OCH3)3], 또는 3-클로로프로필트리메톡시실란[Cl(CH2)3Si(OCH3)3]인 것이 바람직하며, 그 함량은 조성물의 총중량을 기준으로 하여 0.001 내지 5중량%이다.The silane compound of Chemical Formula 1 may include, in particular, vinyltrichlorosilane (H 2 C═CHSiCl 3 ), vinyltriethoxysilane [H 2 C═CHSi (OC 2 H 5 ) 3 ], vinyltrimethoxysilane [H 2 C = CHSi (OCH 3 ) 3 ], allyltriethoxysilane [H 2 C = CHCH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ], allyltrimethoxysilane [H 2 C = CHCH 2 Si (OCH 3 ) 3 ], Cyanoethyltriethoxysilane [CNCH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 ], cyanomethyltrimethoxysilane [CNCH 2 Si (OCH 3 ) 3 ], N- (triethoxysilyl) Propylurea [(C 2 H 5 O) 3 Si (CH 2 ) 3 NHC (= 0) NH 2 ], N- [3- (triethoxysilyl) -propyl-4,5- of Structural Formula (A) Dihydroimidazole, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane [H 2 C═C (CH 3 ) OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ] 3-glycidoxypropyl of the following structural formula (B) Trimethoxysilane, ß- (3,4-epoxycyclohexyl) -ethyltrimethoxysilane of the following structural formula (C), N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane [H 2 NCH 2 CH 2 N (CH 2) 3 Si (OCH 3) 3], 3- O The exposure profile triethoxysilane [H 2 N (CH 2) 3 Si (OCH 2 CH 3) 3], 3- mercaptopropyltrimethoxysilane [HS (CH 2) 3 Si (OCH 3) 3], or It is preferably 3-chloropropyltrimethoxysilane [Cl (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 ], the content of which is 0.001 to 5% by weight based on the total weight of the composition.

본 발명의 세번째 기술적 과제는 (a) 동박과 이들 사이에 삽입된 절연 기재를 포함하여 된 동박 적층 기판의 동박 표면에 산화동 처리 없이, 동박의 광택면에 방청층을 형성하는 단계; 및The third technical problem of the present invention is the step of (a) forming a rustproof layer on the glossy surface of the copper foil, without the copper oxide treatment on the surface of the copper foil of the copper foil laminated substrate including the copper foil and an insulating substrate inserted therebetween; And

(b) 방청층이 형성된 동박 적층기판을 수세 및 건조한 다음, 이 방청층 상부에 화학식 1의 실란 화합물을 포함하는 조성물을 코팅 및 건조하여 표면 처리막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄 회로용 내층 회로 기판의 표면 처리 방법에 의하여 이루어진다.(b) washing and drying the copper foil laminated substrate on which the rust-preventing layer is formed, and then coating and drying the composition comprising the silane compound of Formula 1 on the rust-proof layer to form a surface treatment film. It is made by the surface treatment method of the inner layer circuit board for circuits.

<화학식 1><Formula 1>

Si(X)3(Y)Si (X) 3 (Y)

상기식중, X는 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 및 탄소수 1 내지 5의 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되고,Wherein X is selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms,

Y는 탄소수 1 내지 5의 알킬기, 탄소수 1 내지 5의 알콕시기, 비닐기, 알릴기, 시아노알킬기,Y is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a vinyl group, an allyl group, a cyanoalkyl group,

로 이루어진 군으로부터 선택되고,Selected from the group consisting of

m과 n은 서로에 관계없이 1 내지 5의 정수이다.m and n are integers of 1 to 5 irrespective of each other.

