KR20010016507A - 액정표시기 그라스의 세척 장치 - Google Patents
액정표시기 그라스의 세척 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20010016507A KR20010016507A KR1020000077175A KR20000077175A KR20010016507A KR 20010016507 A KR20010016507 A KR 20010016507A KR 1020000077175 A KR1020000077175 A KR 1020000077175A KR 20000077175 A KR20000077175 A KR 20000077175A KR 20010016507 A KR20010016507 A KR 20010016507A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- glass
- cleaning
- washing tank
- ultrasonic
- glasses
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68785—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by the mechanical construction of the susceptor, stage or support
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1316—Methods for cleaning the liquid crystal cells, or components thereof, during manufacture: Materials therefor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
Abstract
본 발명은 액정표시기 그라스의 세척 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 초음파 진동 방식으로 세척시키는 액정표시기 그라스의 세척 장치에 있어서, 세척조 하부는 물론 양 측면에 초음파 발생부를 별도 설치하여 그라스와 그라스 사이로 초음파를 통과 시켜 그라스 상,하부 표면에 부착되어 있는 이물질을 제거하여 액정표시기 수율의 향상을 도모하고자 하는 것이다.
Description
본 발명은 액정표시기 그라스(glass)세척 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 대형화된 그라스의 상, 하부 표면에 묻은 먼지 등과 같은 이물질을 세척조 하부 및 양 측면에 설치한 초음파 발생부를 이용하여 보다 효율적으로 세정하고자 하는 것이다.
최근 액정표시기 산업은 보다 편리하고, 간편함과 동시에 초박막화 되어가면서 점점 대형화 되어가고 있는 실정이고, 이로 인해 액정표시기 패널의 기초인 그라스 역시 점점 대형화 되어가고 있는 실정이다.
이와 같은 액정표시기 그라스는 제작과정에서 그라스 표면에 먼지 등과 같은 이물질이 묻게 마련이고. 이로부터 액정표시기 패널의 수율 저하를 가져온다.
종래 그라스의 표면에 묻은 이물질을 제거하기 위한 세척장치는 세척조 내 하방에 초음파 발생기를 설치하여 초음파 발생기로부터 발생되는 초음파 진동에 의해 그라스 표면의 이물질을 세척하고 있었다.
상기와 같이 초음파를 이용하여 세정을 할 경우 초음파 진동자(초음파 발생기)의 세기에 따라 약간의 차이는 있지만 진동자에서 음파가 발생되어 반사 후 다시 되돌아 올 때 까지의 거리에 따라서 세정력의 차이는 상당한 차이가 있다. 즉, 진동자에서 음파가 발생되어 수면에서 음파가 반사될 때 진동자에서 수면까지의 거리에 따라 세정 유효거리(캐비테이션 :CAVITATION)는 약 500㎜ 정도까지 유효하지만 이 이상의 거리는 세정력이 크게 저하된다.
만일, 상기 종래의 세척장치를 이용하여 대형화된 액정표시기 그라스의 표면에 묻은 이물질을 제거할 경우에는 상술한 세정 유효거리의 제한에 따라 그라스 상부의 표면에 묻은 이물질 제거가 어려워 액정표시기 수율 저하의 원인을 가져오는 문제점이 제기 된다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해소하기 위한 것으로, 초음파 진동 방식으로 세척시키는 액정표시기 그라스의 세척 장치에 있어서, 세척조 하부는 물론 양 측면에 초음파 발생부를 별도 설치하여 그라스와 그라스 사이로 초음파를 통과 시켜 그라스 상,하부 표면에 부착되어 있는 이물질을 제거하도록 함을 특징으로 한다.
도 1은 본 발명의 세척 장치의 구성 사시도
도 2는 본 발명의 구성을 보인 측 단면도
도 3은 본 발명의 승강판 동작을 보인 측 단면도
도 4는 본 발명의 액정표시기 그라스의 넓이에 따라 가변되는 카세트 상태를 보인 측면도
〈도면의 주요부분에 대한 부호 설명〉
10 : 세척기 11 : 세척조
12 : 오버프 로어 함체 21, 22, 23 : 초음파 발생기
31 : 받침판 32 : 승강판
33 : 실린더 34 : 피스톤 작동 로드
40 : 카세트 41 : 측면판
42 : 구멍 43 : 받침봉
44 : 연결봉 45 : 조절봉
46 : 장공 P : 그라스
첨부 도면 도 1은 본 발명의 세척 장치의 구성 사시도 이고, 도 2는 본 발명의 구성을 보인 측 단면도이고, 도 3은 본 발명의 리프트 동작을 보인 측 단면도이며, 도 4는 본 발명의 액정표시기 그라스의 넓이에 따라 가변되는 카세트 상태를 보인 측면도이다.