본 발명은, 내부 회로 기판의 동박과 고분자 수지 기재간의 접착력을 향상시키기 위한 접착성 향상 조성물을 제공하는 데 그 특징이 있다. 또한, 본 발명은 동박과 이들 사이에 절연 기재인 고분자 수지 기재를 삽입하여 동박 적층 기판을 형성하고, 이 동박 적층 기판의 동박 광택면에 산화동 처리를 거치지 않고, 동박 광택면에 바로 방청층과, 화학식 1의 실란 화합물을 함유하는 접착성 향상 조성물을 코팅 및 건조하여 된 표면처리막을 형성한데 그 특징이 있다.This invention has the characteristics in providing the adhesive improvement composition for improving the adhesive force between the copper foil of an internal circuit board, and a polymeric resin base material. Moreover, this invention forms the copper foil laminated board | substrate by inserting copper foil and the polymeric resin base material which is an insulation base material between them, and a rustproof layer directly on the copper foil glossy surface, without going through copper oxide treatment on the copper foil glossy surface of this copper foil laminated substrate, It is characterized by coating and drying the adhesion improving composition containing the silane compound of Formula 1 to form a surface treatment film.

화학식 1의 실란 화합물은 그 자체만을 코팅하는 것도 가능하고, 용매에 용해한 상태로 코팅하는 것도 무방하다. 실란 화합물 자체를 코팅하는 경우에는 코팅후 대기중에서 소정시간동안 방치시켜 대기중의 수분과 동박의 표면에 코팅된 실란 화합물이 반응할 수 있도록 한다. 이러한 반응 결과, 표면처리막은 실란 화합물의 가수분해물의 자체 축합 반응 결과물로 이루어지게 된다.The silane compound of Formula 1 may be coated only on its own, or may be coated in a state dissolved in a solvent. In the case of coating the silane compound itself, it is allowed to stand in the air for a predetermined time after the coating so that the silane compound coated on the surface of the copper foil and the moisture in the air may react. As a result of this reaction, the surface treatment film is made of the result of the self-condensation reaction of the hydrolyzate of the silane compound.

상술한 바와 같이 화학식 1의 실란 화합물은 물 또는 물과 유기용매의 혼합용매에 용해한 상태로 코팅하는 것도 가능하다. 이와 같이 물에 용해시키면 실란 화합물이 가수분해되고 이 가수분해물이 자체 축합되어 고분자 수지를 형성한다. 이와 같이 형성된 고분자 수지가 내부 회로 기판의 동박과 고분자 수지 기재간의 접착력을 향상시키는 역할을 수행한다.As described above, the silane compound of Formula 1 may be coated in a state dissolved in water or a mixed solvent of water and an organic solvent. When dissolved in water as described above, the silane compound is hydrolyzed and the hydrolyzate condenses itself to form a polymer resin. The polymer resin thus formed serves to improve adhesion between the copper foil of the internal circuit board and the polymer resin substrate.

본 발명에서는 이미 언급한 바와 같이 레지스트막을 완전히 제거하고 회로를 완전히 형성된 상태에서 내층 회로 기판의 동박 표면에 방청층과 접착력 향상을 위한 표면처리막을 형성하며, 방청층 형성전에 산화동 처리를 하지 않으므로 핑크링 현상이 전혀 일어나지 않는다. 그리고 상기 표면처리막의 두께가 수 내지 수십Å이므로 두께 및 표면거칠기 특성을 양호하게 유지하면서 동박 표면과 고분자 수지 기재간의 접착력을 증진시킬수 있다. 따라서 미세회로화에 유리하고 핑크링 현상이 전혀 없이 다층 인쇄 회로 기판의 내층 회로 구성이 가능하게 된다.In the present invention, as mentioned above, the resist film is completely removed and a circuit treatment film is formed on the copper foil surface of the inner circuit board in a state where the circuit is completely formed. The phenomenon does not occur at all. And because the thickness of the surface treatment film is several to several tens of microns, it is possible to improve the adhesion between the surface of the copper foil and the polymer resin substrate while maintaining the thickness and surface roughness characteristics. Therefore, it is advantageous to microcircuit and it is possible to configure the inner layer circuit of the multilayer printed circuit board without any pinking phenomenon.

이하, 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로의 내부 회로 기판의 표면 처리방법을 살펴보기로 한다.Hereinafter, a method of treating a surface of an internal circuit board of a multilayer printed circuit according to the present invention will be described.

먼저, 레지스트를 이용하여 동박에 원하는 바대로 회로 패턴을 형성하여 패턴화된 동박 적층 기판인 내부 회로 기판을 제조한다. 이 내부 회로 기판의 동박 표면에 돌기상 처리 즉, 산화동 처리를 않은 상태에서 동박의 광택면에 방청 처리를 실시한다. 이 방청 처리 방법은 특별히 제한되지는 않으나, 본 발명에서는 동박의 광택면을 방청제인 크롬 화합물을 함유한 전해 도금욕조에 침적시킨 다음, 소정 전류를 전해욕조에 인가하여 음극의 크롬이 양극의 동박 표면에 전착시키는 방법을 사용한다.First, a circuit pattern is formed on copper foil as desired using a resist, and an internal circuit board which is a patterned copper foil laminated substrate is manufactured. The antirust process is given to the gloss surface of copper foil in the state which has not provided the processus process, ie, copper oxide process, on the copper foil surface of this internal circuit board. The antirust treatment method is not particularly limited, but in the present invention, the glossy surface of the copper foil is deposited in an electrolytic plating bath containing a chromium compound as a rust preventive agent, and then a predetermined current is applied to the electrolytic bath so that the chromium of the cathode is coated on the copper foil surface of the anode. Electrodeposition method is used.

상기 크롬 화합물의 예로는 삼산화크롬, 크롬무수물, 크롬산, 중크롬산칼륨, 중크롬산나트륨과 같은 중크롬산염 및 크롬산칼륨과 같은 크롬산염을 들 수 있다. 그리고 크롬 화합물의 농도는 0.1 ∼ 10g/ℓ 바람직하게는 1.0 ∼ 10g/ℓ인 것이 바람직하다.Examples of the chromium compound include chromium trioxide, chromium anhydride, chromic acid, potassium dichromate, dichromate such as sodium dichromate and chromate such as potassium chromate. The concentration of the chromium compound is preferably 0.1 to 10 g / l, preferably 1.0 to 10 g / l.

상기 방청 처리시 크롬 화합물의 전착 효율을 높이기 위해 전해 도금 욕조에 효력 증강제를 더 첨가하기도 한다. 여기에서 효력 증강제로는 아세트산아연, 염화아연, 시안화아연, 질산아연, 황산아연 등과 같은 아연 화합물, 또는 인산, 아인산, 다중인산, 피로인산, 인산염, 피로인산염 등과 같은 인산 화합물을 들 수 있다.In order to increase the electrodeposition efficiency of the chromium compound during the rust prevention treatment, an effect enhancer may be further added to the electrolytic plating bath. Here, the effect enhancer may be zinc compounds such as zinc acetate, zinc chloride, zinc cyanide, zinc nitrate, zinc sulfate, or phosphoric acid compounds such as phosphoric acid, phosphorous acid, polyphosphoric acid, pyrophosphate, phosphate, pyrophosphate, and the like.

방청 처리 단계에서 전해 도금 욕조의 온도는 약 15 ∼ 40℃이며, 바람직하게는 20 ∼ 25℃이다. 그리고 크롬 화합물을 함유한 전해 도금 욕조의 수소이온 농도는 크롬 화합물의 종류에 따라 다르므로 그다지 중요하지 않다.The temperature of the electrolytic plating bath in the antirust treatment step is about 15 to 40 ° C, preferably 20 to 25 ° C. The hydrogen ion concentration of the electrolytic plating bath containing the chromium compound is not so important because it depends on the type of the chromium compound.

전류밀도는 약 0.1 ∼ 10 A/dm2이며 바람직하게는 0.5 ∼ 5 A/dm2이며, 동박 표면을 전해 도금욕조에 전착시키는 시간은 약 1 ∼ 20초간, 바람직하게는 5 ∼ 10초이다. 이와 같은 과정으로 형성된 방청층의 두께는 약 25 ∼ 100Å이다.The current density is about 0.1 to 10 A / dm 2 , preferably 0.5 to 5 A / dm 2 , and the time for electrodepositing the copper foil surface to the electrolytic plating bath is about 1 to 20 seconds, preferably 5 to 10 seconds. The thickness of the antirust layer formed by such a process is about 25-100 kPa.

이어서, 방청층이 형성된 내부 회로 기판을 탈이온수로 세정한 다음 건조시킨다. 이 때 세정 용액은 회로의 표면으로부터 과량의 크롬 용액을 제거하는 역할을 한다.Subsequently, the internal circuit board on which the rust preventive layer was formed is washed with deionized water and then dried. The cleaning solution then serves to remove excess chromium solution from the surface of the circuit.

그 후, 화학식 1의 실란 화합물과 용매를 포함하는 접착성 향상 조성물을 코팅 및 건조한다. 이 때 용매는 물 또는 물과 에탄올, 메탄올, 메틸에틸케톤 및 벤젠중에서 선택된 하나 이상의 혼합 용매를 사용한다.Thereafter, the adhesion improving composition comprising the silane compound of Formula 1 and a solvent is coated and dried. At this time, the solvent is water or at least one mixed solvent selected from ethanol, methanol, methyl ethyl ketone and benzene.

여기에서 화학식 1의 실란 화합물을 함유하는 접착성 향상 조성물의 코팅방법은 특별히 제한되지 않는다. 구체적인 예로서 침적법, 스프레이법, 전기화학적인 도포방법 등이 가능한데, 그 중에서도 스프레이 방법이 보다 간편한 방법이다. 그리고 조성물의 코팅 후에는 고무 롤러 등으로 균일하게 스퀴징하는 것이 좋다.Herein, the coating method of the adhesion improving composition containing the silane compound of Formula 1 is not particularly limited. As a specific example, a deposition method, a spray method, an electrochemical coating method, etc. are possible, and a spray method is a simpler method among these. And after coating of the composition, it is preferable to squeeze uniformly with a rubber roller or the like.

상기 실란 화합물은 그 화합물 자체를 동박에 직접 코팅하여도 무방하고, 물, 에탄올, 메탄올, 메틸에틸케톤, 벤젠 등의 용매에 용해한 조성물을 코팅하는 것도 가능한데, 그 중에서도 조성물 상태로 코팅하는 것이 보다 바람직하다. 그 이유는 농도 조절 및 코팅량 조절이 보다 용이하기 때문이다. 이 때 실란 화합물의 함량은 조성물의 총중량을 기준으로 하여 0.001 내지 5 중량%, 특히 0.1 내지 1 중량%인 것이 바람직하다. 여기에서 실란 화합물의 함량이 0.001 중량% 미만인 경우에는 동박과 절연 기재간의 접착력이 충분치 않고, 5 중량%를 초과하는 경우에는 동박의 제조비용을 상승시켜 비경제적이므로 바람직하지 못하다.The silane compound may be coated directly on the copper foil of the compound itself, it is also possible to coat a composition dissolved in a solvent such as water, ethanol, methanol, methyl ethyl ketone, benzene, and more particularly, the coating in the composition state Do. This is because the concentration control and the coating amount control is easier. At this time, the content of the silane compound is preferably 0.001 to 5% by weight, particularly 0.1 to 1% by weight based on the total weight of the composition. In the case where the content of the silane compound is less than 0.001% by weight, the adhesion between the copper foil and the insulating substrate is not sufficient, and when the content of the silane compound exceeds 5% by weight, the production cost of the copper foil is increased, which is not economical.