첨부 도면에서 보는 바와 같이, 본 발명은 세정액이 내장된 사각 함체 형상의 세척조(11)와 이 세척조(11) 상부 외측 둘레에 형성한 오버 플로어 함체(12)로 구성된 세척기(10)의 세척조(11) 내 하방에 수개의 하부 초음파 발생기(21)를 설치하고, 세척조(11)내에 설치한 받침판(31)에 수 십장의 그라스(P)를 삽입한 카세트(40)를 올려놓고, 초음파 발생기(21)로부터 발생하는 초음파에 의해 그라스 표면의 이물질을 세정하는 세척장치에 있어서, 상기 세척조(11) 외측 전,후면에 측면 초음파 발생기(22)(23)를 각각 설치하되, 그라스(P)와 그라스(P)사이로 초음파를 통과시키도록 구성하는 것이다. 상기에서, 받침판(31)은 승강판(32)과 연결시키되, 세탁조(11)외측에 설치한 실린더(33)의 피스톤 로드(34)끝단에 설치하여 세척조(11)내에서 받침판(31)을 승,강 작동시키게 하며, 카세트(40)는 승강판(32)에 의해 승강 작동 시 그 무게를 줄이기 위해 양 측면판(41)각각에 다수개의 구멍(42)을 뚫고, 그라스(P)를 받쳐주기 위한 받침봉(43) 및 양 측면판(41)을 상호 연결 고정시키기 위한 연결봉(44)이 설치된 공지의 카세트(40)이나, 본 발명에서는 카세트(40)에 장입되는 그라스(P)의 크기에 따라 그라스(P) 양측면을 지지하여 주기 위한 조절봉(45)을 양 측면판(41)각각에 형성한 장공(46)에 끼워 그라스(P)의 넓이에 따라 조절봉(45)을 장공(46)을 통해 이동시켜 조절한다. 따라서, 상기 조절봉(45)의 두부에는 볼트형상으로 하고 너트가 끼워진다.
이와 같이 구성된 본 발명은 카세트(40)에 다수의 그라스(P)를 장입하되, 그라스 넓이에 따라 조절봉(45)을 조절하여 그라스(P)를 장입하여 고정 시킨 다음 실린더(33)의 작동에 의해 세척조(11)내의 세정액 내부로 카세트(40)를 승강 작동하고, 하부 초음파 발생기(21)를 작동 시켜 세척조(11)하부로 부터의 초음파가 그라스(P)와 그라스(P)사이로 통과하게 하여 그라스(P)표면에 묻은 이물질을 세정하게 되나, 하부로 부터의 초음파는 상술한 바와 같이 초음파에 의한 세정 유효거리(약 500㎜ 정도)가 제한성을 가지고 있어 카세트(40)에 장입된 그라스(P)의 상부 표면까지 세정 유효거리가 미치지 못하므로 그라스(P)의 상부 표면에 묻은 이물질을 제대로 제거하지 못하므로 세정력이 크게 저하된다. 그러나 본 발명은 세척조(11) 외측 전,후면에 측면 초음파 발생기(22)(23)를 각각 설치하되, 그라스(P)와 그라스(P)사이로 초음파를 통과시키도록 구성하고 있어 승강 이동되는 그라스(P)와 그라스(P)의 상부측 표면과 표면 사이에 양 측면의 초음파가 통과되면서 이들 표면에 묻은 이물질을 세정하게 되므로 대형화된 그라스(P)의 상부 표면에 묻은 이물질 제거가 극히 용이하고, 특히 카세트(40)를 승강 작동시키면서 초음파에 의해 세정하게 되므로 종래와 같이 카세트(40)를 세정액 내에 고정된 상태에서 그라스(P)의 표면에 묻은 이물질을 제거하는 경우보다 그라스가 승강되면서 초음파에 의한 진동이 그라스 표면 골고루 여진 되게 되므로 세정효과를 크게 향상 시키게된다.
본 발명은 세척조 하부는 물론 양 측면에 초음파 발생부를 별도 설치하여 그라스와 그라스 사이로 초음파를 통과시키되, 그라스를 승강 시키면서 그라스 상,하부 표면에 부착되어 있는 이물질을 제거하도록 함으로써, 대형화된 그라스의 세정력 향상은 물론 액정표시기 수율의 향상을 크게 도모하는 효과를 가진다.