실란 화합물 함유 조성물의 온도는 특별히 제한되지는 않으나, 15 ∼ 45℃, 보다 바람직하게는 약 20 ∼ 30℃로 조절하는 것이 바람직하다. 그리고 실란 화합물 함유 조성물을 코팅한 후의 내부 회로 기판의 건조온도는 60 ∼ 170℃, 보다 바람직하게는 약 90 ∼ 150℃이다. 여기에서 건조온도가 60℃ 미만인 경우에는 실란 화합물의 가수분해물의 자체 축합 반응이 원할하지 못하여 동박과 절연 기재간의 접착력 향상 효과가 미미하고, 170℃를 초과하는 경우에는 높은 열에 의하여 구리가 산화되므로 바람직하지 못하다.Although the temperature in particular of a silane compound containing composition is not restrict | limited, It is preferable to adjust to 15-45 degreeC, More preferably, it is about 20-30 degreeC. And the drying temperature of the internal circuit board after coating a silane compound containing composition is 60-170 degreeC, More preferably, it is about 90-150 degreeC. In the case where the drying temperature is less than 60 ° C, the self-condensation reaction of the hydrolyzate of the silane compound is not desired, and the effect of improving adhesion between the copper foil and the insulating substrate is insignificant, and when it exceeds 170 ° C, the copper is oxidized by high heat. I can't.

이하, 본 발명을 하기 실시예를 들어 상세히 설명하기로 하되, 본 발명이 하기 실시예로만 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to the following examples.

실시예 1Example 1

동박 적층 기판의 동박 광택면을 탈이온수로 세정한 다음, 무수크롬산 2g/ℓ를 함유하는 전해 도금욕에서 전류밀도 1A/dm2으로 5초동안 도금하여 방청막을 형성하였다.The copper foil polished surface of the copper foil laminated substrate was washed with deionized water, and then plated for 5 seconds at a current density of 1 A / dm 2 in an electrolytic plating bath containing 2 g / l of chromic anhydride to form an rust preventive film.

방청막이 형성된 동박 표면을 수세 및 건조한 다음, 이를 접착성 향상 조성물에 30초 동안 침적한 다음, 110℃에서 5분동안 건조하였다. 여기에서 접착성 향상 조성물은 3-아미노프로필트리에톡시시란 0.2 중량%를 물 99.8 중량%에 희석하여 제조하였다.The copper foil surface on which the rust preventive film was formed was washed with water and dried, which was then immersed in the adhesion improving composition for 30 seconds, and then dried at 110 ° C. for 5 minutes. The adhesion improving composition was prepared by diluting 0.2 wt% of 3-aminopropyltriethoxysilane with 99.8 wt% of water.

이어서, 상기 결과물 동박을 에폭시 수지 함침 유리섬유 기재(ANSI grade FR-4)에 175℃, 30kgf/㎠로 2시간동안 성형하여 다층 인쇄 회로를 완성하였다.Subsequently, the resultant copper foil was molded on an epoxy resin-impregnated glass fiber substrate (ANSI grade FR-4) at 175 ° C. at 30 kgf / cm 2 for 2 hours to complete a multilayer printed circuit.

실시예 2Example 2

접착성 향상 조성물 제조시 3-아미노프로필트리에톡시실란 대신에 3-글리시독시프로필트리메톡시실란을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법에 따라 실시하여 다층 인쇄 회로를 완성하였다.Except that 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane was used instead of 3-aminopropyltriethoxysilane in preparing the adhesion improving composition, the same procedure as in Example 1 was performed to complete a multilayer printed circuit.

실시예 3Example 3

접착성 향상 조성물 제조시 3-아미노프로필트리에톡시시란 대신 3-메르캅토프로필트리메톡시실란을 시용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법에 따라 실시하여 다층 인쇄 회로를 완성하였다.A multilayer printed circuit was completed in the same manner as in Example 1, except that 3-mercaptopropyltrimethoxysilane was used instead of 3-aminopropyltriethoxysilane in the preparation of the adhesion improving composition.

비교예Comparative example

접착성 향상 조성물을 이용한 결합 촉진 처리를 실시하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 실시하여 다층 인쇄 회로를 완성하였다.A multilayer printed circuit was completed in the same manner as in Example 1 except that the bond promoting treatment using the adhesion improving composition was not performed.

상기 실시예 1-3 및 비교예에 따라 제조된 다층 인쇄 회로에 있어서, JIS C6481에 준하여 동박과 FR-4 수지 기재와의 박리강도를 측정하였다.In the multilayer printed circuit manufactured according to the said Example 1-3 and the comparative example, the peeling strength of copper foil and FR-4 resin base material was measured according to JIS C6481.

측정 결과, 실시예 1의 경우는 1.0kgf/cm, 실시예 2의 경우는 0.98kgf/cm, 실시예 3의 경우는 0.89kgf/cm인 데 반하여, 비교예의 경우는 0.2kgf/cm이었다. 이와 같이 실시예 1-3의 경우는 비교예의 경우에 비하여 동박과 FR-4 수지 기재와의 접착력이 개선된다는 사실을 확인할 수 있었다.As a result of the measurement, in the case of Example 1, it was 1.0kgf / cm, in the case of Example 2, 0.98kgf / cm, and in Example 3, it was 0.89kgf / cm, whereas in the comparative example, it was 0.2kgf / cm. Thus, in the case of Example 1-3, compared with the case of the comparative example, it was confirmed that the adhesive force of copper foil and FR-4 resin base material improves.

또한, 상기 실시예 1-3에 따르면, 동박 표면의 산화동 처리를 행하는 과정을 거치지 않기 때문에 종래의 핑크링 현상이 전혀 없었다. 이와 같이 산화동 처리 과정을 생략할 수 있으므로 표면 처리 과정이 종래의 경우에 비하여 보다 단순해지고 처리 비용이 절감되었다.In addition, according to the above Example 1-3, there was no conventional pinking phenomenon since the process of performing copper oxide treatment on the surface of the copper foil was not performed. Since the copper oxide treatment process can be omitted, the surface treatment process is simpler than the conventional case and the treatment cost is reduced.

본 발명에 따르면, 산화동 처리를 행하는 과정 없이 내층 회로 기판의 동박 광택면에 방청층과 접착성 향상을 위한 표면처리막을 형성하기 때문에 핑크링 현상이 전혀 발생되지 않으면서 동박 표면과 절연 기재간의 접착력을 향상시킬 수 있다. 그리고, 이와 같이 산화동 처리 과정이 불필요하므로 표면 처리 과정이 보다 단순해지고 처리비용이 절감될 뿐만 아니라 산화동 처리시 발생하는 부생가스, 처리 및 수세 및 건조 과정이 생략되고 광택면의 이물질도 없으므로 인쇄 회로의 불량률도 현저히 줄어든다.According to the present invention, since the surface treatment film for improving the adhesion to the rust-proof layer and the adhesion on the copper foil glossy surface of the inner layer circuit board without the process of copper oxide treatment, the adhesion between the copper foil surface and the insulating substrate without any pinking phenomenon occurs Can be improved. In addition, since the copper oxide treatment process is unnecessary, the surface treatment process is simpler and the treatment cost is reduced, and the by-product gas generated during the copper oxide treatment, the treatment and washing and drying processes are omitted, and there is no foreign matter on the glossy surface. Defective rate is also significantly reduced.

따라서, 본 발명에 따르면, 미세회로화에 유리하고 핑크링 현상이 전혀 없이 다층 인쇄 회로의 내층 회로 기판을 얻을 수 있다.Therefore, according to the present invention, it is possible to obtain an inner circuit board of a multilayer printed circuit, which is advantageous for microcircuiting and without any pinking phenomenon.

Claims (11)

화학식 1의 실란 화합물과 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄 회로용 접착성 향상 조성물.An adhesion improving composition for a multilayer printed circuit comprising a silane compound of Formula 1 and a solvent. <화학식 1><Formula 1> Si(X)3(Y)Si (X) 3 (Y) 상기식중, X는 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 및 탄소수 1 내지 5의 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되고,Wherein X is selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, Y는 탄소수 1 내지 5의 알킬기, 탄소수 1 내지 5의 알콕시기, 비닐기, 알릴기, 시아노알킬기,Y is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a vinyl group, an allyl group, a cyanoalkyl group, 로 이루어진 군으로부터 선택되고,Selected from the group consisting of m과 n은 서로에 관계없이 1 내지 5의 정수이다.m and n are integers of 1 to 5 irrespective of each other. 제1항에 있어서, 상기 화학식 1의 실란 화합물이 비닐트리클로로실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 알릴트리에톡시실란, 알릴트리메톡시실란, 시아노에틸트리에톡시실란, 시아노메틸트리메톡시실란, N-(트리에톡시실릴)프로필우레아, N-〔3-(트리에톡시실릴)-프로필〕-4,5-디하이드로이미다졸, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, ß-(3,4-에폭시시클로헥실)-에틸트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란 및 3-클로로프로필트리메톡시실란로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 다층 인쇄 회로용 접착성 향상 조성물.The silane compound of claim 1, wherein the silane compound of Formula 1 is vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, cyanoethyltriethoxysilane, Cyanomethyltrimethoxysilane, N- (triethoxysilyl) propylurea, N- [3- (triethoxysilyl) -propyl] -4,5-dihydroimidazole, 3-methacryloxypropyltri Methoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, ß- (3,4-epoxycyclohexyl) -ethyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane And at least one selected from the group consisting of 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and 3-chloropropyltrimethoxysilane. 동박과 이들 사이에 삽입된 절연 기재를 포함하여 된 동박 적층 기판의 동박 표면에 산화동 처리 없이, 동박의 광택면에 방청막이 형성되어 있으며, 이 방청막 상부에 화학식 1의 실란 화합물 함유 조성물을 코팅 및 건조하여 된 표면 처리막이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄 회로용 내부 회로 기판.A rustproof film is formed on the gloss surface of the copper foil without copper oxide treatment on the surface of the copper foil laminated substrate including the copper foil and the insulating substrate interposed therebetween, and the silane compound-containing composition of formula 1 is coated on the rustproof film and The dried surface treatment film is formed, The internal circuit board for multilayer printed circuits characterized by the above-mentioned. <화학식 1><Formula 1> Si(X)3(Y)Si (X) 3 (Y) 상기식중, X는 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 5의 알킬기 및 탄소수 1 내지 5의 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되고,Wherein X is selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, Y는 탄소수 1 내지 5의 알킬기, 탄소수 1 내지 5의 알콕시기, 비닐기, 알릴기, 시아노알킬기,Y is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a vinyl group, an allyl group, a cyanoalkyl group, 로 이루어진 군으로부터 선택되고,Selected from the group consisting of m과 n은 서로에 관계없이 1 내지 5의 정수이다.m and n are integers of 1 to 5 irrespective of each other. 제3항에 있어서, 상기 화학식 1의 실란 화합물이 비닐트리클로로실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 알릴트리에톡시실란, 알릴트리메톡시실란, 시아노에틸트리에톡시실란, 시아노메틸트리메톡시실란, N-(트리에톡시실릴)프로필우레아, N-〔3-(트리에톡시실릴)-프로필〕-4,5-디하이드로이미다졸, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, ß-(3,4-에폭시시클로헥실)-에틸트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란 및 3-클로로프로필트리메톡시실란로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 다층 인쇄 회로용 내부 회로 기판.The silane compound of claim 3, wherein the silane compound of Formula 1 is vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, cyanoethyltriethoxysilane, Cyanomethyltrimethoxysilane, N- (triethoxysilyl) propylurea, N- [3- (triethoxysilyl) -propyl] -4,5-dihydroimidazole, 3-methacryloxypropyltri Methoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, ß- (3,4-epoxycyclohexyl) -ethyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane At least one selected from the group consisting of 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, and 3-chloropropyltrimethoxysilane. 제3항에 있어서, 상기 표면처리막이, 화학식 1의 실란 화합물의 가수분해물의 축합 반응 결과물로 이루어지는 것을 특징으로 다층 인쇄 회로용 내부 회로 기판.4. The internal circuit board of claim 3, wherein the surface treatment film comprises a condensation reaction product of a hydrolyzate of the silane compound of formula (1). (a) 동박과 이들 사이에 삽입된 절연 기재를 포함하여 된 동박 적층 기판의 동박 표면에 산화동 처리 없이, 동박의 광택면에 방청층을 형성하는 단계; 및(a) forming a rustproof layer on the glossy surface of the copper foil without the copper oxide treatment on the surface of the copper foil of the copper foil laminated substrate including the copper foil and an insulating base sandwiched therebetween; And (b) 방청층이 형성된 동박 적층기판을 수세 및 건조한 다음, 이 방청층 상부에 화학식 1의 실란 화합물을 포함하는 조성물을 코팅 및 건조하여 표면 처리막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄 회로용 내층 회로 기판의 표면처리 방법.(b) washing and drying the copper foil laminated substrate on which the rust-preventing layer is formed, and then coating and drying the composition comprising the silane compound of Formula 1 on the rust-proof layer to form a surface treatment film. Surface treatment method of inner layer circuit board for circuits. <화학식 1><Formula 1> Si(X)3(Y)Si (X) 3 (Y) 상기식중, X는 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 5의 알킬기, 탄소수 1 내지 5의 알콕시기로 이루어진 군으로부터 선택되고,Wherein X is selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, Y는 탄소수 1 내지 5의 알킬기, 탄소수 1 내지 5의 알콕시기, 비닐기, 알릴기, 시아노알킬기,Y is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a vinyl group, an allyl group, a cyanoalkyl group, 로 이루어진 군으로부터 선택되고,Selected from the group consisting of m과 n은 서로에 관계없이 1 내지 5의 정수이다.m and n are integers of 1 to 5 irrespective of each other. 제6항에 있어서, 상기 화학식 1의 실란 화합물이 비닐트리클로로실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 알릴트리에톡시실란, 알릴트리메톡시실란, 시아노에틸트리에톡시실란, 시아노메틸트리메톡시실란, N-(트리에톡시실릴)프로필우레아, N-〔3-(트리에톡시실릴)-프로필〕-4,5-디하이드로이미다졸, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, ß-(3,4-에폭시시클로헥실)-에틸트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란 및 3-클로로프로필트리메톡시실란로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 방법.The method of claim 6, wherein the silane compound represented by Formula 1 is vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, cyanoethyltriethoxysilane, Cyanomethyltrimethoxysilane, N- (triethoxysilyl) propylurea, N- [3- (triethoxysilyl) -propyl] -4,5-dihydroimidazole, 3-methacryloxypropyltri Methoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, ß- (3,4-epoxycyclohexyl) -ethyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane At least one selected from the group consisting of 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and 3-chloropropyltrimethoxysilane. 제6항에 있어서, 상기 화학식 1의 실란 화합물의 함량이 조성물의 총중량을 기준으로 하여 0.001 내지 5중량%인 것을 특징으로 하는 방법.The method of claim 6, wherein the content of the silane compound of Formula 1 is 0.001 to 5% by weight based on the total weight of the composition. 제6항에 있어서, 상기 (b) 단계에서 화학식 1의 실란 화합물 함유 조성물이 코팅된 동박을 60 내지 170℃에서 건조하는 것을 특징으로 하는 방법.The method of claim 6, wherein in step (b), the copper foil coated with the silane compound-containing composition of Formula 1 is dried at 60 to 170 ° C. 제6항에 있어서, 상기 (b) 단계의 화학식 1의 실란 화합물 함유 조성물이 물 또는 물과 에탄올, 메탄올, 메틸에틸케톤 및 벤젠으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 혼합용매를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 방법.The method of claim 6, wherein the silane compound-containing composition of Formula 1 of step (b) comprises water or at least one mixed solvent selected from the group consisting of water and ethanol, methanol, methyl ethyl ketone and benzene. Way. 제6항에 있어서, 상기 (a) 단계의 방청층 형성단계가, 크롬산, 중크롬산 또는 그 염을 포함하는 방청 처리 조성물을 전기 도금하여 형성되는 것을 특징으로 하는 방법.The method of claim 6, wherein the anti-rust layer forming step (a) is formed by electroplating a rust-preventing composition comprising chromic acid, dichromic acid or salts thereof.
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