Claims (2)
- 세정액이 내장된 사각 함체 형상의 세척조(11)와 이 세척조(11) 상부 외측 둘레에 형성한 오버 플로어 함체(12)로 구성된 세척기(10)의 세척조(11) 내 하방에 수개의 하부 초음파 발생기(21)를 설치하고, 세척조(11)내에 설치한 받침판(31)에 수 십장의 그라스(P)를 삽입한 카세트(40)를 올려놓은 다음 초음파 발생기(21)로부터 발생하는 초음파에 의해 그라스 표면의 이물질을 세정하는 세척장치에 있어서, 상기 세척조(11) 외측 전,후면에 측면 초음파 발생기(22)(23)를 각각 설치하되, 그라스(P)와 그라스(P)사이로 초음파를 통과시키도록 구성함을 특징으로 하는 액정표시기 그라스의 세척 장치.
- 제 1항에 있어서, 받침판(31)은 승강판(32)과 연결시키되, 세탁조(11)외측에 설치한 실린더(33)의 피스톤 로드(34)끝단에 설치하여 세척조(11)내에서 받침판(31)을 승,강 작동시키게 하고, 카세트(40)에 장입되는 그라스(P)의 크기에 따라 그라스(P) 양측면을 지지하여 주기 위한 조절봉(45)을 양 측면판(41)각각에 형성한 장공(46)에 끼워 구성함을 특징으로 하는 액정표시기 그라스의 세척 장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2000-0077175A KR100374101B1 (ko) | 2000-12-15 | 2000-12-15 | 액정표시기 그라스의 세척 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2000-0077175A KR100374101B1 (ko) | 2000-12-15 | 2000-12-15 | 액정표시기 그라스의 세척 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20010016507A true KR20010016507A (ko) | 2001-03-05 |
KR100374101B1 KR100374101B1 (ko) | 2003-03-03 |
Family
ID=19703130
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2000-0077175A KR100374101B1 (ko) | 2000-12-15 | 2000-12-15 | 액정표시기 그라스의 세척 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100374101B1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100515440B1 (ko) * | 2002-04-15 | 2005-09-16 | 태화일렉트론(주) | 온 순수와 적외선 램프를 이용한 엘씨디 글라스 세척 및건조 장치 |
CN106984620A (zh) * | 2017-04-18 | 2017-07-28 | 东莞明崴电子科技有限公司 | 一种lcd玻璃屏清洗方法及其lcd玻璃屏清洗机 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100529564B1 (ko) * | 1998-11-12 | 2006-01-27 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치 제조 방법 |
-
2000
- 2000-12-15 KR KR10-2000-0077175A patent/KR100374101B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100515440B1 (ko) * | 2002-04-15 | 2005-09-16 | 태화일렉트론(주) | 온 순수와 적외선 램프를 이용한 엘씨디 글라스 세척 및건조 장치 |
CN106984620A (zh) * | 2017-04-18 | 2017-07-28 | 东莞明崴电子科技有限公司 | 一种lcd玻璃屏清洗方法及其lcd玻璃屏清洗机 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100374101B1 (ko) | 2003-03-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101859897B1 (ko) | 다기능 초음파 세척기 | |
KR100374101B1 (ko) | 액정표시기 그라스의 세척 장치 | |
KR101318704B1 (ko) | 기판 지지장치, 이를 구비하는 플라즈마 처리장치 및플라즈마 처리방법 | |
CN211802707U (zh) | 一种透镜加工用清洗装置 | |
CN219766211U (zh) | 一种机械控制工程用零件清洗装置 | |
CN109554764B (zh) | 五槽超声波洗毛机以及五槽超声波洗毛方法 | |
CN218191358U (zh) | 一种中药饮片原料净洗装置 | |
CN209476828U (zh) | 一种带抛动超声波清洗机 | |
CN210876563U (zh) | 一种高效光学镜片超声波清洗装置 | |
CN214289739U (zh) | 一种光学镜片清洗装置 | |
CN110952146B (zh) | 一种用于石英晶体腐蚀及清洗的设备 | |
CN111842324B (zh) | 一种超声波除油设备 | |
CN221269073U (zh) | 一种三频可调型多功能超声波清洗机 | |
CN209652477U (zh) | 一种喷丝板生产用超声波不锈钢清洗槽 | |
CN221754161U (zh) | 一种后处理器用超声波清洗机 | |
CN221046801U (zh) | 一种轴承套圈加工用清洗装置 | |
CN207641303U (zh) | 可改善处理均度的膜组件清洗装置 | |
CN115811837B (zh) | 一种pcb电路板退膜清洗装置 | |
CN221017703U (zh) | 一种升降式超声波清洗机 | |
CN220901223U (zh) | 一种零件清洗装置 | |
CN213507212U (zh) | 一种固定式酸洗清洗槽 | |
CN218395213U (zh) | 一种槽式清洗机快速升降装置 | |
CN214160717U (zh) | 一种喷丝板超声波清洗设备 | |
CN214052870U (zh) | 一种航空航天零部件用除油清洗设备 | |
CN221046815U (zh) | 硅片超声波清洗提篮摇摆装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
G15R | Request for early opening | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20090205 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |